JPH0416447B2 - - Google Patents
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- JPH0416447B2 JPH0416447B2 JP58085992A JP8599283A JPH0416447B2 JP H0416447 B2 JPH0416447 B2 JP H0416447B2 JP 58085992 A JP58085992 A JP 58085992A JP 8599283 A JP8599283 A JP 8599283A JP H0416447 B2 JPH0416447 B2 JP H0416447B2
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C2/54—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition of unsaturated hydrocarbons to saturated hydrocarbons or to hydrocarbons containing a six-membered aromatic ring with no unsaturation outside the aromatic ring
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Catalysts (AREA)
Description
本発明はエチルベンゼンの製造において、特定
の転化条件下でTEA−シリケート触媒の存在で
適当な反応物質を接触させることによる方法に関
する。別の面において、本発明はTEAシリケー
ト触媒物質を触媒とするエチルベンゼンプロセス
において有効量の水蒸気の同時供給を利用するエ
チルベンゼンの製造に関する。さらに本発明の局
面はエチルベンゼンの製造において、望ましくな
い副成物、とくにキシレンの量を抑えながら、水
蒸気の同時供給とTEA−シリケート触媒物質の
使用によつて目的のエチルンベンゼン生成物の受
け入れられる転化率と選択性を維持する方法に関
する。 エチルベンゼンはおもに脱水素によつて得られ
るスチレンモノマーの製造に対して用いられる。
現在製造されているエチルベンゼンの多くは種々
のアルキル化条件下でのエチレンによるベンゼン
のアルキル化によつて得られる。通常のアルキル
化プロセスの1つのタイプは、エチレンとベンゼ
ンを触媒物質の存在で転化させる気相反応条件を
達成するために比較的高い圧力と温度を用いるこ
とである。一層および多層触媒床法が本技術にお
いてよく知られている。そのような方法によるエ
チルベンゼンの製造における1つの問題は望まし
くない副生物の生成であり、副生物のうちのいく
つかは目的のエチルベンゼン生成物から分離する
ことが非常に困難であるか不可能なので非常に不
利となる。ゆえに、1つの例として、これらのタ
イプの方法におけるキシレンの生成は、エチルベ
ンゼン生成物からのキシレンの分離は加工の見地
から非常に困難なので非常に望ましくない。その
ような方法において用いられる触媒が目的のエチ
ルベンゼン生成物に対して選択的でなければなら
ないという要求に加えて、反応物質のアルキル化
生成物への受け入れられる転化率を達成すること
もまた望ましい。異なつた触媒物質が供給原料を
生成物に転化する能力はときにはその「活性」と
呼ばれる。転化率は通常反応の間に生成物に変え
られる原料の量の%として測定される。触媒が高
い転化速度を維持する(すなわち活性を保持す
る)能力もまた重要である。 触媒の失活は接触アルキル化法における1つの
主要な問題である。なぜならたとえ最初は高い転
化速度が得られたとしても、長期間にわたつてよ
い転化率を維持することができないと費用のかか
る触媒の交換および/または再生操作が必要であ
る。ここで用いるように、用語「安定性」は上述
の方法の条件下で時間の関数としての触媒物質の
相対的な活性を示す。 炭化水素転化処理における天然および合成の両
方のゼオライト型触媒の使用はしばらく前から知
られている。例えば、ZSM−5およびZSM−12
として知られるものを含めてアルミノシリケート
