JPH0881422A - ニトロ置換アリールアミンの製造法 - Google Patents
ニトロ置換アリールアミンの製造法Info
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- JPH0881422A JPH0881422A JP7255839A JP25583995A JPH0881422A JP H0881422 A JPH0881422 A JP H0881422A JP 7255839 A JP7255839 A JP 7255839A JP 25583995 A JP25583995 A JP 25583995A JP H0881422 A JPH0881422 A JP H0881422A
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- C07D239/42—One nitrogen atom
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ニトロ置換アリールアミンの新規製造法
【構成】 式
【化1】
のニトロ芳香族化合物を式
【化2】
のアミンと極性溶媒中酸素を用い塩基を存在させて反応
させることを特徴とする 【化3】 の化合物を製造する方法。但し上式中、Ar、X、R1及
びR2は明細書中に記載されているとおりである。
させることを特徴とする 【化3】 の化合物を製造する方法。但し上式中、Ar、X、R1及
びR2は明細書中に記載されているとおりである。
Description
【0001】本発明は芳香族ニトロ化合物、アミンおよ
び酸素から塩基を存在させニトロ置換アリールアミンを
製造する方法に関する。
び酸素から塩基を存在させニトロ置換アリールアミンを
製造する方法に関する。
【0002】芳香族アミンは染料、植物保護剤、医薬品
の製造および写真産業の重要な中間体である。
の製造および写真産業の重要な中間体である。
【0003】芳香族アミンを製造する工業的に重要な方
法は容易に入手できる芳香族ニトロ化合物のニトロ基を
還元するか、芳香族ハロゲン化合物をアンモニアまたは
アミンと反応させる方法である。これらの方法は工業的
に広く使用されているが、多段工程のためにしばしば不
満足な結果が得られる。DMSO中で塩基を存在させニ
トロベンゼンをアセトアニリドで直接アミン化する方法
も公知であり、p−ニトロソジフェニルアミンが主生成
物として生じる[テトラヘドロン・レターズ(Tetr
ahedron Lett.)誌、1990年、22
巻、3217〜3220頁)。塩基およびプロトン含有
物質を存在させ、ニトロベンゼンを脂肪族アミンと反応
させて窒素に脂肪族の基が置換したフェニレンジアミン
を製造する方法も報告されている(米国特許第5,25
2,737号)。さらに酸化剤を用いず特殊な塩基、例
えば水酸化テトラアルキルアンモニウム、およびプロト
ン含有物質を存在させ、ニトロベンゼンをアミドまたは
アミンと反応させてパラ位にニトロきを有する芳香族ア
ミドまたはアミンを製造する方法も知られている[WO
93/24447号、米国特許第5,117,063
号、およびジャーナル・オヴ・アメリカン・ケミカル・
ソサイアティー(J.Am.Chem.Soc.)誌、
1992年、114巻、9237頁]。これらの方法は
特殊な条件を必要とするか、および/または必ずしも満
足な収率が得られない。
法は容易に入手できる芳香族ニトロ化合物のニトロ基を
還元するか、芳香族ハロゲン化合物をアンモニアまたは
アミンと反応させる方法である。これらの方法は工業的
に広く使用されているが、多段工程のためにしばしば不
満足な結果が得られる。DMSO中で塩基を存在させニ
トロベンゼンをアセトアニリドで直接アミン化する方法
も公知であり、p−ニトロソジフェニルアミンが主生成
物として生じる[テトラヘドロン・レターズ(Tetr
ahedron Lett.)誌、1990年、22
巻、3217〜3220頁)。塩基およびプロトン含有
物質を存在させ、ニトロベンゼンを脂肪族アミンと反応
