JPH083576B2 - 光学式結像装置及びマスクパタ−ン結像装置 - Google Patents

光学式結像装置及びマスクパタ−ン結像装置

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JPH083576B2
JPH083576B2 JP62021904A JP2190487A JPH083576B2 JP H083576 B2 JPH083576 B2 JP H083576B2 JP 62021904 A JP62021904 A JP 62021904A JP 2190487 A JP2190487 A JP 2190487A JP H083576 B2 JPH083576 B2 JP H083576B2
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ヤン・エフェルト・ファン・デル・ウェルフ
ヨハネス・ウィルヘルムス・マリア・ビーステルボス
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エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン
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    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Variable Magnification In Projection-Type Copying Machines (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、結像装置の結像面と結像装置によって形成
されるべき像が存在する第２面との間の変位量を決定す
るオプトエレクトロニクス フォーカシングエラー検出
系を具え、このフォーカシングエラー検出系が補助ビー
ムを発生する放射源と、この放射源に対して第２面の同
一側に位置する２個の放射感知検出器と、補助ビームを
第２面に向けて進行させ、この面内に放射スポットを形
成すると共にこの放射スポットを前記２個の検出器の面
内に結像させるための複数の光学素子とを有し、２個の
検出器の出力信号の差を前記変位量の測定値とする光学
式結像装置に関するものである。
微細な細部を結像するためのレンズ系は多きな開口数
を有しており、焦点深度が微小なものとなってしまう。
この種のレンズ系は例えば集積回路の製造工程において
マスクパターンを基板上に結像するために用いられ、例
えばマスクパターンのような物体が結像される実際の面
と例えば基板面のように物体が結像されるべき面との間
の偏位量を検出し、偏位量に応じてレンズ系のフォーカ
シングを補正できることが重要である。
米国特許第4,356,392号明細書には、マスクパターン
を介して半導体基板を繰り返し露光する装置の一部分が
記載さている。この装置は“ウェハ ステッパ”として
称せられており、本明細書冒頭部に記載された型式のフ
ォーカシングエラー検出系を有している。このフォーカ
シングエラー検出系は投影レンズ系と基板との間の距離
を一定に維持するためのサーボ系の一部分を構成する。
フォーカシングエラー検出系の出力信号を駆動装置に供
給し、この駆動装置によってフォーカシングエラーの大
きさ及び向きに応じて投影レンズ系をその光軸に沿って
移動させ、この投影レンズ系を基板上で常時高精度に合
焦させている。
米国特許第4,356,392号明細書に記載されているフォ
ーカシングエラー検出系と共働する結像装置は、微細な
細部、すなわち１μｍ又はそれ以上のオーダの線幅を有
する集積回路の製造に用いられるように適切に改良され
ている。基板の単位領域当りの電子部品の集積度を高め
るため、すなわち部品の寸法を一層小さくするため線幅
が１μｍ以下の微細な像を繰り返し結像できる装置の必
要性が生じている。
このような装置のための結像装置は極めて高い解像度
を有しなければならず、一方結像範囲は比較的大きく例
えば10×10mm2のオーダに亘らねばならない。このよう
な結像装置を用いれば今まで問題にならなかった問題点
が生ずるおそれがあり、すなわち結像装置の能力が周囲
の影響に依存する問題点が生ずるおそれがある。例え
ば、結像装置の周囲媒質の気圧が変化するような場合結
像装置の焦点面が変位し、この結果結像装置と基板との
間の距離が正しく設定されていても基板上のマスクパタ
ーンの像がもはや合焦しなくなってしまう。この場合基
板と結像装置との間の相対位置が変化してないため、既
