JPH0851282A - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents
Method for manufacturing multilayer printed wiring boardInfo
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- JPH0851282A JPH0851282A JP18734294A JP18734294A JPH0851282A JP H0851282 A JPH0851282 A JP H0851282A JP 18734294 A JP18734294 A JP 18734294A JP 18734294 A JP18734294 A JP 18734294A JP H0851282 A JPH0851282 A JP H0851282A
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- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は多層プリント配線板の製
造方法に係り、特に、導体パターンの配線効率と収容能
力に優れた多層プリント配線板の製造方法及び基材及び
基板材料に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board excellent in wiring efficiency and accommodation capacity of a conductor pattern, a base material and a substrate material.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の電子機器の小型化、高速化、多機
能化がめざましく、プリント配線板の機器に占める体積
が問題となってきており、機械的なバイアホール形成技
術より更に微細なスルホールが必要となり、また段階的
にスルホール接合されるような多層プリント配線板が求
められている。(例えば、特公昭58−20195号公
報参照。) この種の多層プリント配線板の製造方法には、ランドお
よび導体パターンが形成されている両面板、もしくは片
面板、もしくは多層板を用い、その両面もしくは片面に
感光性フォトソルダーレジストを塗布し、紫外線の照射
にて硬化させ、未照射部分をバイアホールとして現像工
程にて洗い落として孔にする。しかしながら、電気的に
接続するため、無電解メッキを行い、サブトラクティブ
法等にて、導体パターンの形成を行うが、樹脂上にメッ
キをする事は、たいへん難しく、工程数が増えてしまう
欠点がある。2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have been remarkably miniaturized, speeded up, and multifunctional, and the volume occupied by the printed wiring board in the device has become a problem. In addition, there is a need for a multilayer printed wiring board that can be through-hole joined in stages. (See, for example, Japanese Patent Publication No. 58-20195.) In a method for manufacturing a multilayer printed wiring board of this type, a double-sided plate having a land and a conductor pattern formed thereon, or a single-sided plate, or a multilayered plate is used. Alternatively, a photosensitive photo solder resist is applied on one side and cured by irradiation with ultraviolet rays, and the non-irradiated portion is washed as a via hole in the developing process to form a hole. However, in order to electrically connect, electroless plating is performed, and a conductive pattern is formed by a subtractive method or the like, but plating on a resin is very difficult and the number of steps is increased. is there.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】これらの問題を解決す
る為に、特開平3−229780号公報等に行われてい
るような、樹脂上に接着剤を介在させ、メッキの密着性
を向上させる方法もあるが、樹脂層の厚みの均一性およ
び近年の高密度化されている導体パターンに対応するこ
とは難しく、部品実装時に導体パターンが、剥がれてし
まう問題があり、一般にあまり使用されていない。In order to solve these problems, an adhesive is interposed on a resin to improve the adhesion of plating, as is done in JP-A-3-229780. Although there is a method, it is difficult to deal with the uniformity of the thickness of the resin layer and the conductor pattern that has been densified in recent years, and there is a problem that the conductor pattern peels off when mounting components, so it is not commonly used. .