させて窒素に脂肪族の基が置換したフェニレンジアミン
を製造する方法も報告されている(米国特許第5,25
2,737号)。さらに酸化剤を用いず特殊な塩基、例
えば水酸化テトラアルキルアンモニウム、およびプロト
ン含有物質を存在させ、ニトロベンゼンをアミドまたは
アミンと反応させてパラ位にニトロきを有する芳香族ア
ミドまたはアミンを製造する方法も知られている[WO
93/24447号、米国特許第5,117,063
号、およびジャーナル・オヴ・アメリカン・ケミカル・
ソサイアティー(J.Am.Chem.Soc.)誌、
1992年、114巻、9237頁]。これらの方法は
特殊な条件を必要とするか、および/または必ずしも満
足な収率が得られない。
【0004】驚くべきことには本発明においては簡単な
塩基と酸素とを存在させニトロ置換芳香族化合物を直接
アミンと反応させる方法が見出された。
塩基と酸素とを存在させニトロ置換芳香族化合物を直接
アミンと反応させる方法が見出された。
【0005】本発明は式
【0006】
【化4】
【0007】但し式中Arは炭素数が4〜16で、N、
OおよびSから成る群から選ばれるヘテロ原子を1〜2
個含み得る単環式または多環式芳香族の基、R1は炭素
原子および随時最高3個のN、OおよびSから成る群か
ら選ばれるヘテロ原子から成る炭素数5〜16の単環式
または多環式芳香族の基、R2は水素、C1〜C8−アル
キル、C2〜C8−アルケニル、C3〜C7−シクロアルキ
ルまたはC6〜C14−アリールを表し、且つハロゲン、
C1〜C4−アルキル、アミノ、および/またはC1〜C4
−アルコキシが1〜3個置換していることができ、Xは
ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、ハロゲン化さ
れたC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、ハロ
ゲン化されたC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキ
ルメルカプト、ハロゲン化されたC1〜C4−アルキルメ
ルカプト、C1〜C4−アルキルスルフォニル、カルボキ
シまたはニトロであり、nは0、1、2または3であ
り、nが1より大きい時はXは異なることができる、の
化合物の製造法において、式
OおよびSから成る群から選ばれるヘテロ原子を1〜2
個含み得る単環式または多環式芳香族の基、R1は炭素
原子および随時最高3個のN、OおよびSから成る群か
ら選ばれるヘテロ原子から成る炭素数5〜16の単環式
または多環式芳香族の基、R2は水素、C1〜C8−アル
キル、C2〜C8−アルケニル、C3〜C7−シクロアルキ
ルまたはC6〜C14−アリールを表し、且つハロゲン、
C1〜C4−アルキル、アミノ、および/またはC1〜C4
−アルコキシが1〜3個置換していることができ、Xは
ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、ハロゲン化さ
れたC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、ハロ
ゲン化されたC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキ
ルメルカプト、ハロゲン化されたC1〜C4−アルキルメ
ルカプト、C1〜C4−アルキルスルフォニル、カルボキ
シまたはニトロであり、nは0、1、2または3であ
り、nが1より大きい時はXは異なることができる、の
化合物の製造法において、式
【0008】
【化5】
【0009】但し式中X、Ar、およびnは上記意味を
有する、のニトロ芳香族化合物を式
有する、のニトロ芳香族化合物を式
【0010】
【化6】
【0011】但し式中R1およびR2ハロゲン上記意味を
有する、のアミンと極性溶媒中において酸素を用い塩基
を存在させて反応させることを特徴とする方法に関す
る。
有する、のアミンと極性溶媒中において酸素を用い塩基
を存在させて反応させることを特徴とする方法に関す
る。
【0012】好適な芳香族C4〜C16−基、Arには例
えばベンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン、およ
びチオフェン基、好ましくはベンゼンおよびナフタレン
基が含まれる。
えばベンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン、およ
びチオフェン基、好ましくはベンゼンおよびナフタレン
基が含まれる。
【0013】5〜16員環の芳香族基R1には例えばピ
ラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリアゾール、
チアゾール、ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリ
ン、ピリミジンおよびチオフェン基が含まれる。
ラゾール、イミダゾール、1,2,4−トリアゾール、
チアゾール、ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリ
ン、ピリミジンおよびチオフェン基が含まれる。
【0014】「C1〜C8−アルキル」および「C1〜C4
−アルキル」には直鎖および分岐した基、例えばメチ
ル、エチル、イソプロピルおよびn−、sec−および
t−ブチル基が含まれる。
−アルキル」には直鎖および分岐した基、例えばメチ
ル、エチル、イソプロピルおよびn−、sec−および
t−ブチル基が含まれる。
【0015】「C2〜C8−アルケニル」にはビニルおよ
びアリル基が含まれる。
びアリル基が含まれる。
【0016】「C3〜C8−アイクロアルキル」にはシル
ロプロピル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基が
含まれる。
ロプロピル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基が
含まれる。
【0017】「C6〜C14−アルール」は置換基をもち
またはもたないアルール基、例えばハロゲン、C1〜C6
−アルキル、ニトロ、アミン、C1〜C6−アルコキシ、
C1〜C6−アルキルチオ、スルフォン酸、ヒドロキシ
ル、フォルミル、ベンゾイル、カルボキシル、シアノ、
フェニルおよびフェニル−C1〜C6−アルキルを表す。
またはもたないアルール基、例えばハロゲン、C1〜C6
−アルキル、ニトロ、アミン、C1〜C6−アルコキシ、
C1〜C6−アルキルチオ、スルフォン酸、ヒドロキシ
ル、フォルミル、ベンゾイル、カルボキシル、シアノ、
フェニルおよびフェニル−C1〜C6−アルキルを表す。
【0018】「ハロゲン」は臭素およびヨード、好まし
くはフッ素および塩素を表す。
くはフッ素および塩素を表す。
【0019】「ハロゲンで置換されたC1〜C4−アルキ
ル」には例えばトリフルオロメチルおよびジクロロフル
オロメチルが含まれる。
ル」には例えばトリフルオロメチルおよびジクロロフル
オロメチルが含まれる。
【0020】「C1〜C4−アルコキシ」は好ましくはメ
トキシを表し、「ハロゲンで置換されたC1〜C4−アル
コキシ」は好ましくはトリフルオロメトキシを表す。
トキシを表し、「ハロゲンで置換されたC1〜C4−アル
コキシ」は好ましくはトリフルオロメトキシを表す。
【0021】「C1〜C4−アルキルメルカプト」は好ま
しくはメチルメルカプトを表し、「ハロゲン化されたC
1〜C4−アルキルメルカプト」は好ましくはトリフルオ
ロメチルメルカプトを表す。
しくはメチルメルカプトを表し、「ハロゲン化されたC
1〜C4−アルキルメルカプト」は好ましくはトリフルオ
ロメチルメルカプトを表す。
【0022】「C1〜C4−アルキルスルフォニル」は好
ましくはメチルスルフォニルを表す。
ましくはメチルスルフォニルを表す。
【0023】好適な芳香族ニトロ化合物(II)には例
えばニトロベンゼン、m−クロロニトロベンゼン、m−
ニトロベンゾニトリル、m−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼン、3−フルオロニトロベンゼン、3−ニトロト
