JPH087379A - 磁気ヘッドの位置調整方法 - Google Patents

磁気ヘッドの位置調整方法

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JPH087379A
JPH087379A JP14432794A JP14432794A JPH087379A JP H087379 A JPH087379 A JP H087379A JP 14432794 A JP14432794 A JP 14432794A JP 14432794 A JP14432794 A JP 14432794A JP H087379 A JPH087379 A JP H087379A
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magnetic head
head
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light
adjusting
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JP14432794A
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English (en)
Inventor
Toru Sasaki
徹 佐々木
Yoshio Suzuki
芳夫 鈴木
Yuji Kishi
祐司 岸
Naoki Mori
直樹 森
Masayuki Inoue
雅之 井上
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】光磁気ディスク装置に係り、光ヘッドと磁気ヘ
ッドとの位置合わせを、精度良くしかも簡単な構成で行
なうことができる磁気ヘッド位置調整方法と、それに用
いる調整用ディスクを提供する。 【構成】まず透明基板上に半透明膜を有する調整用ディ
スクに対して、光ヘッドから照射されたレ−ザ光を調整
用ディスクの半透明膜上にフォ−カスさせ、磁気ヘッド
と光ヘッドのフォ−カス方向の相対位置は一定に維持で
きるようにする。つぎに調整用ディスクの半透明膜に照
射されたレ−ザ光の一部を、光ヘッドと反対の面に接触
させた磁気ヘッドに照射し、その反射光量を検出するこ
とにより、磁気ヘッドと光ヘッド(ディスク上の光スポ
ット)との位置合わせが可能なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁界変調記録方式の光磁
気ディスク装置に係り、特に光ヘッドと磁気ヘッドとの
位置合わせ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光磁気ディスク装置において情報信号の
書換えを行なう際、オーバライトを行う方法として磁界
変調記録方式が知られている。一般に磁界変調記録方式
とは、光ヘッドにより一定強度のレーザ光を光磁気記録
媒体に微小光スポットとして照射すると共に、磁気ヘッ
ドにより記録信号に応じて変調された外部磁界を付与し
て、情報の記録を行うものである。また最近記録ドメイ
ンを安定かつ正確に形成する磁界変調記録方式としてレ
−ザ光も変調する方法が考案されている。これらの磁界
変調方式の光磁気ディスク装置において、光ヘッドと磁
気ヘッドとに位置ずれがあると良好な記録ができないた
め、両者の位置合わせは重要となる。
【0003】しかし、磁界変調記録方式に用いられる磁
気ヘッドは、数百kHz〜数MHzの高速変調性が求め
られ、インダクタンスが小さいことが必要となる。その
ため磁気ヘッドの外形は必然的に小さなものとなり、そ
れに伴って当然のことながら磁界印加領域は狭くなる。
また微小光スポットも、光ヘッドを構成する部品の誤差
により、位置ずれが発生することがある。したがって、
光ヘッドと磁気ヘッドの位置合わせが難しく、この位置
合わせをより簡単に実現する方法が求められていた。
