JPH0863787A - 相変化型光ディスク媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 ジシクロペンタニルジアクリレート又はエチ
レンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレートを
２０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート又はヘキサメチレンジオールジアクリ
レートを２０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下、少なくとも含
む組成物で、かつ２５℃における、粘度が１０ｍＰａ・
ｓｅｃ以上４０ｍＰａ・ｓｅｃ以下、表面張力が２０ｄ
ｙｎ／ｃｍ以上３５ｄｙｎ／ｃｍ以下である樹脂保護層
組成物を、化学線を照射して重合固化した相変化型光デ
ィスク媒体の製造の際、スピンコーターのディスク基板
吸着回転台に設けた裏回り防止板の外径が、設置するデ
ィスク基板の外径以上ディスク基板の外径＋２．５ｍｍ
以下で、ディスク基板とは０．０５ｍｍ以上２．０ｍｍ
以下の間隙を有するディスク基板吸着回転台を用いる。 【効果】 保存寿命、記録再生の繰返し寿命などの信頼
性の優れた相変化型光ディスク媒体と、その製法を提供
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、相変化型光ディスク媒
体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より大容量メモリーのひとつとし
て、光ディスクの開発、商品化が活発に行なわれてい
る。なかでも近年、相変化型光ディスクの開発がいちじ
るしい進歩をみせている。

【０００３】最近の相変化型光ディスクの代表的な構成
例として、透明プラスチック基板の上に、誘電体層、記
録層、誘電体層、反射層および樹脂保護層を順次積層し
たものが挙げられる。樹脂保護層としては、従来の光記
録媒体で用いられたものが用いられてきた。この様なも
のの例としては、特開平１−２６９２５８号公報に示さ
れるようなものが挙げられる。

【０００４】このような構成の相変化型光ディスクの保
存寿命、記録再生の繰返し寿命などの信頼性は、記録材
料の改良により大幅に改善されてきている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、より長寿命を
得るためには、記録材料の改良とともに他の改良も要求
される。特に、反射層はそのままでは空気中の酸素や水
分と結びついて腐食をおこしやすく、この反射層の腐食
は、ディスクの長寿命化、高信頼性化を妨げる重要な因
子である。

【０００６】また、相変化型光ディスク特有の問題点と
して記録再生の繰返し寿命が挙げられる。繰返し寿命を
悪化させている因子として繰返し記録時に、記録層が溶
解固化を繰返すことにより流動し局所的に厚さむらを生
じることが指摘されている。

【０００７】さらに、樹脂保護層の内部応力により、記
録層内部で層間剥離が発生することがある。記録層を剥
離させようとする該内部応力は、樹脂保護層自身の固有
の値であり小さいことが好ましく、また樹脂保護層の膜
厚分布に不均一があるとより局所的に応力分布を生じ、
この現象を増長させるおそれがある。

【０００８】以上の様に、樹脂保護層は空気中の酸素や
水分の遮断性が高く、変形の抑制効果を持ち、樹脂保護
層の内部応力が小さく、かつ膜厚分布がより均一あるこ
とが望まれ、また樹脂保護層組成液は塗工しやすい物性
を兼そなえたものであることが望まれていた。

【０００９】さらに、記録層上に樹脂保護層をスピンコ
ート法により塗工する際、ディスク表面の内周位置に滴
下された樹脂保護層組成物は、ディスクを高速に回転さ
せることにより展開され均一な膜が形成される。この時
周囲に飛び散った余分の液がアウターカバーに衝突し、
飛沫となって再びディスク表面および裏面に跳ね返って
くる。この飛沫がディスクの裏面すなわちディスクの光
入射面に付着すると、ディスクの記録再生に悪影響を与
えてしまう。さらには、紫外線を照射して樹脂保護層組
成物を重合固化しようとしても紫外線ランプのエネルギ
ーは記録膜にさえぎられて、光入射面に付着した樹脂保
護層組成物は重合固化しないで残るおそれがあり、製造
ライン等に転写付着して汚染の原因となるおそれがあり
好ましくない。以上の様に、樹脂保護層をスピンコート
法により塗工する際、ディスクの裏面すなわちディスク
の光入射面に付着させない方法が望まれていた。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、上記樹
脂保護層の問題点を改良することにより、相変化型光デ
ィスクの保存寿命、記録再生の繰返し寿命などの信頼性
の優れた相変化型光ディスクを提供することにある。

