JPH0881421A - アリールメチルアミン誘導体の接触還元法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】接触還元法の提供。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、環ＡはＱ以外にさらに置換基を有していてもよ
い芳香族炭化水素または芳香族複素環残基を示し、Ｒ¹
はエステル化またはアミド化されていてもよいカルボキ
シル基を示し、Ｒaは置換されていてもよい芳香族炭化
水素残基を示し、Ｑは還元によりアミノ基に変わり得る
基を示す）で表される化合物をパラジウム触媒で接触還
元させた後、Ｒ¹基を除去することを特徴とする、 【化２】 （式中、各記号は前記と同意義を示す）で表される化合
物の製造法。 【効果】脱アリールメチル化を抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、接触還元法に際し
て脱アリールメチル化を抑制し得る、アリールメチルア
ミン誘導体（例、ベンジルアミン誘導体など）の製造法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ニトロ基等の還元には、回収可
能な触媒による接触水素化が工業的にはクリーンで最も
有利な方法である。しかし、ベンジルアミンを有する化
合物では、下記図のように、接触水素化により副反応の
脱ベンジル化が進行するのが一般的である。

【化５】 （式中、ＷはＮＨＲ，ＮＲ₂を示す）。この反応におい
て、触媒としては、パラジウム（Ｐd）、白金（Ｐt）、
ロジウム（Ｒh）、ニッケル（Ｎi）などが使用される
が、とりわけ汎用触媒のパラジウムにおいて脱ベンジル
化は避けられなかった（反応別実用触媒 化学工業社刊
第272頁 1970年)。汎用触媒としてのＰdは、ニトロ化合
物の水素化において、高温を要しない他、反応速度が大
きくて被毒されがたいので、広範に使用される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、工業的に有
利なＰｄ触媒での接触水素化法において、脱アリールメ
チル化を抑制し得る、アリールメチルアミン誘導体
（例、ベンジルアミン誘導体など）の製造法を提供す
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、ベンジルアミ
ン誘導体のアミノ基をカルバメート化すれば接触水素化
において脱ベンジル化が抑制されることを見いだした。
本発明は、この知見を基礎として完成されたものであ
る。すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）：

【化６】 （式中、環ＡはＱ以外にさらに置換基を有していてもよ
い芳香族炭化水素または芳香族複素環残基を示し、Ｒ¹
はエステル化またはアミド化されていてもよいカルボキ
シル基を示し、Ｒaは置換されていてもよい芳香族炭化
水素残基を示し、Ｑは還元によりアミノ基に変わり得る
基を示す）で表される化合物をパラジウム触媒で接触還
元させた後、Ｒ¹基を除去することを特徴とする、

【化７】 （式中、各記号は前記と同意義を示す）で表される化合
物の製造法に関する。

【０００５】上記一般式（Ｉ）における環Ａで表される
芳香族炭化水素残基としては、単環式または縮合多環式
芳香族炭化水素基が挙げられ、例えばフェニル、ナフチ
ル（１−ナフチル，２−ナフチル）、アントリル、フェ
ナントリル、アセナフチレニルなどが挙げられ、なかで
もフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどが好まし
い。

【０００６】一般式（Ｉ）における環Ａで表される芳香
族複素環残基としては、例えば、芳香族単環式複素環残
基（例、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、
イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミ
ダゾリル、ピラゾリル、１，２，３−オキサジアゾリ
ル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキ
サジアゾリル、フラザニル、１，２，３−チアジアゾリ
ル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジ
アゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−ト
リアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、
ピラジニル、トリアジニルなど）、芳香族縮合複素環残
基（例、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ
［ｂ］チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−
インダゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリ
ル、１，２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、１，２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリ
アゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キ
ナゾリニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリ
ジニル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−
カルボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、
アクリジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、
フェナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、
フェナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニ
ル、ピロロ［１，２−ｂ］ピリダジニル、ピラゾロ
［１，５−ａ］ピリジル、イミダゾ［１，２−ａ］ピリ
ジル、イミダゾ［１，５−ａ］ピリジル、イミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニル、イミダゾ［１，２−ａ］
ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ［４，３−ａ］
ピリジル、１，２，４−トリアゾロ［４，３−ｂ］ピリ
ダジニルなど）などが挙げられる。

【０００７】上記環Ａで表される芳香族炭化水素残基ま
たは芳香族複素環残基は、Ｑ以外に置換基を有していて
もよく、該置換基としては、脂肪族鎖式炭化水素基、脂
環式炭化水素基、ハロゲン原子、置換されていてもよい
アミノ基、置換されていてもよいアシル基、陰イオンを
形成し得る基あるいはそれに変じ得る基などが挙げられ
る。

【０００８】環ＡにおけるＱ以外の置換基としての脂肪
族鎖式炭化水素基としては、直鎖状または分枝鎖状の脂
肪族炭化水素基、例えばアルキル基、好ましくは炭素数
１〜１０のアルキル基、アルケニル基、好ましくは炭素
数２〜１０のアルケニル基、アルキニル基、好ましくは
炭素数２〜１０のアルキニル基、などが挙げられる。該
アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、１−エチルプロピル、
ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、
２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２
−エチルブチル、ヘキシル、ペンチル、オクチル、ノニ
ル、デシルなどが挙げられる。該アルケニル基として
は、例えばビニル、アリル、イソプロペニル、１−プロ
ペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブテニル、
２−ブテニル、３−ブテニル、２−エチル−１−ブテニ
ル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペンテニル、２−
ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メ
チル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニ
ル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル
などが挙げられる。該アルキニル基としては、例えばエ
チニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニ
ル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２
−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−
ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘ
キシニル、５−ヘキシニルなどが挙げられる。

【０００９】環ＡにおけるＱ以外の置換基としての脂環
式炭化水素基としては、飽和または不飽和の脂環式炭化
水素基、例えばシクロアルキル基、シクロアルケニル
基、シクロアルカジエニル基などが挙げられる。該シク
ロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル、シクロオクチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチ
ル、ビシクロ［２．２．２］オクチル、ビシクロ［３．
２．１］オクチル、ビシクロ［３．２．２］ノニル、ビ
シクロ［３．３．１］ノニル、ビシクロ［４．２．１］
ノニル、ビシクロ［４．３．１］デシルなどの炭素数３
〜１０程度のシクロアルキル基が挙げられる。該シクロ
アルケニル基としては、例えば２−シクロペンテン−１
−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘ
キセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルなど
の炭素数５〜６程度のシクロアルケニル基が挙げられ
る。該シクロアルカジエニル基としては、例えば２，４
−シクロペンタジエン−１−イル、２，４−シクロヘキ
サジエン−１−イル、２，５−シクロヘキサジエン−１
−イルなどの炭素数５〜６程度のシクロアルカジエニル
基が挙げられる。環ＡにおけるＱ以外の置換基としての
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ
素があげられる。