【0004】これを解決するために提案された従来の例
として、特開平2−165449号公報にその方式の開
示がなされている。この例では、磁気ヘッドの磁気コア
の端面に反射膜を形成し、光ヘッドから磁気ヘッドにレ
ーザ光を照射し、磁気コア端面の反射膜からの反射光を
光ヘッドに設けられた光検出器で受光し、この光検出器
の出力が大きくなるように(反射光量が多くなるよう
に)磁気ヘッドの位置を調整し、光ヘッドと磁気ヘッド
との位置合わせを行なうようにしていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術は磁気ヘッドの磁気コア端面に平坦に反射膜を形
成しなければならず、蒸着、スパッタリングなどのプロ
セスが必要となるためコストが高くなるという課題があ
った。また、この方法において、磁気ヘッドの表面に対
する光スポットの集光状態が変化すると検出光量がそれ
に伴って変化し、磁気ヘッドの磁気コア端面からの反射
光を正確に検出できなくなる。そのためには、磁気ヘッ
ドの表面に光スポットを一定の集光状態で集光させる必
要があるがこの点は考慮されていなかった。なお特開平
2−165449号公報には記載されていないが、磁気
ヘッドの表面に光スポットを一定の集光状態で集光させ
るために、磁気ヘッドの表面に光スポットが合焦するよ
うにフォ−カス制御を行なう方法も考えられる。しかし
従来方式の構成では磁気ヘッドの表面の反射率の変動お
よび表面形状によってはフォ−カス制御が正確に行なえ
ず、例えば磁気ギャップでは反射光が戻らずフォ−カス
が外れてしまい、そのため磁気ヘッドからの反射光を安
定に検出できなくなり、結果的に位置合わせが出来なく
なるか、または多くの時間を要する問題が生じる。
【0006】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、光ヘッドと磁気ヘッドと
の位置合わせを精度良く、しかも簡単な構成で行なうこ
とができる光磁気ディスク装置における磁気ヘッドの位
置調整方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の構成
により達成される。すなわち光磁気ディスクに光ビーム
を集光する光ヘッドと、光ヘッドに対向して設けられ記
録膜として光磁気膜を有する光磁気ディスクに磁界を印
加する磁気ヘッドと、磁気ヘッドおよび光ヘッドを前記
光磁気ディスクの情報トラックを横断する方向に送るキ
ャリッジとを備えた光磁気ディスク装置において、光磁
気ディスクに代えて透明基板上に反透明膜を有した調整
用ディスクを装着する。この調整用ディスクは、円盤状
の透明基板上に光ヘッドに使用している波長に対して半
透明な光利用率を示す半透明膜を有している。なお磁気
ヘッドとの接触で生じる破損(ヘッドクラッシュ)の防
止、および半透明膜の保護等のために半透明膜上に保護
膜(例えば紫外線硬化樹脂)を設けてもよい。なお、調
整ディスクは回転させても静止させても構わない。
【0008】また磁気ヘッドはスライダ−と磁気コアと
磁気コイルにより構成され、光磁気ディスクと接触する
端面のうち、磁気コア領域とスライダ−領域が光ヘッド
のレ−ザ光に対して反射率が異なると共に、発生磁界強
度の中心と磁気コア中心がほぼ一致する。またこの磁気
ヘッドは支持アーム(保持部材)を介してキャリッジに
対して位置調整可能なように構成されている。この磁気
ヘッドを調整用ディスクの半透明膜側に接触させて設
け、光ヘッドを磁気ヘッドとは反対側の透明基板側に設
ける。この光ヘッドは照射されたレ−ザ光が調整用ディ
スクの反透明膜に合焦する、すなわちフォ−カス制御を
行なうことが実効可能であり、かつ反透明膜を透過し磁
気ヘッドに照射され後反射された反射光を検出できる光
検出器を光ヘッド内に具備している。
【0009】
【作用】磁気ヘッドは、調整用ディスクの半透明膜側に
接触して仮に位置決めされる。光ヘッドから照射された
レ−ザ光は調整用ディスクの透明基板を透過し半透明膜
