JPH085549Y2 - 高品質酸化用外部燃焼ユニット - Google Patents
高品質酸化用外部燃焼ユニットInfo
- Publication number
- JPH085549Y2 JPH085549Y2 JP1940890U JP1940890U JPH085549Y2 JP H085549 Y2 JPH085549 Y2 JP H085549Y2 JP 1940890 U JP1940890 U JP 1940890U JP 1940890 U JP1940890 U JP 1940890U JP H085549 Y2 JPH085549 Y2 JP H085549Y2
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- Japan
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- inert gas
- gas
- quartz
- pipe
- tube
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は半導体製造に使用する酸化・拡散装置に係
り、特に高品質酸化用外部燃焼ユニットに関する。
り、特に高品質酸化用外部燃焼ユニットに関する。
第２図は従来ユニットの一例の構成を示す簡略断面図
である。第２図中１は赤外ランプ12により加熱される石
英燃焼管で、H2ガス導入管13とO2ガス導入管14を有す
る。石英燃焼管１に摺合わせ部３で石英反応管２が連接
されている。７は赤外ランプ12による熱を冷却する水冷
ジャケット、17は石英燃焼管１の石英端板（バーナ）
で、H2ガス導入管13とO2ガス導入管14が貫通して設けら
れている。19は石英端板17と石英燃焼管１の摺合わせ
部、18は集熱リングである。
である。第２図中１は赤外ランプ12により加熱される石
英燃焼管で、H2ガス導入管13とO2ガス導入管14を有す
る。石英燃焼管１に摺合わせ部３で石英反応管２が連接
されている。７は赤外ランプ12による熱を冷却する水冷
ジャケット、17は石英燃焼管１の石英端板（バーナ）
で、H2ガス導入管13とO2ガス導入管14が貫通して設けら
れている。19は石英端板17と石英燃焼管１の摺合わせ
部、18は集熱リングである。
ウェット酸化を行う場合、外部燃焼ユニットの石英燃
焼管１内でH2ガスとO2ガスの混合ガスを燃焼する外部燃
焼が主流となってきているが、石英反応管２や外部燃焼
ユニットの石英燃焼管１及び石英端板17等の石英部品の
メンテナンスを考えると外部燃焼ユニットは分割構造に
なっている。
焼管１内でH2ガスとO2ガスの混合ガスを燃焼する外部燃
焼が主流となってきているが、石英反応管２や外部燃焼
ユニットの石英燃焼管１及び石英端板17等の石英部品の
メンテナンスを考えると外部燃焼ユニットは分割構造に
なっている。
この場合、石英燃焼管1,石英端板17及び石英反応管２
の接続手段としては汚染防止、耐熱性向上のため石英摺
合わせが用いられている。
の接続手段としては汚染防止、耐熱性向上のため石英摺
合わせが用いられている。
上記のように接続手段として用いられる摺合わせは、
シールが不完全であり、摺合わせ部3,19を流れるガスが
外側に漏れると同時に外気が内部に入り込み、反応管２
が汚染され、ガスが腐食性の場合、長期間の微少リーク
により装置の腐食にまで至るという課題がある。
シールが不完全であり、摺合わせ部3,19を流れるガスが
外側に漏れると同時に外気が内部に入り込み、反応管２
が汚染され、ガスが腐食性の場合、長期間の微少リーク
により装置の腐食にまで至るという課題がある。
本考案ユニットは上記の課題を解決するため、第１図
示のように加熱される燃焼管１と，摺合わせ部３により
連接された反応管２との外周に、不活性ガス導入管４と
不活性ガス導出兼真空引き用管５を有する不活性ガス室
６を設けてなる構成としたものである。
示のように加熱される燃焼管１と，摺合わせ部３により
連接された反応管２との外周に、不活性ガス導入管４と
不活性ガス導出兼真空引き用管５を有する不活性ガス室
６を設けてなる構成としたものである。
燃焼管１内に導入したプロセスに使用する高純度ガス
やH2ガス導入管13より導入されたH2ガスとO2ガス導入管
14より導入されたO2ガスの燃焼で発生したスチームは燃
焼管１内を流れる。
やH2ガス導入管13より導入されたH2ガスとO2ガス導入管
14より導入されたO2ガスの燃焼で発生したスチームは燃
焼管１内を流れる。
燃焼管１及び反応管２の外周に設けられた不活性ガス
室６に不活性ガス導入管４より導入された不活性ガスが
流れ、この不活性ガスによって摺合わせ部３を外気とは
完全に遮断されることになる。
室６に不活性ガス導入管４より導入された不活性ガスが
流れ、この不活性ガスによって摺合わせ部３を外気とは
