JPH0889760A - 排ガス浄化装置 - Google Patents
排ガス浄化装置Info
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- JPH0889760A JPH0889760A JP6206279A JP20627994A JPH0889760A JP H0889760 A JPH0889760 A JP H0889760A JP 6206279 A JP6206279 A JP 6206279A JP 20627994 A JP20627994 A JP 20627994A JP H0889760 A JPH0889760 A JP H0889760A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 少ない触媒量で未反応ＮＨ3の排出を抑えな
がらＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減させる超高効率
脱硝を実現可能とする。 【構成】 排ガス１０中のＮＯｘを、ＮＨ3の存在下で
除去する一つ以上の触媒１〜４を内装した触媒層１を備
えてなる排ガス浄化装置であって、アンモニア分解性能
と脱硝性能とを有する触媒を含む２種類以上の触媒１〜
４を配列し、その配列の最後流部に、それぞれの種類の
触媒１〜４のうちＮＯｘ生成率が最低の触媒４を配置し
た。 【効果】 高モル比で運転しＮＯｘ値を大気レベル以下
に、かつ未反応ＮＨ3の排出濃度を低減でき、超高効率
脱硝を少ない触媒量で実現できる。
がらＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減させる超高効率
脱硝を実現可能とする。 【構成】 排ガス１０中のＮＯｘを、ＮＨ3の存在下で
除去する一つ以上の触媒１〜４を内装した触媒層１を備
えてなる排ガス浄化装置であって、アンモニア分解性能
と脱硝性能とを有する触媒を含む２種類以上の触媒１〜
４を配列し、その配列の最後流部に、それぞれの種類の
触媒１〜４のうちＮＯｘ生成率が最低の触媒４を配置し
た。 【効果】 高モル比で運転しＮＯｘ値を大気レベル以下
に、かつ未反応ＮＨ3の排出濃度を低減でき、超高効率
脱硝を少ない触媒量で実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排煙脱硝装置に係り、
特に排ガス中の窒素酸化物を低減するのに好適な排ガス
浄化装置に関する。
特に排ガス中の窒素酸化物を低減するのに好適な排ガス
浄化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】発電所、各種工場及び自動車等より排出
される排煙中の窒素酸化物（ＮＯｘ）は光化学スモッグ
の原因となる物質であり、その効果的な除去方法とし
て、選択的接触還元による排煙脱硝法が火力発電所を中
心に幅広く用いられている。近年、産業の発展によりＮ
Ｏｘを含む排ガス量が増大する傾向にあり、環境基準を
遵守するため今後さらに低ＮＯｘ化が要求される趨勢に
ある。排煙脱硝法に用いられる触媒には酸化チタン系の
ものが多く使用され、還元剤としてはＮＨ3が使用され
る。またＮＯｘの他、燃焼排ガス中に含まれるＣＯも極
めて低レベルにまで抑えることが望まれており、それら
を除去するための触媒やプロセスの実現が重要な課題と
なっている。
される排煙中の窒素酸化物（ＮＯｘ）は光化学スモッグ
の原因となる物質であり、その効果的な除去方法とし
て、選択的接触還元による排煙脱硝法が火力発電所を中
心に幅広く用いられている。近年、産業の発展によりＮ
Ｏｘを含む排ガス量が増大する傾向にあり、環境基準を
遵守するため今後さらに低ＮＯｘ化が要求される趨勢に
ある。排煙脱硝法に用いられる触媒には酸化チタン系の
ものが多く使用され、還元剤としてはＮＨ3が使用され
る。またＮＯｘの他、燃焼排ガス中に含まれるＣＯも極
めて低レベルにまで抑えることが望まれており、それら
を除去するための触媒やプロセスの実現が重要な課題と
なっている。
【０００３】特に大気並のＮＯｘ値（０.０４ｐｐｍ）
以下までＮＯｘを低減させる高効率脱硝（以下、超高効
率脱硝と称す）を実現させることは、排煙脱硝法に従来
から使用されている酸化チタン系の脱硝触媒を用いた場
合、（イ）未反応ＮＨ3の高濃度排出、（ロ）触媒層直
前の排ガス流路域での局所的なＮＨ3／ＮＯｘのモル比
（以下、モル比と略す）の相違、（ハ）脱硝装置（排ガ
ス浄化装置）の巨大化、等の問題があり困難であった。
以下までＮＯｘを低減させる高効率脱硝（以下、超高効
率脱硝と称す）を実現させることは、排煙脱硝法に従来
から使用されている酸化チタン系の脱硝触媒を用いた場
合、（イ）未反応ＮＨ3の高濃度排出、（ロ）触媒層直
前の排ガス流路域での局所的なＮＨ3／ＮＯｘのモル比
（以下、モル比と略す）の相違、（ハ）脱硝装置（排ガ
ス浄化装置）の巨大化、等の問題があり困難であった。
【０００４】特に未反応ＮＨ3の高濃度排出に関して
は、排ガス中にＳＯ3が含有される場合、反応して（Ｎ
Ｈ4）２ＳＯ4や（ＮＨ4）ＨＳＯ4を生成する。これらの
生成物は後流のエアヒーター等の熱交換器に付着し、排
ガス流路の閉塞に伴う圧力損失の増大を引き起すため脱
硝装置やボイラの運転に支障をきたす。またＬＮＧ焚の
ボイラ等のＳＯ3を含まない排ガスに対してもＮＨ3自体
が臭気を伴うため高濃度排出に問題がある。これらの問
題を解決するため未反応ＮＨ3の排出を抑えなければな
らない。例えば未反応ＮＨ3の排出濃度を５ｐｐｍ以下
に抑えることにより、これらの問題を解決することがで
きる。
は、排ガス中にＳＯ3が含有される場合、反応して（Ｎ
Ｈ4）２ＳＯ4や（ＮＨ4）ＨＳＯ4を生成する。これらの
生成物は後流のエアヒーター等の熱交換器に付着し、排
ガス流路の閉塞に伴う圧力損失の増大を引き起すため脱
硝装置やボイラの運転に支障をきたす。またＬＮＧ焚の
ボイラ等のＳＯ3を含まない排ガスに対してもＮＨ3自体
が臭気を伴うため高濃度排出に問題がある。これらの問
題を解決するため未反応ＮＨ3の排出を抑えなければな
らない。例えば未反応ＮＨ3の排出濃度を５ｐｐｍ以下
に抑えることにより、これらの問題を解決することがで
きる。
【０００５】この未反応ＮＨ3の高濃度排出を抑制する
ため、脱硝触媒の後流側に、ＮＨ3分解性能を有する触
媒を配置した脱硝装置が提案されているが、これらのＮ
Ｈ3分解性能を有する触媒はＮＯｘを副生するものが多
いため、ＮＯｘとＮＨ3の両方を同時に低減することが
困難であった。この種のＮＨ3分解性能を有する触媒を
使用した脱硝装置として関連するものに、例えば実公昭
５５−１３０７３３号公報や特開平２−１９１５２７号
公報等が挙げられる。
ため、脱硝触媒の後流側に、ＮＨ3分解性能を有する触
媒を配置した脱硝装置が提案されているが、これらのＮ
Ｈ3分解性能を有する触媒はＮＯｘを副生するものが多
いため、ＮＯｘとＮＨ3の両方を同時に低減することが
困難であった。この種のＮＨ3分解性能を有する触媒を
使用した脱硝装置として関連するものに、例えば実公昭
５５−１３０７３３号公報や特開平２−１９１５２７号
公報等が挙げられる。
【０００６】またこの技術に鑑み、超高効率脱硝（ＮＯ
ｘ＜０.０４ｐｐｍ、ＮＨ3＜５ｐｐｍ）に関して、ＮＨ
3分解性能と脱硝性能とを有する触媒を配置することを
特徴とする排ガス浄化装置が先に提案されたが、しかし
この装置において、例えば図１０に示すように、脱硝装
置の触媒層１の中の最後流部の脱硝触媒（触媒）４Ａと
して、最前流部の脱硝触媒（触媒）２と同じ仕様のもの
を用いた場合、条件によっては、最後流部の脱硝触媒４
Ａの脱硝性能が低くなる。最前流部の脱硝触媒２には、
モル比１〜２で高い脱硝性能を示す触媒が用いられ、こ
の仕様の触媒をそのまま最後流部の脱硝触媒４Ａとして
適用すると、最後流部の脱硝触媒４Ａの入口のモル比が
非常に高くなる場合（例えばＮＨ3＝約５ｐｐｍ、ＮＯ
ｘ＝約０.１ｐｐｍ）は、大過剰のＮＨ3のためＮＨ3の
酸化により副生するＮＯｘが無視できなくなり、脱硝性
能が低下する。この傾向は反応温度が高いほど顕著であ
り、超高効率脱硝を達成するためにより多くの触媒が必
要になる。
ｘ＜０.０４ｐｐｍ、ＮＨ3＜５ｐｐｍ）に関して、ＮＨ
3分解性能と脱硝性能とを有する触媒を配置することを
特徴とする排ガス浄化装置が先に提案されたが、しかし
この装置において、例えば図１０に示すように、脱硝装
置の触媒層１の中の最後流部の脱硝触媒（触媒）４Ａと
して、最前流部の脱硝触媒（触媒）２と同じ仕様のもの
を用いた場合、条件によっては、最後流部の脱硝触媒４
Ａの脱硝性能が低くなる。最前流部の脱硝触媒２には、
モル比１〜２で高い脱硝性能を示す触媒が用いられ、こ
の仕様の触媒をそのまま最後流部の脱硝触媒４Ａとして
適用すると、最後流部の脱硝触媒４Ａの入口のモル比が
非常に高くなる場合（例えばＮＨ3＝約５ｐｐｍ、ＮＯ
ｘ＝約０.１ｐｐｍ）は、大過剰のＮＨ3のためＮＨ3の
酸化により副生するＮＯｘが無視できなくなり、脱硝性
能が低下する。この傾向は反応温度が高いほど顕著であ
り、超高効率脱硝を達成するためにより多くの触媒が必
要になる。
【０００７】触媒の性能としてＮＨ3よりＮＯｘを副生
する尺度は、（１）式に示すＮＯｘ生成率により表すこ
とができる。 ＮＯｘ生成率＝（出口ＮＯｘ濃度／入口ＮＨ3濃度）×１００（％）…（１） （ただし入口ＮＯｘ濃度＝０ｐｐｍとする） さらに従来の選択的接触還元による排煙脱硝装置は、図