【0004】本発明の目的は、多層プリント配線板にお
ける導体パターンの高密度化に対応し、容易な方法によ
り高精度で軽量小型化を図ることのできる多層プリント
配線板の製造方法及び基材及び基板材料を提供すること
である。An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, a base material, and a method for accommodating a high density of conductor patterns in the multilayer printed wiring board, capable of achieving high precision, light weight and size reduction by an easy method. It is to provide a substrate material.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的は、銅箔の片面
に感光性フォトソルダーレジストを塗布した基材を用意
し、この基材にバイアホール用の孔を形成して基板材料
を製作し、この基板材料の前記感光性フォトソルダーレ
ジストを塗布した側を、導体パターンおよびランドの形
成された両面板もしくは片面板の上に積層することを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法により達成され
る。[Means for Solving the Problems] The above object is to prepare a substrate in which a photosensitive photo solder resist is applied on one surface of a copper foil, and to form a hole for a via hole in this substrate to manufacture a substrate material. A method for producing a multilayer printed wiring board, characterized in that the side of the substrate material coated with the photosensitive photo solder resist is laminated on a double-sided plate or a single-sided plate on which a conductor pattern and lands are formed. It
【0006】また、前記銅箔と前記両面板もしくは片面
板との間には、ガラスクロスを介在させずに、前記基板
材料を前記両面板もしくは片面板の上に直接積層するこ
とを特徴とし、また、前記銅箔の一面を粗化面とし、前
記粗化面に前記感光性フォトソルダーレジストを塗布
し、次いで、露光、現像し、露出した前記銅箔をエッチ
ングしてバイアホール用の孔を形成することを特徴とす
る。Further, the substrate material is directly laminated on the double-sided plate or the single-sided plate without interposing a glass cloth between the copper foil and the double-sided plate or the single-sided plate. In addition, one surface of the copper foil is a roughened surface, the photosensitive photo solder resist is applied to the roughened surface, then exposed, developed, the exposed copper foil is etched to form a hole for a via hole. It is characterized by forming.
【0007】また、具体的には、多層プリント配線板の
製造方法において、 プリント基板用の片面粗化銅
箔を用意する工程と、 前記銅箔の粗化面に感光性
フォトソルダーレジストを塗布してガラスクロスを有さ
ない基材を製作する工程と、 前記感光性フォトソル
ダーレジストに紫外線を選択的に照射し、バイアホール
用の孔部分を未露光として現像する工程と、 前記
銅箔が露出している面をマスキングし、エッチングして
バイアホール用の孔を形成した基板材料を製作する工程
と、 銅張り基板の銅をフォトエッチングし、導体
パターンおよびランドを前記基板の両面もしくは片面に
形成して両面板もしくは片面板を製作する工程と、
前記両面板もしくは片面板の両面もしくは片面に、ガ
ラスクロスを介在させずに、前記基板材料の前記感光性
フォトソルダーレジスト側を貼って多層板を製作する工
程と、 前記多層板の前記バイアホール孔以外の場
所にスルホール用の貫通孔を形成する工程と、 サ
ブトラクティブ法による回路形成により、前記多層板の
銅箔層に導体パターンおよびバイアホールを形成すると
同時に、スルホールを形成する工程と、からなることを
特徴とするものである。Further, specifically, in a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, a step of preparing a single-sided roughened copper foil for a printed circuit board, and a photosensitive photo solder resist is applied to the roughened surface of the copper foil. A step of producing a base material having no glass cloth, a step of selectively irradiating the photosensitive photo solder resist with ultraviolet rays, and developing the hole portion for a via hole as unexposed; The surface of the copper-clad board is photo-etched to form conductor patterns and lands on both sides or one side of the board by masking the exposed surface and etching to form a board material with holes for via holes. And the process of manufacturing a double-sided plate or a single-sided plate,
A step of adhering the photosensitive photo solder resist side of the substrate material to a multi-layer board without interposing a glass cloth on both sides or one side of the double-sided board or single-sided board, and the via hole hole of the multi-layer board. A through hole for a through hole at a position other than the above, and a step of forming a through hole at the same time as forming a conductor pattern and a via hole in the copper foil layer of the multilayer board by circuit formation by the subtractive method. It is characterized by that.
【0008】また、前記以下の工程を、 前記両
面板もしくは片面板に、複数の前記基板材料の前記感光
性フォトソルダーレジスト側をガラスクロスを介在させ
ずに順次貼り、サブトラクティブ法等による導体パター
ンおよびランドの形成を所定回数行うことにより多層板
を製作する工程と、 前記多層板の前記バイアホー
ル孔以外の場所にスルホール用の貫通孔を形成する工程
とすることもできる。Further, the following steps are carried out by sequentially applying the photosensitive photo solder resist side of the plurality of substrate materials to the double-sided plate or the single-sided plate without interposing a glass cloth, and a conductive pattern by a subtractive method or the like. It is also possible to form a multilayer board by forming the land a predetermined number of times, and to form a through hole for a through hole in the multilayer board at a place other than the via hole hole.