型のゼオライト触媒は炭化水素転化法、そしてと
くに芳香族基質のアルキル化に対して適すると報
告されている。しかしながら、これらの型の触媒
に伴う1つの問題はそれらが少量の水の存在でさ
えも急速に失活することである。たとえば米国特
許第4197214号には、(たとえばアルキル化反応器
中で見いだされるような)還元雰囲気と水蒸気の
存在下での高温のもとでの急速な失活が避けられ
るべきならば、必要であることが示されているこ
れらの型の結晶性ゼオライトを安定化するための
特殊な方法が記載されている。 本質的にアルミニウム含有試薬を含まない反応
系から合成し、したがつてAlO- 4四面体骨格をま
つたく含まないかそれを結晶学的に意味のある量
含まない、「TEA−シリケート」と呼ばれる別の
型の触媒物質が米国特許第4104294号に記載され
ている。これらのTEA−シリケート触媒は動力
学的直径6.2Åを有する少なくとも28%のネオペ
ンタンを吸収することができると報告されてい
る。 TEA−シリケートは、式 R2O:0〜1.5M2O:<0.05Al2O3 :40〜70SiO2xH2O (式中、Rはテトラエチルアンモニウムカチオン
であり、Mはアルカリ金属カチオンであり、xは
水和の程度に応じて0〜15の値をとる。) で表わされるモル組成を有し、下表のデータを含
んだ粉末X線回析図で示されるような結晶構造を
有している。 面間隔d(Å) 強度比100I/Io 11.9±0.2 S 10.2±0.2 M 4.76±0.1 W 4.29±0.08 VS 3.87±0.07 VS 3.66±0.07 W 3.49±0.07 W 3.38±0.07 M 3.20±0.06 W 3.05±0.05 W 2.64±0.03 W ゆえに、望ましくないキシレン副生物の生成な
しに、そして用いる触媒物質を再生するか置き換
える必要なしに反応物質のエチルベンゼンへの転
化が達成される方法を得ることが望ましいであろ
う。 気相反応条件下でのエチレンによるベンゼンの
アルキル化が、水蒸気の同時供給を含む方法で
TEA−シリケート型触媒を用いることにより、
エチルベンゼンへのすぐれた選択性とキシレン生
成量の減少を伴う高い転化速度と低い失活速度を
有する方法で達成されることがここに発見され
た。より詳細には、反応条件に維持し、TEA−
シリケート触媒物質からなる反応領域にベンゼン
とエチレンの反応物質を導入し、ベンゼンの量に
対して約20000〜約100000ppmの量の水蒸気を反
応物質を同時供給し、アルキル化を進行させるこ
とにより、エチルベンゼンへのすぐれた転化が達
成され、キシレンの量がかなり減少することが発
見された。 ゆえに、一般に本発明は水蒸気の同時供給を含
む転化条件下でTEA−シリケート触媒の存在で
ベンゼンとエチル化剤を反応させることによりエ
チルベンゼンを製造する方法を与える。一般に、
約370〜約470℃の範囲の温度を約2:1〜約20:
1の範囲のベンゼン:エチレンモル比、約1〜約
25気圧の範囲の圧力、約40〜約200の範囲のベン
ゼンのWHSVとともに用いる。キシレンの抑制
を達成することが報告されている特定のTEA−
シリケート物質は固体無定形シリカをシリカ源と
して用いる米国特許第4104294号の開示にしたが
つて作られることが報告されている物質である。
以下の実施例において述べられているTEA−シ
リケート物質に対して用いられるシリカ源は不純
物として約0.45重量%のアルミナを含んでいた。
その結果、TEA−シリケート製品は比較的高い
外部からのアルミナ含量0.45%を含むが、その結
晶学的構造がそれほどの量のアルミニウムを含ま
ないという点で明らかに非ゼオライトである。 本発明の方法は一般に、反応物質をアルキル化
条件下でTEA−シリケート触媒と反応させるア
ルキル化反応領域にエチレン、ベンゼンおよび水
を通常水蒸気の同時供給の形で供給する段階から
なる。触媒物質は水蒸気にかなり安定であり、約
370〜約470℃の温度範囲においてエチルベンゼン
とジエチルベンゼンの製造に対して著しい選択性
がある。反応器に送つた量に対する実際に反応し
たエチレンの量によつて測定した反応物質の転化