１１に示すように触媒層１の中に脱硝触媒２だけを配置
したものが多く、その時の脱硝反応式は(２），（３）
式で示される。 ４ＮＯ＋４ＮＨ3＋Ｏ2→４Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ ………（２） ２ＮＯ2＋４ＮＨ3＋Ｏ2→３Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ ………（３） 脱硝触媒２のみを配置した脱硝装置を高効率脱硝（例え
ば９０％以上の脱硝率をもった脱硝を高効率脱硝と定義
する）に適用する際、モル比が１以下では当量反応線に
従って急激に脱硝率が低下してしまうため、高効率脱硝
は望めない。したがって高効率脱硝を得るためにはモル
比を１より大きくする必要があったが、高モル比運転
（モル比＞１）を行うとＮＨ3過剰条件であるためモル
比の増加にほぼ比例した濃度の未反応ＮＨ3が脱硝装置
より排出されるという問題点があった。排ガス中にＳＯ
3が含有される場合、この未反応のＮＨ3は前記のよう
に、ＳＯ3と反応して（ＮＨ4）２ＳＯ4や（ＮＨ4）ＨＳ
Ｏ4を生成するため、例えば未反応ＮＨ3の排出濃度を５
ｐｐｍ以下に抑えることにより、これらの問題を解決す
ることができる。
する尺度は、（１）式に示すＮＯｘ生成率により表すこ
とができる。 ＮＯｘ生成率＝（出口ＮＯｘ濃度／入口ＮＨ3濃度）×１００（％）…（１） （ただし入口ＮＯｘ濃度＝０ｐｐｍとする） さらに従来の選択的接触還元による排煙脱硝装置は、図
１１に示すように触媒層１の中に脱硝触媒２だけを配置
したものが多く、その時の脱硝反応式は(２），（３）
式で示される。 ４ＮＯ＋４ＮＨ3＋Ｏ2→４Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ ………（２） ２ＮＯ2＋４ＮＨ3＋Ｏ2→３Ｎ2＋６Ｈ2Ｏ ………（３） 脱硝触媒２のみを配置した脱硝装置を高効率脱硝（例え
ば９０％以上の脱硝率をもった脱硝を高効率脱硝と定義
する）に適用する際、モル比が１以下では当量反応線に
従って急激に脱硝率が低下してしまうため、高効率脱硝
は望めない。したがって高効率脱硝を得るためにはモル
比を１より大きくする必要があったが、高モル比運転
（モル比＞１）を行うとＮＨ3過剰条件であるためモル
比の増加にほぼ比例した濃度の未反応ＮＨ3が脱硝装置
より排出されるという問題点があった。排ガス中にＳＯ
3が含有される場合、この未反応のＮＨ3は前記のよう
に、ＳＯ3と反応して（ＮＨ4）２ＳＯ4や（ＮＨ4）ＨＳ
Ｏ4を生成するため、例えば未反応ＮＨ3の排出濃度を５
ｐｐｍ以下に抑えることにより、これらの問題を解決す
ることができる。
【０００８】また高効率脱硝を得る他の方法として脱硝
触媒の触媒量を増やす方法が挙げられる。しかしながら
この方法では、図１２の点線Ｂに示すように、触媒層直
前の排ガス流路域での局所的なモル比が互いに相違した
流体に対し、未反応ＮＨ3の排出濃度を抑えなければな
らないという条件下で、触媒量の増加によって達成でき
る平均脱硝率に限界が生じる。すなわち、触媒層直前の
排ガス流路域での局所的なモル比の相違の大きさ（モル
比の変動係数）であるＣＶ値が２０％、脱硝装置入口Ｎ
Ｏｘ濃度＝１００ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3の排出濃度５
ｐｐｍという条件下で脱硝触媒を単独で配置した場合、
点線Ｂのように脱硝触媒の量を増加していっても９０％
以上の脱硝率は得られないことが予想される。
触媒の触媒量を増やす方法が挙げられる。しかしながら
この方法では、図１２の点線Ｂに示すように、触媒層直
前の排ガス流路域での局所的なモル比が互いに相違した
流体に対し、未反応ＮＨ3の排出濃度を抑えなければな
らないという条件下で、触媒量の増加によって達成でき
る平均脱硝率に限界が生じる。すなわち、触媒層直前の
排ガス流路域での局所的なモル比の相違の大きさ（モル
比の変動係数）であるＣＶ値が２０％、脱硝装置入口Ｎ
Ｏｘ濃度＝１００ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3の排出濃度５
ｐｐｍという条件下で脱硝触媒を単独で配置した場合、
点線Ｂのように脱硝触媒の量を増加していっても９０％
以上の脱硝率は得られないことが予想される。
【０００９】なお図１２の中の触媒量比とは、触媒の単
位ガス接触表面積当りの処理ガス流量であるＡＶ値の逆
数に比例する値であり、触媒量比１００％とは、既設の
ボイラに設置されている選択的接触還元による排煙脱硝
装置で使用される脱硝触媒の触媒量を１００％として表
している。（例えば、処理ガス流量Ｑ＝１３０００００
Ｎｍ3／ｈ、触媒のガス接触表面積Ａ＝１３００００
ｍ2、ＡＶ値＝１０ｍ／ｈの時の触媒量） ＡＶ値＝Ｑ／Ａ（ｍ／ｈ） ……（４） Ｑ：処理ガス量（Ｎｍ3／ｈ） Ａ：触媒のガス接触表面積（ｍ2） 触媒量比＝１０／ＡＶ値×１００（％） ……（５） またＣＶ値は触媒層直前の排ガス流路域での局所的なモ
ル比の相違の大きさを表し、（５）式で示される。 ＣＶ＝σ／μ×１００（％） ……（６） σ：モル比の標準偏差 μ：モル比の平均値 一方、図１３に示す触媒層１の中の脱硝触媒２の後流側
に、ＮＨ3分解性能を有する触媒（ＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性を有する触媒）３ａを配置した脱硝装
置による排ガス浄化装置が提案されている。
位ガス接触表面積当りの処理ガス流量であるＡＶ値の逆
数に比例する値であり、触媒量比１００％とは、既設の
ボイラに設置されている選択的接触還元による排煙脱硝
装置で使用される脱硝触媒の触媒量を１００％として表
している。（例えば、処理ガス流量Ｑ＝１３０００００
Ｎｍ3／ｈ、触媒のガス接触表面積Ａ＝１３００００
ｍ2、ＡＶ値＝１０ｍ／ｈの時の触媒量） ＡＶ値＝Ｑ／Ａ（ｍ／ｈ） ……（４） Ｑ：処理ガス量（Ｎｍ3／ｈ） Ａ：触媒のガス接触表面積（ｍ2） 触媒量比＝１０／ＡＶ値×１００（％） ……（５） またＣＶ値は触媒層直前の排ガス流路域での局所的なモ
ル比の相違の大きさを表し、（５）式で示される。 ＣＶ＝σ／μ×１００（％） ……（６） σ：モル比の標準偏差 μ：モル比の平均値 一方、図１３に示す触媒層１の中の脱硝触媒２の後流側
に、ＮＨ3分解性能を有する触媒（ＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性を有する触媒）３ａを配置した脱硝装
置による排ガス浄化装置が提案されている。
【００１０】このような脱硝触媒２の後流側にＮＨ3分
解性能を有する触媒３ａを配置した触媒層１を用いる
と、未反応ＮＨ3を分解することができるためモル比＞
１のような高モル比運転を行うことができる。しかし脱
硝触媒２の後流側に配置したＮＨ3分解性能３ａを有す
る触媒は、（７）式のようなＮＯｘ副生反応によってＮ
Ｏｘを生成する。 ４ＮＨ3＋５０2→４ＮＯ＋６Ｈ2Ｏ ……（７） そのため脱硝触媒２の後段に未反応ＮＨ3の流出を抑制
するＮＨ3分解性能を有する触媒３ａを設置する装置で
は、ＮＨ3分解性能を有する触媒３ａにＮＯｘを副生す
るものが多いため、かえって脱硝率の低下を招き易い。
そのため、注入するＮＨ3量やガス条件によってＮＯｘ
とＮＨ3の両方を低レベルに抑えるのは極めて難しい。
解性能を有する触媒３ａを配置した触媒層１を用いる
と、未反応ＮＨ3を分解することができるためモル比＞
１のような高モル比運転を行うことができる。しかし脱
硝触媒２の後流側に配置したＮＨ3分解性能３ａを有す
る触媒は、（７）式のようなＮＯｘ副生反応によってＮ
Ｏｘを生成する。 ４ＮＨ3＋５０2→４ＮＯ＋６Ｈ2Ｏ ……（７） そのため脱硝触媒２の後段に未反応ＮＨ3の流出を抑制
するＮＨ3分解性能を有する触媒３ａを設置する装置で
は、ＮＨ3分解性能を有する触媒３ａにＮＯｘを副生す
るものが多いため、かえって脱硝率の低下を招き易い。
そのため、注入するＮＨ3量やガス条件によってＮＯｘ
とＮＨ3の両方を低レベルに抑えるのは極めて難しい。
【００１１】またＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する
触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を有する第１
成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活性及びＣＯ
からＣＯ2を生成させる活性のうち少なくともいずれか
一方の活性を有する第２成分とよりなる触媒）を単独で
配置した脱硝装置、又は脱硝触媒（窒素酸化物のＮＨ3
による還元活性を有する触媒）の後流側にＮＨ3分解性
能と脱硝性能とを有する触媒を配置した脱硝装置による
排ガス浄化方法が提案されている（特願平４−１３８５
１４号参照）。
触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を有する第１
成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活性及びＣＯ
からＣＯ2を生成させる活性のうち少なくともいずれか
一方の活性を有する第２成分とよりなる触媒）を単独で
