JPH085901A

JPH085901A - 焦点検出装置

Info

Publication number: JPH085901A
Application number: JP6141322A
Authority: JP
Inventors: Keiji Moriyama; 啓二守山
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-06-23
Filing date: 1994-06-23
Publication date: 1996-01-12
Anticipated expiration: 2018-11-25
Also published as: JP3470394B2; US5652424A

Abstract

(57)【要約】本発明は、視野マスクの開口形状を、第一結像面での光
電変換素子列の共役像の各点から一対の光電変換素子列
のそれぞれに向かう光束が視野マスク面を通過する際の
光束断面の最外周に相当する領域と、各再結像レンズの
外周が密着して形成される境界線のうち各再結像レンズ
の光電変換素子列側の面における境界線に対応する線分
とによって囲まれた領域に略同一な形状としたことを特
徴とし、これにより、焦点検出光学系における内面反射
や迷光の発生を抑え、安定した焦点検出精度を有する焦
点検出装置に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カメラ等に用いて好適
なＴＴＬ位相差検出方式による焦点検出装置に関し、特
に撮影画面内で異なる方向に焦点検出領域を有する焦点
検出装置に関する。

【０００２】

【従来技術】以下の説明（実施例を含む）において、以
下幾つかの図面を用いて説明することがあるが、視野マ
スク（全て始まりの数字を２で表す）、絞りマスク（全
て始まりの数字を４で表す）、および光電変換素子（全
て始まりの数字を６で表す）を示す図面は、全て撮影レ
ンズ側からみた様子を示しており、再結像レンズ（全て
始まりの数字を５で表す）を示す図面は、全て光電変換
素子側からみた様子を示すものとする。

【０００３】カメラ等に用いられるＴＴＬ位相差検出方
式による焦点検出光学系の基本構成を図19に示す。この
焦点検出装置の焦点検出光学系は、撮影レンズ1000の射
出瞳1000c と、視野マスク2000と、コンデンサーレンズ
3000と、絞りマスク4000と、再結像レンズ5000と、光電
変換素子6000とが撮影レンズ1000の光軸Ｏ上に、順次配
置されている。

【０００４】射出瞳1000c の分割された２つの領域1000
a ，1000b を透過した光束は、撮影レンズ1000により、
視野マスク2000近傍に被写体の第一次像を形成する。視
野マスク2000により光束の制限が行われ、コンデンサー
レンズ3000への被写体からの光束が制限される。コンデ
ンサーレンズ3000を透過した光束は、同様に不要な光束
を制限する絞りマスク4000の開口4000a,4000b を経て、
再結像レンズ5000の対のレンズ部5000a,5000b により光
電変換素子列6000上に第二次像として再形成される。

【０００５】つまり従来の焦点検出装置は、コンデンサ
ーレンズ3000と絞りマスク4000と再結像レンズ5000とか
らなる再結像系を利用して、撮影レンズ1000により形成
される第一次像と略相似で且つ撮影レンズ1000の焦点調
節状態に応じて相対的な位置関係が変化する二つの第二
次像を光電変換素子列6000a,6000b 上に再結像させ、撮
影レンズ1000の焦点調節状態を検出するものである。

【０００６】また、このような基本原理に基づく焦点検
出光学系を、少なくとも２つ備え、各々の焦点検出領域
が撮影画面内の１点で交差するように配置した焦点検出
装置も、たとえば特開昭62-95511号公報に示されるよう
に提案されている。この焦点検出装置は、撮影レンズ光
軸上に配置され、焦点検出領域の方向を異にする複数の
焦点検出光学系と、２対以上のレンズが一体且つ密着し
て成形された再結像レンズと、開口を有する視野マスク
とを備えている。