率は高く、商業上受け入れられる期間にわたつて
そのままである。重要なことに、キシレンの生成
は顕著に、そしてある場合には反応器からの流出
物の100ppm以下に抑制することができる。 本方法はアルキル化領域が定まり、TEA−シ
リケート触媒物質を含んでいる反応容器を含めて
種々のプロセス装置を用いて行うことができる。
単層または多層の触媒床を反応領域に用いること
ができる。ベンゼンおよびエチレン反応物質は、
さらに次に特定した反応条件下でそれらが触媒床
に接触する反応領域に導入する前に混合し、予熱
する。もし望ましいならば、本方法で用いる水蒸
気は反応領域に導入する前に反応物質と混合して
よい。反応領域内での調節された滞留時間の後、
転化した炭化水素充てん物は反応器から出て、エ
チルベンゼン生成物は冷却およびほかの標準的な
回収技術によつて集められる。反応器から出る過
剰のベンゼンは通常常法によりリサイクルする。 本発明の方法で用いる触媒物質はテトラエチル
アンモニウムカチオン、アルカリ金属カチオン、
水および反応性シリカ源からなる反応混合物を用
いて水熱的に合成する結晶性微細孔オルガノシリ
ケートと特徴ずけることができる。酸素原子を共
有することによつて結合したSiO4とAlO4の3次
元的網目構造からなるアルミノシリケートである
結晶性ゼオライト物質と異なつて、本発明の方法
で用いる結晶性オルガノシリケートは本質的にア
ルミニウム含有反応物質を含まない反応系から合
成する。これらのTEA−シリケート物質はここ
で参照によつてとり入れた米国特許第4104294号
の開示によつて合成することができる。これらの
物質のアルミニウム含量は不純物として合成原料
中に含まれるアルミニウムの量に依存して変わ
る。たとえば、本発明の方法で用いる特定の
TEA−シリケート触媒は合成に用いた固体無定
形シリカ中のアルミニウム不純物のために米国特
許第4104294号で明らかにされているものよりも
わずかに高いアルミニウム含量を有することがあ
る。これらの触媒はネオペンタンを吸収する疎水
性で親有機性の物質であり、約6.2Åより大きい
孔径の開口を意味する。「TEA−シリケート」だ
けが「合成したままの」形で有機基を含み、有機
部分は炭化水素転化触媒として使用する前にか焼
によつて除くことに注意される。 一般に、本発明の方法に対するアルキル化領域
反応条件は約300〜約600℃の範囲、好ましくは約
370〜約470℃の範囲の温度を含む。水蒸気の同時
供給量は本方法におけるベンゼンの重量に対して
約20000〜約60000ppmの量を用いる。たとえば
100000ppmのような過剰量の水蒸気は触媒活性に
不利な影響をおよぼすことが観察されており、転
化率の減少を生ずる。エチレンに対して過剰のベ
ンゼンを通常用い、一般にベンゼン:エチレンの
約2:1〜約20:1のモル比の範囲である。 低いベンゼン:エチレン比が高いエチルベンゼ
ン%を生ずるので、この範囲内の低いモル比が好
ましい。本発明の方法で用いるベンゼンの重量空
間速度(WHSV)は約40〜約200の範囲でよく、
約80〜約150の範囲のWHSVが好ましい。約1〜
25気圧の間の操作圧力を用いることができ、約10
〜約15気圧の範囲が好ましい。 とくに好ましい方法において、米国特許第
4104294号の開示にしたがい、不純物として約
0.45重量%のアルミナを含んでいる固体無定形シ
リカを用いて合成したTEA−シリケート触媒を
用いる。この触媒物質は1/16インチ(0.16cm)の
触媒押出物の形であり、TEA−シリケート触媒
物質85%とアルミナバインダー15重量%を含んで
いた。その平均粒子径は約3.7μである。370〜470
℃の温度、ベンゼンに対して約40000ppmの量の
水蒸気同時供給量、約110のベンゼンWHSVおよ
び約10気圧の圧力を含む反応条件下でベンゼンと
エチレンからベンゼン:エチレンモル比約7:1
でエチルベンゼンを製造するために用いるとき、
この触媒物質はエチルベンゼンに対してすぐれた
選択性を示し、キシレンの生成は少ない。ほかの
重い有機物もまたこの孔径の大きい触媒に対して
も驚くべきほど低い。 本発明の方法は次の実施例の研究によつて例示