【0009】また、前記基材の感光性フォトソルダーレ
ジストは、アクリル、エポキシ、またはポリイミド樹脂
の合成樹脂、あるいは変性樹脂からなり、前記基材の銅
箔は、圧延法、電解法等で製造された銅板を使用するこ
とができる。Further, the photosensitive photo solder resist of the base material is made of synthetic resin or modified resin of acrylic, epoxy, or polyimide resin, and the copper foil of the base material is manufactured by a rolling method, an electrolytic method or the like. Copper plates can be used.
【0010】また、本発明における前記基材は、前記銅
箔の粗化面に、ガラスクロスを有さず直接に感光性フォ
トソルダーレジストを塗布したことを特徴とし、本発明
における前記基板材料は、前記銅箔の粗化面に、ガラス
クロスを有さず直接に感光性フォトソルダーレジストを
塗布した基材に、バイアホール用の孔を形成したことを
特徴とするものである。The substrate according to the present invention is characterized in that a roughened surface of the copper foil is directly coated with a photosensitive photo solder resist without having a glass cloth, and the substrate material according to the present invention is A hole for a via hole is formed in a base material which is directly coated with a photosensitive photo solder resist without having a glass cloth on the roughened surface of the copper foil.
【0011】[0011]
【作用】上記構成によれば、従来の多層プリント配線板
が備えているガラスクロスを基板との間に介在させない
ので、感光性フォトソルダーレジストの使用によりバイ
アホール、スルホール等の形成が容易となり、材料減に
より、小型化、軽量化を図ることができる。また、感光
性フォトレジストを使用するため、何万とある孔明け
が、瞬時に孔明けができると共に、孔明けサイズを無段
階に得ることができる。そのため、導体パターンの収容
能力が十分にあり、高密度で小型の多層プリント配線板
を製造することができる。According to the above construction, since the glass cloth provided in the conventional multilayer printed wiring board is not interposed between the substrate and the substrate, the use of the photosensitive photo solder resist facilitates the formation of via holes, through holes, etc. By reducing the material, it is possible to reduce the size and weight. Further, since the photosensitive photoresist is used, tens of thousands of holes can be instantly punched, and the punching size can be continuously obtained. Therefore, it is possible to manufacture a high-density and small-sized multilayer printed wiring board having a sufficient capacity for accommodating the conductor pattern.
【0012】[0012]
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照して説
明をする。図1ないし図3は、本実施例の工程図であ
り、4層のプリント配線板の製造各工程における断面図
である。本実施例は以下の工程からなる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 3 are process diagrams of this embodiment, which are cross-sectional views in each process of manufacturing a four-layer printed wiring board. This example includes the following steps.
【0013】まず、図1の工程Aに示すように、まず、
片面(図では下面)が粗化面になっている銅箔1を用意
する。次に、工程Bに示すように、この銅箔1の粗化面
2に感光性フォトソルダーレジスト3(感光性樹脂)を
直接塗布してガラスクロスを含まない基材4を作る。
尚、塗布する方法としては、ロールコーター、スプレ
ー、カーテンコーター法等の塗装方法にて行う。First, as shown in step A of FIG.
A copper foil 1 having a roughened surface on one surface (lower surface in the figure) is prepared. Next, as shown in step B, a photosensitive photo solder resist 3 (photosensitive resin) is directly applied to the roughened surface 2 of the copper foil 1 to make a substrate 4 containing no glass cloth.
In addition, as a coating method, a coating method such as a roll coater, a spray, or a curtain coater method is used.