【０００７】そして、視野マスクの開口の形状は、２つ
の焦点検出領域が光軸上で直交する場合は各焦点検出領
域に対応した十字状に形成されるか、あるいは対角線が
撮影画面の垂直・水平方向に一致する正方形形状に形成
される。また、３つの焦点検出領域が光軸上で交差する
場合は六角形形状に形成される。上記のような形状にす
ることにより、各焦点検出光学系の対の絞り開口および
再結像レンズを通過した光束によって光電変換素子列上
に形成される各々の視野マスク開口の像は、隣接する光
電変換素子列への位置的な干渉が生じない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように従来知られている焦点検出装置において、視野
マスクの開口の形状を前述の正方形や六角形にすると、
焦点検出と無関係な光（実際に関係のある光は上記多角
形の対角線部分近傍を透過した光である）が多量に侵入
することになり、焦点検出装置内での内面反射が発生し
やすくなる。

【０００９】また、焦点検出領域が撮影画面内の撮影レ
ンズ光軸上と光軸外とに複数点存在するような構成とす
る場合には次のような問題が起こる。すなわち、ある焦
点検出光学系に係る視野マスクの開口から入射した光線
が、撮影画面内の別の位置に配置された焦点検出光学系
に侵入してしまうのである。このように、異なる焦点検
出光学系に進入してしまう光を迷光と言い、迷光が発生
すると、正確な焦点検出はできないことがある。

【００１０】このような迷光を防止するものとしては、
たとえば特開昭63-284514 号公報、特開昭63-289513 号
公報に示されるような焦点検出装置も提案されている。
提案されている焦点検出装置は、撮影画面内に焦点検出
領域が複数点在するように焦点検出光学系を配置し、焦
点検出光学系の光路中に迷光を遮蔽するための遮光マス
クを備えている。

【００１１】しかし、カメラボディ内の限られた空間に
焦点検出装置を配置するためには、焦点検出光学系の光
路をミラー等の反射部材で折り曲げる構成が必要とな
り、遮光マスクを配置できる位置が限られてしまう。そ
のため、撮影画面内に点在する複数の焦点検出領域が比
較的近い位置に隣接する場合などは、多量に侵入する焦
点検出と無関係な光により発生する迷光を遮光する効果
を十分得ることが出来なくなってしまう。これらの内面
反射や迷光は、光電変換素子列からの第二次像の情報に
ノイズとして乗ってしまうので、焦点検出精度の劣化を
招いたり、あるいは焦点検出を不能にしてしまう。

【００１２】また、カメボディ内には空間的余裕がない
ので、視野マスクを撮影レンズの像から離れた位置に配
置しなければならない。そして、視野マスクの位置と撮
影レンズの像の位置とが離れた状態で、視野マスクの開
口の形状として、各焦点検出領域に対応した形状（例え
ば、２つの焦点検出領域が光軸上で直交する場合に十字
状の視野マスク）を用いると、本来は、ある焦点検出光
学系に係るはずの焦点検出光束の一部が、交差する他の
焦点検出光学系の光電変換素子列上に到達してしまうこ
とがある。上述した迷光の発生である。

【００１３】また、少なくともどちらか一方の焦点検出
領域を必要に応じて長く設定しようとする場合にも同様
の問題がある。本発明はこのような従来の不具合に鑑み
てなされたもので、互いに方向が異なり且つ交差する２
つ以上の焦点検出領域を有する焦点検出装置において、
視野マスクの開口の形状を工夫することで内面反射や迷
光の発生を抑えることを目的とする。また、それによ
り、十分な焦点検出領域長を有し、かつ、カメラボディ
内の空間を犠牲にしない、安定した焦点検出精度を有す
る焦点検出装置を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の請求項１では、撮影画面内で互いに交差して
配置された少なくとも２つの焦点検出領域を有する焦点
検出装置において、被写体像を第一結像面に結像するた
めの撮影レンズと、第一結像面近傍に配置され各焦点検
出領域への光束を制限する開口を有する視野マスクと、
視野マスクを通過した光束を一対の絞り開口および該絞
り開口に対応する一対の再結像レンズにより、一対の光
電変換素子列上に再結像するための再結像光学系とを有
し、再結像レンズは二対以上のレンズがそれぞれ一体に
形成されており、視野マスクの開口の形状は第一結像面
での光電変換素子列の共役像の各点から一対の光電変換
素子列のそれぞれに向かう光束が視野マスク面を通過す
る際の光束断面の最外周に相当する領域と、各再結像レ
ンズの外周が密着して形成される境界線のうち各再結像
レンズの光電変換素子列側の面における境界線に対応す
る線分とによって囲まれた領域に略同一であるように焦
点検出装置を構成した。