完全に遮断されることになる。
以下図面によって本考案の実施例を説明する。
第１図は本考案ユニットの一実施例の構成を示す簡略
断面図で、１は赤外ランプ12により加熱される石英燃焼
管で、H2ガス導入管13とO2ガス導入管14を有する。石英
燃焼管１に摺合わせ部３で石英反応管２が連接されてい
る。７は赤外ランプ12による熱を冷却する水冷ジャケッ
ト、17は石英燃焼管１の石英端板（バーナ）で、H2ガス
導入管13とO2ガス導入管14が貫通して設けられている。
断面図で、１は赤外ランプ12により加熱される石英燃焼
管で、H2ガス導入管13とO2ガス導入管14を有する。石英
燃焼管１に摺合わせ部３で石英反応管２が連接されてい
る。７は赤外ランプ12による熱を冷却する水冷ジャケッ
ト、17は石英燃焼管１の石英端板（バーナ）で、H2ガス
導入管13とO2ガス導入管14が貫通して設けられている。
６は石英燃焼管１と石英反応管２の外周に設けられた
不活性ガス室で、この不活性ガス室６内にN2ガスを導入
する不活性ガス導入管４と不活性ガス導出兼真空引き用
管５が備えられている。
不活性ガス室で、この不活性ガス室６内にN2ガスを導入
する不活性ガス導入管４と不活性ガス導出兼真空引き用
管５が備えられている。
不活性ガス室６は石英端板17の端部フランジ20と中間
フランジ21との間にＯリング9,10を介して取付けられた
水冷ジャケット７と、中間フランジ21と室壁22の端部フ
ランジ23との間にＯリング10,11を介して取付けられた
ステンレスフレキシブル管15と、室壁22のフランジ23に
配設された水冷ジャケット16とよりなる。
フランジ21との間にＯリング9,10を介して取付けられた
水冷ジャケット７と、中間フランジ21と室壁22の端部フ
ランジ23との間にＯリング10,11を介して取付けられた
ステンレスフレキシブル管15と、室壁22のフランジ23に
配設された水冷ジャケット16とよりなる。
上記の構成において石英燃焼管１内に導入したプロセ
スに使用する高純度ガスやH2ガス導入管13より導入され
たH2ガスとO2ガス導入管14より導入されたO2ガスの燃焼
で発生したスチームは石英燃焼管１内に流れる。
スに使用する高純度ガスやH2ガス導入管13より導入され
たH2ガスとO2ガス導入管14より導入されたO2ガスの燃焼
で発生したスチームは石英燃焼管１内に流れる。
石英燃焼管１及び石英反応管２の外周に設けられ不活
性ガス室６に不活性ガス導入管４より導入され、不活性
ガス導出兼真空引き用管５より導出されるN2ガスが流
れ、このN2ガスによって摺合わせ部３を外気とは完全に
遮断されることになる。
性ガス室６に不活性ガス導入管４より導入され、不活性
ガス導出兼真空引き用管５より導出されるN2ガスが流
れ、このN2ガスによって摺合わせ部３を外気とは完全に
遮断されることになる。
その結果、石英燃焼管１と石英反応管２との摺合わせ
部３から内部の混合ガスに混入するガスは微量のN2ガス
となり、外気混入による管1,2（反応室）内の汚染及び
外気混入による反応室1,2内の酸素濃度の上昇が大幅に
低減されることになる。また不活性ガス室６は密閉構造
（耐真空構造）になっているので、反応室1,2内の真空
引き及び真空とN2ガスの置換が可能となる。
部３から内部の混合ガスに混入するガスは微量のN2ガス
となり、外気混入による管1,2（反応室）内の汚染及び
外気混入による反応室1,2内の酸素濃度の上昇が大幅に
低減されることになる。また不活性ガス室６は密閉構造
（耐真空構造）になっているので、反応室1,2内の真空
引き及び真空とN2ガスの置換が可能となる。
上述の説明より明らかなように本考案によれば、不活
性ガス室６内に流れる不活性ガスによって燃焼管１と反
応管２の摺合わせ部３を外気とは完全に遮断できるの
で、外気混入による管1,2内の汚染及び外気混入による
管1,2内の酸素濃度の上昇を大幅に低減することができ
るばかりでなく、不活性ガス室６は密閉構造になってい
るので、管1,2内の真空引き及び真空と不活性ガスの置
換が可能となる等の効果を奏する。
性ガス室６内に流れる不活性ガスによって燃焼管１と反
応管２の摺合わせ部３を外気とは完全に遮断できるの
で、外気混入による管1,2内の汚染及び外気混入による
管1,2内の酸素濃度の上昇を大幅に低減することができ
るばかりでなく、不活性ガス室６は密閉構造になってい
るので、管1,2内の真空引き及び真空と不活性ガスの置
換が可能となる等の効果を奏する。
第１図は本考案ユニットの一実施例の構成を示す簡略断
面図、第２図は従来ユニットの一例の構成を示す簡略断
面図である。 １……燃焼管、２……反応管、３……摺合わせ部、４…
…不活性ガス導入管、５……不活性ガス導出兼真空引き
用管、６……不活性ガス室、７……水冷ジャケット、９
〜11……シールリング（Ｏリング）、12……赤外ラン
プ、13……H2ガス導入管、14……O2ガス導入管、15……
