JPH08511544A - 液相エチルベンゼン合成 - Google Patents

液相エチルベンゼン合成

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JPH08511544A
JPH08511544A JP7502182A JP50218295A JPH08511544A JP H08511544 A JPH08511544 A JP H08511544A JP 7502182 A JP7502182 A JP 7502182A JP 50218295 A JP50218295 A JP 50218295A JP H08511544 A JPH08511544 A JP H08511544A
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スミス、チャールズ・モリス
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Abstract

(57)【要約】 焼成アルミノケイ酸塩MCM−49を含有する触媒の存在下に、150〜315℃の温度で液相において、ベンゼンをエチレンでアルキル化することからなるエチルベンゼンの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】 液相エチルベンゼン合成 本発明は、エチルベンゼンの液相合成のための方法に関する。 エチルベンゼンは、スチレンモノマー製造のために工業的に大スケールで現在 使用されている有用な商業化学物質である。エチルベンゼンは多数の異なる化学 的方法によって製造することができるが、大きな商業的成功を収めた1つの方法 は、固体の酸性ZSM−5ゼオライト触媒の存在下でのエチレンによるベンゼン の気相アルキル化である。この方法によるエチルベンゼンの製造においては、エ チレンはアルキル化剤として用いられ、反応器入口で900°F(約480℃) までのベンゼンの臨界温度の間で変化する温度で、触媒の存在下にベンゼンと反 応させる。反応器床の温度は反応器入口温度より150°F(約85℃)程度高 くてよく、ベンゼン/エチレン反応の通常の温度は600〜900°F(315 〜480℃)に変化するが、ジエチルベンゼンなどのより高度にアルキル化され たベンゼンの含量を許容しうる低いレベルに保つために約700°F(約370 ℃)以上に維持するのが普通である。圧力は大気圧〜3000psig(100〜2 0785kPa)に変化するのが普通であり、ベンゼンとエチレンのモル比は1: 1〜25:1、通常は約5:1(ベンゼン:エチレン)である。反応における空 間速度は高く、通常は1〜6、普通には2〜5(エチレン流量に基づくWHSV )の範囲内であり、従ってベンゼンの空間速度は反応物質の比に比例して変化す る。この反応の生成物には、温度の上昇につれて割合が増加して得られるエチル ベンゼンとともに、これも反応温度の上昇につれて量が増加して生成する種々の ポリエチルベンゼン、主にジエチルベンゼン(DIEB)が含まれる。工業スケ ールでの好ましい運転条件のもとで、99.8重量%を越えるエチレンの変換を サイクルの開始時に得ることができる。 この方法の商業運転において、ポリアルキル化ベンゼン(ポリメチル化および ポリエチル化ベンゼンの両方を含む)は、ベンゼンとエチレンの間の反応が起こ るアルキル化反応器に再循環される。この副生成物をアルキル化反応に再循環す ることによって、ポリエチル化ベンゼン(PEB)がエチルベンゼン(EB)に 変換されるので、変換率の増加が得られる。さらに、アルキル化反応中のPEB の存在は、成分の平衡によってこれら種の生成を減少させる。これは、所与の供 給組成および特定の運転条件のもとで、PEBの再循環が一定レベルの平衡に達 するためである。この商業的方法はモービル/バドガー(Mobil/Badger)法とし て知られており、「有機反応の触媒」という題名の本[ウイリアム(Wi11iam R .Moser)編、マーセル・デッカー社(Marcel Dekker,Inc.)、1981年]の39 〜50頁の「モービル/バドガーのエチルベンゼン法−化学および触媒の関係」 と題するフランシス(Francis G.Dwyer)の論文にさらに詳しく記載されている 。 エチルベンゼンの製造法は、米国特許No.3,751,504[ケオウン(Keown)] 、4,547,605[クレスゲ(Kresge)]、および4,016,218[ハーグ(Haag)]に記 載されている。