【００１５】また、請求項２の発明では、請求項１に記
載の焦点検出装置の２つの焦点検出領域を互いに直交す
るものとした。また、請求項３の発明では、請求項１ま
たは請求項２に記載の焦点検出装置の２つの焦点検出領
域を撮影レンズ光軸上で交差するものとした。また、請
求項４の発明では、請求項１または請求項２に記載の焦
点検出装置の２つの焦点検出領域を撮影レンズ光軸外で
交差するように配置した。

【００１６】また、請求項５の発明では、請求項１また
は請求項２に記載の焦点検出装置において、２つの焦点
検出領域が交差する組合せを複数有するものとし、該各
組合せを撮影レンズ光軸上および光軸外に配置した。

【００１７】

【作用】本発明においては、視野マスクの開口形状を、
第一結像面での光電変換素子列の共役像の各点から一対
の光電変換素子列のそれぞれに向かう光束が視野マスク
面を通過する際の光束断面の最外周に相当する領域と、
各再結像レンズの外周が密着して形成される境界線のう
ち各再結像レンズの光電変換素子列側の面における境界
線に対応する線分とによって囲まれた領域に略同一な形
状とした。

【００１８】本発明によれば、焦点検出光学系における
内面反射や迷光の発生を抑え、安定した焦点検出精度を
有する焦点検出装置が得られる。

【００１９】

【実施例】本発明の実施例を説明する前に、まず前述の
迷光が発生する機構について説明する。図15〜図18は迷
光発生の機構を示した図である。これらの図には、全体
の光学系が示されていないが、光学系の配列は図19と同
じである。図15は、前述の十字状の視野マスク20を示し
た図である。視野マスク20には開口20c が設けられてい
る。開口20ｃのうち、横長の矩形部分を20a ，縦長の矩
形部分を20b と呼ぶ。これらは、それぞれ横方向の焦点
検出領域と縦方向の焦点検出領域に相当している。

【００２０】図16は、絞りマスク40の様子を示してい
る。そして絞りマスク40は、絞り開口40a,40b,40c,40d
を有する。図15に示した視野マスク開口部20c 上の点20
p,20q,20r,20s を通る光束は、絞りマスク40の絞り開口
40a,40b,40c,40d を通過して、再結像レンズ50a に到達
する。このときの再結像レンズ50a の状態を図17に示
す。図17は、４つの領域を持つ再結像レンズ50の一部を
示している。再結像レンズ50は４つのレンズ部50a,50b,
50c,50d により一体的に構成され、それぞれは境界50m,
50n により分けられている。

【００２１】視野マスク開口部20c の任意の点を通過
し、絞り開口40a の中心を通る光線が再結像レンズ50a
上に形成する軌跡は51となる。実際には絞り開口40a の
中心以外の部分（全体）を通過した光線も存在してい
る。つまり、軌跡51上の全ての点は、絞り開口40a 相当
の拡がりを持っており、絞り開口40a の全体を通過した
光線の再結像レンズ50a 上での軌跡は、絞り開口40a の
像を51の外周に沿って移動させた際の最外周52となる。
最外周52によって囲まれる領域内の光束は、全てレンズ
部50a を通過するべき光束である。