することができる。それは決して本発明を制限し
ようとするものではない。 実施例 ベンゼンとエチレンは約12〜20メツシユの間の
粒子径と約8.25cmの床の深さを有するTEA−シ
リケート触媒物質の床を含む反応領域に導入す
る。ベンゼン対エチレンのモル供給比は約7:1
に一定に保つ。ベンゼンのWHSVは約110に保
ち、圧力は約10気圧に保つ。アルキル化反応領域
からの生成物の流れはガスクロマトグラフイーに
よつて分析する。触媒活性は試験の間次式によつ
て求める。 転化率%=エチルベンゼンモル数+ジエチ
ルベンゼンモル数×2/反応器への供給エチレンモル数
×100% 選択性は次式により求める。 選択性=エチルベンゼンとジエチル
ベンゼンの重量×100%/全生成物重量×100% 約213.5時間の触媒の操業(swn)の間、導入
口の反応温度は約400〜425℃に、次に450℃と470
℃に調節する。ベンゼンに対して40000ppmの量
の水蒸気同時供給を各温度において用い、それに
加えて約450℃の導入口反応温度でベンゼンに対
して100000ppmの水蒸気をある時間用いる。操業
の結果を下の第1表に示す。
の転化条件下でTEA−シリケート触媒の存在で
適当な反応物質を接触させることによる方法に関
する。別の面において、本発明はTEAシリケー
ト触媒物質を触媒とするエチルベンゼンプロセス
において有効量の水蒸気の同時供給を利用するエ
チルベンゼンの製造に関する。さらに本発明の局
面はエチルベンゼンの製造において、望ましくな
い副成物、とくにキシレンの量を抑えながら、水
蒸気の同時供給とTEA−シリケート触媒物質の
使用によつて目的のエチルンベンゼン生成物の受
け入れられる転化率と選択性を維持する方法に関
する。 エチルベンゼンはおもに脱水素によつて得られ
るスチレンモノマーの製造に対して用いられる。
現在製造されているエチルベンゼンの多くは種々
のアルキル化条件下でのエチレンによるベンゼン
のアルキル化によつて得られる。通常のアルキル
化プロセスの1つのタイプは、エチレンとベンゼ
ンを触媒物質の存在で転化させる気相反応条件を
達成するために比較的高い圧力と温度を用いるこ
とである。一層および多層触媒床法が本技術にお
いてよく知られている。そのような方法によるエ
チルベンゼンの製造における1つの問題は望まし
くない副生物の生成であり、副生物のうちのいく
つかは目的のエチルベンゼン生成物から分離する
ことが非常に困難であるか不可能なので非常に不
利となる。ゆえに、1つの例として、これらのタ
イプの方法におけるキシレンの生成は、エチルベ
ンゼン生成物からのキシレンの分離は加工の見地
から非常に困難なので非常に望ましくない。その
ような方法において用いられる触媒が目的のエチ
ルベンゼン生成物に対して選択的でなければなら
ないという要求に加えて、反応物質のアルキル化
生成物への受け入れられる転化率を達成すること
もまた望ましい。異なつた触媒物質が供給原料を
生成物に転化する能力はときにはその「活性」と
呼ばれる。転化率は通常反応の間に生成物に変え
られる原料の量の%として測定される。触媒が高
い転化速度を維持する(すなわち活性を保持す
る)能力もまた重要である。 触媒の失活は接触アルキル化法における1つの
主要な問題である。なぜならたとえ最初は高い転
化速度が得られたとしても、長期間にわたつてよ
い転化率を維持することができないと費用のかか
る触媒の交換および/または再生操作が必要であ
る。ここで用いるように、用語「安定性」は上述
の方法の条件下で時間の関数としての触媒物質の
相対的な活性を示す。 炭化水素転化処理における天然および合成の両
方のゼオライト型触媒の使用はしばらく前から知
られている。例えば、ZSM−5およびZSM−12
として知られるものを含めてアルミノシリケート
型のゼオライト触媒は炭化水素転化法、そしてと
くに芳香族基質のアルキル化に対して適すると報
告されている。しかしながら、これらの型の触媒
に伴う1つの問題はそれらが少量の水の存在でさ
えも急速に失活することである。たとえば米国特
許第4197214号には、(たとえばアルキル化反応器
中で見いだされるような)還元雰囲気と水蒸気の