米国No.3,751,504に記載されている方法は、その方法が、かな りの割合のより高度にアルキル化された生成物を所望のエチルベンゼン生成物に 変換するのに有効な、再循環ループにおける独立したトランスアルキル化工程を 含んでいるので特に注目される。エチルベンゼンの製造のための他の方法が米国 特許No.4,169,11[ワイト(Wight)]および4,459,426[インウッド(Inwood) ]に開示されているが、この両特許には、ケオウン、クレスゲおよびハーグの特 許に記載された方法において使用される中程度の孔サイズのゼオライトとは異な って、ゼオライトYなどの大きい孔サイズのゼオライトが好ましいことが記載さ れている。米国特許No.3,755,483[ブレス(Burress)]は、アルキル化触媒 としてゼオライトZSM−12を用いるエチルベンゼンの製造方法を記載してい る。 エチルベンゼン(EB)は、液相または気相のいずれかにおいて、種々のゼオ ライト触媒上でベンゼンとエチレン(C2=)から合成することができる。液相 法の利点は、その操作温度が低いことおよび副生成物の含量が低いことである。 米国特許No.4,891,458は、ゼオライトβによるエチルベンゼンの液相合成を 記載している。 米国特許No.5,149,894は、SSZ−25と命名された結晶性アルミノケイ酸 塩物質によるエチルベンゼンの液相合成を記載している。 本発明によれば、合成時の形態で表1のX線回折パターンを有し、焼成した形 態で表2のX線回折パターンを有する焼成アルミノケイ酸塩ゼオライトMCM− 49を含有する触媒の存在下に、150〜315℃の温度で液相において、ベン ゼンをエチレンでアルキル化することからなる、エチルベンゼンの製造方法が提 供される。 本発明の液相アルキル化反応において用いる触媒は、MCM−49と命名され た結晶性の物質からなる。MCM−49およびその調製方法は、米国特許No.5 ,236,575に記載されている。 MCM−49は、例えばその組成および熱履歴に依存して多数の形態で存在す ることができる。組成に基づくMCM−49の特定の形態は、MCM−49の結 晶構造の骨格が実質的にシリカとアルミナからなるアルミノケイ酸塩の形態であ る。熱履歴に基づくMCM−49の形態には、合成時の形態および焼成した形態 が含まれる。これら合成時および焼成時形態のMCM−49を、以下においてさ らに詳しく説明する。 MCM−49は、液相エチルベンゼン合成に対して活性であり、極めて選択的 であることがわかった。この選択性の利点は、生成物の品質を維持しつつ、より 低いベンゼンの再循環比およびより低い下流での分離コストに転化することがで きる。 合成時の形態において、MCM−49は単結晶相にあるようである。これを、 以下の表1に挙げた行列によって他の既知の合成時のまたは熱処理した結晶性物 質のX線回折パターンとは区別されるパターンを有する、ほとんどまたは全く検 出しうる不純物のない結晶相を有する実質的に純粋な形態で調製することができ る。 焼成された形態において、MCM−49は、MCM−22のX線回折パターン とは容易に区別されないが他の既知の結晶性物質のパターンとは区別しうるパタ ーンを有する、ほとんどまたは全く検出しうる不純物のない結晶相を有する単結 晶相に変化する。この焼成された形態のMCM−49のX線回折パターンは、以 下の表2に挙げた行列を包含する。 焼成形態にあるMCM−49は、約24未満:1、好ましくは約20未満:1 のバルクのシリカ/アルミナ(SiO2:Al23)モル比を有していてよい。 MCM−49は、アルカリもしくはアルカリ土類金属(M)(例えば、ナトリ ウ ムまたはカリウム)陽イオンの供給源、三価元素X(例えば、アルミニウム)の 酸化物、四価元素Y(例えば、ケイ素)の酸化物、指向剤(directing agent) (R)、および水を含有する反応混合物から調製することができる。この反応混 合物は、酸化物のモル比に基づいて、次に示す範囲の組成を有する: この合成法において、1を越えるX成分が存在するときには、少なくとも1つ は、そのYO2/X23モル比が約35未満であるように存在すべきである。例 えば、酸化アルミニウムおよび酸化ガリウム成分が反応混合物に使用されるとき には、YO2/Al23およびYO2/Ga23モル比の少なくとも一方は約35未 満であるべきである。アルミニウムだけが存在しているときには、YO2/Al2 3比は約35未満であるべきである。 