（ステンレス）フレキシブル管、16……水冷ジャケッ
ト、17……石英端板（バーナ）、20……端部フランジ、
21……中間フランジ、22……室壁、23……端部フラン
ジ。
面図、第２図は従来ユニットの一例の構成を示す簡略断
面図である。 １……燃焼管、２……反応管、３……摺合わせ部、４…
…不活性ガス導入管、５……不活性ガス導出兼真空引き
用管、６……不活性ガス室、７……水冷ジャケット、９
〜11……シールリング（Ｏリング）、12……赤外ラン
プ、13……H2ガス導入管、14……O2ガス導入管、15……
（ステンレス）フレキシブル管、16……水冷ジャケッ
ト、17……石英端板（バーナ）、20……端部フランジ、
21……中間フランジ、22……室壁、23……端部フラン
ジ。
Claims (2)
- 【請求項１】加熱される燃焼管（１）と，摺合わせ部
（３）により連接された反応管（２）との外周に、不活
性ガス導入管（４）と不活性ガス導出兼真空引き用管
（５）を有する不活性ガス室（６）を設けてなる高品質
酸化用外部燃焼ユニット。 - 【請求項２】不活性ガス室（６）は水冷ジャケット（7,
8）とシールリング（9,10,11）とを有する密閉構造とし
た高品質酸化用外部燃焼ユニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1940890U JPH085549Y2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 高品質酸化用外部燃焼ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1940890U JPH085549Y2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 高品質酸化用外部燃焼ユニット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03110837U JPH03110837U (ja) | 1991-11-13 |
| JPH085549Y2 true JPH085549Y2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=31522531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1940890U Expired - Lifetime JPH085549Y2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 高品質酸化用外部燃焼ユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085549Y2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6774012B1 (en) * | 2002-11-08 | 2004-08-10 | Cypress Semiconductor Corp. | Furnace system and method for selectively oxidizing a sidewall surface of a gate conductor by oxidizing a silicon sidewall in lieu of a refractory metal sidewall |
| KR100576306B1 (ko) * | 2005-10-25 | 2006-05-03 | 윤임식 | 스케이트 보드 |
| US7766351B2 (en) * | 2006-04-28 | 2010-08-03 | Razor Usa, Llc | One piece flexible skateboard |
| KR100870995B1 (ko) * | 2007-05-30 | 2008-11-27 | 문성원 | 작은 힘으로도 비틀림이 용이한 놀이용 보드 |
| KR100859959B1 (ko) * | 2006-12-15 | 2008-09-25 | 주식회사 슬로비 | 분리형 스케이트보드 |
| JP6254007B2 (ja) * | 2014-02-18 | 2017-12-27 | 住友化学株式会社 | 基板処理装置 |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP1940890U patent/JPH085549Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03110837U (ja) | 1991-11-13 |
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