【００１０】環ＡにおけるＱ以外の置換基としての置換
されていてもよいアミノ基としては、直鎖状または分枝
鎖状の脂肪族炭化水素基（好ましくは、炭素数１〜１０
のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニルなど）、脂環
式炭化水素基（好ましくは、炭素数３〜７のシクロアル
キルなど）、芳香族基（上記環Ａで表される芳香族炭化
水素残基または芳香族複素環残基と同様の基；好ましく
は、フェニルなど）または炭素数２〜１０のアシル基
（好ましくは、炭素数２〜１０のアルカノイル、ベンゾ
イルなど）が１または２個アミノ基（−ＮＨ₂基）に置
換したもの（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、ジアリル
アミノ、シクロヘキシルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルアミノ、アセチルアミノ、プロピ
オニルアミノ、ベンゾイルアミノ等）などがあげられ
る。環ＡにおけるＱ以外の置換基としての置換されてい
てもよいアシルとしては、ホルミルまたは直鎖状または
分枝鎖状の脂肪族炭化水素基（好ましくは、炭素数１〜
１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニルなど）、
脂環式炭化水素基（好ましくは、炭素数３〜７のシクロ
アルキル、炭素数３〜７のシクロアルケニルなど）、あ
るいは上記芳香族基（好ましくは、フェニル、ピリジル
など）とカルボニル基とが結合したもの（例、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタ
ノイル、オクタノイル、シクロブタノイル、シクロペン
タノイル、シクロヘキサノイル、シクロヘプタノイル、
クロトニル、２−シクロヘキセンカルボニル、ベンゾイ
ル、ニコチノイル等）があげられる。

【００１１】環ＡにおけるＱ以外の置換基としての陰イ
オンを形成し得る基あるいはそれに変じ得る基として
は、例えば、エステル化またはアミド化されていてもよ
いカルボキシル、テトラゾリル、リン酸、スルホン酸な
どが挙げられ、これらの基が置換されていてもよい低級
アルキル基（例、低級(Ｃ_1-4)アルキルなど）またはア
シル基（例、低級(Ｃ_2-5)アルカノイルなど）などで保
護されていてもよく、生体内の生物学的すなわち生理条
件下（例えば、生体内酵素等による酸化、還元あるいは
加水分解などの生体内反応など）で、プロトンを放出し
うる基またはそれに変じうる基であればよい。

【００１２】該エステル化またはアミド化されていても
よいカルボキシルとしては、例えば式−ＣＯ−Ｄ〔式
中、Ｄは水酸基、置換されていてもよいアミノ（例え
ば、アミノ、Ｎ−低級（Ｃ_1-4）アルキルアミノ、Ｎ，
Ｎ−ジ低級（Ｃ_1-4）アルキルアミノなど）または置換
されていてもよいアルコキシ｛例、アルキル部分が水酸
基，置換されていてもよいアミノ（例、アミノ、Ｎ−低
級（Ｃ_1-4）アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ低級（Ｃ_1-4）
アルキルアミノ（ジメチルアミノ、ジエチルアミノな
ど）、ピペリジノ、モルホリノなど），ハロゲン，低級
（Ｃ_1-6）アルコキシ、低級（Ｃ_1-6）アルキルチオある
いは置換されていてもよいジオキソレニル（例、５−メ
チル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イルな
ど）で置換されていてもよい低級（Ｃ_1-6）アルコキシ
基、または式−Ｏ−ＣＨ（Ｒ⁴）−ＯＣＯＲ⁵〔式中、Ｒ
⁴は水素、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状の低級ア
ルキル基（例、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペ
ンチル、イソペンチル、ネオペンチルなど）、炭素数２
〜６の直鎖もしくは分枝状の低級アルケニル基（例、ビ
ニル、アリル、イソプロペニル、２−メタリル、３−メ
タリル、３−ブテニルなど）または炭素数３〜８のシク
ロアルキル基（例、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチルなど）を示し、Ｒ⁵は炭素数１〜６の直
鎖もしくは分枝状の低級アルキル基（例、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソ
ブチル、sec−ブチル、ｔ −ブチル、ｎ−ペンチル、イ
ソペンチル、ネオペンチルなど）、炭素数２〜６の直鎖
もしくは分枝状の低級アルケニル基（例、ビニル、アリ
ル、イソプロペニル、２−メタリル、３−メタリル、３
−ブテニルなど）、炭素数３〜８のシクロアルキル基
（例、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルなど）、炭素数３〜８のシクロアルキル（例、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど）もし
くはハロゲン、ニトロ、低級（Ｃ_1-4）アルキルなどで
置換されていてもよいフェニル、ナフチルなどのアリー
ル基で置換された炭素数１〜３の低級アルキル基（例、
ベンジル、ｐ−クロロベンジル、フェネチル、シクロペ
ンチルメチル、シクロヘキシルメチルなど）、炭素数３
〜８のシクロアルキルもしくはハロゲン、ニトロ、低級
（Ｃ_1-4）アルキルなどで置換されていてもよいフェニ
ル、ナフチルなどのアリール基で置換された炭素数２〜
３の低級アルケニル基（例、シンナミル等のビニル、プ
ロペニル、アリル、イソプロペニルなどのアルケニル部
を持つものなど）、ハロゲン、ニトロ、低級（Ｃ_1-4）
アルキルなどで置換されていてもよいフェニル、ナフチ
ルなどのアリール基（例、フェニル、ｐ−トリル、ナフ
チルなど）、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状の低級
アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、se
c−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ、イ
ソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシなど）、炭素数
２〜８の直鎖もしくは分枝状の低級アルケニロキシ基
（例、アリロキシ、イソブテニロキシなど）、炭素数３
〜８のシクロアルキルオキシ基（例、シクロペンチルオ
キシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシな
ど）、炭素数３〜８のシクロアルキル（例、シクロペン
チル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど）もしくは
ハロゲン、ニトロ、低級（Ｃ_1-4）アルキルなどで置換
されていてもよいフェニル、ナフチルなどのアリール基
で置換された炭素数１〜３の低級アルコキシ基（例、ベ
ンジロキシ、フェネチロキシ、シクロペンチルメチロキ
シ、シクロヘキシルメチロキシなどのメトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシなどのアルコキシ
部を持つものなど）、炭素数３〜８のシクロアルキル
（例、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルなど）もしくはハロゲン、ニトロ、低級（Ｃ_1-4）ア
ルキルなどで置換されていてもよいフェニル、ナフチル
などのアリール基で置換された炭素数２〜３の低級アル
ケニロキシ基（例、シンナミロキシ等のビニロキシ、プ
ロペニロキシ、アリロキシ、イソプロペニロキシなどの
アルケニロキシ部を持つものなど）、ハロゲン、ニト
ロ、低級（Ｃ_1-4）アルキルなどで置換されていてもよ
いフェノキシ、ナフトキシなどのアリールオキシ基
（例、フェノキシ、ｐ−ニトロフェノキシ、ナフトキシ
など）を示す〕で表わされる基など｝を示す〕で表され
る基などが挙げられる。