【００１１】すなわち、本発明は、透明基板の上に、少
なくとも一層の記録層を有する薄膜層を形成し、該薄膜
層の上に樹脂保護層を形成してなる相変化型光ディスク
媒体において、前記樹脂保護層が、式（Ｉ）に示す化合
物を２０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下、式（ＩＩ）に示す
化合物を２０ｗｔ％以上８０ｗｔ％以下を少なくとも含
む組成物であって、かつ該組成物の２５℃における粘度
が１０ｍＰａ・ｓｅｃ以上４０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であ
り、かつ該組成物の２５℃における表面張力が２０ｄｙ
ｎ／ｃｍ以上３５ｄｙｎ／ｃｍ以下である樹脂保護層組
成物を、化学線を照射して重合固化したものであること
を特徴とする相変化型光ディスク媒体であり、さらに、
本発明は、２５℃における粘度が１０ｍＰａ・ｓｅｃ以
上４０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であり、かつ２５℃における
表面張力が２０ｄｙｎ／ｃｍ以上３５ｄｙｎ／ｃｍ以下
である樹脂保護層組成物を、少なくとも一層の記録層を
有する薄膜層の上にスピンコート法で塗布した後、重合
固化して樹脂保護層を形成する際、重合固化して樹脂保
護層を形成する際、スピンコーターのディスク基板吸着
回転台が裏回り防止板を有し、該裏回り防止板の外径
が、設置するディスク基板の外径以上ディスク基板の外
径＋２．５ｍｍ以下であり、該裏回り防止板とディスク
基板とは０．０５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下の間隙を有す
るディスク基板吸着回転台を用いてスピンコートするこ
とを特徴とする相変化型光ディスク媒体の製造方法であ
る。

【００１２】

【化２】

【００１３】本発明の樹脂保護層組成物においては、成
分として上記式（Ｉ）に示す化合物を２０ｗｔ％以上８
０ｗｔ％以下、上記式（ＩＩ）に示す化合物を２０ｗｔ
％以上８０ｗｔ％以下を含むことが必須である。さらに
より好ましくは、上記式（Ｉ）に示す化合物を４０ｗｔ
％以上８０ｗｔ％以下を含むことが望ましく、上記式
（ＩＩ）に示す化合物を２０ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下
を含むことが望ましい。

【００１４】上記式（Ｉ）に示す化合物の重合物は適度
に剛直であり、本発明の樹脂組成物の第一の必須成分で
ある。ここで、上記式（Ｉ）に示す化合物の含有量が２
０ｗｔ％未満であると、紫外線を照射して重合固化した
膜が脆弱なものとなり、その結果機械的な保護性が劣る
ことになる。また、上記式（Ｉ）に示す化合物の含有量
が８０ｗｔ％を越えると、組成物の粘度が高くなる。高
粘度液を、スピンコート法により樹脂保護層を形成する
際、ディスク表面に異物の付着など局所的欠点があった
場合、正常な部分との膜厚差が大きくなり好ましくな
い。この様なディスクを長期間保存したり、高温高湿下
にさらされると、樹脂保護層に生じる収縮応力分布は不
均一となり、記録膜に応力集中がかかり記録膜の層間で
の浮きを生じやすくなる。この結果、繰返し記録時に記
録膜にバーストを生じ信頼性を損うことになる。

【００１５】上記式（ＩＩ）に示す化合物は上記式
（Ｉ）に示す化合物の粘度低下剤として、また上記式
（Ｉ）に示す化合物の持つ剛直性を低下させることが無
い点で、本発明の第二の必須成分である。上記式（Ｉ
Ｉ）に示す化合物の含有量が２０ｗｔ％未満であると、
粘度が十分に低下せず前述の理由により繰返し記録時に
記録膜にバーストを生じ信頼性を損うことになる。上記
式（ＩＩ）に示す化合物の含有量が８０ｗｔ％を越える
と、紫外線を照射して重合固化した膜が脆弱なものとな
り、その結果機械的な保護性が劣ることになる。

【００１６】ここで樹脂保護層組成物の、上記式（Ｉ）
に示す化合物としては、特にジシクロペンタニルジアク
リレートまたはエチレンオキサイド変性ビスフェノール
Ａジアクリレートが好ましい。上記式（ＩＩ）に示す化
合物としては、特にネオペンチルグリコールジアクリレ
ートまたはヘキサメチレングリコールジアクリレートが
好ましい。

【００１７】以上が本発明の樹脂保護層組成物の必須成
分であるが、本発明ではさらに追加の成分を添加しても
よい。追加の成分の化合物としては、少なくとも１つの
エチレン性不飽和結合を有する付加重合可能な化合物が
挙げられる。

【００１８】この様な化合物としては、アクリロイルオ
キシ基またはメタアクリロイルオキシ基を有する化合物
が好ましい。たとえば、好ましくは、分子内にアクリロ
イルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基を１個有
するアクリル酸エステル化合物またはメタアクリル酸エ
ステル化合物として、メチルアクリレートまたはメチル
メタアクリレート（以下、アクリレートまたはメタアク
リレートをまとめて、「（メタ）アクリレート」と称す
る）、エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボロ
ニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフリフリル
（メタ）アクリレート等が挙げられる。分子内に（メ
タ）アクリロイルオキシ基を２個以上有する（メタ）ア
クリル酸エステル化合物として、１，４−ブタンジオー
ル（メタ）アクリレート、１，６−ブタンジオール（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ートなどが挙げられる。