【００２２】前述の視野マスク開口部20c 上の点20p,20
q,20r,20s を通過した光束は、再結像レンズ50a 上では
夫々領域51p,51q,51r,51s となる。図17に示されたよう
に、領域51p,51r は、全ての部分がレンズ部の境界線50
m,50n の内側、つまりレンズ部50a 内に含まれるが、領
域51q,51s の一部は境界線50m を越えて隣接するレンズ
部50c に侵入している。

【００２３】その結果として、図18に示す光電変換素子
列面上への光束の到達範囲は、レンズ部50a を通過して
到達した領域61と、レンズ部境界線50m,50n を越えてレ
ンズ部50c,50d を通過して到達した領域とに分かれる。
このようになると、図17における領域51q,51s のうちレ
ンズ部境界線50m を越える一部は、図18上の領域61q,61
s の位置に到達することとなり、特に領域61s は、明ら
かに隣接する光学系の光電変換素子列60c 上に有害な迷
光として乗ってしまう。

【００２４】これは、再結像レンズの光電変換素子列側
の各レンズ部へ投影される視野マスクの開口の像の大き
さが過大となることによって生じる問題である。開口の
像の大きさが過大であるために、一方の焦点検出光学系
の光電変換素子列上に到達すべき焦点検出光束の一部
が、再結像レンズ部の境界線を越えて本来通過するべき
再結像レンズ部以外の再結像レンズ部を通過して、他方
の光電変換素子列上に到達して焦点検出精度の著しい劣
化を招き、焦点検出不能となってしまうのである。

【００２５】以下、上記の如く発生してしまう迷光を無
くし、正確な焦点検出を可能とした本発明の実施例につ
いて説明する。図１〜図５は、本発明の第一の実施例を
示した図である。図１は、第一の実施例の焦点検出装置
の光学系の全体を示した図である。この焦点検出装置の
光学系は、視野マスク２と、コンデンサーレンズ３と、
絞りマスク４と、再結像レンズ５と、光電変換素子６と
が撮影レンズ１の光軸Ｏ上に、順次配置されている。

【００２６】図２は視野マスク２を詳細に説明した図で
ある。図３は絞りマスク４を詳細に説明した図である。
図４は再結像レンズ５を詳細に説明した図である。図５
は光電変換素子列６を詳細にした図である。図５に示さ
れたように、第一の実施例の焦点検出装置は、撮影画面
の水平方向の光電変換素子6a,6b と垂直方向の光電変換
素子6c,6d とを有している。図２に示された視野マスク
２および図３に示された絞りマスク４の4a,4b,4c,4d を
通過した光束は、それぞれ、図４に示された４つのレン
ズ部5a,5b,5c,5d が一体的に形成された再結像レンズ５
を通過し、図５に示された光電変換素子６の6a,6b,6c,6
d 上にそれぞれ再結像される。

【００２７】視野マスク２の形状について図２を用いて
詳細に説明する。視野マスクの開口2gは、横方向の焦点
検出領域と縦方向の焦点検出領域にそれぞれ相当する横
長の矩形部分2eおよび縦長の矩形部分2fと、図４に示さ
れた再結像レンズ５の光電変換素子列側の各境界線5m,5
n に対応する線分2a,2b,2c,2d とによって囲まれた領域
と略同一な形状である。

【００２８】視野マスク開口部2g上の任意の点を発し、
図３に示す絞り開口4aの中心を通る光線が、４図に示す
再結像レンズ5a上に到達した際の軌跡5gを図６に示す。
ここで軌跡5gの全ては、再結像レンズ部の境界線5m,5n
に対応する5e,5f の内側に在るため、絞り開口4aを通っ
て再結像レンズ5aの光電変換素子列側のレンズ部へ到達
する全光束の範囲5hは、レンズ部の境界線5m,5n を越え
ることは無くなり、隣接するレンズ部5c,5d へ侵入する
光線は無くなる。