配置した脱硝装置、又は脱硝触媒（窒素酸化物のＮＨ3
による還元活性を有する触媒）の後流側にＮＨ3分解性
能と脱硝性能とを有する触媒を配置した脱硝装置による
排ガス浄化方法が提案されている（特願平４−１３８５
１４号参照）。
【００１２】これらの脱硝装置を用いた場合は、モル比
＞１のような高モル比運転を行っても、ＮＨ3分解性能
と脱硝性能とを有する触媒が配置されているため、
（８）式のようなＮＨ3分解反応によって未反応ＮＨ3を
分解することができ、ＮＯｘの副生も抑えることができ
るのでＮＯｘとＮＨ3の両方を低レベルに抑えることが
可能となる。
＞１のような高モル比運転を行っても、ＮＨ3分解性能
と脱硝性能とを有する触媒が配置されているため、
（８）式のようなＮＨ3分解反応によって未反応ＮＨ3を
分解することができ、ＮＯｘの副生も抑えることができ
るのでＮＯｘとＮＨ3の両方を低レベルに抑えることが
可能となる。
【００１３】
【化８】
【００１４】またこれらの脱硝装置のうち、ＮＨ3分解
性能と脱硝性能とを有する触媒を単独で配置した脱硝装
置を、触媒層直前の排ガス流路域での局所的なモル比が
互いに相違した流体に対して、未反応ＮＨ3の排出濃度
を５ｐｐｍ以下に抑制しなければならないという条件下
で用いた場合の脱硝率と触媒量比の関係を図１２に示
す。
性能と脱硝性能とを有する触媒を単独で配置した脱硝装
置を、触媒層直前の排ガス流路域での局所的なモル比が
互いに相違した流体に対して、未反応ＮＨ3の排出濃度
を５ｐｐｍ以下に抑制しなければならないという条件下
で用いた場合の脱硝率と触媒量比の関係を図１２に示
す。
【００１５】図１２において、ＣＶ＝２０％、脱硝装置
入口ＮＯｘ濃度＝１００ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3の排出
濃度５ｐｐｍという条件で、ＮＨ3分解性能と脱硝性能
とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を
有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活
性及びＣＯからＣＯ2を生成させる活性のうち少なくと
もいずれか一方の活性を有する第２成分とよりなる触
媒）を用いた場合は、実線Ａに示すように、触媒量増加
によって達成できる平均脱硝率の限界を、脱硝触媒だけ
の脱硝装置を用いた場合（点線Ｂ）よりも、高くでき
る。
入口ＮＯｘ濃度＝１００ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3の排出
濃度５ｐｐｍという条件で、ＮＨ3分解性能と脱硝性能
とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を
有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活
性及びＣＯからＣＯ2を生成させる活性のうち少なくと
もいずれか一方の活性を有する第２成分とよりなる触
媒）を用いた場合は、実線Ａに示すように、触媒量増加
によって達成できる平均脱硝率の限界を、脱硝触媒だけ
の脱硝装置を用いた場合（点線Ｂ）よりも、高くでき
る。
【００１６】ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒
を含む脱硝装置を大気並のＮＯｘ値（０.０４ｐｐｍ）
以下までＮＯｘを低減させる超高効率脱硝に適用した場
合は、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒上で、
ＮＨ3酸化反応（７）式と脱硝反応（２）式とが同時に
起るため、脱硝触媒に比べてＮＨ3の消費速度が速くな
る。そのため条件によっては、ＮＯｘ値を大気レベル以
下まで低減させる超高効率脱硝を実現するために必要な
ＮＨ3量が、不足してしまうことがある。
を含む脱硝装置を大気並のＮＯｘ値（０.０４ｐｐｍ）
以下までＮＯｘを低減させる超高効率脱硝に適用した場
合は、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒上で、
ＮＨ3酸化反応（７）式と脱硝反応（２）式とが同時に
起るため、脱硝触媒に比べてＮＨ3の消費速度が速くな
る。そのため条件によっては、ＮＯｘ値を大気レベル以
下まで低減させる超高効率脱硝を実現するために必要な
ＮＨ3量が、不足してしまうことがある。
【００１７】このＮＨ3量の不足を解消するため、さら
にモル比を高くしなければならないが、モル比の増加に
伴い、ＮＨ3酸化反応（７）式によって副生するＮＯｘ
の量が増加する。ＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減さ
せる超高効率脱硝では、この副生ＮＯｘ量が無視できな
くなる場合があるため、超高効率脱硝を実現できない
か、実現できても単位触媒量当たりのＮＯｘの減少速度
が低下するため、莫大な量の触媒が必要となる。
にモル比を高くしなければならないが、モル比の増加に
伴い、ＮＨ3酸化反応（７）式によって副生するＮＯｘ
の量が増加する。ＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減さ
せる超高効率脱硝では、この副生ＮＯｘ量が無視できな
くなる場合があるため、超高効率脱硝を実現できない
か、実現できても単位触媒量当たりのＮＯｘの減少速度
が低下するため、莫大な量の触媒が必要となる。
【００１８】つまりＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減
させる超高効率脱硝を実現する際に、（１）脱硝触媒だ
けを配置した脱硝装置を適用した場合は、未反応ＮＨ3
量を抑制するという点、及び触媒層直前の排ガス流路域
での局所的なモル比が互いに相違した流体に対して、未
反応ＮＨ3の排出濃度を抑えなければならないという条
件下で、触媒量の増加によって達成できる平均脱硝率に
限界が生じるという点について、（２）脱硝触媒の後流
側にＮＨ3分解性能を有する触媒（ＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性を有する触媒）を配置した脱硝装置を
適用した場合は、副生ＮＯｘ量を抑制するという点につ
いて、（３）ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒
のみを配置した脱硝装置あるいは脱硝触媒の後流側にＮ
Ｈ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒を配置した脱硝
装置を適用した場合は触媒量を低減するという点につい
て、配慮がなされていなかった。
させる超高効率脱硝を実現する際に、（１）脱硝触媒だ
けを配置した脱硝装置を適用した場合は、未反応ＮＨ3
量を抑制するという点、及び触媒層直前の排ガス流路域
での局所的なモル比が互いに相違した流体に対して、未
反応ＮＨ3の排出濃度を抑えなければならないという条
件下で、触媒量の増加によって達成できる平均脱硝率に
限界が生じるという点について、（２）脱硝触媒の後流
側にＮＨ3分解性能を有する触媒（ＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性を有する触媒）を配置した脱硝装置を
適用した場合は、副生ＮＯｘ量を抑制するという点につ
いて、（３）ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒
のみを配置した脱硝装置あるいは脱硝触媒の後流側にＮ
Ｈ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒を配置した脱硝
装置を適用した場合は触媒量を低減するという点につい
て、配慮がなされていなかった。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】従来の排ガス浄化装置
にあっては、装置出口のＮＯｘの濃度を大気レベル以下
まで低減させる超高効率脱硝に適用する際に、未反応Ｎ
Ｈ3量や副生ＮＯｘ量の抑制の点について、または触媒
量の低減等の点について配慮がなされておらず、エアヒ
ーターの閉塞やＮＨ3の臭気、装置の巨大化等の問題が
あった。
にあっては、装置出口のＮＯｘの濃度を大気レベル以下
まで低減させる超高効率脱硝に適用する際に、未反応Ｎ
Ｈ3量や副生ＮＯｘ量の抑制の点について、または触媒
量の低減等の点について配慮がなされておらず、エアヒ
ーターの閉塞やＮＨ3の臭気、装置の巨大化等の問題が
あった。
【００２０】本発明の目的は、最も少ない触媒量で未反
応ＮＨ3の排出を抑えながら、ＮＯｘ値を大気レベル以
下まで低減させる超高効率脱硝を実現することのできる
排ガス浄化装置を提供することにある。
応ＮＨ3の排出を抑えながら、ＮＯｘ値を大気レベル以
下まで低減させる超高効率脱硝を実現することのできる
排ガス浄化装置を提供することにある。
【００２１】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明に係る排ガス浄化装置は、排ガス中の窒素酸
化物を、アンモニアの存在下で除去する少なくとも一つ
の触媒を備えてなる排ガス浄化装置において、アンモニ
ア分解性能と脱硝性能とを有する触媒を含む少なくとも
２種類の触媒を配列し、その配列の最後流部に、それぞ