ルエン、3−トリフルオロメトキシニトロベンゼン、3
−トリフルオロメチルチオニトロベンゼン、3,5−ジ
クロロニトロベンゼン、2−ニトロベンゾニトリル、2
−ニトロ安息香酸、1−ニトロナフタレン、2−ニトロ
ナフタレン、2−ニトロチオフェン、2−ニトロフラ
ン、N−アルキル化またはN−アリール化された2−お
よび3−ニトロピロール、2−、3−および4−ニトロ
ピリジン、4−エトキシ−3−ニトロピリジン、および
5−、6−および8−ニトロキノリンが含まれる。
えばニトロベンゼン、m−クロロニトロベンゼン、m−
ニトロベンゾニトリル、m−トリフルオロメチルニトロ
ベンゼン、3−フルオロニトロベンゼン、3−ニトロト
ルエン、3−トリフルオロメトキシニトロベンゼン、3
−トリフルオロメチルチオニトロベンゼン、3,5−ジ
クロロニトロベンゼン、2−ニトロベンゾニトリル、2
−ニトロ安息香酸、1−ニトロナフタレン、2−ニトロ
ナフタレン、2−ニトロチオフェン、2−ニトロフラ
ン、N−アルキル化またはN−アリール化された2−お
よび3−ニトロピロール、2−、3−および4−ニトロ
ピリジン、4−エトキシ−3−ニトロピリジン、および
5−、6−および8−ニトロキノリンが含まれる。
【0024】式(III)の好適なアミンには例えばア
ニリン、N−メチルアニリン、N−ブチルアニリン、N
−イソブチルアニリン、ジフェニルアミン、2−クロロ
アニリン、2,4−ジクロロアニリン、2,6−ジクロ
ロアニリン、2,4,6−トリクロロアニリン、3−ニ
トロアニリン、4−ニトロアニリン、N−シクロヘキシ
ル−4−ニトロアニリン、4−クロロ−2−ニトロアニ
リン、2,6−ジクロロ−4−ニトロアニリン、2−ブ
ロロ−4−ニトロアニリン、3−メチルアニリン、4−
クロロ−2−トリフルオロメチルアニリン、3−トリフ
ルオロメチルアニリン、N−ブチル−3−メチルアニリ
ン、3,5−ジメチルアニリン、3,5−ビス−トリフ
ルオロメチルアニリン、4−アミノビフェニル、1−ナ
フチルアミン、1−アミノピレン、3−アミノジベンゾ
フラン、2−アミノピリジン、2−アミノ−4,6−ジ
メチル−1,3,5−トリアジン、1−アミノ−1,
3,4−トリアゾール、2−アミノチアゾール、5−ア
ミノ−3−フェニル−1,2,4−チアジアゾールが含
まれる。
ニリン、N−メチルアニリン、N−ブチルアニリン、N
−イソブチルアニリン、ジフェニルアミン、2−クロロ
アニリン、2,4−ジクロロアニリン、2,6−ジクロ
ロアニリン、2,4,6−トリクロロアニリン、3−ニ
トロアニリン、4−ニトロアニリン、N−シクロヘキシ
ル−4−ニトロアニリン、4−クロロ−2−ニトロアニ
リン、2,6−ジクロロ−4−ニトロアニリン、2−ブ
ロロ−4−ニトロアニリン、3−メチルアニリン、4−
クロロ−2−トリフルオロメチルアニリン、3−トリフ
ルオロメチルアニリン、N−ブチル−3−メチルアニリ
ン、3,5−ジメチルアニリン、3,5−ビス−トリフ
ルオロメチルアニリン、4−アミノビフェニル、1−ナ
フチルアミン、1−アミノピレン、3−アミノジベンゾ
フラン、2−アミノピリジン、2−アミノ−4,6−ジ
メチル−1,3,5−トリアジン、1−アミノ−1,
3,4−トリアゾール、2−アミノチアゾール、5−ア
ミノ−3−フェニル−1,2,4−チアジアゾールが含
まれる。
【0025】適当な塩基は有機および無機の塩基であ
り、無機塩基、例えばアルカリ金属の水酸化物、アルカ
リ金属のアミド、アルカリ金属のアルコキシド、または
アルカリ金属の水素化物が好適である。水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウ
ム、およびカリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金
属の水酸化物が特に好適である。これらの塩基は粉末ま
たは微粒子(微小粒)の形で用いることが好ましい。 酸素は純粋なガスとして、また特に好ましくは他のガス
との混合物、例えば空気の形で使用することができる。
り、無機塩基、例えばアルカリ金属の水酸化物、アルカ