YO2の供給源は可溶性または不溶性であってよいが、本発明の結晶生成物を 得るために、主として固体YO2からなっている、例えば少なくとも約30重量 %の固体YO2からなっているのが好ましい。YO2がシリカであるときには、少 なくとも約30重量%の固体シリカを含有するシリカ供給源、例えばウルトラシ ル(Ultrasil)(沈殿させ噴霧乾燥したシリカ;約90重量%のシリカを含有す る)またはハイシル(HiSil)(沈殿され水和されたSiO2;約87重量%のシ リカ、約6重量%の遊離H2Oおよび約4.5重量%の水和結合H2Oを含有し、 約0.02ミクロンの粒子サイズを有する)の使用が、上記混合物からの結晶性 MCM−49の生成に有利である。即ち、好ましくは固体YO2(例えば、シリ カ)供給源は少なくとも約30重量%の固体YO2(例えば、シリカ)を含有し 、さらに好ましくは少なくとも約40重量%の固体YO2(例えば、シリカ)を 含有する。 MCM−49の結晶化は、80〜225℃の温度で24時間〜60日間、適当 な反応容器、例えばポリプロピレン製ジャーまたはテフロン被覆またはステンレ ス鋼オートクレーブなどにおいて、静止または撹拌条件のもとで行なうことがで きる。次いで、結晶を液体から分離し、回収する。 MCM−49の合成は、少なくとも0.01%、好ましくは0.10%、さらに 好ましくは1%の結晶生成物の種結晶(全重量に基づく)を存在させることによ って容易にすることができる。有用な種結晶には、MCM−22および/または MCM−49が含まれる。 MCM−49を調製するための指向剤Rは、シクロアルキルアミン、アザシク ロアルカン、ジアザシクロアルカン、およびこれらの混合物(アルキルは5〜8 個の炭素原子を含有する)からなる群から選択することができる。限定するもの ではないRの例には、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロヘ プチルアミン、ヘキサメチレンイミン、ヘプタメチレンイミン、ホモピペラジン 、およびこれらの組合せが含まれる。好ましい指向剤はヘキサメチレンイミンで ある。 本発明の方法において使用するMCM−49は、本方法において使用する温度 および他の条件に耐性である別の物質と複合させることができる。このような物 質には、活性および不活性な物質および合成または天然のゼオライトならびに無 機物質(例えば、粘土)および/または酸化物(例えば、アルミナ、シリカ、シ リカ−アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、またはこれらおよび他の 酸化物の混合物)が含まれる。この後者は、天然のものまたはゼラチン様沈殿物 の形態にあるものまたはゲル(シリカと金属酸化物の混合物を含む)であってよ い。また、粘土は、触媒の機械的性質を改変するためのまたはその製造を助ける ための酸化物型のバインダーとともに含まれていてもよい。それ自体が触媒的に 活性である、MCM−49と組合せた物質の使用(即ち、その合成中に存在する かまたはそれと結合する)は、触媒の変換および/または選択性を変えることが できる。不活性物質は変換の量を制御するための希釈剤として適切に働き、これ により、反応速度を制御するための他の手段を用いることなく生成物を経済的か つ規則的に得ることができる。これらの物質を天然の粘土(例えば、ベントナイ トお よびカオリン)中に導入して、商業運転条件下での触媒の粉砕強度および触媒の ためのバインダーまたはマトリックスとしての機能を改善することができる。細 かく分割した結晶性物質と無機酸化物マトリックスの相対比は広範囲に変化し、 MCM−49含量は、複合体の1〜90重量%の範囲内、より普通には、特に複 合体がビーズの形態に調製されるときには、複合体の2〜80重量%の範囲内で ある。 アルキル化反応は、液相中、150〜315℃(300〜6000F)、好ま しくは150〜260℃(300〜500°F)、最も好ましくは205〜26 0℃(400〜500°F)の温度で行なう。 アルキル化工程中の圧力は約3000psig(約20875kPa)程度であって よいが、通常は1000psig(約7000kPa)を越えることはなく、400〜 800psig(2860〜5620kPa)であろう。この反応は水素の非存在下に 行なってよく、従って、支配的圧力は反応物質種のものである。空間速度は、エ チレン供給を基準として、0.1〜10、好ましくは0.1〜1、最も好ましくは 0.2〜0.5であってよい。