【００１９】さらに、表面張力を調整する目的でレベリ
ング剤や界面活性剤を添加することができる。この様な
ものとしては、シリコーン化合物、脂肪酸エステル系レ
ベリング剤、フッ素含有レベリング剤等が挙げられる。
これらのうち、フッ素含有レベリング剤等が表面張力の
低減能力が高く好ましく用いられる。具体的には、上記
パーフルオロアルキルスルホアミドポリオキシエチレン
メトキシレート、パーフルオロアルキルスルホアミドポ
リオキシプロピレンメトキシレート、パーフルオロアル
キルスルホアミドポリオキシエチレンエタノール、パー
フルオロアルキルスルホアミドポリオキシプロピレンエ
タノール、パーフルオロアルキルスルホン酸ポリオキシ
エチレンメトキシレート、パーフルオロアルキルスルホ
ン酸ポリオキシプロピレンメトキシレート、パーフルオ
ロアルキルスルホン酸ポリオキシエチレンエタノール、
パーフルオロアルキルスルホン酸ポリオキシプロピレン
エタノール、パーフルオロアルキルカルボン酸ポリオキ
シエチレンメトキシレート、パーフルオロアルキルカル
ボン酸ポリオキシプロピレンメトキシレート、パーフル
オロアルキルカルボン酸ポリオキシエチレンエタノー
ル、パーフルオロアルキルカルボン酸ポリオキシプロピ
レンエタノール、パーフルオロアルキルアルコールポリ
オキシエチレンメトキシレート、パーフルオロアルキル
アルコールポリオキシプロピレンメトキシレート、パー
フルオロアルキルアルコールポリオキシエチレンエタノ
ール、パーフルオロアルキルアルコールポリオキシプロ
ピレンエタノール、パーフルオロアルキルアミンポリオ
キシエチレンメトキシレート、パーフルオロアルキルア
ミンポリオキシプロピレンメトキシレート、パーフルオ
ロアルキルアミンポリオキシエチレンエタノール、パー
フルオロアルキルアミンポリオキシプロピレンエタノー
ル等が挙げられる。

【００２０】また樹脂保護層組成物中には１種または２
種以上の光重合開始剤を加えることができる。光重合開
始剤としては公知のものが使用でき、例えばアセトフェ
ノン、ベンゾフェノンなどのケトン系、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルな
どのベンゾイン系、テトラメチルモノスルフィドなどの
スルフィド系、チオキサンなどのチオキサン系、ベンゾ
インパーオキサイドジ−ｔ−ブチルオキサイドなどのオ
キサイド系等があげられる。光重合開始剤の添加量は重
合性モノマー１００重量部に対して０．０１〜１０重量
部が適当である。

【００２１】本発明において、樹脂保護層組成物を用い
て、スピンコート条件を検討したところ、目的とする均
一かつ良好な塗工を行うには、樹脂保護層組成物の液粘
度と表面張力は、２５℃において液粘度が１０ｍＰａ・
ｓｅｃ以上４０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であり、表面張力が
２０ｄｙｎ／ｃｍ以上３５ｄｙｎ／ｃｍ以下であるよう
に調整することが必要であることがわかった。

【００２２】液状の樹脂保護層組成物を塗工しようとす
る際にディスク表面に付着しているゴミ等の異物がある
と、異物を核としてクレーター状にハジキを発生し樹脂
保護層に凹凸が生じる。このとき液粘度が１０ｍＰａ・
ｓｅｃ未満、表面張力が３５ｄｙｎ／ｃｍを越えると、
凹凸部の膜厚差が大きくなり、樹脂保護層の膜厚差によ
る応力集中が発生し記録膜のバーストに繋がる恐れがあ
り好ましくない。

【００２３】液状の樹脂保護層組成物を塗工しようとす
る際、まずディスクをゆっくり回転させながらディスク
内周位置に塗工しようとする際、まずディスクをゆっく
り回転させながらディスク内周位置に液状の樹脂保護層
組成物をドーナツ状に滴下し、その後ディスクを高速回
転させて液を展開する方法が一般的である。この時、液
粘度が４０ｍＰａ・ｓｅｃを越えると、ノズルから回転
しているディスク上に液状の樹脂保護層組成物を吐出す
る際、吐出された液状の樹脂保護層組成物が均一にディ
スクに付着してドーナツ状を呈することが困難となる。
ノズルから吐出された液がディスクに付着せず、ノズル
の先端部分に溜まり結果的にディスク上で吐出先端部分
が大きく膨らむ（おたまじゃくし状を呈する）という現
象が生じやすくなる。この現象は以下の様に考えられ
る。ノズルから吐出された液の先端部分は、ノズル先端
で球を形成しディスク表面を転がる現象を生じてディス
ク表面に付着しない。ノズル先端で形成した液球がある
程度大きくなると重力効果により液球が変形しディスク
表面を濡らすようになり、吐出位置から少し遅れた位置
からをディスク表面に付着するようになる。このため液
が付着した先端部分が他の部分より大きく膨らむことに
なる。この現象が生じると、極端な場合は液滴下の始端
部と終端部が閉じずドーナツを形成しなくなる。ドーナ
ツ状に閉じていない状態から、ディスクを高速回転させ
ても液はディスク全面に均一に展開されず、塗布欠点を
生じ好ましくない。

