JPH08502052A - 過酸化合物 - Google Patents
過酸化合物Info
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- JPH08502052A JPH08502052A JP6508808A JP50880894A JPH08502052A JP H08502052 A JPH08502052 A JP H08502052A JP 6508808 A JP6508808 A JP 6508808A JP 50880894 A JP50880894 A JP 50880894A JP H08502052 A JPH08502052 A JP H08502052A
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Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.一般化学式: (式中、Qは無機担体を表し、Aは脂肪族および/または芳香族架橋基であり 、Rは水素、アルキルもしくはアリール基、または式 X-CO3H を有する基を表し 、Xは任意に置換されたアルキレンまたはアリーレン基を表し、そしてX’は任 意に置換されたアルキレンまたはアリーレン基を表す) で表される基を含むことを特徴とする、無機担体に化学的に結合された有機過酸 。 2.一般化学式: (式中、Qは無機担体を表し、Aは脂肪族および/または芳香族架橋基であり 、Rは水素、アルキルもしくはアリール基、または式 X-CO3H を有する基を表し 、Xは任意に置換されたアルキレンまたはアリーレン基を表し、そしてX’は任 意に置換されたアルキレンまたはアリーレン基を表す) で表される基を含むことを特徴とする、無機担体に化学的に結合された有機過酸 の製造方法であって、次の工程: 工程(i) 式 Q-OH の少なくとも1つのヒドロキシ側基を有する無機担体を 、一般化学式 R'3Si-A-NHY (式中、Aは先に定義したとおりであり、R’はア ルコキシ基を表し、そしてYは水素、アルキルもしくはアリール基、または 式 X-CO3H を有する基を表す)を有するシランと反応させて、式 Q-O-Si-A-NHY の中間体を形成させること; 工程(ii) 工程(i)からの中間体を式 Z-X-Dまたは ZZ'-X'-D (式中 、XおよびX’は先に定義したとおりであり、ZおよびZ’はオキシ−またはハ ロゲン−含有離脱基を表し、そしてDはカルボン酸基またはそれに変換し得る 工程(iii) 工程(ii)からの中間体を強酸の存在下で過酸化水素と反応 させることにより上記一般式の1つを有する無機物担持過酸を製造すること; からなる方法。 3.Aが1〜10個の炭素原子を有する直鎖状のアルキレン基からなることを特 徴とする、請求項1または2に記載の有機過酸または方法。 4.Aが2〜5個の炭素原子を有する直鎖状のアルキレン基からなることを特徴 とする、請求項3に記載の有機過酸または方法。 5.Xが18個までの炭素原子を有する直鎖状のアルキレン基からなることを特 徴とする、前記請求項のいずれか1つに記載の有機過酸または方法。 6.Xが10〜14個の炭素原子を有する直鎖状のアルキレン基からなることを 特徴とする、請求項5に記載の有機過酸または方法。 が環状イミドアリーレン基からなることを特徴とする、前記請求項のいずれか1 つに記載の有機過酸または方法。 機過酸または方法。 9.Qがアルミニウム、ケイ素またはアルミノケイ酸塩をベースとする無機担体 からなることを特徴とする、前記請求項のいずれか1つに記載の有機過酸または 方法。 10.Qがシリカゲルまたは天然もしくは合成の粘土からなることを特徴とする、 請求項9に記載の有機過酸または方法。 11.無機担体が50〜1000m2/gの範囲の表面積を有することを特徴とす る、前記請求項のいずれか1つに記載の有機過酸または方法。 12.無機担体が200〜800m2/gの範囲の表面積を有することを特徴とす る、前記請求項のいずれか1つに記載の有機過酸または方法。 13.工程(i)をトルエン、石油エーテルのような炭化水素、クロロベンゼンの ようなハロゲン化炭化水素、およびエーテルよりなる群から選ばれる溶媒中で実 施することを特徴とする、請求項2〜12のいずれか1つに記載の方法。 14.工程(ii)を低分子量の有機酸よりなる群から選ばれる溶媒中で実施するこ とを特徴とする、請求項2〜13のいずれか1つに記載の方法。 15.工程(iii)において、強酸が硫酸、メタンスルホン酸、リン酸およびこれ らの混合物よりなる群から選ばれることを特徴とする、請求項2〜14のいずれ か1つに記載の方法。 16.工程(iii)を40℃までの温度で実施することを特徴とする、請求項2〜 15のいずれか1つに記載の方法。 17.無機担体が250〜350m2/gの範囲の表面積を有するシリカゲルであ り、Aが直鎖状の(CH2)3基であり、Nがベンゼン環に結合された2個のカルボ ニル基に結合してフタルイミド基を形成し、そして過酸基が一方のカルボニル基 に対してメタ位置で、他方のカルボニル基に対してパラ位置でベンゼン環に直接 結合されて、式: を有する無機物担持過酸をもたらすことを特徴とする、前記請求項のいずれか1 つに記載の有機過酸または方法。 18.実施例に関して本明細書中に実質的に記載したとおりの有機過酸または方法 。 19.新規な特徴または特徴の組合せに関して本明細書中に実質的に記載したとお りの有機過酸または方法。
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Applications Claiming Priority (16)
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Publications (2)
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JPH08502052A true JPH08502052A (ja) | 1996-03-05 |
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ID=27571616
Family Applications (1)
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JP5508808A Expired - Fee Related JP2544580B2 (ja) | 1992-01-20 | 1993-01-18 | 磁気ヘッド組立体、その製造方法及び磁気ディスク装置 |
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JP (1) | JP2544580B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5881719U (ja) * | 1981-11-27 | 1983-06-02 | ソニー株式会社 | 多チヤンネル薄膜磁気ヘツド |
JPS6029914A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜ヘツド |
JPS61153117U (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-22 | ||
JPH01263906A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Hitachi Ltd | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッド及びその組立体 |
-
1993
- 1993-01-18 JP JP5508808A patent/JP2544580B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5881719U (ja) * | 1981-11-27 | 1983-06-02 | ソニー株式会社 | 多チヤンネル薄膜磁気ヘツド |
JPS6029914A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜ヘツド |
JPS61153117U (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-22 | ||
JPH01263906A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Hitachi Ltd | ダブルアジマス薄膜磁気ヘッド及びその組立体 |
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JP2544580B2 (ja) | 1996-10-16 |
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