アルキル化の反応器中のベンゼンとエチレンの比は 、1:1〜30:1モル(ベンゼン:エチレン、新たな供給)、通常は5:1〜 20:1、好ましくは5:1〜10:1モルであってよい。 本アルキル化法は、固定、流動または移動床触媒系を用い、バッチ型、半連続 または連続運転として実施することができる。 ここで、実施例および添付の図面を参照しながら本発明をさらに具体的に説明 する。 添付の図1は、エチルベンゼンの液相合成におけるMCM−49とMCM−2 2の活性の比較を示すグラフである。 添付の図2は、エチルベンゼンの液相合成におけるMCM−49とMCM−2 2の選択性の比較を示すグラフである。 実施例1 45%アルミン酸ナトリウム(2.24部)を、オートクレーブ中の50%Na OH溶液(1.0部)およびH2O(43.0部)を含有する溶液に加えた。ウル トラシル沈殿シリカ(8.57部)を撹拌しながら加え、次いでヘキサメチレン イミン(H MI)(4.51部)を加えた。 この反応混合物は、次の組成を有していた(モル比): SiO2/Al23 = 23 OH-/SiO2 = 0.21 Na/SiO2 = 0.21 HMI/SiO2 = 0.35 H2O/SiO2 = 19.3 この混合物を、撹拌しながら150℃で84時間結晶化した。この生成物をM CM−49と同定した。この生成物は表3に示すX線パターンを有していた。 この生成物の化学組成は、次の通りであった(重量%): N 1.70 Na 0.70 Al23 7.3 SiO2 74.5 灰 84.2 この生成物のシリカ/アルミナのモル比は17.3であった。 538℃で9時間焼成した後の吸収力は、次の通りであった(重量%): シクロヘキサン(40トル) 10.0 n-ヘキサン(40トル) 13.1 H2O(12トル) 15.4 試料の一部を、538℃で3時間、空気中にて焼成した。この物質は、表4に 示すX線回折パターンを示した。 実施例2 実施例1の生成物の焼成部分をアンモニウム交換し、538℃で空気中にて3 時間焼成して、結晶性MCM−49の水素型の変換生成物を得た。アルファ試験 により、この物質が308のアルファ値を有していることがわかった。 実施例3 40重量%のAl23、33重量%のNaO2、および27重量%のH2Oを含有 するアルミン酸ナトリウムを、オートクレーブ中のNaOHおよびH2Oを含有す る溶液に加えた。次いで、ウルトラシル沈殿シリカを撹拌しながら加え、続いて アミノシクロヘプタン(R)指向剤を加えて反応混合物を得た。 この反応混合物は、次の組成を有していた(モル比): SiO2/Al23 = 33.3 OH-/SiO2 = 0.18 Na/SiO2 = 0.18 R/SiO2 = 0.35 H2O/SiO2 = 18.8 この混合物を、撹拌しながら143℃で192時間結晶化した。この生成物を MCM−49と同定した。この生成物は表5に示すX線パターンを有していた。 この生成物の化学組成は、次の通りであった(重量%): N 1.51 Na 0.83 Al23 4.6 SiO2 74.2 灰 79.2 この生成物のシリカ/アルミナのモル比は27.4であった。 538℃で9時間焼成した後の吸収力は、次の通りであった(重量%): シクロヘキサン(40トル) 7.5 n-ヘキサン(40トル) 14.1 H2O(12トル) 13.5 実施例4 比較試験用の触媒を得るために、MCM−22を含有する触媒を以下の記載の ように調製した。 45%アルミン酸ナトリウム溶液(1.71部)を、オートクレーブ中の50 %NaOH溶液(1.0部)およびH2O(43.0部)を含有する溶液に加えた。 次いで、ウルトラシル沈殿シリカ(8.57部)を撹拌しながら加え、続いてH MI(4.51部)を加えた。 この反応混合物は、次の組成を有していた(モル比): SiO2/Al23 = 30 OH-/SiO2 = 0.18 R/SiO2 = 0.35 H2O/SiO2 = 19.4 この混合物を、撹拌しながら149℃で78時間結晶化した。この生成物の化 学組成は、次の通りであった(重量%): N 1.80 Na 0.50 Al23 5.5 SiO2 76.2 灰 80.5 SiO2/Al23モル比 23.5/1 538℃で6時間焼成した後の吸収力は、次の通りであった(重量%): シクロヘキサン(40トル) 12.6 n-ヘキサン(40トル) 9.3 H2O(12トル) 15.3 未焼成MCM−22前駆体の乾燥ケーキの一部を正しい割合でアルミナ[ダビ ソン(Davison)VFA]と混合し、100%固体の基準で65%MCM−22 /35%アルミナを得た。