【００２４】また、液状の樹脂保護層組成物の表面張力
が２０ｄｙｎ／ｃｍ未満であると、塗布した後、紫外線
を照射し重合硬化させるまでの間にハジキを生じ、塗工
欠点となり好ましくない。更に好ましくは、液粘度は１
５ｍＰａ・ｓｅｃ以上３５ｍＰａ・ｓｅｃ以下であり、
表面張力は２２ｄｙｎ／ｃｍ以上３０ｄｙｎ／ｃｍ以下
であることが望ましい。

【００２５】次に、本発明のもう一つの要件であるディ
スク表面上に液状の樹脂保護層組成物をスピンコート法
により塗工する際、ディスク裏面を汚染しない塗工方法
について述べる。

【００２６】ディスク表面の内周位置に滴下された液状
の樹脂保護層組成物は、ディスクを高速に回転させるこ
とにより展開され均一な膜を形成される。この時周囲に
飛び散った余分の液が周囲のカバーに衝突し飛沫となっ
て跳ね返り、再びディスク表面および裏面に付着する。
この現象が生じると、前述したように種々の障害が発生
する。

【００２７】本発明方法で使用するスピンコーターのデ
ィスク基板吸着回転台の構造の一例を図１に示す。

【００２８】スピンコーターのディスク基板吸着回転台
が裏回り防止板を有し、裏回り防止板は円板状であり、
その裏回り防止板の外径が、ディスク基板の外径以上デ
ィスク基板の外径＋２．５ｍｍ以下であり、該裏回り防
止板とディスク基板とは０．０５ｍｍ以上２ｍｍ以下の
間隙を維持できる構造を有する。裏回り防止のため円板
を設置したことにより、ディスク裏面に飛散した樹脂保
護層組成物が付着することを防止できる。

【００２９】裏回り防止板の外径が、設置するディスク
基板の外径＋２．５ｍｍより大きいと、ディスクが回転
し、ディスク表面の内周位置に滴下された液状の樹脂保
護層組成物が、展開流延される過程においてディスク外
周端よりあふれた液が端面をつたわり、裏回り防止板に
垂れ、裏回り防止板外周に付着するおそれがあり好まし
くない。この現象を生じると、次のディスクの塗工の際
裏回り防止板外周に付着した液により該ディスクが汚染
されてしまうという問題を生じる。

【００３０】一方、裏回り防止板の外径が、設置するデ
ィスク基板の外径より小さいと、裏回り防止板よりはみ
出したディスク裏面外周部分に、アウターカバーより跳
ね返ってきた液が付着し、該ディスクを汚染してしまう
おそれがあり好ましくない。より好ましくは、裏回り防
止板の外径は、設置するディスク基板の外径＋１．５ｍ
ｍ以下であることが好ましい。

【００３１】また、裏回り防止板とディスク基板との間
隙が０．０５ｍｍ未満であると、ディスクが高速回転す
る際、回転により生じた気流により面振れを生じ、ディ
スク裏面と裏回り防止板とが接触し、ディスク裏面にキ
ズを生じるおそれがある。裏回り防止板とディスク基板
との間隙が２．０ｍｍを越えるとと、アウターカバーよ
り跳ね返ってきた液が、この隙間に入りこみ該ディスク
を汚染してしまうおそれが有る。裏回り防止板とディス
ク基板との間隙は、さらに好ましくは、０．１ｍｍ以上
１．０ｍｍ未満であることが好ましい。

【００３２】本発明の相変化型光ディスクの構成として
は、特に限定されないが例えば図２に示すような基板１
１上に誘電体層１２ａ、記録層１３、誘電体層１２ｂ、
および反射冷却層１４を設け、さらにその上に樹脂保護
層１５および接着層１６を積層したものを、接着層１６
が内側になるように対向させて貼り合わせた記録消去可
能な光記録媒体を例としてあげることができる。

【００３３】本発明に使用される基板としては、基板側
から記録再生を行なうためにはレーザ光が透過する材料
を用いることが好ましく、例えばポリメチルメタアクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂などの有機高分子樹脂やガラスなどが
挙げられる。

【００３４】誘電体層は、基板や記録層が記録により熱
によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりする
のを防止したり、記録層の耐湿熱性や耐酸化性を持たせ
る役割を果たす。この様な誘電体層としてはＺｎＳ、Ｓ
ｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、ＭｇＦ
２などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とくに
ＺｎＳとＳｉＯ２およびＺｎＳとＭｇＦ２の混合膜は耐
湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層の
劣化を抑制するので好ましい。