【００１３】上記陰イオンを形成し得る基あるいはそれ
に変じ得る基としては、生物学的すなわち生理条件下
（例えば、生体内酵素による酸化、還元あるいは加水分
解などの生体内反応など）でプロトンを放出しうる基ま
たはそれに変じうる基であればいずれであってもよい
が、なかでも、カルボキシル、エステル化されたカルボ
キシル（例、低級（Ｃ_1-4）アルキルエステル（メチル
エステル、エチルエステルなど）または上記した式−Ｏ
−ＣＨ（Ｒ⁴）−ＯＣＯＲ⁵で示される基がカルボニルと
結合したエステルなど）、保護されていてもよいテトラ
ゾリル、ヒドロキシメチルなどが好ましい。上記一般式
（Ｉ）中、Ｒaで表される置換されていてもよい芳香族
炭化水素残基における芳香族炭化水素残基としては、単
環式または縮合多環式芳香族炭化水素基が挙げられ、例
えばフェニル、ナフチル（１−ナフチル，２−ナフチ
ル）、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル
などが挙げられ、なかでもフェニル、１−ナフチル、２
−ナフチルなどが好ましい。

【００１４】Ｒaで表される芳香族炭化水素残基は、そ
の任意の位置に置換基を１個以上、好ましくは１ないし
３個有していてもよい。かかる置換基としては、脂肪族
鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素
基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基、ハロゲン原
子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていても
よいアシル基、置換されていてもよい水酸基、置換され
ていてもよいチオール基、アミド化もしくはエステル化
されていてもよいカルボキシル基、エステル化されてい
てもよいホスホノ基などが挙げられる。該脂肪族鎖式炭
化水素基としては、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化
水素基、例えばアルキル基、好ましくは炭素数１〜１０
のアルキル基、アルケニル基、好ましくは炭素数２〜１
０のアルケニル基、アルキニル基、好ましくは炭素数２
〜１０のアルキニル基、などが挙げられる。該アルキル
基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、
ｔｅｒｔ−ペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、
イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメ
チルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチ
ル、ヘキシル、ペンチル、オクチル、ノニル、デシルな
どが挙げられる。該アルケニル基としては、例えばビニ
ル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−メ
チル−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、
３−ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、３−メチル
−２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３
−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３−ペン
テニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセ
ニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルなどが挙げられ
る。該アルキニル基としては、例えばエチニル、１−プ
ロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニ
ル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、
３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２
−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−
ヘキシニルなどが挙げられる。

【００１５】該脂環式炭化水素基としては、飽和または
不飽和の脂環式炭化水素基、例えばシクロアルキル基、
シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基などが挙
げられる。該シクロアルキル基の好適な例としては、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビ
シクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．
２］オクチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシ
クロ［３．２．２］ノニル、ビシクロ［３．３．１］ノ
ニル、ビシクロ［４．２．１］ノニル、ビシクロ［４．
３．１］デシルなどの炭素数３〜１０程度のシクロアル
キル基が挙げられる。該シクロアルケニル基の好適な例
としては、例えば２−シクロペンテン−１−イル、３−
シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−
イル、３−シクロヘキセン−１−イルなどの炭素数５〜
６程度のシクロアルケニル基が挙げられる。該シクロア
ルカジエニル基の好適な例としては、例えば２，４−シ
クロペンタジエン−１−イル、２，４−シクロヘキサジ
エン−１−イル、２，５−シクロヘキサジエン−１−イ
ルなどの炭素数５〜６程度のシクロアルカジエニル基が
挙げられる。該芳香族炭化水素基としては、単環式また
は縮合多環式芳香族炭化水素基が挙げられ、好適な例と
しては、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェ
ナントリル、アセナフチレニルなどが挙げられ、なかで
もフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどが好まし
い。

【００１６】該芳香族複素環基としては、芳香族単環式
複素環基（例、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾ
リル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、１，２，３−オキサジ
アゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４
−オキサジアゾリル、フラザニル、１，２，３−チアジ
アゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−
チアジアゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，
４−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリダジ
ニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルな
ど）、芳香族縮合複素環基（例、ベンゾフラニル、イソ
ベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、インドリル、
イソインドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンゾイミダゾ
リル、ベンゾオキサゾリル、１，２−ベンゾイソオキサ
ゾリル、ベンゾチアゾリル、１，２−ベンゾイソチアゾ
リル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノ
リル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、
フタラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニ
ル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボリニ
ル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサジニ
ル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイ
ニル、チアントレニル、フェナトリジニル、フェナトロ
リニル、インドリジニル、ピロロ［１，２−ｂ］ピリダ
ジニル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジル、イミダゾ
［１，２−ａ］ピリジル、イミダゾ［１，５−ａ］ピリ
ジル、イミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニル、イミダゾ
［１，２−ａ］ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ
［４，３−ａ］ピリジル、１，２，４−トリアゾロ
［４，３−ｂ］ピリダジニルなど）などが挙げられる。