上に照射される。そして半透明膜からの反射光を用いて
半透明膜上に光ビ−ムが合焦するようにフォ−カス制御
が行なわれる。これにより磁気ヘッドと光ヘッドのフォ
−カス方向の相対位置は一定に維持できる。つぎに調整
用ディスクの半透明膜に照射されたレ−ザ光の一部(反
射されず透過した光)は磁気ヘッドに照射され、磁気ヘ
ッド端面で反射された後、光ヘッド内の光検出器で検出
される。ここで磁気ヘッドの端面に入射した光の磁気コ
ア領域とスライダ−領域の反射率の差を用いて、光検出
器の出力をモニタ−しその出力が磁気コア領域の応じた
出力となるように(すなわちレ−ザ光が磁気コア領域内
に入射するように)磁気ヘッドの位置を調整することに
より、磁気ヘッドと光ヘッド(ディスク上の光スポッ
ト)との位置合わせが可能なる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。
【0011】図1は、本発明による光磁気ディスク装置
における磁気ヘッドの位置調整方法の説明図である。光
磁気ディスク装置内に磁気ヘッド2と光ヘッド1とがデ
ィスク装着用のタ−ンテ−ブル4に装着された調整用デ
ィスク3の両側に対向して配置されている。ここで光ヘ
ッド1は光磁気ディスクに光ビームを集光し、情報信号
を再生する光磁気ディスク用の光ヘッドである。なお本
実施例で示した光ヘッド1は、光ヘッドを固定光学系と
可動光学系に分離した分離型光ヘッドであり、可動光学
系を搭載したキャリッジ5はディスク半径方向(図中の
Y軸方向)に移動自在な構造となっている。また磁気ヘ
ッド2は、磁気コイル2aに電流を供給することにより
光磁気ディスクの記録膜に外部磁界を印加する磁界変調
方式用の磁気ヘッドである。この磁気ヘッド2は、薄板
状の支持アーム6の先端部に設けられており、支持アー
ム6は、ねじ7によりキャリッジ5の突出部5aに取付
けられている。なお、支持アーム6のキャリッジ5の突
出部5aに対する取付け位置は、ディスク半径方向(図
中のY軸方向)およびディスク接線方向(図中のX軸方
向)に調整可能である。
【0012】この構成において、光ヘッド1の固定光学
系内のレ−ザ光源用の半導体レ−ザ1aから出射したレ
−ザ光100はビ−ムスプリッタ1cを経て、可動光学
系のミラ−1bで偏向され対物レンズ1dにより調整用
ディスク3に照射される。図2に調整用ディスク3の断
面構造と磁気ヘッド2を示す。磁気ヘッド2は、磁気コ
イル2aが巻回されたコの字型の磁気コア2bをスライ
ダ−2cに埋め込んだ構成と成っている。この磁気ヘッ
ド2の発生磁界強度の中心と磁気コア2bの中心軸50
(図において、コの字型の磁気コア2bの左側部をい
う)がほぼ一致する。また調整用ディスク3はディスク
基板3a(例えば、光磁気ディスクに使用されていると
基板と同じでもよい)と、光ヘッドのレ−ザ光に対して
半透明な光利用率(例えば入射光の約20%を反射し、
60%程度を透過、他は吸収等により損失する。)有す
る半透明膜3bと、磁気ヘッド2との接触で生じる破損
(ヘッドクラッシュ)の防止、および半透明膜3bの保
護等のための保護コ−ト(例えば紫外線硬化樹脂)から
成っている。この調整用ディスク3のディスク基板3a
に入射した光束101は,半透明膜3bで反射光102
と透過光103に分離される。半透明膜3bの反射光1
02は対物レンズ1d,ミラ−1bを経て、固定光学系
に導かれた後、光検出器1fに入射する。この光検出器
1fより得られたフォ−カス制御信号を用いて、調整用
ディスク3の半透明膜3b上にレ−ザ光を合焦させる。
一方、半透明膜3bを透過した光束103は保護コ−ト
3cを透過し磁気ヘッド2の端面51に照射される。磁
気ヘッド2の端面51からの反射光104は再び、保護
コ−ト3c、半透明膜3b,ディスク基板3aを透過
し、対物レンズ1d,ミラ−1bを経て、固定光学系に
導かれた後、光検出器1fに入射する。
【0013】以上、磁気ヘッド2が調整用ディスクに常