【００３５】記録層としては、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄
膜、Ｍ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、ＭはＰｄ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ｔｌ、Ｃｏなどの金属元素、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄
膜等があげられる。特にＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜、Ｐｄ
−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系薄膜が記録消去再生を繰り返して
も劣化が起こり難く、さらに熱安定性が優れているので
好ましい。

【００３６】反射冷却層としては金属または金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物、などと金属の混合物、例
えばＺｒ、Ｈｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕなどの
金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化物、Ｓｉ酸化
物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合したものを使用
できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの合金などは膜
の形成が容易であり好ましい。

【００３７】誘電体層、記録層、反射冷却層の厚さは誘
電体層１２ａが５０〜３００ｎｍ、誘電体層１２ｂが１
０〜３００ｎｍであり、記録層が１０〜１００ｎｍであ
り、かつ反射冷却層が２０〜１５０ｎｍであることが記
録消去再生特性上から好ましい。

【００３８】誘電体層、記録層、反射冷却層を基板上に
形成する方法としては、公知の真空中での薄膜形成方
法、例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法などが挙げられる。特に組成、膜厚のコン
トロールが容易なことからスパッタリング法が好まし
い。

【００３９】樹脂保護層組成物の硬化は、基板上に形成
した記録層上に該組成物を塗布した後、化学線、すなわ
ち紫外線、電子線、あるいはガンマ線などの活性エネル
ギー線を照射して行う。重合雰囲気としては、空気中で
もよいし必要に応じて不活性ガス中で行って良い。

【００４０】塗布方法は公知の方法、例えばスピンコー
ト法、ロールコート法、スプレーコート法などを用いる
ことができるが、これらの方法に限定されるものではな
い。この内、スピンコート法を用いることが、塗工性、
塗膜の表面性、膜厚分布等の点から有利である。樹脂保
護層の膜厚は０．５〜３０μｍの範囲が好ましい。

【００４１】ホットメルト接着剤としてはベースポリマ
ー、軟化剤および粘着付与剤を主成分とするものを用い
ることができる。ベースポリマーとしては例えば下式に
示すブロック状熱可塑性エラストマーが挙げられる。

【００４２】Ａ−Ｂ Ａ−Ｂ−Ａ Ｂ−Ａ−Ｂ （式中、Ａは分子量２０００〜２５０００のポリスチレ
ンブロックおよびＢは分子量１０００〜２５０００のポ
リブタジエンブロック、ポリイソプレンブロック、また
はエチレン・ブチレン共重合体ブロックを示す。） これらは１種あるいは２種以上混合して用いて良い。ま
たこれらにポリイソプレン、スチレンゴム、ブタジエン
ゴム、ブチルゴムなどの合成ゴムや、ポリオレフィン、
エチレン−ビニルアセテート共重合体などのポリオレフ
ィン系共重合体を適宜混合して用いて良い。

【００４３】軟化剤としてはプロセスオイル、パラフィ
ンオイル、ポリブテン、ポリイソブチレンなどを用いる
ことができる。

【００４４】さらに粘着付与剤として、ロジン樹脂、水
添石油樹脂、水添テルペン樹脂、フェノール樹脂、クマ
ロン樹脂などを用いることができる。水添タイプの粘着
付与剤は上記ブロック状熱可塑性エラストマーと相溶性
が良く、また熱安定性が良く、吸水性が低いので良好な
耐蝕性を示す。

【００４５】ホットメルト接着剤の塗布方法としてはロ
ールコータを用いることができる。貼り合わせ方法とし
ては平板プレスやロールプレスを用いることができる。

【００４６】

【実施例】以下、実施例により本発明の効果を具体的に
説明する。なお、実施例中、耐湿熱腐食試験、ビットエ
ラーレイト、記録繰返し寿命試験、記録膜のバースト、
塗工欠点の発生率、裏回り付着数およびディスクのキ
ズ、粘度、表面張力は、次の測定方法により測定したも
のである。

【００４７】測定方法 湿熱腐食試験は８０℃・８０％ＲＨの雰囲気中に張り合
わせた光記録媒体を１５００時間放置し、前後のビット
エラーレイト上昇率で比較した。ビットエラーレイト
は、２−７変調記録方式で１．５Ｔ（３．７ＭＨｚ）の
単一信号を記録し、その後２−７ランダムパタ−ンを１
回オ−バライトしてビットエラ−レイトを求めた。

【００４８】記録繰返し寿命試験は、２−７変調記録方
式で１．５Ｔ（３．７ＭＨｚ）の単一信号を繰り返しオ
ーバライトし、その後２−７ランダムパターンを１回オ
ーバライトしてビットエラーレイトを求め、ビットエラ
ーレイトが１×１０^-4となる繰返し回数を寿命とした。

【００４９】記録膜のバーストは、あらかじめ顕微鏡観
察により樹脂保護層に異物を含む箇所を探しておき、そ
の部分を中心に１００トラックについて、２−７変調記
録方式で１．５Ｔ（３．７ＭＨｚ）の単一信号を記録
し、再生信号をオシロスコープで観察し信号の異常があ
る箇所の数を測定した。

