JPH05259031A - 傾き検出装置 - Google Patents
傾き検出装置Info
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- JPH05259031A JPH05259031A JP4087471A JP8747192A JPH05259031A JP H05259031 A JPH05259031 A JP H05259031A JP 4087471 A JP4087471 A JP 4087471A JP 8747192 A JP8747192 A JP 8747192A JP H05259031 A JPH05259031 A JP H05259031A
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- Japan
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- wafer
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- reflected
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- lens
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来になく精度が高く、色分散の影響が少な
い傾き検出装置を得る。 【構成】 被検物面上に斜め方向から照明光を照明する
照明光学系と、被検物面上で反射された照明反射光をリ
レースするリレー光学系と、被検物面と共役な位置に配
置され、前記反射光を再び被検物面上へもどす反射部材
と、被検物面の瞳位置と共役な位置に配置され、再度被
検物面で反射された再帰反射光を検出する検出手段とを
備えた。
い傾き検出装置を得る。 【構成】 被検物面上に斜め方向から照明光を照明する
照明光学系と、被検物面上で反射された照明反射光をリ
レースするリレー光学系と、被検物面と共役な位置に配
置され、前記反射光を再び被検物面上へもどす反射部材
と、被検物面の瞳位置と共役な位置に配置され、再度被
検物面で反射された再帰反射光を検出する検出手段とを
備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば投影露光装置に
おける投影光学系の結像面に対するウエハ等の被露光面
の傾きを検出するための傾き検出装置に関するものであ
る。
おける投影光学系の結像面に対するウエハ等の被露光面
の傾きを検出するための傾き検出装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】被検出面が所定の基準面に対してどれだ
け傾いているかを検出し、最終的にその傾きを調整する
ために使用される傾き検出装置は、投影露光装置におけ
るレベリング機構等に用いられている。従来のこの種の
装置として、図４に示すような投影露光装置のレベリン
グ機構がある（例えば特開昭５８ー１１３７０６号公
報）。この装置は、レチクル２１上のパターンの投影レ
ンズ２２を介した投影像面と被露光ウエハ２３面を一致
させる為のものである。
け傾いているかを検出し、最終的にその傾きを調整する
ために使用される傾き検出装置は、投影露光装置におけ
るレベリング機構等に用いられている。従来のこの種の
装置として、図４に示すような投影露光装置のレベリン
グ機構がある（例えば特開昭５８ー１１３７０６号公
報）。この装置は、レチクル２１上のパターンの投影レ
ンズ２２を介した投影像面と被露光ウエハ２３面を一致
させる為のものである。
【０００３】該装置におけるレベリング機構を以下に説
明する。開口絞り（アパーチャ）２５を透過した光源
（不図示）からのレーザビームは、レンズ２６を介して
ウエハ２３上を斜め方向から照射する。このウエハ２３
面上で反射された照明反射光は、レンズ２７によってア
パーチャ２５と共役な位置に配置された４分割ディテク
タ２８上に結像する。
明する。開口絞り（アパーチャ）２５を透過した光源
（不図示）からのレーザビームは、レンズ２６を介して
ウエハ２３上を斜め方向から照射する。このウエハ２３
面上で反射された照明反射光は、レンズ２７によってア
パーチャ２５と共役な位置に配置された４分割ディテク
タ２８上に結像する。
【０００４】ここで、予め、レチクル２１のパターンの
投影像面とウエハ２３面とが一致する（ウエハ面が基準
面と一致している）場合には４分割ディテクタ２８の中
心位置にビームスポットが形成されるように設定してあ
る。
投影像面とウエハ２３面とが一致する（ウエハ面が基準
面と一致している）場合には４分割ディテクタ２８の中
心位置にビームスポットが形成されるように設定してあ
る。
【０００５】ウエハ２３面がθだけ基準面に対して傾い
ているとすると、その瞳位置に形成されるビームスポッ
トの位置は、４分割ディテクタ２８の中心位置に対して