リ金属のアミド、アルカリ金属のアルコキシド、または
アルカリ金属の水素化物が好適である。水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウ
ム、およびカリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金
属の水酸化物が特に好適である。これらの塩基は粉末ま
たは微粒子(微小粒)の形で用いることが好ましい。 酸素は純粋なガスとして、また特に好ましくは他のガス
との混合物、例えば空気の形で使用することができる。
【0026】本発明の化合物(I)を製造するのに用い
る適当な溶媒には有機および無機の溶媒が含まれる。好
適な有機溶媒は極性をもったプロトンを含まない溶媒、
例えばジメチルスルフォキシド、ジメチルフォルムアミ
ド、N−メチルピロリドン、ピリジン、ジオキサン、T
HF、アセトニトリル、スルフォラン、ジメチルスルフ
ォンおよびこれらの混合物である。好適な無機溶媒は例
えば液体アンモニアである。少量、即ち全溶媒に関して
最高10重量%のプロトン含有溶媒、例えば水を用いる
ことも許容される。好適な溶媒はジメチルフォルムアミ
ドである。
る適当な溶媒には有機および無機の溶媒が含まれる。好
適な有機溶媒は極性をもったプロトンを含まない溶媒、
例えばジメチルスルフォキシド、ジメチルフォルムアミ
ド、N−メチルピロリドン、ピリジン、ジオキサン、T
HF、アセトニトリル、スルフォラン、ジメチルスルフ
ォンおよびこれらの混合物である。好適な無機溶媒は例
えば液体アンモニアである。少量、即ち全溶媒に関して
最高10重量%のプロトン含有溶媒、例えば水を用いる
ことも許容される。好適な溶媒はジメチルフォルムアミ
ドである。
【0027】反応は広い範囲内で行うことができる。一
般に温度−35〜120℃の範囲、好ましくは20〜1
00℃、特に好ましくは20〜80℃の範囲で行われ
る。
般に温度−35〜120℃の範囲、好ましくは20〜1
00℃、特に好ましくは20〜80℃の範囲で行われ
る。
【0028】本発明の方法は一般に常圧で行われるが、
高圧または減圧で行うこともできる。
高圧または減圧で行うこともできる。
【0029】本発明方法を行う場合、式(II)の芳香
族ニトロ化合物1モルに関し、一般に0.5〜10モ
ル、好ましくは0.7〜2モルの式(III)のアミ
ン、および1〜10当量、好ましくは2〜6当量の塩基
を使用する。酸素は希釈したまたは希釈しない形で過剰
に通すことが好ましい。
族ニトロ化合物1モルに関し、一般に0.5〜10モ
ル、好ましくは0.7〜2モルの式(III)のアミ
ン、および1〜10当量、好ましくは2〜6当量の塩基
を使用する。酸素は希釈したまたは希釈しない形で過剰
に通すことが好ましい。
【0030】3−ニトロベンゾトリフルオリド、アミン
および空気を原料として使用し、水酸化ナトリウムを塩
基として使用する場合には、ニトロ置換アミンの製造工
程は下記反応式で表すことができる。
および空気を原料として使用し、水酸化ナトリウムを塩
基として使用する場合には、ニトロ置換アミンの製造工
程は下記反応式で表すことができる。
【0031】
【化7】
【0032】式(II)および(III)の原料物質は
公知方法でつくることができる。
公知方法でつくることができる。
【0033】回収は通常の方法で行うことができる。一
般に反応混合物を大量の水で希釈し、沈澱した反応生成
物を分離するか、または該混合物を水で希釈し水とあま
り混合しない有機溶媒で抽出する方法が用いられる。し
かる後生成物を有機相から分離し、乾燥して濃縮する。
般に反応混合物を大量の水で希釈し、沈澱した反応生成
物を分離するか、または該混合物を水で希釈し水とあま
り混合しない有機溶媒で抽出する方法が用いられる。し
かる後生成物を有機相から分離し、乾燥して濃縮する。
【0034】
実施例 1 2−(4−ニトロ−2−トリフルオロメチルフェニルア
ミノ)−ピリジン 1.91g(10ミリモル)の3−ニトロベンゾトリフ
ルオリド、1.88g(20ミリモル)の2−アミノピ