【００５０】塗工欠点の発生率、裏回り付着数およびデ
ィスクのキズについては、５枚のディスクについて全面
を目視により観察し、欠陥数の平均で表示した。

【００５１】樹脂保護層組成物の粘度は、Ｅ型粘度計
（ＤＶＭ−Ｅ型、トキメック製）を用い、使用コーンロ
ータは、コーン角度が１°３４″、コーン半径が２４ｍ
ｍのものを用い、２５℃で測定した。

【００５２】樹脂保護層組成物の表面張力は、ジュヌー
イ式表面張力計タイプ５２８（日本油試験工業製）を用
い、２５℃で測定した。

【００５３】実施例１ 厚さ１．２ｍｍ、直径１３０ｍｍ、１．６μｍピッチの
スパイラル状のグルーブ付きポリカーボネート基板を、
３０ｒｐｍで回転させながらアルゴン圧力０．５Ｐａの
雰囲気下でスパッタリング法により下記の記録層を形
成、積層した。基板上に２００ｎｍのＺｎＳ・ＳｉＯ２
（モル比８０：２０）の誘電体層を形成し、次に２０ｎ
ｍのＰｄ３Ｓｂ１７Ｔｅ５０Ｇｅ３０の記録層を形成
し、さらに２０ｎｍの上記ＺｎＳ・ＳｉＯ２（モル比８
０：２０）の誘電体層を形成し、その上に反射冷却層と
してＡｌ合金層を１００ｎｍ形成した。

【００５４】次に、ジシクロペンタニルジアクリレート
（Ｒ６８４、日本化薬製）を６２ｗｔ％、ネオペンチル
ジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を３３ｗｔ
％、“イルガキュア”１８４（日本チバガイギー社製）
を５ｗｔ％、“フロラード”ＦＣ１７１（住友スリーエ
ム社製）を０．０１ｗｔ％添加し２５℃で５時間撹拌し
樹脂保護層組成物を得た。この樹脂保護層組成物の粘度
は２５℃で３１ｍＰａ・ｓｅｃ、表面張力は２８ｄｙｎ
／ｃｍであった。この樹脂保護層組成物をスピンコート
法により塗布し、紫外線を照射して１０μｍの樹脂保護
層を積層した。さらにロールコート法によりホットメル
ト接着剤を平均で３０μｍの厚さに塗布した。かかるデ
ィスクを２枚用意し接着層面を対向させて、３０秒間押
圧した後取りだし張り合わせ相変化型光ディスクを得
た。

【００５５】得られた相変化型光デイスクの湿熱試験に
よるビットエラーレートの上昇率、繰り返し寿命、バー
スト数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００５６】実施例２ 樹脂保護層組成物の組成をエチレンオキサイド変性ビス
フェノールＡジアクリレート（Ｒ−５５１、日本化薬
製）を４５ｗｔ％、ヘキサメチレンジオールジアクリレ
ート（ＨＤＤＡ、共栄油脂化学製）を４５ｗｔ％、テト
ラヒドロフルオロアクリレート（ＴＨＦＡ、大阪有機化
学製）を１０ｗｔ％、“イルガキュア”１８４（日本チ
バガイギー社製）を５ｗｔ％、“フロラード”ＦＣ１７
１（住友スリーエム社製）を０．０１ｗｔ％に変更した
以外は実施例１と同様にして比較例１の張り合わせ相変
化型光ディスクを得た。このとき、樹脂保護層組成物の
粘度は２４ｍＰａ・ｓｅｃ、表面張力は２８ｄｙｎ／ｃ
ｍであった。

【００５７】得られた相変化型光デイスクの湿熱試験に
よるビットエラーレートの上昇率、繰り返し寿命、バー
スト数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００５８】比較例１ 樹脂保護層組成物の組成をウレタンアクリレート（ＵＮ
ー６０６０Ｐ、根上工業製）を３０ｗｔ％、ネオペンチ
ルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を１５ｗ
ｔ％、ベンジルアクリレート（Ｖ−１６０、大阪有機化
学製）を５５ｗｔ％、“イルガキュア”１８４（日本チ
バガイギー社製）を５ｗｔ％、“フロラード”ＦＣ１７
１（住友スリーエム社製）を０．０１ｗｔ％に変更した
以外は実施例１と同様にして比較例１の張り合わせ相変
化型光ディスクを得た。このとき、樹脂保護層組成物の
粘度は８５ｍＰａ・ｓｅｃ、表面張力は２９ｄｙｎ／ｃ
ｍであった。

【００５９】得られた相変化型光デイスクの湿熱試験に
よるビットエラーレートの上昇率、繰り返し寿命を測定
した。結果を表１に示す。

【００６０】比較例２ 樹脂保護層組成物の組成をカプロラクトン変性ヒドロキ
シピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート
（ＨＸ−６２０、日本化薬製）を７０ｗｔ％、ネオペン
チルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を３０
ｗｔ％、イルガキュア１８４（日本チバガイギー社製）
を５ｗｔ％、フロラードＦＣ１７１（住友スリーエム）
を０．０１ｗｔ％に変更した以外は実施例１と同様にし
て比較例２の張り合わせ相変化型光ディスクを得た。こ
のとき、樹脂保護層組成物の粘度は６５ｍＰａ・ｓｅ
ｃ、表面張力は３０ｄｙｎ／ｃｍであった。