【００２９】図６における5e,5f を視野マスク面へ逆投
影すると、図２中の2a,2b に相当する。このように、視
野マスクの開口を、一体に成形された再結像レンズの光
電変換素子列側の各境界線に対応する線分、つまり視野
マスク面に逆投影される各レンズ境界線に対応する線分
の像によって囲まれた領域以内とすることにより、視野
マスクの開口の投影像が再結像レンズの光電変換素子列
側の境界線を越えることはなくなり、焦点検出光学系に
係る焦点検出光束の一部が互いに交差する他の光電変換
素子列上に到達することを回避することが可能となる。

【００３０】その上で、さらに視野マスクの開口を、第
一結像面での光電変換素子列の共役像の各点から前記一
対の光電変換素子列のそれぞれに向かう光束が視野マス
ク面を通過する際の光束断面の最外周に相当する領域
（光電変換素子列の視野マスク位置への逆投影像に対応
する矩形領域）と略同一な形状にすることにより、焦点
検出に無関係な光の侵入が抑えられ、焦点検出装置内で
の内面反射、あるいは異なる位置に配置された焦点検出
光学系間の迷光の発生が極小となるのに加え、装置内の
限られた位置に配置された遮光マスクと併用することに
より、内面反射あるいは迷光をより効果的に遮光するこ
とが可能となる。

【００３１】図７〜図10は、本発明の第二の実施例を示
した図である。図７は、第二の実施例の焦点検出装置の
光学系の全体を示した図である。この焦点検出装置の光
学系は、視野マスク200 と、コンデンサーレンズ300
と、絞りマスク400 と、再結像レンズ500 と、光電変換
素子600 とが撮影レンズ100 の光軸Ｏ上に、順次配置さ
れている。

【００３２】図８は視野マスク200 を詳細に説明した図
である。図９は絞りマスク400 を詳細に説明した図であ
る。図10は再結像レンズ500 を詳細に説明した図であ
る。第二の実施例の焦点検出装置は、第一の実施例と同
様の水平方向の光電変換素子および垂直方向の光電変換
素子を中心付近に有する。これらの水平方向の光電変換
素子および垂直方向の光電変換素子の光学系は、ともに
撮影レンズの光軸上に配置されている。さらに、第二の
実施例には、上記中心付近に配置された光学系の両側
で、光軸より撮影画面の水平方向に離れた位置に、光軸
に対して対称に配置された光電変換素子を有する光学系
が配置されている。

【００３３】図８に示されるように、視野マスク200
は、第一の実施例の開口形状とほぼ同等の開口部200g
と、２つの縦長の矩形上開口部201,202 とを有する。図
９に示されるように、絞りマスク400 は視野マスク200
の開口200gを通過した光束を通過させる開口部400a,400
b,400c,400d と、視野マスク200 の開口201を通過した
光束を通過させる開口部401a,401b と、視野マスク200
の開口202 を通過した光束を通過させる開口部402a,402
b とを有する。視野マスク200 の本発明に係る部分、す
なわち開口200gの形状は、前述の第一の実施例の視野マ
スク２の開口2gと同等であるので詳細な説明は省略す
る。

【００３４】また、図10に示されるように、再結像レン
ズ500 は、前述の絞りマスク400 の開口部400a,400b,40
0c,400d を透過した光束がそれぞれ入射するレンズ部50
0a,500b,500c,500d と、絞りマスク400 の開口部401a,4
01b を透過した光束がそれぞれ入射するレンズ部501a,5
01b と、絞りマスク400 の開口部402a,402b を透過した
光束がそれぞれ入射するレンズ部502a,502b とから構成
される。レンズ部500a,500b,500c,500d は一体的に形成
されており、それぞれの領域は境界500m,500nによりわ
けられている。

【００３５】図11〜図14は第三の実施例を示した図であ
る。図11は、第三の実施例の焦点検出装置の光学系の全
体を示した図である。この焦点検出装置の光学系は、視
野マスク210 と、コンデンサーレンズ310 と、絞りマス
ク410 と、再結像レンズ510 と、光電変換素子610 とが
撮影レンズ110 の光軸Ｏ上に、順次配置されている。