知のフォーカシングエラー検出系ではこのような変位を
検出することができない。
更に、サブミクロンの微細部を有する像を結像させる
ための装置を操作する操作者が、この装置によって露光
し順次試験したテスト用の基板によって得た結果に従っ
てフォーカシング制御信号の零点を変位させたり又はフ
ォーカシングエラー信号の特有の“オフセット”を誘導
することができることが一般的に要請されている。
従って、本発明の目的は、この要求に適合すると共に
前述した欠点を解消する結像装置を提供するものであ
る。この目的を達成するため、本発明による結像装置
は、環境因子又は操作者による設定点を表わす信号によ
って制御され、前記結像装置の動作中に前記検出器に形
成される放射スポットの像を前記偏位量に独立して検出
器に対して相対的に移動させる調整手段を有し、前記フ
ォーカシングエラー信号の零点を前記環境因子又は操作
者による設定点に適合させるように構成したことを特徴
とする光学式結像装置。
このように構成すれば、フォーカシングサーボ系は、
調整手段を制御する信号の大きさに基く基準点に応じて
制御される。この信号は、例えば結像装置の周囲媒質の
気圧に比例させることができ、或は装置の操作者によっ
て誘導された信号とすることもできる。
この調整可能な手段は、フォーカシングエラー検出系
全体を結像装置に対してこの結像装置の光軸に沿って変
位させるための例えば電気機械式のアクチュエータを有
することができる。
このためには、比較的大きな質量のものを1/10μｍの
オーダで高精度に変位させる必要があるため、実際には
フォーカシングエラー検出系の光学素子のうちの１個の
光学素子を、この検出系の他の光学素子に対して並進移
動可能又は回動可能にして使用することが望ましい。
更に、本発明の好適実施例は、低い光学パワーの調整
可能な光学系素子を有することを特徴とする。
この光学素子は、オリジナルのフォーカシングエラー
検出系の一部を構成しないが、特別にフォーカシングエ
ラー検出系と共働してフォーカシングエラー信号の零点
を調整することができる。低い光学パワーの調整可能な
素子を用いる結果、素子が比較的大きな角度に亘って回
動し又は比較的長い距離に亘って並進移動しても検出器
上に再結像する放射スポットの変位が比較的小さいの
で、この放射スポットを所望なだけ高精度に変位させる
ことができる。
調整可能な光学素子を有するフォーカシングエラー検
出系の実施例は、調整可能な光学素子が、補助ビームの
光軸を横切るように移動可能な強度の弱いレンズを有す
ることを特徴とする。
回動は並進移動より機械的に一層簡単に所望の精度で
実現できるので、フォーカシングエラー検出系の好適実
施例は、調整可能な光学素子が回動可能な薄い平行平板
を有することを特徴とする。
ビーム反転素子が、前記第２面で１回目に反射された
補助ビームの光路内に配置され、このビーム反転素子が
補助ビームをそのビーム自身の経路に沿うように反射
し、前記２個の検出器が、前記第２面で２回目に反射さ
れた補助ビームの光路内に配置されていることを特徴と
する光学式結像装置においては、本発明の別の利点が得
られる。米国特許第4,356,392号明細書に記載されてい
るように、この別の方法を採用すれば、第２面を規定す
る面の反射性が部分的に相異してもフォーカシングエラ
ー信号に何ら影響を及ぼさず、しかもフォーカシングエ
ラー検出系の感度が２個の因子によって増大する。例え
ば周囲媒質の気圧が変化した結果結像装置の焦点面が変
位したり本発明に従ってフォーカシングエラー信号の零
点が適切に変位されないと、光源から放射した補助ビー
ムによって第２面内に形成される放射スポットが戻り補
助ビームによって第２面内に形成される放射スポットと
一致せず、第２面を規定する面の反射性の部分的相異に
よってフォーカシングエラー信号が再び影響を受けるこ
とになるであろう。
本発明は、マスクパターンホルダと基板ホルダとの間
に配置されフォーカシングエラー検出系を有する結像装
置を具え、マスクパターンを基板上に繰り返し結像する
ための装置に用いることができる。この装置は調整可能
な零点を有するフォーカシングエラー信号を、結像装置
及び基板ホルダのうちの１個のためのアクチュエータ手
段に供給し、これらの部品を結像装置の光軸に沿って互
いに相対的に移動させるように構成したことを特徴とす
る。
更に、本発明は、周囲媒質の種々の変化によって結像
装置の焦点面が変位するおそれのあるフォーカシングエ
ラー検出系を有する結像装置や操作者によって焦点面を
調整できることが必要とされるフォーカシングエラー検
出系を有する結像装置に一般的に用いるのが好適であ