に接触して位置決めされ、かつ光ヘッド1のフォ−カス
サ−ボ(レ−ザ光を調整用ディスク3の半透明膜3bに
常に合焦させる)により、磁気ヘッド2にレ−ザ光を一
定の集光状態で照射することが可能となる。これにより
磁気ヘッド2の端面51に照射されたレ−ザ光の反射率
変化を正確かつ安定にに検出することが出来る。
【0014】次に、磁気ヘッド端面51で反射された光
束を用いた光ヘッド1の中心(以後光軸101aと記
す)と磁気ヘッド2の磁気コア2bの中心軸50との位
置合わせ方法について詳細に説明する。
【0015】磁気ヘッド2を構成する磁気コア2bとス
ライダ−2cは材質が異なるため、レ−ザ光に対する反
射率が異なる。例えば磁気コア2bを磁性材料であるM
n−Znフェライト、スライダ−2cをセラミックとし
た場合、一般には磁気コア2bはスライダ−2cより反
射率が低下する。本発明では、磁気ヘッド2の端面51
にレ−ザ光を照射し、反射光の反射率差を利用すること
により磁気コア2bの位置を検出する。以下に、この反
射率差を利用した磁気ヘッド2の位置調整の手順につい
て説明する。
【0016】第1段階として、本実施例においては、フ
ォ−カスサ−ボを行なっている状態で、図3に示したよ
うに、対物レンズ1dをトラッキング用アクチュエ−タ
1eに一定周期の信号を印加し、ディスク半径方向に可
動させることで、調整用ディスク3の端面51に照射す
る光束101を一定周期で往復移動させる。
【0017】第2段階として、磁気ヘッド2の接線方向
の位置調整を行なう。図4に磁気ヘッド2の端面51上
を光スポットが移動した場合の反射光の強度変化を示
す。図において、端面51は磁気コア2bと、スライダ
−2cと、磁気コア2bの磁気ギャップ2dから成る。
磁気ヘッド2が接線方向に対して正確に位置調整されて
いる場合、図における矢印A上を光スポットが往復移動
する場合、反射光の強度は光スポットが照射された領域
の反射率差に応じた波形Sa(図中の波形は片側の移動
に対してのみ図示した)となる。すなわち光スポットが
磁気ヘッド2の端面50外の領域に位置する場合,光は
反射されず光強度は最小(なお本実施例では、調整用デ
ィスク3の半透明膜3bより反射された光束も検出され
るため、光強度は零にはならない。)となり、スライダ
−2cでは光強度は最大となり、磁気コア2bでスライ
ダ−2cとの反射率差により強度が低下する。なお、磁
気ギャップ2dは、磁気コア2bとは別材質(本実施例
において、反射率はスライダ−2cの反射率と同じとし
た)を充填させてあり、その反射率差により光強度は磁
気コア2bと差が生じている。これに対して、磁気ヘッ
ド2が接線方向に対して正しく位置決めされていない場
合、図における矢印B上を光スポットが往復移動した場
合、磁気ヘッド2とそれ以外の領域で反射光の強度差が
生じる以外はほとんど強度変化はない、図における波形
Sbとなる。よって、磁気ヘッド2の接線方向の調整
は、反射光をモニタ−し、その強度変化が最大(波形S
b)となるように磁気ヘッドを位置を調整すればよい。
【0018】次に、第3段階として、磁気ヘッド2の半
径方向の調整を行なう。図5に磁気ヘッド2が接線方向
に正しく位置決めされた場合に得られる反射光の強度変
化Sa(図中においては光スポットの往復移動分以上の
波形を図示した)と、対物レンズ1dの駆動波形Sdを
示した。波形Saにおいて、強度O1,O2は磁気コア
2bに光スポットが位置している強度である。一方駆動
波形Sdにおいて、出力D1,D2は波形Sdが対物レ
ンズ1dの中立位置(一般には、光学ヘッドにおいてサ
−ボ調整を行なう際の対物レンズ位置)に相当するレベ
ルAと交わる点の出力であり、駆動波形Sdのレベルが
D1,D2となったとき対物レンズは中立位置にある。
よって磁気ヘッド2の半径方向の調整は、反射光の強度
変化の波形Saの出力D1(D2)の位置と、駆動波形
Sdの出力D1(D2)の位置が一致する(位相が一致