リジンおよび1.2g(30ミリモル)の微粒子状の水
酸化ナトリウムを、酸素を通しながら30mlの無水D
MSO中で6時間50℃に加熱する。冷却後この混合物
を酢酸エチルで希釈し、水と共に振盪して数回抽出す
る。乾燥し有機溶媒を除去した後、3.8gの粗製物が
得られる。これをクロマトグラフ法によりシリカ上で石
油エーテルと酢酸エチル(容積比1:1)を用いて精製
する。2.3g(8.1ミリモル)の2−(4−ニトロ
−2−トリフルオロメチルフェニルアミノ)−ピリジン
が得られた。融点83〜84℃。
ミノ)−ピリジン 1.91g(10ミリモル)の3−ニトロベンゾトリフ
ルオリド、1.88g(20ミリモル)の2−アミノピ
リジンおよび1.2g(30ミリモル)の微粒子状の水
酸化ナトリウムを、酸素を通しながら30mlの無水D
MSO中で6時間50℃に加熱する。冷却後この混合物
を酢酸エチルで希釈し、水と共に振盪して数回抽出す
る。乾燥し有機溶媒を除去した後、3.8gの粗製物が
得られる。これをクロマトグラフ法によりシリカ上で石
油エーテルと酢酸エチル(容積比1:1)を用いて精製
する。2.3g(8.1ミリモル)の2−(4−ニトロ
−2−トリフルオロメチルフェニルアミノ)−ピリジン
が得られた。融点83〜84℃。
【0035】実施例 2 1−(4−クロロ−2−トリフルオロメチルフェニル)
−アミノ−4−ニトロ−2−トリフルオロメチルベンゼ
ン 1.91g(10ミリモル)の3−ニトロベンゾトリフ
ルオリド、1.96g(10ミリモル)の4−クロロ−
2−トリフルオロメチルアニリンおよび1.2g(30
ミリモル)の微粒子状の水酸化ナトリウムを、酸素を通
しながら30mlの無水DMSO中で6時間50℃に加
熱する。酢酸エチルおよび炭酸ナトリウム飽和水溶液を
用いて回収を行い、3.8g(10ミリモル、100
%)の標記生成物を得た。これをクロマトグラフ法によ
りシリカ上で石油エーテル/酢酸エチル(容積比10:
1)を用いて精製する。融点84〜85℃。
−アミノ−4−ニトロ−2−トリフルオロメチルベンゼ
ン 1.91g(10ミリモル)の3−ニトロベンゾトリフ
ルオリド、1.96g(10ミリモル)の4−クロロ−
2−トリフルオロメチルアニリンおよび1.2g(30
ミリモル)の微粒子状の水酸化ナトリウムを、酸素を通
しながら30mlの無水DMSO中で6時間50℃に加
熱する。酢酸エチルおよび炭酸ナトリウム飽和水溶液を
用いて回収を行い、3.8g(10ミリモル、100
%)の標記生成物を得た。これをクロマトグラフ法によ
りシリカ上で石油エーテル/酢酸エチル(容積比10:
1)を用いて精製する。融点84〜85℃。
【0036】実施例 3 N−メチル−N−(4−ニトロ−2−トリフルオロメチ
ルフェニル)−アニリン 1.91g(10ミリモル)の3−ニトロベンゾトリフ
ルオリド、1.09g(10ミリモル)のN−メチルア
ニリンおよび1.2g(30ミリモル)の微粒子状のN
aOHを−40℃において40mlの液体アンモニアに
加える。乾燥した空気を通し、この混合物をNH3還流
下において4時間撹拌する。アンモニアを蒸発させた
後、炭酸ナトリウムの飽和水溶液で希釈し、酢酸エチル
と振盪して数回抽出する。乾燥し溶媒を除去した後、有
機相から3.0gの粗製物が残った。クロマトグラフ法
によりシリカ上で石油エーテル/酢酸エチル(容積比
9:1)を用いて精製する。1.2g(4.1ミリモ
ル、41%)のN−メチル−N−(4−ニトロ−2−ト
リフルオロメチルフェニル)−アニリンを分離した。
ルフェニル)−アニリン 1.91g(10ミリモル)の3−ニトロベンゾトリフ
ルオリド、1.09g(10ミリモル)のN−メチルア
ニリンおよび1.2g(30ミリモル)の微粒子状のN
aOHを−40℃において40mlの液体アンモニアに
加える。乾燥した空気を通し、この混合物をNH3還流
下において4時間撹拌する。アンモニアを蒸発させた
後、炭酸ナトリウムの飽和水溶液で希釈し、酢酸エチル
と振盪して数回抽出する。乾燥し溶媒を除去した後、有
機相から3.0gの粗製物が残った。クロマトグラフ法
によりシリカ上で石油エーテル/酢酸エチル(容積比