る。この例として反射型顕微鏡及び透過型顕微鏡の両方
に用いる場合がある。透明な物体に補助ビームを入射さ
せてもフォーカシングエラー検出するために必要な適当
な量の放射光が反射されるためである。
以下、半導体基体上にマスクパターンを繰り返し結像
する装置を用いて本発明を詳細に説明する。
第１図において、結像装置Ｌは物体（図示せず）、例
えばマスクパターンを面PS上に結像する作用を行ない、
この面PSは半導体基体の表面を画成する面とすることが
でき以下の説明において第２面として称する。この結像
装置ＬはレンズホルダＨ内に装着した複数のレンズ素子
を有することができ、これらレンズ素子のうちの１個の
レンズL1を第１図に示す。フォーカシングエラー検出系
は結像装置Ｌと関連しており、好ましくはレーザダオー
ドから成る放射源１と例えばプリズムから成る複数の反
射素子2,3,4及び５と、例えばフォトダイオードから成
る２個の放射感知検出器６及び７とを有している。この
フォーカシングエラー検出系は結像装置Ｌに固定的に接
続することができ、この結合状態をプリズム２及び５と
結像装置Ｌとの間の接続部材８及び９により線図的に示
す。放射源１から放射した補助ビームはプリズム２及び
３により面PSに向けて進行し、この面PSで反射したビー
ムはプリズム４及び５を経て検出器６及び７に入射す
る。第１レンズ10はフォーカシングエラー検出系の結像
面である面PF内に放射スポットV1の形態で結像し、一方
第２レンズ11はこの放射スポットを検出器面PD内に放射
スポットV2として結像する。このフォーカシングエラー
検出系は結像装置Ｌに対して適切に配列され、結像装置
Ｌの結像面PLはこの結像面PLと光軸との交点を含み水平
に延在すると共にフォーカシングエラー検出系の結像面
PFと一致し、結像面PLと光軸との交点を第２レンズ11に
より検出器６及び７の面内に結像する。
結像面Plが、反射面又はわずかな反射面を画成るする
面PSと一致すれば、放射スポットV1は放射スポットV2と
して結像され、この放射スポットV2は検出器６及び７に
対して対称的に形成される。従って、これらの検出器６
及び７は等しい強度の放射を受光する。従って、検出器
６及び７に接続されている差動増幅器12の出力信号、す
なわちフォーカシングエラー信号Sfは零となる。面PSと
結像装置Ｌとの間の距離が変化すると、再結像した放射
スポットは検出器６及び７上で変位する。第１図に示す
ように、面PSが矢印PS′で示される下向きに変位する
と、この面PS′に形成されるスポットV1′は破線で示さ
れる放射光路に沿って進みV2′に結像する。
従って検出器６は検出器７よりも一層低い強度の放射
を受光し、フォーカシングエラー信号Sfは零えば負とな
る。面PSが上方に向けて変位するとこの関係が反転し、
検出器６は検出器７よりも一層高い放射強度を受光す
る。従って、信号Sfは、例えば、正となる。フォーカシ
ングエラー信号Sfをアクチュエータ手段14を制御するた
めの制御回路13に供給し、このアクチュエータ手段14に
より基板面PS又は結像装置Ｌの光軸方向の位置を補正す
ることができる。
サブビームｂの面PSに対する入射角αをできるだけ大
きくなるように、例えば80゜程度の角度に選択し、結像
装置Ｌに対する面PSの誤差の最大感度を得ると共に面PS
でサブビームを最大に反射させる。
第２図はフォーカシングエラー信号Sfを結像装置Ｌの
面PLと面PSとの間の距離Ｚの関数として示す。この信号
は面PLと面PSとが一致している関係を示すＺ＝０となる
点の付近においてリニアである。このフォーカシングエ
ラー検出系は精度が極めて高いが、リニアな制御範囲ｄ
が極めて僅かであり、例えば６μｍ程度である。
結像装置の周囲媒質の変化、例えば周囲媒質の屈折率
を変化させるような気圧の変化が生ずると、結像装置に
フォーカシング検出系では検出できない焦点状態の変化
が生ずるおそれがあり、このような変化を補償できるこ
とが必要となる。更に、結像装置と試験用基板との間の
距離を最良に調整する場合、結像装置によって試験用基
板上に形成した試験用の画像に基いて手動的にフォーカ
シング調整できることが要請されている。
これの要求を満たすため、フォーカシングエラー信号
の零点を変位させること、すなわち制御回路13に例えば
気圧変化又は操作者によって決定された信号に比例する
信号を供給してフォーカシングサーボ系の制御点を電子
的に変位させることが想定される。しかしながら、信号
Sfのリニアな制御範囲ｄが微小であるため、フォーカシ
ングエラー信号によって制御される範囲が極めて微小な