【００６１】得られた相変化型光デイスクの湿熱試験に
よるビットエラーレートの上昇率、繰り返し寿命を測定
した。結果を表１に示す。

【００６２】表１の結果により、本発明の樹脂保護層組
成物は湿熱試験によるビットエラーレートの上昇率が小
さく、繰り返し寿命が優れていることがわかる。

【００６３】実施例３ 樹脂保護層組成物の組成をジシクロペンタニルジアクリ
レート（Ｒ６８４、日本化薬製）を４５ｗｔ％、ネオペ
ンチルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を２
５ｗｔ％、テトラヒドロフルアクリレート（ＴＨＦＡ、
大阪有機化学製）を３０ｗｔ％、“イルガキュア”１８
４（日本チバガイギー社製）を５ｗｔ％、“フロラー
ド”ＦＣ１７１（住友スリーエム社製）を０．０１ｗｔ
％に変更した以外は実施例１と同様にして実施例２の張
り合わせ相変化型光ディスクを得た。このとき、樹脂保
護層組成物の粘度は１５ｍＰａ・ｓｅｃ、表面張力は２
２ｄｙｎ／ｃｍであった。

【００６４】得られた相変化型光デイスクの湿熱試験に
よるビットエラーレートの上昇率、繰り返し寿命、バー
スト数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００６５】実施例４ 樹脂保護層組成物の組成をジシクロペンタニルジアクリ
レート（Ｒ６８４、日本化薬製）を７２ｗｔ％、ネオペ
ンチルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を２
３ｗｔ％、“イルガキュア”１８４（日本チバガイギー
社製）を５ｗｔ％、“フロラード”ＦＣ１７１（住友ス
リーエム社製）を０．０１ｗｔ％に変更した以外は実施
例１と同様にして実施例３の張り合わせ相変化型光ディ
スクを得た。このとき、樹脂保護層組成物の粘度は２９
ｍＰａ・ｓｅｃ、表面張力は２９ｄｙｎ／ｃｍであっ
た。

【００６６】得られた相変化型光デイスクの湿熱試験に
よるビットエラーレートの上昇率、繰り返し寿命、バー
スト数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００６７】比較例３ 樹脂保護層組成物の組成をジシクロペンタニルジアクリ
レート（Ｒ６８４、日本化薬製）を１０ｗｔ％、ネオペ
ンチルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を８
５ｗｔ％、テトラヒドロフルアクリレート（ＴＨＦＡ、
大阪有機化学製）を５ｗｔ％、“イルガキュア”１８４
（日本チバガイギー社製）を５ｗｔ％に変更した以外は
実施例１と同様にして比較例３の張り合わせ相変化型光
ディスクを得た。

【００６８】このとき、樹脂保護層組成物の粘度は６ｍ
Ｐａ・ｓｅｃ、表面張力は３８ｄｙｎ／ｃｍであった。

【００６９】得られた相変化型光デイスクのバースト
数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００７０】比較例４ 樹脂保護層組成物の組成をジシクロペンタニルジアクリ
レート（Ｒ６８４、日本化薬製）を８２ｗｔ％、ネオペ
ンチルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を１
８ｗｔ％、“イルガキュア”１８４（日本チバガイギー
社製）を５ｗｔ％、“フロラード”ＦＣ１７１（住友ス
リーエム）を０．０１ｗｔ％に変更した以外は実施例１
と同様にして比較例４の張り合わせ相変化型光ディスク
を得た。このとき、樹脂保護層組成物の粘度は４５ｍＰ
ａ・ｓｅｃ、表面張力は２２ｄｙｎ／ｃｍであった。

【００７１】得られた相変化型光デイスクのバースト
数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００７２】比較例５ 樹脂保護層組成物の組成をジシクロペンタニルジアクリ
レート（Ｒ６８４、日本化薬製）を６２ｗｔ％、ネオペ
ンチルジアクリレート（ＮＰＡ、共栄油脂化学製）を３
３ｗｔ％、“イルガキュア”１８４（日本チバガイギー
社製）を５ｗｔ％、“フロラード”ＦＣ１７１を０．８
ｗｔ％に変更した以外は実施例１と同様にして比較例５
の張り合わせ相変化型光ディスクを得た。このとき、樹
脂保護層組成物の粘度は２４ｍＰａ・ｓｅｃ、表面張力
は１８ｄｙｎ／ｃｍであった。

