JPH08328006A - 液晶表示パネル - Google Patents

液晶表示パネル

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JPH08328006A
JPH08328006A JP13299195A JP13299195A JPH08328006A JP H08328006 A JPH08328006 A JP H08328006A JP 13299195 A JP13299195 A JP 13299195A JP 13299195 A JP13299195 A JP 13299195A JP H08328006 A JPH08328006 A JP H08328006A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
pixel portion
pretilt angle
alignment film
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JP13299195A
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English (en)
Inventor
Makoto Arai
新井  真
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Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 表示用電極13と配向膜16とを備える第1
の基板11と、対向電極14と配向膜16とを備える第
2の基板12と、第1の基板と第2の基板との間に液晶
分子17を封入するためのシール部18とを備え、表示
用電極と対向電極とが対面してなる画素部1には絶縁膜
15を設け、画素部における液晶分子のプレチルト角は
非画素部における液晶分子のプレチルト角より低くす
る。 【効果】 斜め電界や横電界が加わってもリバースチル
トは起こり難く、画素部へのディスクリネーションライ
ンの発生を防ぐことができる。このことにより、画素部
は充分な黒表示を行うことができ、コントラスト比の高
く表示品質の良好な液晶表示パネルを得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示パネルの構造に
関し、金属−絶縁膜−金属構造をもつ薄膜ダイオードで
あるTFD素子や、薄膜トランジスタ(TFT)素子な
どのスィッチング素子をもつ液晶表示パネルや、あるい
はこれらのスィッチング素子をもたない液晶表示パネル
の構造に関し、とくに画素部における点灯欠陥を改善す
る液晶表示パネルの構造に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、液晶表示パネルは表示画面の拡大
や高精細化が進んでおり、ワードプロセッサやパーソナ
ルコンピュータなどの表示画面として用いられている。
【0003】この液晶表示パネルとして、最近主流とな
りつつあるTFD素子やTFT素子などのスィッチング
素子をもつアクティブマトリクス方式では、一般にツイ
ステッドネマティック(TN)型が用いられている。
【0004】以下従来のTN型液晶表示パネルの構造に
ついて、図4の断面図と図5の平面図とを用いて説明す
る。なお図4の断面図は、図5のB−B線における断面
であり、画素部と非画素部における液晶分子の配向状態
を示している。以下、図4と図5とを交互に参照して従
来技術における液晶表示パネルの構造を説明する。
【0005】第1の基板11は、ガラスからなる基板上
に、透明導電膜として酸化インジウムスズの表示用電極
13を設けるか、あるいは図4には図示しないが薄膜ダ
イオード(TFD)素子や、薄膜トランジスタ(TF
T)素子などのスィッチング素子を有している。
【0006】その表示用電極13上と表示用電極13を
設けていないガラス上とに、配向膜16を均一に印刷法
によって設け、所定の温度で配向膜16を焼成し、その
後ラビングにより液晶分子17が均一に所定の方向へ配
向するための配向処理を配向膜16に行っている。
【0007】第2の基板12は、ガラスからなる基板上
に、透明導電膜として酸化インジウムスズの対向電極1
4を設け、その対向電極14上と対向電極14を設けて
いないガラス上とに配向膜16を均一に印刷し、所定の
温度で配向膜16を焼成し、その後ラビングによる配向
処理を行っている。
【0008】液晶表示パネルを製造するには、第1の基
板11と第2の基板12との間に、図4には図示しない
が内部スペーサーを介在させ、シール部18によって、
2枚の第1の基板11と第2の基板12とを張り合わせ
ている。
【0009】このときTN型液晶表示パネルでは、第1
の基板11のラビング方向と第2の基板12のラビング
方向とがほぼ直交するように配置している。
【0010】そして第1の基板11と第2の基板12と
の隙間にカイラルネマティック液晶を注入し、液晶分子
17層を設ける。
【0011】その液晶分子17は、配向膜16との界面
でラビング方向に沿って均一に配列し、基板の垂直方向
に所定のプレチルト角19を有し、さらに2枚の基板間
で液晶分子17が90度ねじれるように配向している。
【0012】さらに、液晶分子17のプレチルト角19
は、液晶分子17と配向膜16との分子間相互作用によ
って発現するため、配向膜16の表面状態によってプレ
チルト角19の角度が決まる。
【0013】ここで図5に示すように、画素部1は表示
用電極13と対向電極14とが交差し対面してなる領域
である。また、非画素部2は画素部1の周辺領域であ
り、表示用電極13と対向電極14とが対面しない領域
である。
【0014】そして、この液晶表示パネルにおいて、画
素部1における液晶分子17のプレチルト角19は、非