【００３６】図12は視野マスク210 を詳細に説明した図
である。図13は絞りマスク410 を詳細に説明した図であ
る。図14は再結像レンズ510 を詳細に説明した図であ
る。第三の実施例の焦点検出装置は、第一の実施例と同
様の水平方向の光電変換素子および垂直方向の光電変換
素子を中心付近に有する。これらの水平方向の光電変換
素子および垂直方向の光電変換素子の光学系は、ともに
撮影レンズの光軸上に配置されている。さらに、第三の
実施例には、上記中心付近に配置された光学系の両側
で、光軸に対称でかつ撮影画面の水平方向に離れた位置
に、水平方向および垂直方向に配置された光電変換素子
を有する光学系が配置されている。

【００３７】図12に示されるように、視野マスク210
は、第一の実施例の開口形状とほぼ同等の開口部210gと
211gと212gとを有する。図13に示されるように、絞りマ
スク410 は、視野マスク210 の開口210gを通過した光束
を通過させる開口部410a,410b,410c,410d と、視野マス
ク210 の開口211gを通過した光束を通過させる開口部41
1a,411b,411c,411d と、視野マスク210の開口212gを通
過した光束を通過させる開口部412a,412b,412c,412d と
を有する。視野マスク200 の本発明に係る部分、すなわ
ち開口200g,211g,212gの形状は、全て前述の第一の実施
例の視野マスク２の開口2gと同等であるので詳細な説明
は省略する。

【００３８】また、図14に示されるように、再結像レン
ズ510 は、前述の絞りマスク410 の開口部410a,410b,41
0c,410d を透過した光束がそれぞれ入射するレンズ部51
0a,510b,510c,510d と、絞りマスク410 の開口部411a,4
11b,411c,411d を透過した光束がそれぞれ入射するレン
ズ部511a,511b,511c,511d と、絞りマスク410 の開口部
412a,412b,412c,412d を透過した光束がそれぞれ入射す
るレンズ部512a,512b,512c,512d とから構成される。レ
ンズ部510a,510b,510c,510d は一体的に形成されてお
り、それぞれの領域は境界510m,510n によりわけられて
いる。また、レンズ部511a,511b,511c,511d は一体的に
形成されており、それぞれの領域は境界511m,511n によ
りわけられている。また、レンズ部512a,512b,512c,512
d は一体的に形成されており、それぞれの領域は境界51
2m,512n によりわけられている。

【００３９】なお、以上の３つの実施例では、撮影レン
ズの光軸上、光軸外に配置する各焦点検出光学系の全長
は同一で、且つ各光電変換素子列は同一基板上に構成さ
れているが、各焦点検出光学系の全長は異なっていても
良く、また、各光電変換素子列は異なる基板上に構成さ
れていても構わない。また、絞りマスクの開口形状は本
実施例で採用した形状に限られる必要はなく、円形、楕
円形等、様々な形状であっても構わない。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、視
野マスクの開口を、焦点検出領域が互いに交差する各焦
点検出光学系の光電変換素子列の逆投影像に対応する矩
形領域（第一結像面での光電変換素子列の共役像の各点
から前記一対の光電変換素子列のそれぞれに向かう光束
が視野マスク面を通過する際の光束断面の最外周に相当
する領域）の組合せと、一体に成形された再結像レンズ
の光電変換素子列側の各境界線に対応する線分によって
囲まれた領域と略同一な形状とした。これによって、互
いに方向の異なり且つ交差する２つ以上の焦点検出領域
を有する焦点検出装置において、内面反射や迷光の発生
を抑え、安定した焦点検出精度を確保することが可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例の焦点検出装置における
光学系全体を示した図である。