【００７３】得られた相変化型光デイスクのバースト
数、塗工欠点数を測定した。結果を表１に示す。

【００７４】

【表１】

【００７５】表１の結果により、本発明の樹脂保護層組
成物によると、塗工欠点が少なく、それによる記録膜の
バーストもないことが判る。

【００７６】実施例５〜８、比較例６〜９ スピンコート時の裏回り防止板を使用し、裏回り防止板
の形状と、裏回り防止板とディスクとの間隙を各々表２
に示すように変更した以外は実施例１と同様にして、実
施例５〜８、比較例６〜９の相変化型光ディスクを作成
した。

【００７７】得られたデイスクのキズ、デイスクの裏回
り付着数を測定し、裏回り防止板への塗料のタレを観察
した。結果を表２に示す。

【００７８】実施例９ スピンコート時の裏回り防止板を使用し、裏回り防止板
の形状と、裏回り防止板とディスクとの間隙を表２に示
すように変更した以外は実施例２と同様にして、実施例
９の相変化型光ディスクを作成した。

【００７９】得られたデイスクのキズ、デイスクの裏回
り付着数を測定し、裏回り防止板への塗料のタレを観察
した。結果を表２に示す。

【００８０】実施例１０ スピンコート時の裏回り防止板を使用し、裏回り防止板
の形状と、裏回り防止板とディスクとの間隙を表２に示
すように変更した以外は実施例３と同様にして、実施例
１０の相変化型光ディスクを作成した。

【００８１】得られたデイスクのキズ、デイスクの裏回
り付着数を測定し、裏回り防止板への塗料のタレを観察
した。結果を表２に示す。

【００８２】実施例１１ スピンコート時の裏回り防止板を使用し、裏回り防止板
の形状と、裏回り防止板とディスクとの間隙を表２に示
すように変更した以外は実施例４と同様にして、実施例
１１の相変化型光ディスクを作成した。

【００８３】得られたデイスクのキズ、デイスクの裏回
り付着数を測定し、裏回り防止板への塗料のタレを観察
した。結果を表２に示す。

【００８４】

【表２】

【００８５】表２の結果により、本発明の裏回り防止板
による製造方法によると、裏汚れを防止できかつ裏キズ
のないディスクを製造できることがわかる。

【００８６】

【発明の効果】本発明は、上述のごとく相変化光ディス
ク媒体の樹脂保護層組成と、樹脂保護層組成物の塗工物
性と、樹脂保護層の塗工方法を改良することにより、相
変化型光ディスク媒体の保存寿命、記録再生の繰返し寿
命などの信頼性の優れた相変化型光ディスク媒体と、そ
の相変化型光ディスク媒体を製造する方法を実現するも
のである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法で使用するスピンコーターのデイス
ク基板吸着回転台の構造の一例。

【図２】本発明の層変化型光デイスクの構成の一例。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板の上に、少なくとも一層の記録
   層を有する薄膜層を形成し、該薄膜層の上に樹脂保護層
   を形成してなる相変化型光ディスク媒体において、前記
   樹脂保護層が、式（Ｉ）に示す化合物を２０ｗｔ％以上
   ８０ｗｔ％以下、式（ＩＩ）に示す化合物を２０ｗｔ％
   以上８０ｗｔ％以下を少なくとも含む組成物であって、
   かつ該組成物の２５℃における粘度が１０ｍＰａ・ｓｅ
   ｃ以上４０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であり、かつ該組成物の
   ２５℃における表面張力が２０ｄｙｎ／ｃｍ以上３５ｄ
   ｙｎ／ｃｍ以下である樹脂保護層組成物を、化学線を照
   射して重合固化したものであることを特徴とする相変化
   型光ディスク媒体。 【化１】
2. 【請求項２】 樹脂保護層組成物の、式（Ｉ）に示す化
   合物が、ジシクロペンタニルジアクリレートまたはエチ
   レンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレートで
   ある請求項１記載の相変化型光ディスク媒体。
3. 【請求項３】 樹脂保護層組成物の、式（ＩＩ）に示す
   化合物がネオペンチルグリコールジアクリレートまたは
   ヘキサメチレンジオールジアクリレートである請求項１
   または請求項２に記載の相変化型光ディスク媒体。
4. 【請求項４】 ２５℃における粘度が１０ｍＰａ・ｓｅ
   ｃ以上４０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であり、かつ２５℃にお
   ける表面張力が２０ｄｙｎ／ｃｍ以上３５ｄｙｎ／ｃｍ
   以下である樹脂保護層組成物を、少なくとも一層の記録
   層を有する薄膜層の上にスピンコート法で塗布した後、
   重合固化して樹脂保護層を形成する際、スピンコーター
   のディスク基板吸着回転台が裏回り防止板を有し、該裏
   回り防止板の外径が、設置するディスク基板の外径以上
   ディスク基板の外径＋２．５ｍｍ以下であり、該裏回り
   防止板とディスク基板とは０．０５ｍｍ以上２．０ｍｍ
   以下の間隙を有するディスク基板吸着回転台を用いてス
   ピンコートすることを特徴とする相変化型光ディスク媒
   体の製造方法。