れの種類の触媒のうち窒素酸化物生成率が最低の触媒を
配置した構成とする。
め、本発明に係る排ガス浄化装置は、排ガス中の窒素酸
化物を、アンモニアの存在下で除去する少なくとも一つ
の触媒を備えてなる排ガス浄化装置において、アンモニ
ア分解性能と脱硝性能とを有する触媒を含む少なくとも
２種類の触媒を配列し、その配列の最後流部に、それぞ
れの種類の触媒のうち窒素酸化物生成率が最低の触媒を
配置した構成とする。
【００２２】そして排ガス中の窒素酸化物を、アンモニ
アの存在下で除去する少なくとも一つの触媒を備えてな
る排ガス浄化装置において、アンモニア分解性能と脱硝
性能とを有する触媒を含む少なくとも２種類の触媒を配
列し、その配列の最後流部に、それぞれの種類の触媒の
うち窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を有する触
媒を配置した構成でもよい。
アの存在下で除去する少なくとも一つの触媒を備えてな
る排ガス浄化装置において、アンモニア分解性能と脱硝
性能とを有する触媒を含む少なくとも２種類の触媒を配
列し、その配列の最後流部に、それぞれの種類の触媒の
うち窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を有する触
媒を配置した構成でもよい。
【００２３】またアンモニア分解性能と脱硝性能とを有
する触媒は、窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を
有する第１成分と、アンモニアより窒素酸化物を生成さ
せる活性及び一酸化炭素より二酸化炭素を生成させる活
性のうち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成
分とよりなる構成でもよい。
する触媒は、窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を
有する第１成分と、アンモニアより窒素酸化物を生成さ
せる活性及び一酸化炭素より二酸化炭素を生成させる活
性のうち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成
分とよりなる構成でもよい。
【００２４】
【作用】本発明によれば、ＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒を含む２種類以上の触媒を用いて除去する
装置内の最後流部の触媒として、装置内でＮＯｘ生成率
が最も低い触媒を配置した場合は、上流部又は中間部に
ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒が配置されて
いるため、モル比＞１の高モル比運転が可能となり、未
反応ＮＨ3の排出濃度を抑えながら、高効率脱硝が実現
される。
を有する触媒を含む２種類以上の触媒を用いて除去する
装置内の最後流部の触媒として、装置内でＮＯｘ生成率
が最も低い触媒を配置した場合は、上流部又は中間部に
ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒が配置されて
いるため、モル比＞１の高モル比運転が可能となり、未
反応ＮＨ3の排出濃度を抑えながら、高効率脱硝が実現
される。
【００２５】また最後流部に装置内でＮＯｘ生成率が最
も低い触媒が配置されているため、より少ない触媒量で
ＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減させる超高効率脱硝
が実現される。
も低い触媒が配置されているため、より少ない触媒量で
ＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減させる超高効率脱硝
が実現される。
【００２６】以上の構成によって、未反応ＮＨ3は分解
され、触媒量が低減されるため、未反応ＮＨ3の多量の
流出が抑制され、莫大な量の触媒を積む必要がなくな
る。
され、触媒量が低減されるため、未反応ＮＨ3の多量の
流出が抑制され、莫大な量の触媒を積む必要がなくな
る。
【００２７】触媒の配置は、図１に示すように、ガス流
れ上流から順に、脱硝装置入口のモル比１〜２で脱硝性
能が高い触媒２と、ＮＨ3分解性能と脱硝性能を有する
触媒３と、装置内でＮＯｘ生成率が最も低い触媒４とを
配置した装置を超高効率脱硝に適用した場合が好結果を
得やすい。
れ上流から順に、脱硝装置入口のモル比１〜２で脱硝性
能が高い触媒２と、ＮＨ3分解性能と脱硝性能を有する
触媒３と、装置内でＮＯｘ生成率が最も低い触媒４とを
配置した装置を超高効率脱硝に適用した場合が好結果を
得やすい。
【００２８】触媒２としては、装置入口のモル比が１〜
２で高い脱硝性能を示す触媒、例えばバナジウム
（Ｖ）、タングステン（Ｗ）又はモリブデン（Ｍｏ）を
活性成分にした酸化チタン（Ｔｉ）系触媒を用いた場合
に好結果をもたらす。特にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉある
いはＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比におけるＶの含有量が２以
上のものを使用した場合によい結果が得られる。
２で高い脱硝性能を示す触媒、例えばバナジウム
（Ｖ）、タングステン（Ｗ）又はモリブデン（Ｍｏ）を
活性成分にした酸化チタン（Ｔｉ）系触媒を用いた場合
に好結果をもたらす。特にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉある
いはＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比におけるＶの含有量が２以
上のものを使用した場合によい結果が得られる。
【００２９】触媒３としては、ＮＯｘのＮＨ3による還
元活性を有する第１成分と、ＮＨ3よりＮＯｘを生成さ
せる活性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性のうち少
なくともいずれか一方の活性を有する第２成分とよりな
る触媒が用いられ、例えば、第１成分としてチタン、バ
ナジウム、タングステン、モリブデンより選ばれる１種
以上の元素の酸化物よりなる組成物と、そして第２成分
として白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）又はロジウム
（Ｒｈ）より選ばれる貴金属の塩類もしくはゼオライ
ト、アルミナ、シリカ等の多孔体担体に予め担持された
前記貴金属を含有する組成物とよりなる触媒を使用した
場合によい結果が得られる。
元活性を有する第１成分と、ＮＨ3よりＮＯｘを生成さ
せる活性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性のうち少
なくともいずれか一方の活性を有する第２成分とよりな
る触媒が用いられ、例えば、第１成分としてチタン、バ
ナジウム、タングステン、モリブデンより選ばれる１種
以上の元素の酸化物よりなる組成物と、そして第２成分
として白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）又はロジウム
（Ｒｈ）より選ばれる貴金属の塩類もしくはゼオライ
ト、アルミナ、シリカ等の多孔体担体に予め担持された
前記貴金属を含有する組成物とよりなる触媒を使用した
場合によい結果が得られる。
【００３０】触媒４としては、装置内でＮＯｘ生成率が
最も低い触媒、例えばバナジウム、タングステンあるい
はモリブデンを活性成分にした酸化チタン系触媒が使用
され、特にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ又はＶ／Ｍｏ／Ｔｉ
の原子比においてＶの含有量が２以下のものを使用した
場合によい結果が得られる。
最も低い触媒、例えばバナジウム、タングステンあるい
はモリブデンを活性成分にした酸化チタン系触媒が使用
され、特にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ又はＶ／Ｍｏ／Ｔｉ
の原子比においてＶの含有量が２以下のものを使用した
場合によい結果が得られる。
【００３１】また図２に示すように、ガス流れ上流から
順に、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒３と、
装置内でＮＯｘ生成率が最も低い触媒４とを配置し超高
効率脱硝に適用した場合も好結果が得やすい。
順に、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒３と、
装置内でＮＯｘ生成率が最も低い触媒４とを配置し超高
効率脱硝に適用した場合も好結果が得やすい。
【００３２】さらにＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有す
る触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を有する第
１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活性及びＣ
ＯよりＣＯ2を生成させる活性のうち少なくともいずれ
か一方の活性を有する第２成分とからなる触媒）を含む