存在下での高温のもとでの急速な失活が避けられ
るべきならば、必要であることが示されているこ
れらの型の結晶性ゼオライトを安定化するための
特殊な方法が記載されている。 本質的にアルミニウム含有試薬を含まない反応
系から合成し、したがつてAlO- 4四面体骨格をま
つたく含まないかそれを結晶学的に意味のある量
含まない、「TEA−シリケート」と呼ばれる別の
型の触媒物質が米国特許第4104294号に記載され
ている。これらのTEA−シリケート触媒は動力
学的直径6.2Åを有する少なくとも28%のネオペ
ンタンを吸収することができると報告されてい
る。 TEA−シリケートは、式 R2O:0〜1.5M2O:<0.05Al2O3 :40〜70SiO2xH2O (式中、Rはテトラエチルアンモニウムカチオン
であり、Mはアルカリ金属カチオンであり、xは
水和の程度に応じて0〜15の値をとる。) で表わされるモル組成を有し、下表のデータを含
んだ粉末X線回析図で示されるような結晶構造を
有している。 面間隔d(Å) 強度比100I/Io 11.9±0.2 S 10.2±0.2 M 4.76±0.1 W 4.29±0.08 VS 3.87±0.07 VS 3.66±0.07 W 3.49±0.07 W 3.38±0.07 M 3.20±0.06 W 3.05±0.05 W 2.64±0.03 W ゆえに、望ましくないキシレン副生物の生成な
しに、そして用いる触媒物質を再生するか置き換
える必要なしに反応物質のエチルベンゼンへの転
化が達成される方法を得ることが望ましいであろ
う。 気相反応条件下でのエチレンによるベンゼンの
アルキル化が、水蒸気の同時供給を含む方法で
TEA−シリケート型触媒を用いることにより、
エチルベンゼンへのすぐれた選択性とキシレン生
成量の減少を伴う高い転化速度と低い失活速度を
有する方法で達成されることがここに発見され
た。より詳細には、反応条件に維持し、TEA−
シリケート触媒物質からなる反応領域にベンゼン
とエチレンの反応物質を導入し、ベンゼンの量に
対して約20000〜約100000ppmの量の水蒸気を反
応物質を同時供給し、アルキル化を進行させるこ
とにより、エチルベンゼンへのすぐれた転化が達
成され、キシレンの量がかなり減少することが発
見された。 ゆえに、一般に本発明は水蒸気の同時供給を含
む転化条件下でTEA−シリケート触媒の存在で
ベンゼンとエチル化剤を反応させることによりエ
チルベンゼンを製造する方法を与える。一般に、
約370〜約470℃の範囲の温度を約2:1〜約20:
1の範囲のベンゼン:エチレンモル比、約1〜約
25気圧の範囲の圧力、約40〜約200の範囲のベン
ゼンのWHSVとともに用いる。キシレンの抑制
を達成することが報告されている特定のTEA−
シリケート物質は固体無定形シリカをシリカ源と
して用いる米国特許第4104294号の開示にしたが
つて作られることが報告されている物質である。
以下の実施例において述べられているTEA−シ
リケート物質に対して用いられるシリカ源は不純
物として約0.45重量%のアルミナを含んでいた。
その結果、TEA−シリケート製品は比較的高い
外部からのアルミナ含量0.45%を含むが、その結
晶学的構造がそれほどの量のアルミニウムを含ま
ないという点で明らかに非ゼオライトである。 本発明の方法は一般に、反応物質をアルキル化
条件下でTEA−シリケート触媒と反応させるア
ルキル化反応領域にエチレン、ベンゼンおよび水
を通常水蒸気の同時供給の形で供給する段階から
なる。触媒物質は水蒸気にかなり安定であり、約
370〜約470℃の温度範囲においてエチルベンゼン
とジエチルベンゼンの製造に対して著しい選択性
がある。反応器に送つた量に対する実際に反応し
たエチレンの量によつて測定した反応物質の転化
率は高く、商業上受け入れられる期間にわたつて
そのままである。重要なことに、キシレンの生成
は顕著に、そしてある場合には反応器からの流出
物の100ppm以下に抑制することができる。 本方法はアルキル化領域が定まり、TEA−シ
リケート触媒物質を含んでいる反応容器を含めて
種々のプロセス装置を用いて行うことができる。
単層または多層の触媒床を反応領域に用いること