する)ように調整すればよい。
【0019】なお、磁気ヘッド2の位置(半径方向およ
び接線方向)を調整するには、図1において、磁気ヘッ
ド2が先端部に取り付けられた支持アーム6の位置を調
整して行なう。すなわち、調整前においては、ねじ7を
半締め状態にして支持アーム6をキャリッジ5の突出部
5aに仮止めする。そして反射光の波形変化と対物レン
ズの駆動波形をモニタしながら、偏心ドライバ等により
支持アーム6を微小量ずつ移動させて、上述したように
光ヘッドの対物レンズ1dを出射する光束101の光軸
101aと磁気ヘッド2の磁気コア2bの中心軸50と
を一致させる。その後に、ねじ7をさらに締め込んで、
支持アーム6をキャリッジ5に固定すればよい。
【0020】以上説明したように反射光の波形変化と対
物レンズの駆動波形とを用いる本発明の調整方法によ
り、光ヘッド1の光軸101aと磁気ヘッド2の中心軸
50を精度よく一致させることができる。なお本実施例
においては、対物レンズ1dを往復移動させた際の中立
位置を検出するために、対物レンズ1dを駆動する駆動
波形Sdを用いたがこれに限るものではなく、例えば対
物レンズ1dの半径方向の位置を検出する位置検出手段
(例えば、ホトカプラを用いた位置センサ)により検出
してもよい。また本実施例においては、磁気ヘッド2の
調整の手順として、接線方向の位置調整を行なった後、
半径方向の調整を行なったが、これらの調整を同時に行
なってもよい。さらに、磁気ヘッド2上で光スポットを
移動するために対物レンズを移動させたがこれに限るも
のではなく、例えば光路中に偏向手段(ミラ−等)を新
たに設けた構成でもよい。また接線方向の調整に関して
も半径方向と同じ方法(位相を一致させる方法)を用い
てもよい。
【0021】なお磁気ヘッド2において、磁気コア2c
の反射率が他の部剤(本発明においては、スライダ−2
cと磁気ギャップ)の反射率と差が大きい場合、磁気ヘ
ッドに入射させる光束を偏向させず(本実施例において
は、対物レンズ1dを半径方向に駆動させた。)、検出
される光強度が、磁気コア2cの反射率の応じたレベル
となるように磁気ヘッド2を調整してもよい。
【0022】以上説明した第1の実施例において、光ヘ
ッド1のフォ−カスサ−ボは調整ディスク3の半透明膜
2bに光束が合焦するように行なわれている。よって磁
気ヘッド2の端面に照射される光束は、調整ディスク3
の半透明膜2bから磁気ヘッド2の端面までの光路長だ
け若干デフォ−カスする。そこで磁気ヘッド2に照射さ
れるレ−ザ光がなるべく合焦するように、回路的にフォ
−カスオフセットを強制的に生じさせ、調整ディスク3
の半透明膜2bに照射される光束を反対にデフォ−カス
させてもよい。
【0023】次に、本発明の光磁気ディスク装置におけ
る磁気ヘッドの位置調整方法の第2の実施例について説
明する。図6は本実施例による光磁気ディスク装置にお
ける磁気ヘッドの位置調整方法の説明図である。図6に
おいて、図1と同一機能部品には同じ番号を付し、特に
必要のない限りその説明は省略する。本実施例は、光ヘ
ッド1以外の光学系すなわち調整用光学系90を有して
いる。この調整用光学系90は光ヘッド1の半導体レ−
ザ1aの波長λ1とは異なる波長λ2の半導体レ−ザ9
0aを有しており、半導体レ−ザ90aから出射された
レ−ザ光109はビ−ムスプリッタ90cを経て、波長
選択フィルタ−90c(波長λ1の光をを透過し、波長
λ2の光を反射する)を反射し、光ヘッド1の可動光学
系のミラ−1dで偏向され対物レンズ1dにより調整デ
ィスク10に照射される。一方、光ヘッド1の固定光学
系内の半導体レ−ザ1aから出射したレ−ザ光100は
ビ−ムスプリッタ1cを経て、調整光学系90の波長選
択フィルタ−90cを透過し、さらに可動光学系のミラ
−1dで偏向され後対物レンズ1eにより調整用ディス
ク10に照射される。図7に本実施例で用いられる調整
用ディスク10の構成を示した。図7において、図2と