【0014】次に、工程Cに示すように、基材4の感光
性フォトソルダーレジスト3の塗布面にフィルム5を当
てて紫外線を照射する。フィルム5は感光性フォトソル
ダーレジスト3に紫外線による露光部分および未露光部
分を作るためのもので、ネガ型とポジ型とがある。ネガ
型によれば、露光部分を硬化させ、未露光部分を溶解さ
せることになる。ポジ型ではその逆になる。本実施例で
はネガ型フィルムを使用している。Next, as shown in step C, the film 5 is applied to the coated surface of the photosensitive photo solder resist 3 on the base material 4 to irradiate it with ultraviolet rays. The film 5 is for forming an exposed portion and an unexposed portion by ultraviolet rays on the photosensitive photo solder resist 3, and there are a negative type and a positive type. According to the negative mold, the exposed portion is cured and the unexposed portion is dissolved. The opposite is true for positive type. In this embodiment, a negative type film is used.
【0015】次に、図2の工程Dに示すように、本実施
例では紫外線を照射していない部位(未露光部分)に、
現像によってバイアホール用の孔6を形成し、次いで、
工程Eに示すように、銅箔1をエッチングし、銅箔1、
感光性フォトソルダーレジスト3を貫通するバイアホー
ル用の孔6を形成して基板材料7を作成する。このと
き、銅箔1の銅が露出している面には、マスキングテー
プ8等によりマスキングを全面に行い、塩化銅、塩化鉄
のエッチング液に触れないようにし、感光性フォトソル
ダーレジスト3の面より孔6を明けるようにする。マス
キングテープ8は基板材料7の補強材にもなる。Next, as shown in step D of FIG. 2, in the present embodiment, a portion (unexposed portion) not irradiated with ultraviolet rays is
Forming holes 6 for via holes by development, and then
As shown in step E, the copper foil 1 is etched to form the copper foil 1,
A substrate material 7 is prepared by forming a via hole 6 penetrating the photosensitive photo solder resist 3. At this time, the surface of the copper foil 1 where the copper is exposed is masked on the entire surface with a masking tape 8 or the like so as not to come into contact with the etching solution of copper chloride or iron chloride. Make more holes 6 open. The masking tape 8 also serves as a reinforcing material for the substrate material 7.
【0016】次に、工程Fに示すように、ランドおよび
導体パターン9が形成されている両面板10を用意し、
この両面板10の両面に、工程Gに示すように、バイア
ホール6が形成された基板材料7を、感光性フォトソル
ダーレジスト3側を両面板10側にしてガラスクロスを
介在させずに貼る。貼る方法としては、多層プリント配
線板製造用の積層プレスが使用できる。このようにして
バイアホール6が形成でき、このとき、必要に応じて孔
6を過マンガン酸等の薬品で洗浄する。尚、本実施例で
は両面板10を用いているが、替わりに片面板、もしく
は多層板を用いても製造工程は同様である。Next, as shown in step F, a double-sided plate 10 on which lands and conductor patterns 9 are formed is prepared,
As shown in step G, the substrate material 7 having the via holes 6 formed thereon is attached to both surfaces of the double-sided plate 10 with the photosensitive photo solder resist 3 side facing the double-sided plate 10 side without interposing glass cloth. A laminating press for producing a multilayer printed wiring board can be used as a sticking method. In this way, the via hole 6 can be formed, and at this time, the hole 6 is washed with a chemical such as permanganate if necessary. Although the double-sided plate 10 is used in this embodiment, the manufacturing process is the same even if a single-sided plate or a multi-layered plate is used instead.