ができる。ベンゼンおよびエチレン反応物質は、
さらに次に特定した反応条件下でそれらが触媒床
に接触する反応領域に導入する前に混合し、予熱
する。もし望ましいならば、本方法で用いる水蒸
気は反応領域に導入する前に反応物質と混合して
よい。反応領域内での調節された滞留時間の後、
転化した炭化水素充てん物は反応器から出て、エ
チルベンゼン生成物は冷却およびほかの標準的な
回収技術によつて集められる。反応器から出る過
剰のベンゼンは通常常法によりリサイクルする。 本発明の方法で用いる触媒物質はテトラエチル
アンモニウムカチオン、アルカリ金属カチオン、
水および反応性シリカ源からなる反応混合物を用
いて水熱的に合成する結晶性微細孔オルガノシリ
ケートと特徴ずけることができる。酸素原子を共
有することによつて結合したSiO4とAlO4の3次
元的網目構造からなるアルミノシリケートである
結晶性ゼオライト物質と異なつて、本発明の方法
で用いる結晶性オルガノシリケートは本質的にア
ルミニウム含有反応物質を含まない反応系から合
成する。これらのTEA−シリケート物質はここ
で参照によつてとり入れた米国特許第4104294号
の開示によつて合成することができる。これらの
物質のアルミニウム含量は不純物として合成原料
中に含まれるアルミニウムの量に依存して変わ
る。たとえば、本発明の方法で用いる特定の
TEA−シリケート触媒は合成に用いた固体無定
形シリカ中のアルミニウム不純物のために米国特
許第4104294号で明らかにされているものよりも
わずかに高いアルミニウム含量を有することがあ
る。これらの触媒はネオペンタンを吸収する疎水
性で親有機性の物質であり、約6.2Åより大きい
孔径の開口を意味する。「TEA−シリケート」だ
けが「合成したままの」形で有機基を含み、有機
部分は炭化水素転化触媒として使用する前にか焼
によつて除くことに注意される。 一般に、本発明の方法に対するアルキル化領域
反応条件は約300〜約600℃の範囲、好ましくは約
370〜約470℃の範囲の温度を含む。水蒸気の同時
供給量は本方法におけるベンゼンの重量に対して
約20000〜約60000ppmの量を用いる。たとえば
100000ppmのような過剰量の水蒸気は触媒活性に
不利な影響をおよぼすことが観察されており、転
化率の減少を生ずる。エチレンに対して過剰のベ
ンゼンを通常用い、一般にベンゼン:エチレンの
約2:1〜約20:1のモル比の範囲である。 低いベンゼン:エチレン比が高いエチルベンゼ
ン%を生ずるので、この範囲内の低いモル比が好
ましい。本発明の方法で用いるベンゼンの重量空
間速度(WHSV)は約40〜約200の範囲でよく、
約80〜約150の範囲のWHSVが好ましい。約1〜
25気圧の間の操作圧力を用いることができ、約10
〜約15気圧の範囲が好ましい。 とくに好ましい方法において、米国特許第
4104294号の開示にしたがい、不純物として約
0.45重量%のアルミナを含んでいる固体無定形シ
リカを用いて合成したTEA−シリケート触媒を
用いる。この触媒物質は1/16インチ(0.16cm)の
触媒押出物の形であり、TEA−シリケート触媒
物質85%とアルミナバインダー15重量%を含んで
いた。その平均粒子径は約3.7μである。370〜470
℃の温度、ベンゼンに対して約40000ppmの量の
水蒸気同時供給量、約110のベンゼンWHSVおよ
び約10気圧の圧力を含む反応条件下でベンゼンと
エチレンからベンゼン:エチレンモル比約7:1
でエチルベンゼンを製造するために用いるとき、
この触媒物質はエチルベンゼンに対してすぐれた
選択性を示し、キシレンの生成は少ない。ほかの
重い有機物もまたこの孔径の大きい触媒に対して
も驚くべきほど低い。 本発明の方法は次の実施例の研究によつて例示
することができる。それは決して本発明を制限し
ようとするものではない。 実施例 ベンゼンとエチレンは約12〜20メツシユの間の
粒子径と約8.25cmの床の深さを有するTEA−シ
リケート触媒物質の床を含む反応領域に導入す
る。ベンゼン対エチレンのモル供給比は約7:1
に一定に保つ。ベンゼンのWHSVは約110に保
ち、圧力は約10気圧に保つ。アルキル化反応領域