範囲となってしまう。更に、サブビームが第２面、すな
わち基板表面で２回反射するフォーカシングエラー検出
系においては、サブビームの第１光路中及び第２光路中
の第２面に形成した放射スポットがもはや一致せず、こ
の検出系の特有の利点が喪失されてしまう。
本発明においては、前述した気圧の変化又は操作者に
よって選択された信号の大きさに応じて検出器面上に再
結像される放射スポットV2の位置を変位させることによ
り、フォーカシングエラー信号の零点シフト又はオフセ
ットを達成する。第３図に示すように、フォーカシング
エラー検出系の結像面PFすなわち放射源１が合焦する面
をシフトさせることによって、このオフセットを得るこ
とができる。例えば平行平板15を軸16を中心にして傾斜
させることによりこの結像面をシフトさせることができ
る。PF″,PL″示されるフォーカシングエラー検出系の
変位した像面は、周囲の条件変化の影響のもとで変位し
た結像装置Ｌの像面となる。基板面PSと結像装置との間
の距離が正しい場合であっても面PF″が面PSと一致しな
いので、基板面PS上に形成される放射スポットV1″の像
V2″が検出器面PD上で像V2に対して変位し、フォーカシ
ングエラー信号が零でなくなる。このフォーカシングエ
ラー信号の作用により基板面がPSからPS″に適切に変位
し、フォーカシングエラー信号が再び零になる。従っ
て、基板面と結像装置との間の距離が、例えば気圧の変
化或いは操作者によって入力された信号に適応すること
になる。
第4a図及び第4b図は既知のフォーカシングエラー検出
系と本発明によるフォーカシングエラー検出系との間に
おける作用上の差異を示し、本例では結像装置の像面PL
を変位させる場合、すなわち操作者により焦点補正が行
なわれた場合を示す。これら第4a図及び第4b図は２個の
レンズ10と11との間の放射光路の一部だけを示す。再び
フォーカシングエラー検出系の像面を符号PFで示し、第
２面すなわち基板面を符号PSで示す。第4a図に示す既知
のフォーカシングエラー検出系では、結像装置Ｌと基板
との間の距離が面PFと面PSとが一致するようにだけ補正
され、結像装置Ｌの像面PL″の変位は検出されない。事
実、この結像装置Ｌの変位は基板面PS内の放射スポット
V1の位置に影響を及ぼさず従って検出器上のこのスポッ
トの像の位置にも影響を及ぼさない。
第4b図に示す本発明によるフォーカシングエラー検出
系においては、フォーカシングエラー検出器の像面PF″
が結像装置Ｌの像面PL″の変位に比例して変位する。こ
の結果、基板面PS上の放射スポットV1″が変位し、この
結果検出器上のこのスポットの像も変位する。従って、
フォーカシングエラー信号Sfが零にならず、基板面の位
置が適切に補償されて基板面PSが変位した像面PF″及び
PL″と一致する。
フォーカシングエラー検出系の像面PFは種々の方法で
変化させることができる。第１図の方法は、結像装置Ｌ
に対してフォーカシングエラー検出系全体を移動する方
法があり、このために例えれば、第１図の接続部材８及
び９をスライド可能にする。比較的重量の大きいフォー
カシングエラー検出系を十分の数μｍ程度の範囲に亘っ
て所望の精度で変位させることは容易ではないから、実
際にはこの検出系内で軽量な素子を移動させることが望
ましい。従って、軸16を中心にして回動可能な平行平板
15をフォーカシングエラー検出系に配置することが一層
望ましい。この平行平板15を傾けることによりビームｂ
の光路長が変化し、従って放射源１が結像する面PFの位
置が変化する。この平行平板15の厚さが薄い場合、例え
ば150μｍ程度の厚さの場合、例えば１゜の角度だけ傾
けることにより面PFが例えば１μｍ程度の微小な変位を
生じ、この結果面PFの位置を極めて高精度に調整するこ
とができる。
回動可能な平行平板を用いる代りに、フォーカシング
エラー検出系に強度の弱いレンズを配置することもでき
る。第１図に破線で示すこのレンズ26を矢印27で示す方
向に移動させることによって所望の変位が得られる。
像面PFを変位させる代りに、基板と検出器面PDとの間
の放射光路中に配置した素子を傾けたり又は移動するこ
とによって検出器６及び７上で放射スポットV2を変位さ
せることもできる。従って、素子15及び26を第１図及び
第３図に示す装置の右手部分に配置することもできる。
更に、フォーカシングエラー検出系を構成する素子を
傾け又は移動することにより、例えばプリズム2,3,4及
び５を傾けたり、レンズ10及び11又は放射源であるダイ
オードレーザ１又は検出器をビームｂの軸を横切るよう
に移動させることにより検出器上に放射スポットV2を変