画素部2における液晶分子17のプレチルト角19とほ
ぼ同一の角度を有している。
【0015】その理由としては、表示用電極13と対向
電極14との材料である酸化インジウムスズ上の配向膜
16とガラス上の配向膜16との表面状態が原子間力顕
微鏡(AFM)で観察したところ、ほぼ同一形状を示し
ていたことによると考えられる。
【0016】そして液晶表示パネルの画像表示を得るに
は、表示情報に従って各画素部1に所定の電圧を印加
し、液晶分子17を基板の垂直方向に立ち上がらせるこ
とで光の透過量を各画素部1で変化させ、たとえばノー
マリーホワイトの偏光板配置の場合、オフ電圧を印加す
ると画素部1は白表示となり、オン電圧を印加すると画
素部1は黒表示となり、画像表示を得ている。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】ここで、画素部1の液
晶分子17は、その画素部1に印加される電圧値によっ
て動作し、オン電圧を印加するとプレチルト角方向から
基板垂直方向へ立ち上がる。
【0018】これに対して、非画素部2の液晶分子17
は、直接的には電圧を印加されないが、隣接する画素部
1の電極間における斜め電界や横電界が印加されること
によって動作して、プレチルト角と逆の方向から液晶分
子17が立ち上がるリバースチルトと呼ばれる現象が起
きる。
【0019】このリバースチルト現象は非画素部2だけ
に留まらず、正常に立ち上がる領域とリバースチルト領
域との境界にディスクリネーションライン3が発生し、
画素部1にまで及ぶ。このディスクリネーションライン
3は、光を透過する輝線であるため黒表示画素4での発
生は真の黒表示を妨げる点灯欠陥となる。
【0020】このため従来のTN型液晶表示パネルは、
画素部1でディスクリネーションライン3が発生するこ
とにより、充分な黒表示が得られないため、コントラス
ト比が低く、表示品質上、大きな問題となっている。
【0021】本発明の目的は、上記課題を解決して、非
画素部はリバースチルトが起こり難く、画素部にはディ
スクリネーションラインが発生しない液晶表示パネルの
構造を提供することである。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の液晶表示パネルは、下記記載の手段を採用
する。
【0023】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
配向膜とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを
備える第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に
液晶分子を封入するためのシール部とを備え、表示用電
極と対向電極とが対面してなる画素部には絶縁膜を設
け、画素部における液晶分子のプレチルト角は、非画素
部における液晶分子のプレチルト角より低くすることを
特徴とする。
【0024】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
配向膜とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを
備える第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に
液晶分子を封入するためのシール部とを備え、表示用電
極と対向電極とが対面してなる画素部には酸化タンタル
膜を設け、画素部における液晶分子のプレチルト角は非
画素部における液晶分子のプレチルト角より低くするこ
とを特徴とする。
【0025】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
配向膜とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを
備える第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に
液晶分子を封入するためのシール部とを備え、表示用電
極と対向電極とが対面してなる画素部には窒化珪素膜を
設け、画素部における液晶分子のプレチルト角は、非画
素部における液晶分子のプレチルト角より低くすること
を特徴とする。
【0026】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
配向膜とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを
備える第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に
液晶分子を封入するためのシール部とを備え、表示用電
極と対向電極とが対面してなる画素部には酸化珪素膜を
設け、画素部における液晶分子のプレチルト角は、非画
素部における液晶分子のプレチルト角より低くすること
を特徴とする。
【0027】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
スィッチング素子と配向膜とを備える第1の基板と、対
向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1の基板と
第2の基板との間に液晶分子を封入するためのシール部
とを備え、表示用電極と対向電極とが対面してなる画素
部には絶縁膜を設け、画素部における液晶分子のプレチ
ルト角は、非画素部における液晶分子のプレチルト角よ
り低くすることを特徴とする。
【0028】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
スィッチング素子と配向膜とを備える第1の基板と、対
向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1の基板と