9:1)を用いて精製する。1.2g(4.1ミリモ
ル、41%)のN−メチル−N−(4−ニトロ−2−ト
リフルオロメチルフェニル)−アニリンを分離した。
【0037】実施例1〜3によって下記化合物をつくっ
た。
た。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】本発明の主な特徴及び態様は次の通りであ
る。
る。
【0041】1.式
【0042】
【化8】
【0043】但し式中Arは炭素数が4〜16で、N、
OおよびSから成る群から選ばれるヘテロ原子を1〜2
個含み得る単環式または多環式芳香族の基、R1は炭素
原子および随時最高3個のN、OおよびSから成る群か
ら選ばれるヘテロ原子から成る炭素数5〜16の単環式
または多環式芳香族の基、R2は水素、C1〜C8−アル
キル、C2〜C8−アルケニル、C3〜C7−シクロアルキ
ルまたはC6〜C14−アリールを表し、且つハロゲン、
C1〜C4−アルキル、アミノ、および/またはC1〜C4
−アルコキシが1〜3個置換していることができ、Xは
ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、ハロゲン化さ
れたC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、ハロ
ゲン化されたC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキ
ルメルカプト、ハロゲン化されたC1〜C4−アルキルメ
ルカプト、C1〜C4−アルキルスルフォニル、カルボキ
シまたはニトロであり、nは0、1、2または3であ
り、nが1より大きい時はXは異なることができる、の
化合物の製造法において、式
OおよびSから成る群から選ばれるヘテロ原子を1〜2
個含み得る単環式または多環式芳香族の基、R1は炭素
原子および随時最高3個のN、OおよびSから成る群か
ら選ばれるヘテロ原子から成る炭素数5〜16の単環式
または多環式芳香族の基、R2は水素、C1〜C8−アル
キル、C2〜C8−アルケニル、C3〜C7−シクロアルキ
ルまたはC6〜C14−アリールを表し、且つハロゲン、
C1〜C4−アルキル、アミノ、および/またはC1〜C4
−アルコキシが1〜3個置換していることができ、Xは
ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、ハロゲン化さ
れたC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、ハロ
ゲン化されたC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキ
ルメルカプト、ハロゲン化されたC1〜C4−アルキルメ
ルカプト、C1〜C4−アルキルスルフォニル、カルボキ
シまたはニトロであり、nは0、1、2または3であ
り、nが1より大きい時はXは異なることができる、の
化合物の製造法において、式
【0044】
【化9】
【0045】但し式中X、Ar、およびnは上記意味を
有する、のニトロ芳香族化合物を式
有する、のニトロ芳香族化合物を式
【0046】
【化10】
【0047】但し式中R1およびR2ハロゲン上記意味を
有する、のアミンと極性溶媒中において酸素を用い塩基
を存在させて反応させる方法。
有する、のアミンと極性溶媒中において酸素を用い塩基
を存在させて反応させる方法。
【0048】2.該塩基は水酸化アルカリ、アルカリア
ミド、アルカリアルコキシドおよびアルカリ水素化物か
ら成る群から選ばれる上記第1項記載の方法。
ミド、アルカリアルコキシドおよびアルカリ水素化物か
ら成る群から選ばれる上記第1項記載の方法。
【0049】3.溶媒は極性をもつ非プロトン性の有機
溶媒またはアンモニアである上記第1項記載の方法。
溶媒またはアンモニアである上記第1項記載の方法。
【0050】4.反応温度は−35〜120℃の範囲内
である上記第1項記載の方法。
である上記第1項記載の方法。
【0051】5.ニトロ芳香族化合物1モル当たり0.