【図２】本発明の第一の実施例の焦点検出装置における
視野マスクを示した図である。

【図３】本発明の第一の実施例の焦点検出装置における
絞りマスクを示した図である。

【図４】本発明の第一の実施例の焦点検出装置における
再結像レンズを示した図である。

【図５】本発明の第一の実施例の焦点検出装置における
光電変換素子を示した図である。

【図６】本発明の第一の実施例の焦点検出装置におい
て、再結像レンズ上に到達する撮影光束の様子を示した
図である。

【図７】本発明の第二の実施例の焦点検出装置における
光学系全体を示した図である。

【図８】本発明の第二の実施例の焦点検出装置における
視野マスクを示した図である。

【図９】本発明の第二の実施例の焦点検出装置における
絞りマスクを示した図である。

【図10】本発明の第二の実施例の焦点検出装置における
再結像レンズを示した図である。

【図11】本発明の第三の実施例の焦点検出装置における
光学系全体を示した図である。

【図12】本発明の第三の実施例の焦点検出装置における
視野マスクを示した図である。

【図13】本発明の第三の実施例の焦点検出装置における
絞りマスクを示した図である。

【図14】本発明の第三の実施例の焦点検出装置における
再結像レンズを示した図である。

【図15】従来の焦点検出装置における迷光発生の機構を
示した図である。

【図16】従来の焦点検出装置における迷光発生の機構を
示した図である。

【図17】従来の焦点検出装置における迷光発生の機構を
示した図である。

【図18】従来の焦点検出装置における迷光発生の機構を
示した図である。

【図19】従来の焦点検出装置の光学系を示した図であ
る。

【符号の説明】

１─撮影レンズ２─視野マスク３─コンデンサレンズ４─絞りマスク５─再結像レンズ６─光電変換素子 100 ─撮影レンズ 200 ─視野マスク 300 ─コンデンサレンズ 400 ─絞りマスク 500 ─再結像レンズ 600 ─光電変換素子 110 ─撮影レンズ 210 ─視野マスク 310 ─コンデンサレンズ 410 ─絞りマスク 510 ─再結像レンズ 610 ─光電変換素子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】撮影画面内で互いに交差して配置された
少なくとも２つの焦点検出領域を有する焦点検出装置に
おいて、被写体像を第一結像面に結像するための撮影レンズと、前記第一結像面近傍に配置され、前記各焦点検出領域へ
の光束を制限する開口を有する視野マスクと、視野マスクを通過した光束を一対の絞り開口および該絞
り開口に対応する一対の再結像レンズにより、一対の光
電変換素子列上に再結像するための再結像光学系とを有
し、前記再結像レンズは、２対以上のレンズがそれぞれ一体
に形成されており、前記視野マスクの開口の形状は、前記第一結像面での前
記光電変換素子列の共役像の各点から前記一対の光電変
換素子列のそれぞれに向かう光束が視野マスク面を通過
する際の光束断面の最外周に相当する領域と、前記各再
結像レンズの外周が密着して形成される境界線のうち前
記各再結像レンズの前記光電変換素子列側の面における
境界線に対応する線分とによって囲まれた領域に略同一
であることを特徴とする焦点検出装置。
【請求項２】請求項１に記載の焦点検出装置において、交差して配置された２つの焦点検出領域は互いに直交す
ることを特徴とする焦点検出装置。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の焦点検出
装置において、少なくとも２つの焦点検出領域が撮影レンズ光軸上で交
差するように配置されていることを特徴とする焦点検出
装置。
【請求項４】請求項１または請求項２に記載の焦点検出
装置において、少なくとも２つの焦点検出領域が撮影レンズ光軸外で交
差するように配置されていることを特徴とする焦点検出
装置。
【請求項５】請求項１または請求項２に記載の焦点検出
装置において、少なくとも２つの焦点検出領域が交差する組合せを複数
有し、該各組合せが撮影レンズ光軸上および光軸外に配
置されていることを特徴とする焦点検出装置。