触媒層の最後流部に脱硝触媒を配置した場合は、上流部
あるいは中間部にＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する
触媒が配置されているため、モル比＞１の高モル比運転
が可能となり、未反応ＮＨ3の排出濃度を抑えながら、
高効率脱硝が実現される。また最後流部に脱硝性能を有
する触媒が配置されているため、単位触媒当たりの脱硝
速度がＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒より速
くなるため、より少ない触媒量でＮＯｘ値を大気レベル
以下まで低減させる超高効率脱硝が実現される。以上の
構成によって、未反応ＮＨ3は分解され、触媒量は低減
できるようになるため、未反応ＮＨ3が多量に流出する
ことがなく、莫大な量の触媒を積む必要がなくなる。
る触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を有する第
１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活性及びＣ
ＯよりＣＯ2を生成させる活性のうち少なくともいずれ
か一方の活性を有する第２成分とからなる触媒）を含む
触媒層の最後流部に脱硝触媒を配置した場合は、上流部
あるいは中間部にＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する
触媒が配置されているため、モル比＞１の高モル比運転
が可能となり、未反応ＮＨ3の排出濃度を抑えながら、
高効率脱硝が実現される。また最後流部に脱硝性能を有
する触媒が配置されているため、単位触媒当たりの脱硝
速度がＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒より速
くなるため、より少ない触媒量でＮＯｘ値を大気レベル
以下まで低減させる超高効率脱硝が実現される。以上の
構成によって、未反応ＮＨ3は分解され、触媒量は低減
できるようになるため、未反応ＮＨ3が多量に流出する
ことがなく、莫大な量の触媒を積む必要がなくなる。
【００３３】
【実施例】本発明の一実施例を図１を参照しながら説明
する。図１に示すように、排ガス１０中の窒素酸化物
（ＮＯｘ）を、アンモニア（ＮＨ3）の存在下で除去す
る一つ以上の触媒１〜４を内装した触媒層１を備えてな
る排ガス浄化装置であって、アンモニア分解性能と脱硝
性能とを有する触媒を含む２種類以上の触媒１〜４を排
ガスの流れ方向に配列し、その配列の最後流部に、それ
ぞれの種類の触媒１〜４のうち窒素酸化物生成率が最低
の触媒４を配置した構成とする。すなわちそれぞれの触
媒１〜４は、排ガス１０のガス流れ上流より順に、装置
入口のモル比１〜２で脱硝性能が高い触媒２と、ＮＨ3
分解性能と脱硝性能とを有する触媒３と、各種類の触媒
のうちＮＯｘ生成率が最も低い触媒４とよりなるものと
する。
する。図１に示すように、排ガス１０中の窒素酸化物
（ＮＯｘ）を、アンモニア（ＮＨ3）の存在下で除去す
る一つ以上の触媒１〜４を内装した触媒層１を備えてな
る排ガス浄化装置であって、アンモニア分解性能と脱硝
性能とを有する触媒を含む２種類以上の触媒１〜４を排
ガスの流れ方向に配列し、その配列の最後流部に、それ
ぞれの種類の触媒１〜４のうち窒素酸化物生成率が最低
の触媒４を配置した構成とする。すなわちそれぞれの触
媒１〜４は、排ガス１０のガス流れ上流より順に、装置
入口のモル比１〜２で脱硝性能が高い触媒２と、ＮＨ3
分解性能と脱硝性能とを有する触媒３と、各種類の触媒
のうちＮＯｘ生成率が最も低い触媒４とよりなるものと
する。
【００３４】触媒２は、触媒層入口のモル比が１〜２で
高い脱硝性能を示す触媒が用いられる。例えばバナジウ
ム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）又はモリブデン（Ｍｏ）
を活性成分にした酸化チタン（Ｔｉ）系触媒を用い、特
にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ又はＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比
におけるＶの含有量が２以上のものを使用する。
高い脱硝性能を示す触媒が用いられる。例えばバナジウ
ム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）又はモリブデン（Ｍｏ）
を活性成分にした酸化チタン（Ｔｉ）系触媒を用い、特
にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ又はＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比
におけるＶの含有量が２以上のものを使用する。
【００３５】触媒３は、ＮＯｘのＮＨ3による還元活性
を有する第１成分と、ＮＨ3よりＮＯｘを生成させる活
性及び一酸化炭素（ＣＯ）より二酸化炭素（ＣＯ2）を
生成させる活性のうち少なくともいずれか一方の活性を
有する第２成分とよりなるものとする。例えば、チタ
ン、バナジウム、タングステン、モリブデンより選ばれ
る１種以上の元素の酸化物よりなる組成物を第１成分と
し、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）又はロジウム
（Ｒｈ）より選ばれる貴金属の塩類もしくはゼオライ
ト、アルミナ、シリカ等の多孔体担体に予め担持された
貴金属を含有する組成物を第２成分とする。
を有する第１成分と、ＮＨ3よりＮＯｘを生成させる活
性及び一酸化炭素（ＣＯ）より二酸化炭素（ＣＯ2）を
生成させる活性のうち少なくともいずれか一方の活性を
有する第２成分とよりなるものとする。例えば、チタ
ン、バナジウム、タングステン、モリブデンより選ばれ
る１種以上の元素の酸化物よりなる組成物を第１成分と
し、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）又はロジウム
（Ｒｈ）より選ばれる貴金属の塩類もしくはゼオライ
ト、アルミナ、シリカ等の多孔体担体に予め担持された
貴金属を含有する組成物を第２成分とする。
【００３６】最後流部の触媒４は、触媒層内でＮＯｘ生
成率が最も低い触媒が用いられる。例えばバナジウム、
タングステン又はモリブデンを活性成分にした酸化チタ
ン系触媒が使用され、特にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ又は
Ｖ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比におけるＶの含有量が２以下の
ものが使用される。
成率が最も低い触媒が用いられる。例えばバナジウム、
タングステン又はモリブデンを活性成分にした酸化チタ
ン系触媒が使用され、特にＶ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ又は
Ｖ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比におけるＶの含有量が２以下の
ものが使用される。
【００３７】本発明の他の実施例を図２に示す。燃焼排
ガス１０のガス流れ上流より順に、ＮＨ3分解性能と脱
硝性能とを有する触媒３と、触媒層内でＮＯｘ生成率が
最も低い触媒４を配置し超高効率脱硝に適用した構成で
ある。
ガス１０のガス流れ上流より順に、ＮＨ3分解性能と脱
硝性能とを有する触媒３と、触媒層内でＮＯｘ生成率が
最も低い触媒４を配置し超高効率脱硝に適用した構成で
ある。
【００３８】以上の構成によって、未反応ＮＨ3が分解
され、触媒量が低減されるため、未反応ＮＨ3の多量の
流出が抑制され、莫大な量の触媒を積む必要がなくな
る。
され、触媒量が低減されるため、未反応ＮＨ3の多量の
流出が抑制され、莫大な量の触媒を積む必要がなくな
る。
【００３９】本発明は、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを
有する触媒を含む２種類以上の触媒の配置及び使用する
触媒に特徴があり、超高効率脱硝が実現できるものであ
ればどのような配置、どのような触媒であっても採用で
きることは言うまでもない。本発明の効果を確認するた
め、以下の試験を行った。 （実施例１）図３に示す触媒装置断面積が０.０２２５
ｍ2の小型の水平流型試験装置１Ａに、１単位（ユニッ
ト）の触媒表面積が５.５ｍ2でかつ触媒の長さが０.５
ｍである触媒を、触媒２として３単位、触媒３として２
単位及び触媒４として４単位配置し、ボイラ燃焼排ガス
を通し、装置入口ＮＯｘ＝１００ｐｐｍ、モル比＝１.
５、ガス温度３８０℃という条件で試験を行った。
有する触媒を含む２種類以上の触媒の配置及び使用する
触媒に特徴があり、超高効率脱硝が実現できるものであ
ればどのような配置、どのような触媒であっても採用で
きることは言うまでもない。本発明の効果を確認するた
め、以下の試験を行った。 （実施例１）図３に示す触媒装置断面積が０.０２２５
ｍ2の小型の水平流型試験装置１Ａに、１単位（ユニッ
ト）の触媒表面積が５.５ｍ2でかつ触媒の長さが０.５
ｍである触媒を、触媒２として３単位、触媒３として２
単位及び触媒４として４単位配置し、ボイラ燃焼排ガス
を通し、装置入口ＮＯｘ＝１００ｐｐｍ、モル比＝１.