【００１７】該非芳香族複素環基としては、例えばオキ
シラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チエタニル、
ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラニル、ピペ
リジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオ
モルホリニル、ピペラジニルなどが挙げられる。該ハロ
ゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が
あげられる。該置換されていてもよいアミノ基として
は、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基（好まし
くは、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のア
ルケニルなど）、脂環式炭化水素基（好ましくは、炭素
数３〜７のシクロアルキルなど）、芳香族基（上記環Ａ
で表される芳香族炭化水素残基または芳香族複素環残基
と同様の基；好ましくは、フェニルなど）または炭素数
２〜１０のアシル基（好ましくは、炭素数２〜１０のア
ルカノイル、ベンゾイルなど）が１または２個アミノ基
（−ＮＨ₂基）に置換したもの（例、メチルアミノ、ジ
メチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチ
ルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘキシルアミノ、フ
ェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、アセ
チルアミノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ
等）などがあげられる。該置換されていてもよいアシル
としては、ホルミルまたは直鎖状または分枝鎖状の脂肪
族炭化水素基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキ
ル、炭素数２〜１０のアルケニルなど）、脂環式炭化水
素基（好ましくは、炭素数３〜７のシクロアルキル、炭
素数３〜７のシクロアルケニルなど）、あるいは上記芳
香族基（好ましくは、フェニル、ピリジルなど）とカル
ボニル基とが結合したもの（例、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタ
ノイル、シクロブタノイル、シクロペンタノイル、シク
ロヘキサノイル、シクロヘプタノイル、クロトニル、２
−シクロヘキセンカルボニル、ベンゾイル、ニコチノイ
ル等）があげられる。

【００１８】該置換されていてもよい水酸基としては、
水酸基およびこの水酸基に適宜の置換基、特に水酸基の
保護基として用いられるものを有した、例えばアルコキ
シ、アルケニルオキシ、アラルキルオキシ、アシルオキ
シ、アリールオキシなどがあげられる。該アルコキシと
しては、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数４〜
７のシクロアルキルオキシ（例、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロ
ブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシル
オキシなど）などが挙げられる。該アルケニルオキシと
しては、アリル（allyl）オキシ、クロチルオキシ、２
−ペンテニルオキシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シク
ロペンテニルメトキシ、２−シクロヘキセニルメトキシ
などの炭素数２〜１０のアルケニルオキシまたは炭素数
４〜７のシクロアルケニルオキシなどが挙げられる。該
アラルキルオキシとしては、例えばフェニル−Ｃ_1-4ア
ルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ
など）が挙げられる。該アシルオキシとしては、炭素数
２〜４のアルカノイルオキシ（例、アセチルオキシ、プ
ロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキ
シなど）が好ましい。該アリールオキシとしては、ハロ
ゲン、ニトロ、低級（Ｃ_1-4）アルキルなどで置換され
ていてもよいフェノキシ、ナフトキシなどのアリールオ
キシ（例、フェノキシ、４−クロロフェノキシなど）が
挙げられる。

【００１９】該置換されていてもよいチオ−ル基として
は、チオ−ル基およびこのチオ−ル基に適宜の置換基、
特にチオ−ル基の保護基として用いられるものを有し
た、例えばアルキルチオ、アラルキルチオ、アシルチオ
などがあげられる。該アルキルチオとしては、炭素数１
〜１０のアルキルチオまたは炭素数４〜７のシクロアル
キルチオ（例、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチ
オ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、
ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチル
チオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシル
チオ、ヘプチルチオ、ノニルチオ、シクロブチルチオ、
シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオなど）などが
挙げられる。該アラルキルチオとしては、例えばフェニ
ル−Ｃ_1-4アルキルチオ（例、ベンジルチオ、フェネチ
ルチオなど）などがあげられる。該アシルチオとして
は、炭素数２〜４のアルカノイルチオ（例、アセチルチ
オ、プロピオニルチオ、ブチリルチオ、イソブチリルチ
オなど）などが挙げられる。該アミド化されていてもよ
いカルボキシル基としては、カルバモイル基、Ｎ−モノ
置換カルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エチル
カルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、フェニル
カルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基
（例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、
ジブチルカルバモイル、ジアリルカルバモイル、Ｎ−メ
チル−Ｎ−フェニルカルバモイル等）など、置換されて
いてもよいアミノ基［例、直鎖状または分枝鎖状の脂肪
族炭化水素基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキ
ル、炭素数２〜１０のアルケニルなど）、脂環式炭化水
素基（好ましくは、炭素数３〜７のシクロアルキルな
ど）、芳香族基（上記環Ａで表される芳香族炭化水素残
基または芳香族複素環残基と同様の基；好ましくは、フ
ェニルなど）または炭素数２〜１０のアシル基（好まし
くは、炭素数２〜１０のアルカノイル、ベンゾイルな
ど）が１または２個アミノ基（−ＮＨ₂基）に置換した
もの（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミ
ノ、シクロヘキシルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニ
ルアミノ、ベンゾイルアミノ等）など］がカルボニル基
とが結合したものがあげられる。

【００２０】該エステル化されていてもよいカルボキシ
ル基のエステル体としては、カルボキシル基と炭素数１
〜６のアルキル基が結合したもの、例えばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル等、カルボキシル基と炭
素数３〜６のアルケニル基が結合したもの、アリル（al
lyl）オキシカルボニル、クロチルオキシカルボニル、
２−ペンテニルオキシカルボニル、３−ヘキセニルオキ
シカルボニル等、カルボニル基とアラルキル基（例、フ
ェニル−Ｃ_1-4アルキルなど）が結合したもの、例えば
ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニ
ル等が挙げられる。該エステル化されていてもよいホス
ホノ基としては、Ｐ(Ｏ)(ＯＲ⁶)(ＯＲ⁷)［式中、Ｒ⁶お
よびＲ⁷は同一または異なって水素あるいは低級
（Ｃ_1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピル，
イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓｅｃ−ブチル，
ｔｅｒｔ−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペン
チル，ヘキシルなど）を示すか、または互いに結合して
環を形成していてもよい］で表される基が挙げられる。