【0017】次に、工程Hに示すように、ランドもしく
は基材上を貫通するスルホール用の孔11を形成し、さ
らに、サブトラクティブ法による回路形成により、基材
の銅箔1層に導体パターンとバイアホールを形成すると
同時にスルホールを形成する。すなわち、工程Hに示す
ように、無電解、および電解メッキにて、厚さ20μの
銅メッキを行い、さらにフォトレジストを使用して導体
パターンを逆形成し、半田メッキ12を厚さ8〜10μ
行い、フォトレジストを剥離し、エッチングし導体パタ
ーン13を形成して、多層プリント配線板の基板14を
製造する。Next, as shown in step H, a hole 11 for a through hole penetrating the land or the base material is formed, and a circuit pattern is formed by the subtractive method to form a conductor pattern on one layer of the copper foil of the base material. And a via hole is formed at the same time as a through hole is formed. That is, as shown in step H, copper plating with a thickness of 20 μm is electrolessly and electrolytically plated, and a conductor pattern is reversely formed using a photoresist, and solder plating 12 is formed with a thickness of 8 to 10 μm.
Then, the photoresist is peeled off and etched to form the conductor pattern 13, and the substrate 14 of the multilayer printed wiring board is manufactured.
【0018】本実施例によれば、感光性フォトレジスト
を使用しているので、バイアホール用の孔サイズを自由
に選択し同時に多数の孔を形成できるので、短時間にか
つ高精度にしかも容易に多層プリント配線板を製造する
ことができる。According to this embodiment, since the photosensitive photoresist is used, the hole size for the via hole can be freely selected and a large number of holes can be formed at the same time. It is possible to manufacture a multilayer printed wiring board.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐熱性、電気特性等の諸特性が、他の製法で製造された
多層板となんら変わらずに、導体パターンの収容能力が
格段と向上し、層と層の配線が自由にできる。また、材
料を軽減できるため、軽量化が図られ、作業工程も減少
し、製法も簡略されるので、コストダウンを図ることが
できる。そのため、高密度化されている電子機器分野に
おいて、広く適応されかつ産業上極めて有用である。As described above, according to the present invention,
The various characteristics such as heat resistance and electric characteristics are no different from those of the multi-layer board manufactured by other manufacturing methods, the capacity for accommodating the conductor pattern is significantly improved, and the wiring between layers can be freely performed. Further, since the material can be reduced, the weight can be reduced, the number of working steps can be reduced, and the manufacturing method can be simplified, so that the cost can be reduced. Therefore, it is widely applied and extremely industrially useful in the field of high-density electronic devices.
【図1】図1は、本発明の一実施例を示し、工程Aない
し工程Cを説明するための断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of the present invention and illustrating steps A to C.
【図2】図2は、本実施例の工程Dないし工程Eを説明
するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining steps D to E of this embodiment.
【図3】図3は、本実施例の工程Fないし工程Hを説明
するための断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining steps F to H of this embodiment.
1 銅箔 2 粗化面 3 感光性フォトソルダーレジスト 4 基材 5 フィルム 6 バイアホール 7 基板材料 8 マスキングテープ 9 導体パターン 10 両面板 11 スルホール 12 メッキ 13 導体パターン 14 基板 1 Copper Foil 2 Roughened Surface 3 Photosensitive Photo Solder Resist 4 Base Material 5 Film 6 Via Hole 7 Substrate Material 8 Masking Tape 9 Conductor Pattern 10 Double Sided Board 11 Through Hole 12 Plating 13 Conductor Pattern 14 Substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/06 B ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display H05K 3/06 B
Claims (9)
ストを塗布した基材を用意し、この基材にバイアホール
用の孔を形成して基板材料を製作し、この基板材料の前
記感光性フォトソルダーレジストを塗布した側を、導体
パターンおよびランドの形成された両面板もしくは片面
板の上に積層することを特徴とする多層プリント配線板
の製造方法。1. A base material prepared by coating a photosensitive photo solder resist on one surface of a copper foil, and forming holes for via holes in the base material to manufacture a substrate material. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that a side coated with a photo solder resist is laminated on a double-sided plate or a single-sided plate on which a conductor pattern and lands are formed.
製造方法において、前記銅箔と前記両面板もしくは片面
板との間には、ガラスクロスを介在させずに、前記基板
材料を前記両面板もしくは片面板の上に直接積層するこ
とを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the substrate material is formed on both surfaces of the copper foil and the double-sided board or the single-sided board without interposing a glass cloth. A method for producing a multilayer printed wiring board, which comprises laminating directly on a board or a single-sided board.