傾きθに応じた横ズレを生じる。従って、４分割ディテ
クタ２８の各ディテクタ面Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄにおける検出
光量に差が生じる。
ているとすると、その瞳位置に形成されるビームスポッ
トの位置は、４分割ディテクタ２８の中心位置に対して
傾きθに応じた横ズレを生じる。従って、４分割ディテ
クタ２８の各ディテクタ面Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄにおける検出
光量に差が生じる。
【０００６】そこで、各々の光量差が一定の許容範囲内
に入るまでウエハ面２３の傾きを調整することによっ
て、レチクル２１面上のパターンの投影面とウエハ２３
面とをはぼ一致させることができるわけである。
に入るまでウエハ面２３の傾きを調整することによっ
て、レチクル２１面上のパターンの投影面とウエハ２３
面とをはぼ一致させることができるわけである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
より高いレベリング機構が求められており、上記の如き
従来のものでは不充分となっている。また、ウエハ上の
レジストとウエハ面との干渉（図３（ａ））による検出
誤差を抑えるために傾き検出用の照射ビームとして広波
長帯域のものを用いる方向にあるが、従来技術において
広波長帯域のビームを使用する場合にはさらに考慮すべ
き新たな問題が生じる。
より高いレベリング機構が求められており、上記の如き
従来のものでは不充分となっている。また、ウエハ上の
レジストとウエハ面との干渉（図３（ａ））による検出
誤差を抑えるために傾き検出用の照射ビームとして広波
長帯域のものを用いる方向にあるが、従来技術において
広波長帯域のビームを使用する場合にはさらに考慮すべ
き新たな問題が生じる。
【０００８】即ち、図３（ｂ）に示すように、基準面の
設定におけるビームスポットの位置調整（ビームスポッ
トが４分割ディテクタの中心位置に来るように調整す
る）の手段として平行平板２０を用いる場合には、広波
長帯域のビームが平行平板２０を透過すると、各々の波
長によって少しずつ異なる位置に結像するという色分散
が生じてしまう。
設定におけるビームスポットの位置調整（ビームスポッ
トが４分割ディテクタの中心位置に来るように調整す
る）の手段として平行平板２０を用いる場合には、広波
長帯域のビームが平行平板２０を透過すると、各々の波
長によって少しずつ異なる位置に結像するという色分散
が生じてしまう。
【０００９】従って、平行平板２０がウエハ面の瞳位置
に存在すると、ウエハ面に対する入射角が各波長帯に応
じて異なり、レジスト表面とウエハ面との干渉条件によ
ってはディテクタ（受光面）ＤＰ上で本来検出されるべ
きシフト量と異なる結果しか得られないという問題があ
る。
に存在すると、ウエハ面に対する入射角が各波長帯に応
じて異なり、レジスト表面とウエハ面との干渉条件によ
ってはディテクタ（受光面）ＤＰ上で本来検出されるべ
きシフト量と異なる結果しか得られないという問題があ
る。
【００１０】本発明は、上記問題を解消し、色分散の影
響が小さく、より精度の高い傾き検出装置を得ることを
目的とする。
響が小さく、より精度の高い傾き検出装置を得ることを
目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明に係る傾き検出装置では、被
検物面の傾きを光学的に検出する傾き検出装置におい
て、光源からの照明光を前記被検物面上に斜め方向から
照射する照明光学系と、前記被検物面で反射された前記
照明光の反射光を前記被検物面とほぼ共役な第１の面内
に結像するリレー光学系と、前記第１の面内に配置さ
れ、前記反射光を再び前記リレー光学系を介して前記被
検物面上へもどすように再帰反射する反射部材と、前記
照明光学系中の前記被検物面に対する光学的なフーリエ
変換面もしくはその相当面となる第２の面内に配置さ
れ、前記被検物面によって再度反射された前記再帰反射
光を検出する検出手段とを備えた。
め、請求項１に記載の発明に係る傾き検出装置では、被
検物面の傾きを光学的に検出する傾き検出装置におい
て、光源からの照明光を前記被検物面上に斜め方向から
照射する照明光学系と、前記被検物面で反射された前記
照明光の反射光を前記被検物面とほぼ共役な第１の面内
に結像するリレー光学系と、前記第１の面内に配置さ
れ、前記反射光を再び前記リレー光学系を介して前記被
検物面上へもどすように再帰反射する反射部材と、前記
照明光学系中の前記被検物面に対する光学的なフーリエ
変換面もしくはその相当面となる第２の面内に配置さ
れ、前記被検物面によって再度反射された前記再帰反射
光を検出する検出手段とを備えた。
【００１２】
【作用】本発明は、被検物面の傾きを光学的に検出する
傾き検出装置において、照明光を被検物面上に斜め方向
から照射し、その反射光を前記被検物面と共役な第１の