【００２１】一般式（Ｉ）中、Ｒaで表される置換され
ていてもよい炭化水素残基における置換基は、さらにそ
れぞれ適当な置換基を１個以上、好ましくは１〜３個置
換可能な位置に有していてもよい。かかる置換基として
は、例えば低級（Ｃ_1-6）アルキル基（例、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペ
ンチル、ネオペンチル、ヘキシルなど）、低級
（Ｃ_2-6）アルケニル基（例、ビニル、アリル、イソプ
ロペニル、１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニ
ル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−
エチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１
−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−
ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセ
ニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニ
ル、５−ヘキセニルなど）、低級（Ｃ_2-6）アルキニル
基（例、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、
１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペン
チニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチ
ニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニ
ル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルなど）、炭素数３
〜７のシクロアルキル基（例、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チルなど）、アリール基（例、フェニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチルなど）、芳香族複素環基、非芳香族複
素環基、アシル基、カルバモイル基、Ｎ−モノ置換カル
バモイル基（例、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水
素基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数
２〜１０のアルケニルなど）、脂環式炭化水素基（好ま
しくは、炭素数３〜７のシクロアルキルなど）、芳香族
基（上記環Ａで表される芳香族炭化水素残基または芳香
族複素環残基と同様の基；好ましくは、フェニルなど）
または炭素数２〜１０のアシル基（好ましくは、炭素数
２〜１０のアルカノイル、ベンゾイルなど）などの置換
基を１個有するカルバモイル、例えば、メチルカルバモ
イル、エチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換カル
バモイル基（例、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水
素基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数
２〜１０のアルケニルなど）、脂環式炭化水素基（好ま
しくは、炭素数３〜７のシクロアルキルなど）、芳香族
基（上記環Ａで表される芳香族炭化水素残基または芳香
族複素環残基と同様の基；好ましくは、フェニルなど）
または炭素数２〜１０のアシル基（好ましくは、炭素数
２〜１０のアルカノイル、ベンゾイルなど）などの置換
基を２個有するカルバモイル、例えば、ジメチルカルバ
モイル、ジエチルカルバモイル、ジブチルカルバモイ
ル、ジアリルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
カルバモイル等）、スルファモイル基、Ｎ−モノ置換ス
ルファモイル基（例、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭
化水素基（好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル、炭
素数２〜１０のアルケニルなど）、脂環式炭化水素基
（好ましくは、炭素数３〜７のシクロアルキルなど）、
芳香族基（上記環Ａで表される芳香族炭化水素残基また
は芳香族複素環残基と同様の基；好ましくは、フェニル
など）または炭素数２〜１０のアシル基（好ましくは、
炭素数２〜１０のアルカノイル、ベンゾイルなど）など
の置換基を１個有するスルファモイル、例えば、メチル
スルファモイル、エチルスルファモイル、シクロヘキシ
ルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど）、
Ｎ，Ｎ−ジ置換スルファモイル基（例、直鎖状または分
枝鎖状の脂肪族炭化水素基（好ましくは、炭素数１〜１
０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニルなど）、脂
環式炭化水素基（好ましくは、炭素数３〜７のシクロア
ルキルなど）、芳香族基（上記環Ａで表される芳香族炭
化水素残基または芳香族複素環残基と同様の基；好まし
くは、フェニルなど）または炭素数２〜１０のアシル基
（好ましくは、炭素数２〜１０のアルカノイル、ベンゾ
イルなど）などの置換基を２個有するカルバモイル、例
えば、ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイ
ル、ジブチルスルファモイル、ジアリルスルファモイ
ル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル等）、カ
ルボキシル基、低級（Ｃ_1-6）アルコキシカルボニル基
（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブト
キシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペン
チルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
等）、低級（Ｃ_1-6）アルキルチオ基（例、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅ
ｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、
ネオペンチルチオ、ヘキシルチオなど）、アリ−ルチオ
基（例、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチ
ルチオなど）、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ホスホノ基など
が挙げられる。該芳香族複素環基、非芳香族複素環基、
アシル基としては、前記Ｒaで表される置換されていて
もよい芳香族炭化水素残基における置換基として定義し
たのと同様なものが挙げられる。

【００２２】一般式（Ｉ）中、Ｒaとしては、例えば、
式

【化８】 （式中、Ｒ³はシアノまたは陰イオンを形成しうる基あ
るいはそれに変じ得る基を示し、Ｘはフェニレン基とフ
ェニル基が直接または原子鎖２以下のスペーサーを介し
て結合していることを示す）で表される基を示すものが
挙げられる。Ｒ³としての陰イオンを形成しうる基（プ
ロトンとして遊離しうる水素原子を有する基）あるいは
それに変じ得る基としては、以下に示すようなＮ，Ｓ，
Ｏのうちの１個または２個以上を含む５〜７員（好まし
くは５〜６員）の単環状の置換されていてもよい複素環
残基（好ましくは、脱プロトン化し得る水素原子を有す
る含窒素複素環残基）または生体内でそれに変じ得る基
が挙げられる。例えば、

【化９】 などが挙げられ、また、式Ｒ³で表される基と該基が結
合するフェニル基との結合は、上記に示すような炭素−
炭素結合だけでなく、上記式中ｇ＝−ＮＨ−を示す時な
どは複数個存在する窒素原子の１つを介して結合してい
てもよい。例えば、

【００２３】

【化１０】 〔上記式中、ｇは−ＣＨ₂−、−ＮＲ⁸−、Ｏ原子または
−Ｓ(Ｏ)m−を示し、＞＝Ｚ，＞＝Ｚ’および＞＝Ｚ''
はそれぞれカルボニル基，チオカルボニル基または酸化
されていてもよい硫黄原子（例、Ｓ，Ｓ（Ｏ），Ｓ
（Ｏ)₂など）（好ましくはカルボニルまたはチオカルボ
ニル基、さらに好ましくはカルボニル基）を示し、ｍは
０，１または２を示し、Ｒ⁸は水素原子または置換され
ていてもよい低級アルキル基（例、メチル，エチル，プ
ロピル，イソプロピル，ブチル，sec-ブチル, t-ブチル
などの低級（Ｃ_1-4）アルキル）を示す。〕

【００２４】Ｒ³としては、例えば２,５−ジヒドロ−５
−オキソ−１,２,４−オキサジアゾール環残基、２,５
−ジヒドロ−５−チオキソ−１,２,４−オキサジアゾー
ル環残基または２,５−ジヒドロ−５−オキソ−１,２,
４−チアジアゾール環残基のようなプロトンドナーとし
ての−ＮＨや−ＯＨ基とプロトンアクセプターとしての
カルボニル基，チオカルボニル基またはスルフィニル基
等を同時に有する基が好ましい。また、Ｒ³で示される
複素環残基は、環上の置換基が結合して縮合環を形成し
ていてもよいが、Ｒ³としては、５−６員環さらに５員
環の複素環残基が好ましい。 Ｒ³としては、とりわけ式