からの生成物の流れはガスクロマトグラフイーに
よつて分析する。触媒活性は試験の間次式によつ
て求める。 転化率%=エチルベンゼンモル数+ジエチ
ルベンゼンモル数×2/反応器への供給エチレンモル数
×100% 選択性は次式により求める。 選択性=エチルベンゼンとジエチル
ベンゼンの重量×100%/全生成物重量×100% 約213.5時間の触媒の操業(swn)の間、導入
口の反応温度は約400〜425℃に、次に450℃と470
℃に調節する。ベンゼンに対して40000ppmの量
の水蒸気同時供給を各温度において用い、それに
加えて約450℃の導入口反応温度でベンゼンに対
して100000ppmの水蒸気をある時間用いる。操業
の結果を下の第1表に示す。
【表】
上のデータはTEA−シリケート触媒物質と水
蒸気同時供給の組合せを用いることによりベンゼ
ンとエチレンのエチルベンゼンへのすぐれた転化
率が達成され、副生物としての望ましくないキシ
レンの生成が相当減少することを示す。 明細書と実施例を読むと通常の当業者は、本発
明の方法が種々の方法で改良したり修正できるこ
とを認めるであろう。添付した特許請求の範囲の
範囲内に入るすべてのそのような改良または修正
はそれによつてカバーされることを意味してい
る。
蒸気同時供給の組合せを用いることによりベンゼ
ンとエチレンのエチルベンゼンへのすぐれた転化
率が達成され、副生物としての望ましくないキシ
レンの生成が相当減少することを示す。 明細書と実施例を読むと通常の当業者は、本発
明の方法が種々の方法で改良したり修正できるこ
とを認めるであろう。添付した特許請求の範囲の
範囲内に入るすべてのそのような改良または修正
はそれによつてカバーされることを意味してい
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エチルベンゼンの製造において、エチルベン
ゼンへの接触的転化を増進させるのに有効な量の
水蒸気を含むアルキル化反応条件でTEA−シリ
ケート触媒物質の存在でベンゼンとエチレンを接
触させることからなる方法。 2 ベンゼンに対して20000〜60000ppmの量の水
蒸気が存在する、特許請求の範囲第1項記載の方
法。 3 上記のアルキル化反応条件が370〜470℃の範
囲の温度を含む、特許請求の範囲第2項記載の方
法。 4 上記のアルキル化反応条件が大気圧から25気
圧までの範囲の圧力からなる、特許請求の範囲第
3項記載の方法。 5 上記のアルキル化反応条件が40〜200の範囲
のベンゼンの重量空間速度(WHSV)を含む、
特許請求の範囲第4項記載の方法。 6 エチルベンゼンの製造において、 (a) アルキル化条件に維持され、TEA−シリケ
ート触媒物質からなる反応領域にベンゼンとエ
チレン反応物質を導入し、 (b) 上記の反応物質とともにベンゼンの量に対し
て20000〜60000ppmの量の水蒸気を上記の反応
領域に一緒に供給し、 (c) 上記の反応領域からエチルベンゼン生成物を
取り出す、 ことからなる特許請求の範囲第1項記載の方法。 7 上記のアルキル化条件が370〜470℃の範囲の
温度を含む、特許請求の範囲第6項記載の方法。 8 3:1〜20:1の範囲のベンゼン:エチレン
モル比からなる特許請求の範囲第6項記載の方
法。 9 4〜200の範囲のベンゼンのWHSVからな
る、特許請求の範囲第6項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/380,583 US4400570A (en) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | Ethylbenzene production employing tea-silicate catalysts |
US380583 | 1982-05-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58210030A JPS58210030A (ja) | 1983-12-07 |