５、ガス温度３８０℃という条件で試験を行った。
【００４０】触媒２としては、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ＝４／５／
９１（原子比）である酸化物触媒を使用した。触媒３と
しては、第１成分がＶ／Ｗ／Ｔｉ＝４／５／９１（原子
比）である酸化物、第２成分が０.０５ｗｔ％の白金を
担持したシリカで、第２成分／第１成分比が２／９８で
ある触媒を使用した。触媒４としては、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ＝
２／５／９３（原子比）である酸化物触媒を使用した。
９１（原子比）である酸化物触媒を使用した。触媒３と
しては、第１成分がＶ／Ｗ／Ｔｉ＝４／５／９１（原子
比）である酸化物、第２成分が０.０５ｗｔ％の白金を
担持したシリカで、第２成分／第１成分比が２／９８で
ある触媒を使用した。触媒４としては、Ｖ／Ｗ／Ｔｉ＝
２／５／９３（原子比）である酸化物触媒を使用した。
【００４１】（比較例１）実施例１と同じ試験装置に、
触媒４として、触媒２と同じ仕様であるＶ／Ｗ／Ｔｉ＝
４／５／９１（原子比）である酸化物触媒を使用し、前
記条件で同様の試験を行った。
触媒４として、触媒２と同じ仕様であるＶ／Ｗ／Ｔｉ＝
４／５／９１（原子比）である酸化物触媒を使用し、前
記条件で同様の試験を行った。
【００４２】図４に実施例１と比較例１の出口ＮＯｘ濃
度、未反応ＮＨ3濃度と触媒量比の関係を示す。触媒量
比とは、出口ＮＯｘ＜０.０４ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3＜
５ｐｐｍ出口を同時に達成することができる触媒量を、
既設のボイラに設置されている選択的接触還元による排
煙脱硝装置で使用される脱硝触媒の触媒量で除した値で
ある。
度、未反応ＮＨ3濃度と触媒量比の関係を示す。触媒量
比とは、出口ＮＯｘ＜０.０４ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3＜
５ｐｐｍ出口を同時に達成することができる触媒量を、
既設のボイラに設置されている選択的接触還元による排
煙脱硝装置で使用される脱硝触媒の触媒量で除した値で
ある。
【００４３】最後流部の触媒として、実施例１の触媒を
用いた方が、比較例１の触媒を用いた場合よりも少ない
触媒量で、出口ＮＯｘ＜０.０４ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3
＜５ｐｐｍを同時に達成することができることがわか
る。また装置入口のモル比は図４に示すＢ／Ａ＝１.５
であるのに対し、最後流部の触媒入口のモル比は図４に
示すＤ／Ｃ＝５／０.３＝１６.７＝約２０と非常に高い
ことがわかる。つまり本発明の実施例の触媒の組合わせ
は比較例に比べて、少ない触媒量で超高効率脱硝を達成
できることがわかる。
用いた方が、比較例１の触媒を用いた場合よりも少ない
触媒量で、出口ＮＯｘ＜０.０４ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3
＜５ｐｐｍを同時に達成することができることがわか
る。また装置入口のモル比は図４に示すＢ／Ａ＝１.５
であるのに対し、最後流部の触媒入口のモル比は図４に
示すＤ／Ｃ＝５／０.３＝１６.７＝約２０と非常に高い
ことがわかる。つまり本発明の実施例の触媒の組合わせ
は比較例に比べて、少ない触媒量で超高効率脱硝を達成
できることがわかる。
【００４４】図５にバナジウム、モリブデンを活性成分
にした酸化チタン系触媒のＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比にお
けるＶの含有量とＮＯｘ生成率の関係を示す。Ｖの含有
量が低い方がＮＯｘの副生を抑えることができ、特に反
応温度が高い場合は、Ｖ含有量が２以下の触媒の方が超
高効率脱硝に適していることがわかる。なお温度Ｔ1，
Ｔ2は装置の入口温度であり、装置の出口温度とほぼ同
一温度である。
にした酸化チタン系触媒のＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比にお
けるＶの含有量とＮＯｘ生成率の関係を示す。Ｖの含有
量が低い方がＮＯｘの副生を抑えることができ、特に反
応温度が高い場合は、Ｖ含有量が２以下の触媒の方が超
高効率脱硝に適していることがわかる。なお温度Ｔ1，
Ｔ2は装置の入口温度であり、装置の出口温度とほぼ同
一温度である。
【００４５】表１に実施例１〜３及び比較例１〜３の場
合の、出口ＮＯｘ＜０.０４ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3＜５
ｐｐｍを同時に達成することができる触媒量比を示す。
合の、出口ＮＯｘ＜０.０４ｐｐｍ及び未反応ＮＨ3＜５
ｐｐｍを同時に達成することができる触媒量比を示す。
【００４６】
【表１】
【００４７】本発明によれば、高モル比で運転しても未
反応ＮＨ3を抑えることができる。例えば未反応ＮＨ3の
排出濃度を５ｐｐｍ以下に抑えることができ、しかもＮ
Ｏｘ値を大気レベル以下まで低減できるという効果があ
る。またＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減させる超高
効率脱硝を、より少ない触媒量で実現できるという効果
がある。
反応ＮＨ3を抑えることができる。例えば未反応ＮＨ3の
排出濃度を５ｐｐｍ以下に抑えることができ、しかもＮ
Ｏｘ値を大気レベル以下まで低減できるという効果があ
る。またＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減させる超高
効率脱硝を、より少ない触媒量で実現できるという効果
がある。
【００４８】本発明の他の実施例を図６に示す。本実施
例は水平流型脱硝装置に係るものである。脱硝装置（触
媒層）１１の中に複数段の触媒が設けられ、排ガス流れ
の上流側より順に脱硝触媒（触媒）１２と、ＮＨ3分解
性能と脱硝性能とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3に
よる還元活性を有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性
のうち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成分
とよりなる触媒）１３と、最後流部に脱硝触媒（窒素酸
化物のＮＨ3による還元活性を有する触媒）１４とを配
置している。排ガス１０が流入する上流側の排ガスダク
ト１８には、ＮＨ3注入装置１５が内設してあり、その
後流にＮＯｘやＮＨ3等の排ガス成分の濃度を均一にす
るガス混合装置１６と排ガス流速を均一にする整流装置
１７とが設けてある。
例は水平流型脱硝装置に係るものである。脱硝装置（触
媒層）１１の中に複数段の触媒が設けられ、排ガス流れ
の上流側より順に脱硝触媒（触媒）１２と、ＮＨ3分解
性能と脱硝性能とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3に
よる還元活性を有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性
のうち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成分
とよりなる触媒）１３と、最後流部に脱硝触媒（窒素酸
化物のＮＨ3による還元活性を有する触媒）１４とを配
置している。排ガス１０が流入する上流側の排ガスダク
ト１８には、ＮＨ3注入装置１５が内設してあり、その
後流にＮＯｘやＮＨ3等の排ガス成分の濃度を均一にす
るガス混合装置１６と排ガス流速を均一にする整流装置
１７とが設けてある。
【００４９】本実施例の脱硝装置を用いることにより、
モル比＞１の高モル比運転が可能なため、脱硝触媒１２
により高効率脱硝ができ、ＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒１３により未反応のＮＨ3が分解でき、さ
らに脱硝触媒（触媒）１４により残ったＮＯｘとともに
副生したＮＯｘを少ない触媒量で超高効率脱硝ができ
る。
モル比＞１の高モル比運転が可能なため、脱硝触媒１２
により高効率脱硝ができ、ＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒１３により未反応のＮＨ3が分解でき、さ
らに脱硝触媒（触媒）１４により残ったＮＯｘとともに
副生したＮＯｘを少ない触媒量で超高効率脱硝ができ
る。
【００５０】本実施例で使用される脱硝触媒１２，１４
としては、例えばバナジウム、タングステンあるいはモ
リブデンを活性成分にした酸化チタン系触媒が使用され
る。
としては、例えばバナジウム、タングステンあるいはモ
リブデンを活性成分にした酸化チタン系触媒が使用され
る。
【００５１】またＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する
触媒１３としては、ＮＯｘのＮＨ3による還元活性を有
する第１成分とＮＨ3よりＮＯｘを生成させる活性を有
する第２成分とよりなる触媒が用いられ、例えば、チタ
ン、バナジウム、タングステン及びモリブデンより選ば
れる１種以上の元素の酸化物よりなる組成物を第１成分
とし、貴金属の塩類もしくはゼオライト、アルミナ及び
シリカ等の多孔体担体に予め担持された前記貴金属を含
有する組成物を第２成分とする組成物よりなる触媒が使
用される。
触媒１３としては、ＮＯｘのＮＨ3による還元活性を有
する第１成分とＮＨ3よりＮＯｘを生成させる活性を有
する第２成分とよりなる触媒が用いられ、例えば、チタ
ン、バナジウム、タングステン及びモリブデンより選ば
れる１種以上の元素の酸化物よりなる組成物を第１成分
とし、貴金属の塩類もしくはゼオライト、アルミナ及び
シリカ等の多孔体担体に予め担持された前記貴金属を含
有する組成物を第２成分とする組成物よりなる触媒が使
用される。
【００５２】本実施例は前記のような触媒の配置に特徴
があり、水平流型脱硝装置に限らず、どのような脱硝装
置においても採用できることは言うまでもない。
があり、水平流型脱硝装置に限らず、どのような脱硝装
置においても採用できることは言うまでもない。
【００５３】図７に垂直流型脱硝装置に適用された本発
明の他の実施例を示す。本実施例では、触媒層２１の内
部に排ガス１０の流れの上流側より順にＮＨ3分解性能
と脱硝性能とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3による