【化１１】 〔式中、ｉは−Ｏ−または−Ｓ−を示し、ｊは＞Ｃ＝
０，＞Ｃ＝Ｓまたは＞Ｓ(Ｏ)_m を示し、ｍは０，１また
は２を示す〕で示される基（なかでも、２,５−ジヒド
ロ−５−オキソ−１,２,４−オキサジアゾール−３−イ
ル，２,５−ジヒドロ−５−チオキソ−１,２,４−オキ
サジアゾール−３−イル，２,５−ジヒドロ−５−オキ
ソ−１,２,４−チアジアゾール−３−イル）が好まし
い。Ｒ³の置換位置は、オルト，メタ，パラのいずれの
位置でもよいが、なかでもオルト位が好ましい。

【００２５】また、上記複素環残基（Ｒ³）は下記に示
すような互変異性体が存在する。例えば、

【化１２】 のようなａ，ｂおよびｃの３つの互変異性体が存在する
が式

【化１３】 で示される複素環残基は上記のａ，ｂおよびｃすべてを
含むものである。さらに、Ｒ³としての陰イオンを形成
しうる基またはそれに変じ得る基としては、カルボキシ
ル基、テトラゾリル基、リン酸基、スルホン酸基（好ま
しくはテトラゾリル）などでもよく、これらの基が置換
されていてもよい低級アルキル基またはアシル基などで
保護されていてもよく、生物学的すなわち生理的条件下
（例えば、生体内酵素などによる酸化、還元あるいは加
水分解などの生体内反応など）で、または化学的に陰イ
オンを形成しうる基またはそれに変じ得る基であればい
ずれでもよい。

【００２６】前記Ｒ³としては、シアノ、置換されてい
てもよい低級（Ｃ_1-4）アルキル（例、メチル，トリフ
ェニルメチル，メトキシメチル，エトキシメチル，ｐ−
メトキシベンジル，ｐ−ニトロベンジルなどのように、
低級（Ｃ_1-4）アルコキシで置換されていてもよい低級
（Ｃ_1-4）アルキルまたはハロゲン、ニトロ、低級（Ｃ_1
-4）アルコキシなどで置換されていてもよいフェニルを
１〜３個有する低級（Ｃ_1-4）アルキルなど）もしくは
アシル基（例、低級（Ｃ_2-5）アルカノイル，ベンゾイ
ルなど）で保護されていてもよいテトラゾリルあるいは
カルボキシル基が好ましい。Ｒ³の置換位置としては、
オルト、メタ、パラのいずれの位置でもよいが、なかで
もオルト位が好ましい。Ｘは隣接するフェニレン基とフ
ェニル基が直接または原子鎖２以下のスペーサーを介し
て結合していること（好ましくは直接結合）を示し、原
子鎖２以下のスペーサーとしては、直鎖部分を構成する
原子数が１または２である２価の鎖であればいずれでも
よく、側鎖を有していてもよい。具体的には低級（Ｃ
_1-4）アルキレン、−ＣＯ−，−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ
−，−ＣＯ−ＮＨ−，−Ｏ−ＣＨ₂−，−Ｓ−ＣＨ₂−，
−ＣＨ＝ＣＨ−などが挙げられる。

【００２７】一般式（Ｉ）中、Ｒ¹で表されるエステル
化またはアミド化されていてもよいカルボキシル基とし
ては、例えば、式−ＣＯ−Ｄ〔式中、Ｄは水酸基、置換
されていてもよいアミノ（例えば、アミノ、Ｎ−低級
（Ｃ_1-4）アルキルアミノ（例、メチルアミノ，エチル
アミノなど）、Ｎ，Ｎ−ジ低級（Ｃ_1-4）アルキルアミ
ノ（例、ジメチルアミノ，ジエチルアミノ，ジブチルア
ミノなど）など）または置換されていてもよいアルコキ
シ（好ましくは、低級（Ｃ_1-6）アルコキシ基）〕で表
される基などが挙げられるが、好ましくは、エステル化
されていてもよいカルボキシル基、さらに好ましくは低
級（Ｃ_1-6）アルキルオキシカルボニル（例、ｔ−ブチ
ルオキシカルボニルなど）が挙げられる。

【００２８】置換基Ｒ¹としては、本発明における接触
水素化に耐え得るものであればいずれでもよいが、接触
水素化後除去し易いものが好ましい。例えば、カルボキ
シル及びその金属塩（例、リチウム，カリウム，ナトリ
ウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウム，カルシウム
などのアルカリ土類金属塩など）、低級（Ｃ_1-6）アル
キルオキシカルボニル（例、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｔ−ブト
キシカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニルなど）、
低級（Ｃ_3-6）シクロアルキルオキシカルボニル（例、
シクロブトキシカルボニル、シクロペンチルオキシカル
ボニル、シクロヘキシルオキシカルボニルなど）、１−
アダマンチルオキシカルボニル、イソボルニルオキシカ
ルボニル、低級（Ｃ_2-6）アルケニルオキシカルボニル
（例、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルなど）、フェニル−低級（Ｃ_2-3）アルケニルオキシ
カルボニル（例、シンナミルオキシカルボニルなど）、
フェニルオキシカルボニル、８−キナノイルオキシカル
ボニル、フェニル−低級（Ｃ_1-3）アルキルオキシカル
ボニル（例、ベンジルオキシカルボニルなど）等が挙げ
られるが、特にｔ−ブトキシカルボニルなどが好まし
い。Ｑで表される還元によりアミノ基にかわり得る基と
しては、ニトロ、ニトロソ、ヒドロキシアミノ、アジド
またはヒドラジンなどが挙げられる。

【００２９】本発明において、一般式（Ｉ）としては、
例えば、一般式（Ｉ'）：

【化１４】 （式中、Ｒ¹はエステル化またはアミド化されていても
よいカルボキシル基を示し、Ｒ²は陰イオンを形成し得
る基またはそれに変じ得る基を示し、Ｒ³は陰イオンを
形成しうる基またはそれに変じ得る基を示し、環ＡはＲ
²で表わされる基以外にさらに置換基を有していてもよ
いベンゼン環を示す）で表される化合物が挙げられる。