面内に配置した反射部材によって再び被検物面上へもど
すよう再帰反射し、ここで再度反射された再帰反射光を
前記被検物面に対する光学的なフーリエ変換面もしくは
その相当面となる第２の面内に配置した検出手段によっ
て検出するものである。
傾き検出装置において、照明光を被検物面上に斜め方向
から照射し、その反射光を前記被検物面と共役な第１の
面内に配置した反射部材によって再び被検物面上へもど
すよう再帰反射し、ここで再度反射された再帰反射光を
前記被検物面に対する光学的なフーリエ変換面もしくは
その相当面となる第２の面内に配置した検出手段によっ
て検出するものである。
【００１３】ここで、本発明の作用を図２に示す傾き検
出光学系を例に説明する。図においては傾き検出用照明
光の光路を主光線のみで示す。光源（記載せず）からの
照明光はビームスプリッタＢＳおよびレンズＬ1 を透過
したのち被検物面Ｘ1 を斜め方向から照射し、反射され
る。
出光学系を例に説明する。図においては傾き検出用照明
光の光路を主光線のみで示す。光源（記載せず）からの
照明光はビームスプリッタＢＳおよびレンズＬ1 を透過
したのち被検物面Ｘ1 を斜め方向から照射し、反射され
る。
【００１４】この反射光は、リレーレンズ系Ｌ2 を介し
て被検物面と共役な第１の面内に配置されている反射ミ
ラーＭに達し、再び被検物面上にもどるよう再帰反射さ
れる。再度被検物面上で反射された再帰反射光はビーム
スプリッタＢＳで反射され、被検物面に対する光学的な
フーリエ変換面（以下瞳面と記す）もしくはその相当面
（第２の面）、レンズＬ1 の後側（光源側）焦点面内に
配置されているディテクタＤＤで検出される。
て被検物面と共役な第１の面内に配置されている反射ミ
ラーＭに達し、再び被検物面上にもどるよう再帰反射さ
れる。再度被検物面上で反射された再帰反射光はビーム
スプリッタＢＳで反射され、被検物面に対する光学的な
フーリエ変換面（以下瞳面と記す）もしくはその相当面
（第２の面）、レンズＬ1 の後側（光源側）焦点面内に
配置されているディテクタＤＤで検出される。
【００１５】被検物面Ｘ1 が基準面Ｘ0 と一致している
場合、照明光は図中主光線を実線で示した光路を進み、
ディテクタＤＤの中心位置にビームスポットを形成す
る。被検物面（点線）Ｘ1 が基準面Ｘ0 に対して角度θ
だけ傾いている場合、照明光の主光線は点線で示した光
路を進むが、リレーレンズ系Ｌ2 中の被検物面の瞳位置
で形成されるビームスポットは実線に対して距離ｌだけ
シフトしており、反射ミラーＭに対して角度２θをもっ
て入射する。
場合、照明光は図中主光線を実線で示した光路を進み、
ディテクタＤＤの中心位置にビームスポットを形成す
る。被検物面（点線）Ｘ1 が基準面Ｘ0 に対して角度θ
だけ傾いている場合、照明光の主光線は点線で示した光
路を進むが、リレーレンズ系Ｌ2 中の被検物面の瞳位置
で形成されるビームスポットは実線に対して距離ｌだけ
シフトしており、反射ミラーＭに対して角度２θをもっ
て入射する。
【００１６】反射ミラーＭおよび被検物面Ｘ1 で再度反
射された再帰反射光は実線に対して４θ傾いており、デ
ィテクタＤＤ上において、その中心位置から距離２ｌだ
けシフトした位置にビームスポットを形成する。したが
って、以上のような構成の傾き検出装置では、従来技術
の倍の感度で被検物面の傾き検出ができる。
射された再帰反射光は実線に対して４θ傾いており、デ
ィテクタＤＤ上において、その中心位置から距離２ｌだ
けシフトした位置にビームスポットを形成する。したが
って、以上のような構成の傾き検出装置では、従来技術
の倍の感度で被検物面の傾き検出ができる。
【００１７】さらに、上記構成の傾き検出装置では、平
行平板等のビームスポット基準位置調整用の手段を用い
る場合に生じる広波長帯域ビームの色分散の問題がほぼ
解消される。これは、色分散を生じたビームが再びほぼ
同じ光路を戻るためである。以上説明した如く、本発明
においては、色分散の影響を小さくし、より精度の高い
傾き検出が可能である。
行平板等のビームスポット基準位置調整用の手段を用い
る場合に生じる広波長帯域ビームの色分散の問題がほぼ
解消される。これは、色分散を生じたビームが再びほぼ
同じ光路を戻るためである。以上説明した如く、本発明
においては、色分散の影響を小さくし、より精度の高い
傾き検出が可能である。
【００１８】
【実施例】以下に、本発明の一実施例を説明する。図１
は、レチクル７１のパターンの投影レンズ２を介した投
影像面とウエハ３面とを一致させるための投影露光装置
のレベリング機構を示すものである。
は、レチクル７１のパターンの投影レンズ２を介した投
影像面とウエハ３面とを一致させるための投影露光装置
のレベリング機構を示すものである。
【００１９】広波長帯域照明光源４からの照明光は、フ
ァイバー５を介してアパーチャ６を照射する。アパーチ
ャ６を透過した照明光は、ハーフプリズム（ビームスプ
リッタ）７を透過し、ミラー８で反射され、レンズ９を