脱イオン(DI)水を加えて押出し可能な混練物を得 、この混合物を1/16インチ直径に押出し、120℃で乾燥した。この乾燥し た押出物を、窒素流中、482℃で3時間焼成した。次いで、これをカラムに入 れ、室 温で1N NH4NO3溶液(押出物1gあたりに溶液5ml)を用いて1時間、2回 にわたって交換し、DI水で洗浄し、120℃で乾燥した。次いで、この押出物 を、空気流中、538℃で6時間焼成した。 実施例5 MCM−49を含有する触媒を以下の記載のように調製した。 実施例1で調製した未焼成MCM−49前駆体の乾燥ケーキの一部を正しい割 合でアルミナ[ラロッシュ(LaRoche)バーサル(Versal)250]と混合し、 100%固体の基準で65%MCM−49/35%アルミナを得た。DI水を加 えて押出し可能な混練物を得、この混合物を1/16インチ直径に押出し、12 0℃で乾燥した。この乾燥した押出物を、窒素流中、482℃で6時間焼成した 。次いで、これをカラムに入れ、室温でINNH4NO3溶液(押出物1gあたり に溶液5ml)を用いて1時間、3回にわたって交換し、DI水で洗浄し、120 ℃で乾燥した。この押出物を窒素流中で482℃まで加熱し、その雰囲気を空気 流に切換え、温度を538℃まで上げ、最後に、空気流中、538℃で12時間 焼成した。 実施例6 実施例4および5の触媒を、エチレンによるベンゼンの液相アルキル化につい て評価した。さらに具体的には、3区域等温固定床ユニットを用いてMCM−4 9およびMCM−22を含有する触媒を評価した。それぞれの触媒(1/16” 直径x1/16”長さ)(2g)を20〜40メッシュのバイコール(vycor)チ ップを用いて〜20ccに希釈して、活性床を調製した。ベンゼンは液体として供 給し、一方、C2=はガスとして反応器の頂部に供給した。この反応器を、35 50kPa(500psig)、4.5〜7.5のベンゼン/C2=モル比、0.55〜3. 3のC2=WHSV、および160〜320℃で運転した。排ガスはカール(Car le)製油所ガス分析器で分析し、液体生成物はSPB−5細管カラムを装着した バリアン(Varian)3700GCで分析した。エチレンの変換は、供給C2=に 対する未反応C2=排ガスを測定することによって決定した。全体の物質収支は 100±2%であった。 220℃、3550kPa(500psig)および5.5ベンゼン/C2=モル比で 測 定した触媒の活性を図1において比較する。一定のC2=変換においては、MC M−49によるC2=WHSVはMCM−22によるそれよりもわずかに高い。 即ち、MCM−49はMCM−22よりもわずかに活性が高い。 これら触媒の選択性を次の表において比較する。 このデータは、エチルベンゼン(EB)、ジエチルベンゼン(DEB)、およ びトリエチルベンゼン(TEB)に対する99.9モル%の全体選択性が両触媒 に観察されたが、MCM−49の方が所望のEB生成物に対して選択性が高いこ とを示す。この触媒は、MCM−22よりも20%少ないDEB+TEBを生成 する。他の温度におけるMCM−49のより高い選択性を図2に示す(DEB/ EBモル比として示す)。液相(<260℃)においては、MCM−49の方が MCM−22よりも選択性が高い(より低いDEB/EB比)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウォルシュ、デニス・エドワード アメリカ合衆国 18954 ペンシルバニア、 リッチボロ、レッドウッド・ドライブ 36 番

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.合成時の形態で表1のX線回折パターンを有し、焼成した形態で表2のX 線回折パターンを有する焼成アルミノケイ酸塩MCM−49を含有する触媒の存 在下に、150〜315℃の温度で液相において、ベンゼンをエチレンでアルキ ル化することからなるエチルベンゼンの製造方法。 2.触媒中のMCM−49が、24未満:1のバルクのシリカ:アルミナのモ ル比を有する請求項1に記載の方法。 3.触媒中のMCM−49が、20未満:1のバルクのシリカ:アルミナのモ ル比を有する請求項1に記載の方法。
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