製造方法において、前記基板材料は、前記銅箔の一面を
粗化面とし、前記粗化面に前記感光性フォトソルダーレ
ジストを塗布し、次いで、露光、現像し、露出した前記
銅箔をエッチングしてバイアホール用の孔を形成するこ
とを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。3. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the substrate material has one surface of the copper foil as a roughened surface, and the photosensitive photosolder resist is applied to the roughened surface. Next, a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises exposing and developing, and etching the exposed copper foil to form holes for via holes.
て、 プリント基板用の片面粗化銅箔を用意する工程と、 前記銅箔の粗化面に感光性フォトソルダーレジスト
を塗布してガラスクロスを有さない基材を製作する工程
と、 前記感光性フォトソルダーレジストに紫外線を選択
的に照射し、バイアホール用の孔部分を未露光として現
像する工程と、 前記銅箔が露出している面をマスキングし、エッチ
ングしてバイアホール用の孔を形成した基板材料を製作
する工程と、 銅張り基板の銅をフォトエッチングし、導体パター
ンおよびランドを前記基板の両面もしくは片面に形成し
て両面板もしくは片面板を製作する工程と、 前記両面板もしくは片面板の両面もしくは片面に、
ガラスクロスを介在させずに、前記基板材料の前記感光
性フォトソルダーレジスト側を貼って多層板を製作する
工程と、 前記多層板の前記バイアホール孔以外の場所にスル
ホール用の貫通孔を形成する工程と、 サブトラクティブ法による回路形成により、前記多
層板の銅箔層に導体パターンおよびバイアホールを形成
すると同時に、スルホールを形成する工程と、からなる
ことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。4. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the steps of preparing a single-sided roughened copper foil for a printed circuit board, and applying a photosensitive photo solder resist to the roughened surface of the copper foil to form a glass cloth. A step of producing a base material, a step of selectively irradiating the photosensitive photo solder resist with ultraviolet rays, and developing the hole portion for the via hole as unexposed; and a surface where the copper foil is exposed. A step of producing a substrate material with masking and etching to form holes for via holes; and photoetching copper of a copper-clad substrate, forming conductor patterns and lands on both sides or one side of the substrate to form a double-sided board or A step of producing a single-sided plate, on both sides or one side of the double-sided plate or the single-sided plate,
A step of manufacturing a multilayer board by pasting the photosensitive photo solder resist side of the substrate material without interposing a glass cloth, and forming a through hole for a through hole at a position other than the via hole hole of the multilayer board. A step of forming a conductor pattern and a via hole in the copper foil layer of the multilayer board by forming a circuit by a subtractive method, and forming a through hole at the same time, and a method of manufacturing a multilayer printed wiring board. .