5〜10ミリモルのアミン(III)を用いる上記第1
項記載の方法。
5〜10ミリモルのアミン(III)を用いる上記第1
項記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 239/42 239/47
Claims (1)
- 【請求項1】 式 【化1】 但し式中Arは炭素数が4〜16で、N、OおよびSか
ら成る群から選ばれるヘテロ原子を1〜2個含み得る単
環式または多環式芳香族の基、 R1は炭素原子および随時最高3個のN、OおよびSか
ら成る群から選ばれるヘテロ原子から成る炭素数5〜1
6の単環式または多環式芳香族の基、 R2は水素、C1〜C8−アルキル、C2〜C8−アルケニ
ル、C3〜C7−シクロアルキルまたはC6〜C14−アリ
ールを表し、且つハロゲン、C1〜C4−アルキル、アミ
ノ、および/またはC1〜C4−アルコキシが1〜3個置
換していることができ、 Xはハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、ハロゲン
化されたC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、
ハロゲン化されたC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア
ルキルメルカプト、ハロゲン化されたC1〜C4−アルキ
ルメルカプト、C1〜C4−アルキルスルフォニル、カル
ボキシまたはニトロであり、 nは0、1、2または3であり、 nが1より大きい時はXは異なることができる、の化合
物の製造法において、式 【化2】 但し式中X、Ar、およびnは上記意味を有する、のニ
トロ芳香族化合物を式 【化3】 但し式中R1およびR2ハロゲンは上記意味を有する、の
アミンと極性溶媒中において酸素を用い塩基を存在させ
て反応させることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4432556.8 | 1994-09-13 | ||
DE4432556A DE4432556A1 (de) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | Verfahren zur Herstellung nitrosubstituierter Arylamine |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0881422A true JPH0881422A (ja) | 1996-03-26 |
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ID=6528085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7255839A Pending JPH0881422A (ja) | 1994-09-13 | 1995-09-08 | ニトロ置換アリールアミンの製造法 |
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---|---|
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EP (1) | EP0701992B1 (ja) |
JP (1) | JPH0881422A (ja) |
KR (1) | KR100369953B1 (ja) |
CA (1) | CA2157848A1 (ja) |
DE (2) | DE4432556A1 (ja) |
ES (1) | ES2139801T3 (ja) |
TW (1) | TW323269B (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US7183439B2 (en) * | 2002-12-10 | 2007-02-27 | Flexsys America L.P. | Process for preparing 4-aminodiphenylamine intermediates |
CN111732516B (zh) * | 2020-07-31 | 2021-01-05 | 南昌大学 | 一种n-芳基取代杂环化合物的制备方法 |
CN118439966A (zh) * | 2024-07-05 | 2024-08-06 | 南昌大学 | 一种对硝基苯胺类化合物的合成方法 |
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---|---|---|---|---|
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EP0566783A1 (en) * | 1992-04-21 | 1993-10-27 | Akzo N.V. | Process for the production of nitrodiarylamines |
US5331099A (en) * | 1992-05-22 | 1994-07-19 | Monsanto Company | Process for preparing p-nitroaromatic amides and products thereof |
US5252737A (en) * | 1992-05-22 | 1993-10-12 | Monsanto Company | Process for preparing N-aliphatic substituted p-phenylenediamines |
-
1994
- 1994-09-13 DE DE4432556A patent/DE4432556A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-08-22 TW TW084108740A patent/TW323269B/zh active
- 1995-08-31 ES ES95113674T patent/ES2139801T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-08-31 DE DE59507240T patent/DE59507240D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-08-31 EP EP95113674A patent/EP0701992B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-06 US US08/523,970 patent/US5612483A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-08 CA CA002157848A patent/CA2157848A1/en not_active Abandoned
- 1995-09-08 JP JP7255839A patent/JPH0881422A/ja active Pending
- 1995-09-12 KR KR1019950029614A patent/KR100369953B1/ko not_active IP Right Cessation
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EP0701992B1 (de) | 1999-11-17 |
KR960010609A (ko) | 1996-04-20 |
DE59507240D1 (de) | 1999-12-23 |
KR100369953B1 (ko) | 2005-01-31 |
DE4432556A1 (de) | 1996-03-14 |
EP0701992A1 (de) | 1996-03-20 |
ES2139801T3 (es) | 2000-02-16 |
US5612483A (en) | 1997-03-18 |
TW323269B (ja) | 1997-12-21 |
CA2157848A1 (en) | 1996-03-14 |
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---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050815 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050927 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060307 |