JPH0416447B2 true JPH0416447B2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=23501735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58085992A Granted JPS58210030A (ja) | 1982-05-21 | 1983-05-18 | エチルベンゼンの製造法 |
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JP (1) | JPS58210030A (ja) |
CA (1) | CA1199940A (ja) |
DE (1) | DE3318515A1 (ja) |
FR (1) | FR2527199B1 (ja) |
GB (1) | GB2120676B (ja) |
IT (1) | IT1164228B (ja) |
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JPS56139425A (en) * | 1980-03-06 | 1981-10-30 | Shell Int Research | Method of carrying out contact conversion |
Family Cites Families (12)
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NL179576C (nl) * | 1979-06-06 | 1986-10-01 | Shell Int Research | Kristallijne silicaten; werkwijze voor de bereiding van kristallijne silicaten; werkwijze voor de bereiding van aromatische koolwaterstoffen. |
JPS5943929B2 (ja) * | 1979-08-13 | 1984-10-25 | サッポロビール株式会社 | 多糖体rbs物質,その製法およびそれを有効成分とする抗腫瘍性剤 |
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- 1982-05-21 US US06/380,583 patent/US4400570A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-05-16 NL NL8301729A patent/NL193693C/nl not_active IP Right Cessation
- 1983-05-18 JP JP58085992A patent/JPS58210030A/ja active Granted
- 1983-05-18 GB GB08313756A patent/GB2120676B/en not_active Expired
- 1983-05-18 CA CA000428389A patent/CA1199940A/en not_active Expired
- 1983-05-20 DE DE3318515A patent/DE3318515A1/de active Granted
- 1983-05-20 FR FR8308379A patent/FR2527199B1/fr not_active Expired
- 1983-05-20 IT IT21201/83A patent/IT1164228B/it active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE3318515C2 (ja) | 1993-01-14 |
IT1164228B (it) | 1987-04-08 |
NL193693B (nl) | 2000-03-01 |
US4400570A (en) | 1983-08-23 |
NL193693C (nl) | 2000-07-04 |
GB2120676A (en) | 1983-12-07 |
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