【００３０】本発明において、原料となるアリールメチ
ルアミン誘導体（例、ベンジルアミン誘導体など）のＲ
¹による保護体は、例えば、原料となるアリールメチル
アミン誘導体とカーボネート誘導体を反応させる方法、
アミンのカルバメート体をアリールメチルハライド
（例、ベンジルハライド）と反応させる方法のいずれか
の方法で得ることができる。ここで、アリールとは、芳
香族炭化水素基を意味する。アリールメチルアミン誘導
体とカーボネート誘導体との反応では、例えば、塩基性
条件下（例、トリエチルアミン，ピリジン，炭酸カリウ
ム，炭酸ナトリウム，水酸化カリウム，水酸化ナトリウ
ムなど）、通常の溶媒中（例、クロロホルム，塩化メチ
レン，テトラヒドロフラン，アセトニトリル，ピリジ
ン，水など）で反応させて、アリールメチルアミン誘導
体のＲ¹による保護体を得る。カーボネート誘導体とし
ては、クロロ炭酸エステル（例、メチルエステル，エチ
ルエステル，ｔ−ブチルエステルなど）、無水炭酸エス
テルなどが挙げられる。反応条件としては、通常アリー
ルメチルアミン誘導体１モルに対して、１〜３モル程度
の上記カーボネート誘導体および１〜３モル程度の塩基
存在下、氷温ないし溶媒還流温度程度（例、０℃〜１０
０℃程度）で約１〜１０時間程度で行うのが好ましい。
一方、アミンのカルバメート体とアリールメチルハライ
ドとの反応は、塩基存在下、行うものである。アミンの
カルバメート体１モルに対して、塩基１〜３モル程度お
よびアリールメチルハライド１〜３モル程度を使用し
て、通常ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトアミ
ド，ジメチルスルホキシド，アセトニトリル，アセト
ン，メチルエチルケトン，テトラヒドロフラン，ジオキ
サンなどの溶媒中で行う。かかる塩基としては、水素化
ナトリウム，ｔ−ブトキシカリウム，炭酸カリウムおよ
び炭酸ナトリウムなどを用いる。アリールメチルハライ
ドは塩化物，臭化物，ヨウ化物などとして用いる。反応
条件としては、用いる塩基、アリールメチルハライドの
組み合わせによって異なるが、通常、氷温ないし溶媒還
流温度程度（例、０℃〜１００℃程度）で１〜１０時間
程度行うのが好ましい。また、保護基Ｒ¹がアミド化さ
れたカルボキシル基である場合には、アミド化されたカ
ルボキシル基で保護したアミン誘導体をアリールメチル
ハライド（例、ベンジルハライドなど）と反応させる方
法で得ることができる。反応は相当するアミン誘導体を
アリールメチルハライドと塩基存在下行うものである。
相当するアミン誘導体１モルに対して、塩基１〜３モル
程度およびアリールメチルハライド１〜３モル程度を使
用して、通常ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトア
ミド，ジメチルスルホキシド，アセトニトリル，アセト
ン，メチルエチルケトン，テトラヒドロフラン，ジオキ
サンなどの溶媒中で行う。かかる塩基としては、水素化
ナトリウム，ｔ−ブトキシカリウム，炭酸カリウムおよ
び炭酸ナトリウムなどを用いる。アリールメチルハライ
ドは塩化物，臭化物，ヨウ化物などとして用いる。反応
条件としては、用いる塩基、アリールメチルハライドの
組み合わせによって異なるが、通常、氷温ないし溶媒還
流温度程度（例、０℃〜１００℃程度）で１〜１０時間
程度行うのが好ましい。

【００３１】このようにして得られたアリールメチルア
ミンのＲ¹による保護体は、脱アリールメチル化が進行
することなく官能基（還元によりアミノ基にかわり得る
基）をＰｄ系触媒で水素化できる。溶媒としては、水素
化反応に使用される溶媒であればいずれでもよいが、好
ましくは、水の他、メタノール、エタノールなどのアル
コール、ジクロルメタン、ジクロルエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素、トルエン、ベンゼンなどの芳香族炭化水
素、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶
媒、酢酸エチルなどの酢酸エステル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。反応
は、通常、水素雰囲気ないし約１００Ｋｇ／ｃｍ²の圧
力範囲で、好ましくは水素雰囲気ないし約２０Ｋｇ／ｃ
ｍ²の圧力範囲で行われる。反応温度は、通常、約−１
０℃ないし約１００℃、好ましくは、約０℃ないし約６
０℃の範囲で行われる。パラジウム系触媒としては、Ｑ
で表される基をアミノ基へ還元できるものであればいず
れでもよいが、例えば、パラジウムブラック，パラジウ
ムカーボン，パラジウムアルミナ，パラジウムシリカ，
パラジウムシリカアルミナ，パラジウムゼオライト，パ
ラジウムチタニア，酸化パラジウムなどが挙げられる。

【００３２】接触還元反応後、常法により簡単にＲ¹を
除去できる。例えば、還元反応生成物１モルに対して、
１〜２０モル程度の酸を用いて除去することができる。
反応は、通常水の他、メタノール，エタノールなどのア
ルコール、ジクロルメタン，ジクロルエタンなどのハロ
ゲン化炭化水素、トルエン，ベンゼンなどの芳香族炭化
水素、エーテル，テトラヒドロフランなどのエーテル系
溶媒、酢酸エチルなどの酢酸エステル、アセトニトリル
などの溶媒中で行う。酸としては、酢酸，ギ酸，トリフ
ルオロ酢酸などの酸やヨウ化トリメチルシラン，ＡlＣl
₃などで容易に除去できる。反応条件は用いる酸および
溶媒の組み合わせによって異なるが、氷温ないし溶媒還
流温度程度（例、０℃〜１００℃程度）で、０．５〜２
０時間程度、好ましくは０．５〜１０時間程度で行われ
る。本発明は、例えば医薬として有用なアンギオテンシ
ンII拮抗作用を有するベンズイミダゾール誘導体の重要
な中間原料であるアルキル １−（２′−シアノビフェ
ニル−４−イル）メチル−２−エトキシベンズイミダゾ
ール−７−カルボキシラートの製造に有利に使用され
る。この化合物は特開平４−３６４１７１号公報などの
方法によって強力なアンギオテンシンII拮抗作用を有す
るベンズイミダゾール誘導体へ導くことができる。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下に、実施例および参考例を挙
げて、本発明を更に詳しく説明するが、これらは本発明
の単なる実例に過ぎず、本発明がこれらに限定されるも
のではない。