位させることができる。
第５図は米国特許明細書第4,356,392号の構成による
利点と本発明による利点とを結合したフォーカシングエ
ラー検出装置を示す。
面PSで反射したビームｂの光路中にビーム反転素子、
すなわち逆反射体を配置する。この逆反射対は凹面鏡す
なわち猫の目と称せられる素子を有し、この素子は第５
図に示すようにレンズ11とレンズ11の焦点面に配置され
ているミラー17とを有している。この逆反射体はビーム
ｂをその経路に沿うように反射し、放射スポットV1の同
一の位置に合焦させる。米国特許明細書第4,356,392号
で説明されているように、ビームｂの放射スポットV1の
第１部分に位置する部分はミラー17で反射した後放射ス
ポットV1の第１部分と正反対に対向する第２部分に位置
するであろう。このように構成すれば、例えば基板面PS
が光拡散構造をしているため部分的に反射の差異が生じ
ても、この差異は検出器６及び７上に形成される放射ス
ポットV2中の強度分布に影響を及ぼすことはない。フォ
ーカシングエラー検出系の像面PFが本発明に従って変位
する場合、サブビームｂが基板面PSの同一点で２回反射
することによる利点はそのまま維持される。
基板面PSの結像装置Ｌに対する変位がたとえ微小であ
っても適当なフォーカシングエラー信号を形成するため
には、放射スポットV1は高い明るさを有していなければ
ならない。従って、放射源１は安定したビームを放射す
る適切なダイオードレーザとする。適当なダイオードレ
ーザから放射したビームｂはレンズ８によって平行ビー
ムとされる。このビームの一部分はビームスプリッタ19
によってプリズム２に向けて反射される。ビームスプリ
ッタ19は半透鏡とすることができ、或いは半透過性プリ
ズムすなわち偏光感知スプリッタプリズム19とλ/4板20
とを組み合せたものとすることができる。ここでλはビ
ームｂの波長である。面PSで２回反射した戻りビームの
一部分はビームスプリッタ19を経て２個の検出器６及び
７に入射する。レンズ21により放射スポットV1の像V2を
２個の検出器の面内に形成する。
偏光感知プリズムとλ/4板とを用いれば、放射源１か
ら放射したビーム及び基板で２回反射したビームをほぼ
損失させることなく有効に利用することができる。放射
源１から発したビームはほとんど全部がプリズム19を透
過させるように偏光される。すなわち、光路中において
このビームはλ/4板20を２回透過するので、ビームの偏
光方向が90゜回転し、このビームは順次ほとんど全部が
プリズム19を透過する。
基板Ｓより前側の放射ビームの光路中にλ/4板を適切
に配置する。
従って、面PSを規定する基板表面の第１偏光方向のビ
ームに対する反射係数が第１偏光方向と直交する第２偏
光方向のビームに対する反射係数と相違することはもは
や重要ではない。ダイオードレーザから放射した直線偏
光放射は、λ/4板20によって円偏光に変換され、この結
果面PSを規定する基板表面に入射する放射は互いに直交
する方向に偏光している２個のビーム成分を有する。従
って、λ/4板20は二重の機能を有することになる。
結像装置を、基板を繰り返し露光するための装置に用
いる場合、第５図に示すようにこの結像装置を投影円筒
体Ｆ内に装着する。この結像装置は、マスクテーブル25
上に配置したマスクパターンを基板台23上に位置する基
板Ｓの表面の面PSに結像する。結像装置又はその一部
は、フォーカシングエラー信号Sfによって制御される既
知のアクチュエータ手段（図示せず）によって光軸00′
に沿って移動することができる。或はまた、結像装置を
静止させ基板テーブル23をフォーカシングエラー信号Sf
に応じて光軸に沿って移動させることができる。投影円
筒体Ｆは光軸と直交する方向に移動することができな
い。第５図に示すように、レンズホルダＨは場合によっ
てはフォーカシングエラー検出系と一緒にすることがで
き、このレンズホルダＨを例えば２個のスプリング22又
はダイヤフラムによって投影円筒体Ｆに固定することが
できる。基板は投影円筒体に対して光軸00′と直交する
面内で互いに直交する２方向に移動することができる。
この基板上にマスクパターンを繰り返し結像する装置に
関する詳細については、例えば、1979年４月４日に発行
された“アイーイーイー トランザクションズ オン
エレクトロン デバイス（IEEE Transactions on Elect
ron Devices）”第ED−26巻 No.4 723頁〜728頁、に記
載されている論文“オートマティック アラインメント
システム フォー オプテカル プロジェクション