同一機能部品には同じ番号を付し、特に必要のない限り
その説明は省略する。調整用ディスク10は図2に示し
た調整ディスク3の半透明膜3bの代わりに、波長選択
性を有する波長分離膜10bを有している。本実施例の
波長分離膜10bは、光ヘッド1のレ−ザ光(波長λ
1)は反射し、それとは異なる調整用光学系90のレ−
ザ光(波長λ2)は透過する波長選択性を有している。
対物レンズ1dに入射した光ヘッド1のレ−ザ光100
と、調整用光学系90のレ−ザ光109は、対物レンズ
1dのレンズ作用により収束光101(波長λ1)と1
10(波長λ2)とされ調整用ディスク10に向かって
照射される。そして光束101と光束110はディスク
基板3aを透過し波長分離膜10bに入射し、この波長
分離膜10bの波長選択性により反射光102(波長λ
1)と透過光111(波長λ2)に分離される。そして
波長分離膜10bの反射光102は対物レンズ1e,ミ
ラ−1d、波長選択フィルタ−90cを経て、光ヘッド
1の固定光学系に導かれた後、光検出器1fに入射す
る。この光検出器1fより得られたフォ−カス制御信号
を用いて、調整用ディスク10の波長分離膜10bに光
ヘッド1のレ−ザ光を合焦させる。一方、波長分離膜1
0bを透過した光束111は保護コ−ト3cを透過し磁
気ヘッド2の端面51に照射される。磁気ヘッド2の端
面51からの反射光112は再び、保護コ−ト3c、波
長分離膜10b,ディスク基板3aを透過し、対物レン
ズ1e,ミラ−1dを経て、調整用光学系90の波長選
択フィルタ−90cで反射し、調整用光学系90内の光
検出器90fに入射する。
【0024】以上の構成は、光ヘッド1のフォ−カスサ
−ボ(レ−ザ光を調整用ディスク10の波長分離膜10
bに常に合焦させる)により、調整用ディスクに常に接
触した磁気ヘッド2の端面51にレ−ザ光を一定の状態
(レ−ザ光の収束状態を一定に保つている)で照射する
ことが可能な構成となっている。これにより磁気ヘッド
2に端面51に照射されたレ−ザ光の反射率変化を正確
に検出することが可能となり、磁気ヘッド2の磁気コア
2bの位置を検出できる。なお本実施例において、調整
用光学系90の光検出器90fに入射した光を用いて、
光ヘッドの光軸101aと磁気ヘッド2の中心軸50を
一致させる、いわゆる磁気ヘッドの位置調整方法は、第
1の実施例における光ヘッド1の光検出器1fに入射し
た光を用い方法と同じように行なえばよい。
【0025】以上の構成において、前述したように、光
ヘッド1のフォ−カスサ−ボは調整ディスク10の波長
分離膜10bに光束が合焦するように行なわれている。
よって磁気ヘッド2の端面に照射される光束は若干デフ
ォ−カスする。このデフォ−カスが生じないようにする
構成を図8に示す。図8において、図7と同一機能部品
には同じ番号を付し、特に必要のない限りその説明は省
略する。この構成においては、光ヘッド1のレ−ザ光1
01が波長分離膜10bに合焦する場合、調整用光学系
90のレ−ザ光110は磁気ヘッド2の端面51に合焦
するようにする。本実施例においては、図に示すよう
に、調整用光学系90から出射し対物レンズ1dに入射
するレ−ザ光109を、光ヘッド1から出射し対物レン
ズ1dに入射するレ−ザ光100に対して若干発散状態
としてある。これによりフォ−カスサ−ボにより、光ヘ
ッド1の光束が波長分離膜10bに合焦している場合に
も、調整用光学系のレ−ザ光を磁気ヘッド2の端面51
にデフォ−カスすることなく合焦させることができる。
【0026】次に、本発明の光磁気ディスク装置におけ
る磁気ヘッドの位置調整方法の第3の実施例について説
明する。図9は本実施例による光磁気ディスク装置にお
ける磁気ヘッドの位置調整方法の説明図である。図9に
おいて、図1と同一機能部品には同じ番号を付し、特に
必要のない限りその説明は省略する。第1、第2の実施
例は磁気ヘッド2の端面51で反射された光束を光検出
器により検出し行なう方法であった。これに対して本実