還元活性を有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生
成させる活性及びＣＯからＣＯ2を生成させる活性のう
ち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成分とよ
りなる触媒）２３と脱硝触媒（触媒）２４とが配置され
ている。排ガスダクト２８にはＮＨ3注入装置２５が内
設してあり、その後流にＮＯｘやＮＨ3等の排ガス成分
の濃度を均一にするガス混合装置２６と排ガス流速を均
一にする整流装置２７とが設けてある。
明の他の実施例を示す。本実施例では、触媒層２１の内
部に排ガス１０の流れの上流側より順にＮＨ3分解性能
と脱硝性能とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3による
還元活性を有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生
成させる活性及びＣＯからＣＯ2を生成させる活性のう
ち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成分とよ
りなる触媒）２３と脱硝触媒（触媒）２４とが配置され
ている。排ガスダクト２８にはＮＨ3注入装置２５が内
設してあり、その後流にＮＯｘやＮＨ3等の排ガス成分
の濃度を均一にするガス混合装置２６と排ガス流速を均
一にする整流装置２７とが設けてある。
【００５４】本実施例の脱硝装置を用いることにより、
モル比＞１の高モル比運転が可能であるため、ＮＨ3分
解性能と脱硝性能とを有する触媒２３により高効率脱硝
とＮＨ3分解反応とができ、脱硝触媒２４により残った
ＮＯｘとともに１層目で副生したＮＯｘを少ない触媒量
で超高効率脱硝ができる。
モル比＞１の高モル比運転が可能であるため、ＮＨ3分
解性能と脱硝性能とを有する触媒２３により高効率脱硝
とＮＨ3分解反応とができ、脱硝触媒２４により残った
ＮＯｘとともに１層目で副生したＮＯｘを少ない触媒量
で超高効率脱硝ができる。
【００５５】本実施例で使用される脱硝性能を有する触
媒２３及び脱硝触媒２４は、図６に示す実施例と同様の
触媒が用いられ、形状等が異なるのみである。
媒２３及び脱硝触媒２４は、図６に示す実施例と同様の
触媒が用いられ、形状等が異なるのみである。
【００５６】本実施例は前記のような触媒の配置に特徴
があり、垂直流型脱硝装置に限らず、どのような脱硝装
置においても採用できることは言うまでもない。
があり、垂直流型脱硝装置に限らず、どのような脱硝装
置においても採用できることは言うまでもない。
【００５７】本実施例の効果を確認するため、触媒層断
面積が０.２ｍ2の小型の水平流型試験装置に脱硝触媒
と、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒（窒素酸
化物のＮＨ3による還元活性を有する第１成分とＮＨ3よ
り窒素酸化物を生成させる活性及びＣＯからＣＯ2を生
成させる活性のうち少なくともいずれか一方の活性を有
する第２成分とよりなる触媒）を単層又は多層に配置
し、ボイラ燃焼排ガスを通し、脱硝装置入口ＮＯｘ＝１
００ｐｐｍ、ＮＨ3／ＮＯｘのモル比＝１.５、脱硝装置
入口のモル比の変動係数（ＣＶ値）＝２０％及びガス温
度＝３５０℃という条件で試験を行った。試験装置内の
触媒は、表２に示す配置で試験を行った。表２中の触媒
量比とは、出口ＮＯｘを０.０４ｐｐｍ以下及び残留Ｎ
Ｈ3を５ｐｐｍ以下を同時に達成することができる触媒
量を、前記した既設のボイラに設置されている選択的接
触還元による排煙脱硝装置で使用される脱硝触媒の触媒
量（触媒量比１００％）で除した値である。
面積が０.２ｍ2の小型の水平流型試験装置に脱硝触媒
と、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒（窒素酸
化物のＮＨ3による還元活性を有する第１成分とＮＨ3よ
り窒素酸化物を生成させる活性及びＣＯからＣＯ2を生
成させる活性のうち少なくともいずれか一方の活性を有
する第２成分とよりなる触媒）を単層又は多層に配置
し、ボイラ燃焼排ガスを通し、脱硝装置入口ＮＯｘ＝１
００ｐｐｍ、ＮＨ3／ＮＯｘのモル比＝１.５、脱硝装置
入口のモル比の変動係数（ＣＶ値）＝２０％及びガス温
度＝３５０℃という条件で試験を行った。試験装置内の
触媒は、表２に示す配置で試験を行った。表２中の触媒
量比とは、出口ＮＯｘを０.０４ｐｐｍ以下及び残留Ｎ
Ｈ3を５ｐｐｍ以下を同時に達成することができる触媒
量を、前記した既設のボイラに設置されている選択的接
触還元による排煙脱硝装置で使用される脱硝触媒の触媒
量（触媒量比１００％）で除した値である。
【００５８】
【表２】
【００５９】図８に実施例１４と比較例１１，１４との
脱硝装置出口のＮＯｘ濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒
量比との関係を示す。実施例１４は、排ガス流れの前流
より順に、脱硝触媒１２と、ＮＨ3分解性能と脱硝性能
とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を
有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活
性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性のうち少なくと
もいずれか一方の活性を有する第２成分とよりなる触
媒）１３と、脱硝触媒１４とを配置した。比較例１４
は、脱硝触媒１２の後流にＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒１３を配置した。そして比較例１１は、脱
硝触媒１２を単独に配置した。
脱硝装置出口のＮＯｘ濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒
量比との関係を示す。実施例１４は、排ガス流れの前流
より順に、脱硝触媒１２と、ＮＨ3分解性能と脱硝性能
とを有する触媒（窒素酸化物のＮＨ3による還元活性を
有する第１成分とＮＨ3より窒素酸化物を生成させる活
性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性のうち少なくと
もいずれか一方の活性を有する第２成分とよりなる触
媒）１３と、脱硝触媒１４とを配置した。比較例１４
は、脱硝触媒１２の後流にＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒１３を配置した。そして比較例１１は、脱
硝触媒１２を単独に配置した。
【００６０】比較例１１の装置を用いた場合は、ＮＯｘ
を０.０４ｐｐｍ以下という目標値を最も少ない触媒量
（触媒量比１８２％）で達成できるものの、脱硝触媒１
２がＮＨ3分解性能をほとんど持たないため、この条件
では未反応ＮＨ3濃度が３０ｐｐｍでほぼ一定となり、
未反応ＮＨ3濃度５ｐｐｍ以下という目標値を同時に達
成することができないことがわかる。
を０.０４ｐｐｍ以下という目標値を最も少ない触媒量
（触媒量比１８２％）で達成できるものの、脱硝触媒１
２がＮＨ3分解性能をほとんど持たないため、この条件
では未反応ＮＨ3濃度が３０ｐｐｍでほぼ一定となり、
未反応ＮＨ3濃度５ｐｐｍ以下という目標値を同時に達
成することができないことがわかる。
【００６１】また比較例１４には、ＮＨ3分解性能と脱
硝性能とを有する触媒１３を脱硝触媒１２の後流に配置
しているため、ＮＯｘを０.０４ｐｐｍ以下及びＮＨ3を
５ｐｐｍ以下を同時に達成することができるものの、図
８に示す３つの試験例の中では、ＮＯｘを０.０４ｐｐ
ｍ以下を達成するのに最も触媒量が多くなってしまう
（触媒量比 ２５０％）ことがわかる。
硝性能とを有する触媒１３を脱硝触媒１２の後流に配置
しているため、ＮＯｘを０.０４ｐｐｍ以下及びＮＨ3を
５ｐｐｍ以下を同時に達成することができるものの、図
８に示す３つの試験例の中では、ＮＯｘを０.０４ｐｐ
ｍ以下を達成するのに最も触媒量が多くなってしまう
（触媒量比 ２５０％）ことがわかる。
【００６２】それに対し、実施例１４には脱硝触媒１２
の後流にＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒１３
を配置しているため、ＮＯｘを０.０４ｐｐｍ以下及び
ＮＨ3を５ｐｐｍ以下という目標値を同時に達成するこ
とができ、さらに最後流部に脱硝触媒１４を配置してい
るため、比較例１４に比べて、少ない触媒量（触媒量比
２２０％）で目標を達成できることがわかる。
の後流にＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒１３
を配置しているため、ＮＯｘを０.０４ｐｐｍ以下及び
ＮＨ3を５ｐｐｍ以下という目標値を同時に達成するこ
とができ、さらに最後流部に脱硝触媒１４を配置してい
るため、比較例１４に比べて、少ない触媒量（触媒量比
２２０％）で目標を達成できることがわかる。
【００６３】なお、実施例１４及び比較例１４のＮＨ3
分解性能と脱硝性能とを有する触媒１３は、必ず脱硝触
媒１２の後流に配置していることから、残留ＮＨ3を積
極的に除去するため、第２成分のＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性
のうち少なくともいずれか一方の活性の比較的高い触媒
を用いた。
分解性能と脱硝性能とを有する触媒１３は、必ず脱硝触
媒１２の後流に配置していることから、残留ＮＨ3を積
極的に除去するため、第２成分のＮＨ3より窒素酸化物
を生成させる活性及びＣＯよりＣＯ2を生成させる活性
のうち少なくともいずれか一方の活性の比較的高い触媒
を用いた。
【００６４】図９に、実施例１６と比較例１５との脱硝
装置出口のＮＯｘ濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒量比
との関係を示す。実施例１６は、ＮＨ3分解性能と脱硝
性能とを有する触媒１３の後流に脱硝触媒１４を配置し
た。比較例１５は、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有す
る触媒１３を単独で配置した。比較例１５は、この条件
では残留ＮＨ3濃度を５ｐｐｍ以下にできるものの、Ｎ
Ｏｘ ０.０４ｐｐｍ以下という目標値を達成するのに触
媒量比で２５０％以上の触媒量が必要になることが予想
される。しかし実施例１６の脱硝装置を使用した場合
は、比較例１５の場合よりも少ない触媒量（触媒量比
２１５％）でＮＨ3を５ｐｐｍ以下、ＮＯｘを０.０４ｐ
ｐｍ以下という目標を達成できることがわかる。