プリンテング（Automatic Alignment Systemfor Optica
l Projection Printing）”を参照されたい。
本明細書で説明したフォーカシングエラー検出系によ
ってフォーカシングエラーを決定する場合、結像装置、
基板又は第２面を画成する表面が特別な特性を有する必
要はない。ただ、基板表面がわずかに反射性を有してい
ることが必要である。従って、このフォーカシングエラ
ー検出系は、微細な細部を有する極めて精密な画像を形
成する場合及び周囲媒質のパラメータによって結像装置
のレンズ作用が影響を受けるすべての場合に用いること
ができる。このような装置の一例を顕微鏡にも適用する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による結像装置の構成を示す線図、 第２図はフォーカシングエラー信号の変化を結像装置と
第２面との間の距離の変化として示すグラフ 第３図はフォーカシングエラー検出系の調整可能な光学
素子の作用を示す線図、 第4a図及び第4b図は結像装置の像面の位置が変化する場
合における既知のフォーカシングエラー検出系と本発明
によるフォーカシングエラー検出系との作用上の差異を
示す線図、 第５図は本発明の第２実施例及び基板上にマスクパター
ンを繰り返し結像するための装置を示す線図である。 Ｌ……結像装置 PL……結像装置の結像面 PF……フォーカシングエラー検出系の結像面 PS……基板表面 １……放射源 2,3,4,5……プリズム 6,7……放射感知検出器 8,9……接続部材 10,11……レンズ 12……差動増幅器 Sf……フォーカシングエラー信号 13……制御回路 14……アクチュエータ手段 15……平行平板 17……ミラー 19……ビームスプリッタ 20……λ/4板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−139607（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−148016（ＪＰ，Ａ)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】結像装置の結像面と結像装置によって形成
    される像が存在する第２面との間の偏位量を決定するオ
    プトエレクトロニクス フォーカシングエラー検出系を
    具え、このフォーカシングエラー検出系が、補助ビーム
    を発生する放射源と、前記第２の面に対して前記放射源
    と同一側に位置する２個の放射感知検出器と、前記補助
    ビームを第２面に向けて入射させ、この第２面に放射ス
    ポットを形成すると共にこの放射スポットを前記２個の
    検出器の面内に結合させるための複数の光学素子とを有
    し、２個の検出器の出力信号の差が前記偏位量の目安と
    なる光学式結像装置において、 環境因子又は操作者による設定点を表わす信号によって
    制御され、前記結像装置の動作中に前記検出器に形成さ
    れる放射スポットの像を前記偏位量に独立して検出器に
    対して相対的に移動させる調整手段を有し、前記フォー
    カシングエラー信号の零点を前記環境因子又は操作者に
    よる設定点に適合させるように構成したことを特徴とす
    る光学式結像装置。
  2. 【請求項２】前記調整手段を、前記フォーカシングエラ
    ー検出系の透過性光学素子のうちの１個の光学素子で構
    成し、この透過性光学素子を検出系の他の光学素子に対
    して並進移動可能又は回動可能にしたことを特徴とする
    特許請求の範囲第１項記載の光学式結像装置。
  3. 【請求項３】前記調整手段を、前記フォーカシングエラ
    ー検出系に付加的に配置した弱い光学パワーの透過性光
    学素子で構成したことを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載の光学式結像装置。
  4. 【請求項４】前記付加的な光学素子を、補助ビームの光
    軸を横切るように移動可能な強度の弱いレンズで構成し
    たことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の光学式
    結像装置。
  5. 【請求項５】前記調整可能な付加的な光学素子を、回動
    可能な薄い平行平面板で構成したことを特徴とする特許
    請求の範囲第３項記載の光学式結像装置。
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