施例は、図に示すように磁気ヘッド2の端面51で反射
された光束104(第1の実施例における図2の光束1
04)をカメラ1で検出し、その出力をモニタ−72に
表示し磁気ヘッド2の端面51の磁気コア2bを直接検
出する方法である。本実施例においては、光ヘッド1の
固定光学系内に新たにビ−ムスプリッタ1cを設け、磁
気ヘッド2の端面51の反射光104をカメラ71に分
離することによって行なっている。
【0027】なお、以上説明した第1、第2、第3の実
施例における光ヘッド1、調整用光学系90の構成を示
した図において、本発明と直接関係のない光学部品等
(例えばレンズ類、光磁気信号検出用部品等)は省略し
た。また実施例の光ヘッド1は分離型光ヘッドであった
がこれに限るものでなく、構成等は本発明とは本質的に
関係ない。また磁気ヘッド2はコの字型の磁気コア2b
をスライダ−2cに埋め込んだ構成と成っているがこれ
に限るものではなく、例えば、磁気コア2bの形状を、
図10に示すような山形とした磁気ヘッド30でもよ
い。図10において、図2と同一機能部品には同じ番号
を付し、特に必要のない限りその説明は省略する。この
磁気ヘッド30の磁気コア30bの中心軸50の検出
も、磁気ヘッド30の端面50に入射した光の磁気コア
30bとスライダ−30cとの反射率の差を用いて行な
えばよい。
【0028】以上、本発明の磁気ヘッドの位置調整方法
により、光磁気ヘッドと光ヘッドを精度よく行なえる。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
ヘッドと磁気ヘッドとの位置合わせを、精度良くしかも
簡単な構成で行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の調整法の構成図であ
る。
【図2】本発明の第1の実施例に用いる調整用ディスク
および磁気ヘッドの構成図である。
【図3】対物レンズの半径方向の移動を説明した図であ
る。
【図4】磁気ヘッドの半径方向の位置調整を説明する図
である。
【図5】磁気ヘッドの接線方向の位置調整を説明する図
である。
【図6】本発明の第2の実施例の調整法の構成図であ
る。
【図7】本発明の第2の実施例に用いる調整用ディスク
の構成図である。
【図8】対物レンズに入射するレ−ザ光束を説明した図
である。
【図9】本発明の第3の実施例の調整法の構成図であ
る。
【図10】磁気ヘッドの別の構成例を示す図である。
【符号の説明】
1……光ヘッド、1f…光検出器、2……磁気ヘッド、
2b……磁気コア、3……調整用ディスク、5……キャ
リッジ、6……支持アーム、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 直樹 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所映像メディア研究所内 (72)発明者 井上 雅之 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所映像メディア研究所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半透明膜と透明基板を有する第1の調整用
    ディスクと、該第1の調整用ディスクの両側に磁気ヘッ
    ドと光ヘッドとを設け、該光ヘッドから第1の調整用デ
    ィスクに光を照射し、第1の調整用光ディスクの半透明
    膜からの反射光を用いてフォ−カス制御を行ない、半透
    明膜を透過し磁気ヘッドに照射され磁気ヘッドから反射
    された光を光ヘッド内に具備された光検出器で検知する
    と共に、光ヘッドから出射されるレ−ザ光の位置、また
    は方向を一定周期で可変する光偏向手段を光ヘッド内に
    設け、前記光検出器で検出される前記磁気ヘッドからの
    反射光のうち磁気ヘッドの中心軸に相当する光強度が、
    前記光偏向手段のレ−ザ光の位置、または方向を可変す