【００３４】

【実施例】

実施例１ メチル ２−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ
−（２′−シアノビフェニル−４−イル）メチルアミ
ノ］−３−ニトロベンゾアート（７．３７ｇ）、５％Ｐ
ｄ炭素（０．６４ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍ
ｌ）およびメタノール（３０ｍｌ）に混ぜ、室温、水素
圧４．０Ｋｇ／ｃｍ²で約６時間反応した。Ｐｄ炭素を
濾去後、濾液を濃縮してメチル ３−アミノ−２−［Ｎ
−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−（２′−シアノ
ビフェニル−４−イル）メチルアミノ］ベンゾアート
（６．５２ｇ、収率９５．０％）を含む油状物を得た。
この油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジ
クロルメタン：メタノール＝１００：３）に付し、メチ
ル ３−アミノ−２−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル−Ｎ−（２′−シアノビフェニル−４−イル）メチ
ルアミノ］ベンゾアートを得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ₆）δ：１．２
９（６Ｈ，ｓ），１．４９（３Ｈ，ｓ），３．５１（３
Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｄ），５．０７（２Ｈ，ｂ
ｒ），６．９８〜７．９７（１１Ｈ，ｍ）． 実施例２ メチル ３−アミノ−２−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｎ−（２′−シアノビフェニル−４−イル）
メチルアミノ］ベンゾアート（６．４８ｇ）を酢酸エチ
ル（３８ｍｌ）に溶解し、約１０℃で濃塩酸（１４．３
４ｇ）滴下後、約２５℃で１時間反応した。反応液に水
（２５ｍｌ）を加え、６Ｎ水酸化ナトリウムで中和し、
酢酸エチル（５０ｍｌ）を加えて抽出した後、分液し得
られた有機層を濃縮して、メチル ３−アミノ−２−
（２′−シアノビフェニル−４−イル）メチルアミノベ
ンゾアート（４．８９ｇ、収率９６．６％）を含む油状
物を得た。

【００３５】実施例３ メチル ２−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ
−［２′−（Ｎ−トリフェニルメチル−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イル）ビフェニル−４−イル］メチルアミ
ノ］−３−ニトロベンゾアート（２．６５ｇ）、５％Ｐ
ｄ炭素（０．１４ｇ）をテトラヒドロフラン（１３ｍ
ｌ）およびメタノール（１３ｍｌ）に混ぜ、室温、水素
圧４．０Ｋｇ／ｃｍ²で５時間反応後、５％Ｐｄ炭素
（０．１４ｇ）を追加し、さらに８時間反応した。Ｐｄ
炭素を濾去後、濾液を濃縮してメチル３−アミノ−２−
［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［２′−
（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イ
ル］メチルアミノ］ベンゾアート（１．６０ｇ、収率９
４．５％）を含む油状物（２．４８ｇ）を得た。この油
状物にメタノール（１０ｍｌ）を加えて晶出し、結晶を
濾取するとメチル ３−アミノ−２−［Ｎ−ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル−Ｎ−［２′−（１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）ビフェニル−４−イル］メチルアミノ］
ベンゾアート（結晶：０．８８ｇ、収率５１．８％）を
得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ₆）δ：１．１
９（６Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｓ），３．４２（３
Ｈ，ｓ），４．４１（２Ｈ，ｂｒ），６．８８〜７．６
２（１１Ｈ，ｍ）．

【００３６】参考例１ メチル ２−［Ｎ−（２′−シアノビフェニル−４−イ
ル）メチルアミノ］−３−ニトロベンゾアート（１．９
７ｇ）、５％Ｐｄ炭素（０．２１ｇ）をテトラヒドロフ
ラン（２０ｍｌ）およびメタノール（１０ｍｌ）に混
ぜ、室温、水素圧４．０Ｋｇ／ｃｍ²で１．５時間反応
した。Ｐｄ炭素を濾去後、濾液を高速液体クロマトグラ
フィー分析により脱ベンジルされた２−（４−メチルフ
ェニル）ベンゾニトリル（１．２３ｇ、収率８９．２
％）が生成した。

【００３７】

【発明の効果】本発明のアリールメチルアミン誘導体
（例、ベンジルアミン誘導体など）の製造法によると、
工業的に有利なＰｄ触媒での接触水素化法において、脱
アリールメチル化を抑制することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 521/00 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、環ＡはＱ以外にさらに置換基を有していてもよ
   い芳香族炭化水素または芳香族複素環残基を示し、Ｒ¹
   はエステル化またはアミド化されていてもよいカルボキ
   シル基を示し、Ｒaは置換されていてもよい芳香族炭化
   水素残基を示し、Ｑは還元によりアミノ基に変わり得る
   基を示す）で表される化合物をパラジウム触媒で接触還
   元させた後、Ｒ¹基を除去することを特徴とする、 【化２】 （式中、各記号は前記と同意義を示す）で表される化合
   物の製造法。
2. 【請求項２】Ｒ¹がエステル化されていてもよいカルボ
   キシル基である請求項１記載の製造法。
3. 【請求項３】エステル化されていてもよいカルボキシル
   基がアルキルオキシカルボニルである請求項２記載の製
   造法。
4. 【請求項４】アルキルオキシカルボニルがｔ−ブチルオ
   キシカルボニルである請求項３記載の製造法。
5. 【請求項５】Ｒaが式： 【化３】 （式中、Ｒ³はシアノまたは陰イオンを形成しうる基も
   しくはそれに変じ得る基を示し、Ｘはフェニレン基とフ
   ェニル基が直接または原子鎖２以下のスペーサーを介し
   て結合していることを示す）で表される基である請求項
   １記載の製造法。
6. 【請求項６】陰イオンを形成しうる基が、脱プロトン化
   しうる水素原子を有する、置換されていてもよい５ない
   し７員の単環状複素環残基あるいはそれに変じ得る基で
   ある請求項５記載の製造法。
7. 【請求項７】一般式（Ｉ）で表される化合物が一般式： 【化４】 （式中、Ｒ¹はエステル化またはアミド化されていても
   よいカルボキシル基を示し、Ｒ²は陰イオンを形成し得
   る基またはそれに変じ得る基を示し、Ｒ³は陰イオンを
   形成しうる基またはそれに変じ得る基を示し、環ＡはＲ
   ²で表わされる基以外にさらに置換基を有していてもよ
   いベンゼン環を示す）で表される化合物である請求項１
   記載の製造法。