て、 プリント基板用の片面粗化銅箔を用意する工程と、 前記銅箔の粗化面に感光性フォトソルダーレジスト
を塗布してガラスクロスを有さない基材を製作する工程
と、 前記感光性フォトソルダーレジストに紫外線を選択
的に照射し、バイアホール用の孔部分を未露光として現
像する工程と、 前記銅箔が露出している面をマスキングし、エッチ
ングしてバイアホール用の孔を形成した基板材料を製作
する工程と、 銅張り基板の銅をフォトエッチングし、導体パター
ンおよびランドを前記基板の両面もしくは片面に形成し
て両面板もしくは片面板を製作する工程と、 前記両面板もしくは片面板に、複数の前記基板材料
の前記感光性フォトソルダーレジスト側をガラスクロス
を介在させずに順次貼り、サブトラクティブ法等による
導体パターンおよびランドの形成を所定回数行うことに
より多層板を製作する工程と、 前記多層板の前記バイアホール孔以外の場所にスル
ホール用の貫通孔を形成する工程と、からなることを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。5. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the steps of preparing a single-sided roughened copper foil for a printed circuit board, and applying a photosensitive photo solder resist to the roughened surface of the copper foil to form a glass cloth. A step of producing a base material, a step of selectively irradiating the photosensitive photosolder resist with ultraviolet rays, and developing the hole portions for via holes as unexposed, and a surface where the copper foil is exposed A step of masking and etching to form a substrate material having holes for via holes, and photoetching copper of a copper-clad substrate, forming conductor patterns and lands on both sides or one side of the substrate A step of producing a single-sided plate, and a step of sequentially forming the photosensitive photo solder resist side of the plurality of substrate materials on the double-sided plate or the single-sided plate without interposing a glass cloth. A step of forming a multilayer board by performing a subsequent bonding, forming a conductive pattern and a land by a subtractive method a predetermined number of times, and a step of forming a through hole for a through hole in a location other than the via hole hole of the multilayer board. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising:
の多層プリント配線板の製造方法において、前記基材の
感光性フォトソルダーレジストは、アクリル、エポキ
シ、またはポリイミド樹脂の合成樹脂、あるいは変性樹
脂からなることを特徴とする多層プリント配線板の製造
方法。6. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the photosensitive photosolder resist of the base material is a synthetic resin of acrylic, epoxy, or polyimide resin, or a modified resin. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which is made of a resin.
の多層プリント配線板の製造方法において、前記基材の
銅箔は、圧延法、電解法等で製造された銅板を使用する
ことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。7. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the copper foil of the base material is a copper plate manufactured by a rolling method, an electrolytic method, or the like. A method for manufacturing a characteristic multilayer printed wiring board.
の多層プリント配線板の製造に用いられ、前記銅箔の粗
化面に、ガラスクロスを有さず直接に感光性フォトソル
ダーレジストを塗布したことを特徴とする基材。8. A photosensitive photosolder resist used for manufacturing the multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the roughened surface of the copper foil is directly provided with a photosensitive photosolder resist without a glass cloth. A base material characterized by being applied.
の多層プリント配線板の製造に用いられ、前記銅箔の粗
化面に、ガラスクロスを有さず直接に感光性フォトソル
ダーレジストを塗布した基材に、バイアホール用の孔を
形成したことを特徴とする基板材料。9. A photosensitive photosolder resist used for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, which is directly provided on the roughened surface of the copper foil without a glass cloth. A substrate material, wherein holes for via holes are formed in the applied base material.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18734294A JPH0851282A (en) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | Method for manufacturing multilayer printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18734294A JPH0851282A (en) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | Method for manufacturing multilayer printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0851282A true JPH0851282A (en) | 1996-02-20 |
Family
ID=16204325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18734294A Pending JPH0851282A (en) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | Method for manufacturing multilayer printed wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0851282A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998047332A1 (en) * | 1997-04-16 | 1998-10-22 | Alliedsignal Inc. | Positive working photodefinable resin coated metal for mass production of microvias in multilayer printed wiring boards |
WO1998047333A1 (en) * | 1997-04-16 | 1998-10-22 | Alliedsignal Inc. | Fabrication of high density multilayer interconnect printed circuit boards |
KR101114260B1 (en) * | 2009-11-25 | 2012-02-27 | 주식회사 심텍 | Manufacturing method of pcb using double gold plating process |
-
1994
- 1994-08-09 JP JP18734294A patent/JPH0851282A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998047332A1 (en) * | 1997-04-16 | 1998-10-22 | Alliedsignal Inc. | Positive working photodefinable resin coated metal for mass production of microvias in multilayer printed wiring boards |
WO1998047333A1 (en) * | 1997-04-16 | 1998-10-22 | Alliedsignal Inc. | Fabrication of high density multilayer interconnect printed circuit boards |
KR101114260B1 (en) * | 2009-11-25 | 2012-02-27 | 주식회사 심텍 | Manufacturing method of pcb using double gold plating process |
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