    る駆動出力(またはレ−ザ光の位置、または方向を検出
    する出力)のうち該レ−ザ光の位置、または方向の中立
    位置に相当する出力位置と一致するように磁気ヘッドと
    光ヘッドとの位置調整を行なうことを特徴とする光磁気
    ディスク装置における磁気ヘッドの位置調整方法。
  2. 【請求項2】波長選択性を有する波長分離膜と透明基板
    を有する第2の調整用ディスクトと、該第2の調整用デ
    ィスクの両側に磁気ヘッドと光ヘッドとを設け、さらに
    該光学ヘッドのレ−ザ光の波長λ1とは異なる波長λ2
    のレ−ザ光源を少なくとも有する調整用光学系を、該レ
    −ザ光源からレ−ザ光を前記光ヘッドの対物レンズに入
    射するように設け、第2の調整用ディスクに光ヘッドの
    レ−ザ光(波長λ1)と調整用光学系のレ−ザ光(波長
    λ2)を照射し、第2の調整用光ディスクの波長分離膜
    からの反射光(波長λ1)を用いてフォ−カス制御を行
    ない、該波長分離膜を透過し磁気ヘッドからの反射光
    (波長λ2)を前記調整用光学系内に具備された光検出
    器で検知すると共に、光ヘッドから出射されるレ−ザ光
    の位置、または方向を一定周期で可変する光偏向手段を
    光ヘッド内に設け、前記光検出器で検出される前記磁気
    ヘッドからの反射光のうち磁気ヘッドの中心軸に相当す
    る光強度が、前記光偏向手段のレ−ザ光の位置、または
    方向を可変する駆動出力(またはレ−ザ光の位置、また
    は方向を検出する出力)のうち該レ−ザ光の位置、また
    は方向の中立位置に相当する出力位置と一致するように
    磁気ヘッドと光ヘッドとの位置調整を行なうことを特徴
    とする光磁気ディスク装置における磁気ヘッドの位置調
    整方法。
  3. 【請求項3】前記光学ヘッドの対物レンズにより集光さ
    れる調整用光学系のレ−ザ光の合焦位置を、該光ヘッド
    のレ−ザ光の合焦位置に対してずらしたことを特徴とす
    る請求項2に記載の磁気ヘッドの位置調整方法。
  4. 【請求項4】前記磁気ヘッドで反射した光束を、カメラ
    を用いて検出することにより、磁気ヘッドと光ヘッドと
    の位置調整を行なうことを特徴とする請求項1から請求
    項3に記載の磁気ヘッドの位置調整方法。
  5. 【請求項5】前記光偏向手段が、光ヘッドにおけるトラ
    ッキング用のアクチュエ−タであることを特徴とする請
    求項1から請求項4に記載の磁気ヘッドの位置調整方
    法。
JP14432794A 1994-06-27 1994-06-27 磁気ヘッドの位置調整方法 Pending JPH087379A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6185162B1 (en) * 1998-08-20 2001-02-06 Fujitsu Limited Method for adjusting magnetic and optical heads in magneto-optical recording device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6185162B1 (en) * 1998-08-20 2001-02-06 Fujitsu Limited Method for adjusting magnetic and optical heads in magneto-optical recording device
US6563768B2 (en) 1998-08-20 2003-05-13 Fujitsu Limited Magneto-optical memory device

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