装置出口のＮＯｘ濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒量比
との関係を示す。実施例１６は、ＮＨ3分解性能と脱硝
性能とを有する触媒１３の後流に脱硝触媒１４を配置し
た。比較例１５は、ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有す
る触媒１３を単独で配置した。比較例１５は、この条件
では残留ＮＨ3濃度を５ｐｐｍ以下にできるものの、Ｎ
Ｏｘ ０.０４ｐｐｍ以下という目標値を達成するのに触
媒量比で２５０％以上の触媒量が必要になることが予想
される。しかし実施例１６の脱硝装置を使用した場合
は、比較例１５の場合よりも少ない触媒量（触媒量比
２１５％）でＮＨ3を５ｐｐｍ以下、ＮＯｘを０.０４ｐ
ｐｍ以下という目標を達成できることがわかる。
【００６５】実施例１６及び比較例１５のＮＨ3分解性
能と脱硝性能とを有する触媒１３は、必ず排ガス流れの
最前流側に配置していることから、副生ＮＯｘを抑え、
脱硝反応を有利にするため、第１成分の窒素酸化物のＮ
Ｈ3による還元活性の比較的高い触媒を用いた。
能と脱硝性能とを有する触媒１３は、必ず排ガス流れの
最前流側に配置していることから、副生ＮＯｘを抑え、
脱硝反応を有利にするため、第１成分の窒素酸化物のＮ
Ｈ3による還元活性の比較的高い触媒を用いた。
【００６６】本実施例によれば、高モル比で運転しても
未反応ＮＨ3を抑えることができる。例えば未反応ＮＨ3
の排出濃度を５ｐｐｍ以下に抑えることができ、しかも
ＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減できるという効果が
ある。
未反応ＮＨ3を抑えることができる。例えば未反応ＮＨ3
の排出濃度を５ｐｐｍ以下に抑えることができ、しかも
ＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減できるという効果が
ある。
【００６７】またＮＯｘ値を大気レベル以下まで低減さ
せる超高効率脱硝を行う際に、副生ＮＯｘの影響を極力
排除できるので最後流部にＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒を配置した脱硝装置に比べ触媒量を低減で
きるという効果がある。
せる超高効率脱硝を行う際に、副生ＮＯｘの影響を極力
排除できるので最後流部にＮＨ3分解性能と脱硝性能と
を有する触媒を配置した脱硝装置に比べ触媒量を低減で
きるという効果がある。
【００６８】
【発明の効果】本発明によれば、アンモニア分解性能と
脱硝性能とを有する触媒と最後流部の脱硝触媒とを配列
したため、高モル比で運転しＮＯｘ値を大気レベル以下
に低減できるとともに、未反応アンモニアの排出濃度を
低減でき、超高効率脱硝を少ない触媒量で実現できると
いう効果がある。
脱硝性能とを有する触媒と最後流部の脱硝触媒とを配列
したため、高モル比で運転しＮＯｘ値を大気レベル以下
に低減できるとともに、未反応アンモニアの排出濃度を
低減でき、超高効率脱硝を少ない触媒量で実現できると
いう効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図２】本発明の他の実施例を示す構成図である。
【図３】本発明の実施例１を示す小型脱硝試験装置の図
である。
である。
【図４】実施例１及び比較例１の装置出口のＮＯｘ及び
未反応ＮＨ3濃度と触媒量比との関係を示すグラフであ
る。
未反応ＮＨ3濃度と触媒量比との関係を示すグラフであ
る。
【図５】触媒中のＶの含有量とＮＯｘ生成率の関係を示
すグラフである。
すグラフである。
【図６】本発明の他の実施例を示す水平流型脱硝装置の
構成図である。
構成図である。
【図７】本発明の他の実施例を示す垂直流型脱硝装置の
構成図である。
構成図である。
【図８】実施例１４と比較例１１，１４との装置出口の
ＮＯｘ濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒量比との関係を
示すグラフである。
ＮＯｘ濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒量比との関係を
示すグラフである。
【図９】実施例１６と比較例１５との装置出口のＮＯｘ
濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒量比との関係を示すグ
ラフである。
濃度及び未反応ＮＨ3濃度と触媒量比との関係を示すグ
ラフである。
【図１０】従来の技術を示す図である。
【図１１】従来の技術を示す図である。
【図１２】脱硝触媒の単独配置と、脱硝触媒、ＮＨ3分
解性能と脱硝性能とを有する触媒を配置した場合の脱硝
率と触媒量比との関係を示すグラフである。
解性能と脱硝性能とを有する触媒を配置した場合の脱硝
率と触媒量比との関係を示すグラフである。
【図１３】従来の技術を示す図である。
１ 触媒層 ２ 触媒 ３ ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒 ４ 触媒 １０ 排ガス １１ 触媒層 １２ 触媒 １３ ＮＨ3分解性能と脱硝性能とを有する触媒 １４ 触媒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/652 29/076 Ａ 29/26 Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢ １０２ Ｇ Ｂ０１Ｊ 23/64 １０３ Ａ (72)発明者 雪田 作二 広島県呉市宝町５番３号 バブ日立工業株 式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 排ガス中の窒素酸化物を、アンモニアの
存在下で除去する少なくとも一つの触媒を備えてなる排
ガス浄化装置において、アンモニア分解性能と脱硝性能
とを有する触媒を含む少なくとも２種類の触媒を配列
し、その配列の最後流部に、それぞれの種類の触媒のう
ち窒素酸化物生成率が最低の触媒を配置したことを特徴
とする排ガス浄化装置。 - 【請求項２】 排ガス中の窒素酸化物を、アンモニアの
存在下で除去する少なくとも一つの触媒を備えてなる排
ガス浄化装置において、アンモニア分解性能と脱硝性能
とを有する触媒を含む少なくとも２種類の触媒を配列
し、その配列の最後流部に、それぞれの種類の触媒のう
ち窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を有する触媒
を配置したことを特徴とする排ガス浄化装置。 - 【請求項３】 アンモニア分解性能と脱硝性能とを有す
る触媒は、窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を有
する第１成分と、アンモニアより窒素酸化物を生成させ
る活性及び一酸化炭素より二酸化炭素を生成させる活性
のうち少なくともいずれか一方の活性を有する第２成分
とよりなることを特徴とする請求項１又は２記載の排ガ
ス浄化装置。 - 【請求項４】 最後流部の触媒は、Ｖ、Ｗ又はＭｏを活
性成分にしたＴｉ系触媒のうち、Ｖ／Ｔｉ、Ｖ／Ｗ／Ｔ
ｉ又はＶ／Ｍｏ／Ｔｉの原子比におけるＶの含有量が２
以下の触媒であることを特徴とする請求項１又は３記載
の排ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20627994A JP4045375B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-08-31 | 排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-177782 | 1994-07-29 | ||
| JP17778294 | 1994-07-29 | ||
| JP20627994A JP4045375B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-08-31 | 排ガス浄化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0889760A true JPH0889760A (ja) | 1996-04-09 |
| JP4045375B2 JP4045375B2 (ja) | 2008-02-13 |
Family
ID=26498199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20627994A Expired - Fee Related JP4045375B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-08-31 | 排ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4045375B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002052379A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-19 | Babcock Hitachi Kk | アンモニア含有排水の浄化方法および装置 |
| JP2012183490A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Babcock Hitachi Kk | 脱硝装置及び脱硝触媒 |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP20627994A patent/JP4045375B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002052379A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-19 | Babcock Hitachi Kk | アンモニア含有排水の浄化方法および装置 |
| JP2012183490A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Babcock Hitachi Kk | 脱硝装置及び脱硝触媒 |
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|---|---|
| JP4045375B2 (ja) | 2008-02-13 |
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