介してウエハ３面上を斜め方向から照射する。なお、図
１中には示していないが、ファイバー５の射出面とアパ
ーチャ６との間にはリレー光学系と、ウエハ３面と共役
な面内に配置された可変視野絞りとが設けられており、
可変視野絞りによってウエハ面３上の照明視野の大き
さ、形状を任意に変更することが可能となっている。
ァイバー５を介してアパーチャ６を照射する。アパーチ
ャ６を透過した照明光は、ハーフプリズム（ビームスプ
リッタ）７を透過し、ミラー８で反射され、レンズ９を
介してウエハ３面上を斜め方向から照射する。なお、図
１中には示していないが、ファイバー５の射出面とアパ
ーチャ６との間にはリレー光学系と、ウエハ３面と共役
な面内に配置された可変視野絞りとが設けられており、
可変視野絞りによってウエハ面３上の照明視野の大き
さ、形状を任意に変更することが可能となっている。
【００２０】ウエハ３面で反射されは光はレンズ１０を
透過し、ミラー１１で反射され、さらにレンズ１２を透
過した後ミラー板１３に達する。このミラー板１３は、
ウエハ３面と共役な面（第１の面）内に配置されてお
り、ミラー板１３に達する光は、ウエハ３の傾きに応じ
た傾き角をもって入射する。
透過し、ミラー１１で反射され、さらにレンズ１２を透
過した後ミラー板１３に達する。このミラー板１３は、
ウエハ３面と共役な面（第１の面）内に配置されてお
り、ミラー板１３に達する光は、ウエハ３の傾きに応じ
た傾き角をもって入射する。
【００２１】ここで反射された光は、ほぼ同じ光路を戻
ってウエハ３面上に戻る。再度ウエハ３面で反射された
戻り光は、再びレンズ９、ミラー８を介してハーフプリ
ズム７で反射され、ウエハ３面の瞳面（またはその共役
面）、もしくはその相当面内に配置された４分割ディテ
クタ１５上に集光してビームスポットを形成する。ここ
で、相当面とは、図１中に示す如くハーフプリズム７に
よって形成される仮想的な瞳面のことを指す。
ってウエハ３面上に戻る。再度ウエハ３面で反射された
戻り光は、再びレンズ９、ミラー８を介してハーフプリ
ズム７で反射され、ウエハ３面の瞳面（またはその共役
面）、もしくはその相当面内に配置された４分割ディテ
クタ１５上に集光してビームスポットを形成する。ここ
で、相当面とは、図１中に示す如くハーフプリズム７に
よって形成される仮想的な瞳面のことを指す。
【００２２】この光学系は、予め、ウエハ３面が前述の
レチクルパターンの投影像面と一致した場合には、前記
ビームスポットが４分割ディテクタ１５の中心位置に形
成されるよう設定されている。本実施例では、ミラー板
１３の角度を回転機構１４によって制御することで調整
を行なっている。
レチクルパターンの投影像面と一致した場合には、前記
ビームスポットが４分割ディテクタ１５の中心位置に形
成されるよう設定されている。本実施例では、ミラー板
１３の角度を回転機構１４によって制御することで調整
を行なっている。
【００２３】ウエハ３面が、一致すべき投影像面に対し
て傾いている場合、その傾き角に応じた分だけ４分割デ
ィテクタ１５の中心位置からシフトした位置にビームス
ポットが形成される。したがって、４分割ディテクタ１
５の各ディテクタ面で受光される光量差が信号処理系１
６で検出され、その検出結果が制御装置１７にフィード
バックされる。そこで、前記光量差が所定の許容範囲内
になるまでウエハステージ１８が制御装置１７によって
制御され、ウエハ３面の傾きが投影像面にほぼ一致する
ように調整される。
て傾いている場合、その傾き角に応じた分だけ４分割デ
ィテクタ１５の中心位置からシフトした位置にビームス
ポットが形成される。したがって、４分割ディテクタ１
５の各ディテクタ面で受光される光量差が信号処理系１
６で検出され、その検出結果が制御装置１７にフィード
バックされる。そこで、前記光量差が所定の許容範囲内
になるまでウエハステージ１８が制御装置１７によって
制御され、ウエハ３面の傾きが投影像面にほぼ一致する
ように調整される。
【００２４】また、ビームスポット位置調整に平行平板
を用いた場合、広波長帯域の照明光に色分散が生じる
が、本実施例においては、この問題ははぼ解消される。
これは、色分散を生じた光がほぼ同じ光路を戻るためで
あり、例えウエハ面に傾きがあるとしても、通常その幅
は、色分散に関して言えば十分その影響が小さくできる
程度の範囲内であると思われる。
を用いた場合、広波長帯域の照明光に色分散が生じる
が、本実施例においては、この問題ははぼ解消される。
これは、色分散を生じた光がほぼ同じ光路を戻るためで
あり、例えウエハ面に傾きがあるとしても、通常その幅
は、色分散に関して言えば十分その影響が小さくできる
程度の範囲内であると思われる。
【００２５】
【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、色分散の
影響が小さいと共に、より感度の高い傾き検出が可能で
ある。
影響が小さいと共に、より感度の高い傾き検出が可能で
ある。
【００２６】また、本発明の広帯域波長を用いた機構
は、レベリング機構のみならずフォーカス機構（特開昭
５６ー３２１１４）等の技術においても同様に色分散を
除去することが可能である。
は、レベリング機構のみならずフォーカス機構（特開昭
５６ー３２１１４）等の技術においても同様に色分散を
除去することが可能である。
【図１】本発明の一実施例に係る投影露光装置のレベリ
ング機構を説明する概略構成図である。
ング機構を説明する概略構成図である。
【図２】色分散を説明する図である。
【図３】本発明の作用を説明する光学系の概略構成図で
ある。
ある。
【図４】従来の傾き検出装置の概略構成図である。
１，２１：レチクル ２，２２：投影レンズ ３，２３：ウエハ ４：広波長帯域照明光源 ６，２５：視野絞り ８，１１：ミラー ９，１０，１２，２６，２７：レンズ １３：ミラー板 １４：回転機構 １５，２８：４分割ディテクタ １６：信号処理系 １７：制御装置 １８：ウエハステージ ２０：平行平板
Claims (1)
- 【請求項１】 被検物面の傾きを光学的に検出する傾き
検出装置において、光源からの照明光を前記被検物面上
に斜め方向から照射する照明光学系と、前記被検物面で
反射された前記照明光の反射光を前記被検物面とほぼ共
役な第１の面内に結像するリレー光学系と、前記第１の
面内に配置され、前記反射光を再び前記リレー光学系を
介して前記被検物面上へもどすように再帰反射する反射
部材と、前記照明光学系中の前記被検物面に対する光学
的なフーリエ変換面もしくはその相当面となる第２の面
内に配置され、前記被検物面によって再度反射された前
記再帰反射光を検出する検出手段とを備えたことを特徴
とする傾き検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4087471A JPH05259031A (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 傾き検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4087471A JPH05259031A (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 傾き検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05259031A true JPH05259031A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=13915829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4087471A Pending JPH05259031A (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 傾き検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05259031A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996038709A1 (fr) * | 1995-05-31 | 1996-12-05 | Omron Corporation | Procede et appareil d'observation d'objet |
| KR100275672B1 (ko) * | 1998-02-18 | 2000-12-15 | 윤종용 | 웨이퍼 노광설비의 레벨링 방법 및 그 장치 |
| KR20020039018A (ko) * | 2000-11-20 | 2002-05-25 | 황인길 | 웨이퍼 표면검사장치의 잔류빔 제거장치 |
| WO2010104265A3 (ko) * | 2009-03-09 | 2010-10-28 | 주식회사 쓰리비 시스템 | 결점 검사를 위한 검사장치 |
| EP2239632B1 (en) * | 2004-08-16 | 2021-05-05 | ASML Netherlands B.V. | Apparatus for calculating variations in substrate tilt |
-
1992
- 1992-03-12 JP JP4087471A patent/JPH05259031A/ja active Pending
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| WO1996038709A1 (fr) * | 1995-05-31 | 1996-12-05 | Omron Corporation | Procede et appareil d'observation d'objet |
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