第2の基板との間に液晶分子を封入するためのシール部
とを備え、表示用電極と対向電極とが対面してなる画素
部には酸化タンタル膜を設け、画素部における液晶分子
のプレチルト角は、非画素部における液晶分子のプレチ
ルト角より低くすることを特徴とする。
【0029】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
スィッチング素子と配向膜とを備える第1の基板と、対
向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1の基板と
第2の基板との間に液晶分子を封入するためのシール部
とを備え、表示用電極と対向電極とが対面してなる画素
部には窒化珪素膜を設け、画素部における液晶分子のプ
レチルト角は、非画素部における液晶分子のプレチルト
角より低くすることを特徴とする。
【0030】本発明の液晶表示パネルは、表示用電極と
スィッチング素子と配向膜とを備える第1の基板と、対
向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1の基板と
第2の基板との間に液晶分子を封入するためのシール部
とを備え、表示用電極と対向電極とが対面してなる画素
部には酸化珪素膜を設け、画素部における液晶分子のプ
レチルト角は、非画素部における液晶分子のプレチルト
角より低くすることを特徴とする。
【0031】
【作用】本発明の液晶表示パネルでは、画素部に絶縁膜
として酸化タンタル膜あるいは窒化珪素膜あるいは酸化
珪素膜を設ける。このことにより、この被膜上部に形成
する配向膜の表面状態は原子間力顕微鏡で観察したとこ
ろ、非画素部の配向膜の表面状態と比らべ、形状が滑ら
かで表面粗さが小さくなっている。
【0032】液晶分子のプレチルト角は、表面粗さが小
さい表面では低く、表面粗さが大きい表面では高くな
り、すなわち画素部の液晶分子は表面粗さが小さい配向
膜と両面で接している。このため、非画素部の液晶分子
と比べてプレチルト角が低い状態で配向している。
【0033】このことにより、画素部のプレチルト角の
低い液晶分子に電圧を印加して画像表示を行う際に、非
画素部のプレチルト角の高い液晶分子は斜め電界や横電
界が加わっても、リバースチルトは起こり難く、画素部
へのディスクリネーションラインの発生を防ぐことがで
きる。
【0034】
【実施例】以下、本発明の実施例における液晶表示パネ
ルの構造を、図1の断面図と図2の平面図と図3の平面
図とを用いて説明する。なお図1は、図2のA−A線に
おける断面を示す断面図であり、画素部と非画素部にお
ける液晶分子の配向状態を示している。また図3は、ス
ィッチング素子を有する液晶表示パネルの構造を示す平
面図である。以下、図1と図2と図3とを交互に参照し
て説明する。
【0035】第1の基板11は、ガラスからなる基板上
に、透明導電膜として酸化インジウムスズの表示用電極
13を設けるか、あるいは図3に示すように、薄膜ダイ
オード(TFD)素子や、薄膜トランジスタ(TFT)
素子などのスィッチング素子20を有する。
【0036】その表示用電極13上には、表示用電極1
3と対向電極14とが対面してなる画素部1に相当する
領域に、絶縁膜15を設ける。
【0037】その表示用電極13上と表示用電極13を
設けていないガラス上とのシール部18内側領域に、配
向膜16を均一に印刷法によって設ける。そして、所定
の温度で配向膜16を焼成し、その後ラビングにより液
晶分子17が均一に所定の方向へ配向するための配向処
理を配向膜16に行っている。
【0038】第2の基板12は、ガラスからなる基板上
に、透明導電膜として酸化インジウムスズの対向電極1
4を設け、その対向電極14上には、画素部1に相当す
る領域に、絶縁膜15を設ける。
【0039】その対向電極14上と対向電極14を設け
ていないガラス上とのシール部18内側領域に配向膜1
6を均一に印刷により形成する、そして、所定の温度で
配向膜16を焼成し、その後ラビングによる配向処理を
行っている。
【0040】すなわち、配向膜16は、表示用電極13
の画素部1と対向電極14の画素部1との両面で、絶縁
膜15の上部に設ける構成となる。
【0041】液晶表示パネルを製造するには、第1の基
板11と第2の基板12との間に、図1には図示しない
が内部スペーサーを介在させ、シール部18によって、
2枚の第1の基板11と第2の基板12とを張り合わせ
ている。
【0042】このときTN型液晶表示パネルでは、第1
の基板11のラビング方向と第2の基板12のラビング
方向とがほぼ直交するように配置している。
【0043】そして第1の基板11と第2の基板12と
の隙間にカイラルネマティック液晶を注入し、液晶分子
17層を設ける。
【0044】その液晶分子17は、配向膜16との界面
でラビング方向に沿って均一に配列し、基板の垂直方向
に所定のプレチルト角19を有し、さらに2枚の基板間
で液晶分子17が90度ねじれるように配向している。
【0045】さらに、液晶分子17のプレチルト角19
は、液晶分子17と配向膜16との分子間相互作用によ
って発現するため、配向膜16の表面状態によってプレ
チルト角19の角度を決定している。
【0046】ここで、図1と図2と図3とに示すよう
に、画素部1は表示用電極13と対向電極14とが交差
し対面してなる領域である。また、非画素部2は画素部
1の周辺領域であり、表示用電極13と対向電極14と
が対面しない領域である。
【0047】そして、画素部1領域の絶縁膜15上に設
けた配向膜16の表面状態と、絶縁膜15を設けていな
い非画素部2に設けた配向膜16の表面状態とは異なっ
ており、画素部1における液晶分子17のプレチルト角
19は、非画素部2における液晶分子17のプレチルト
角19より低い角度となる。
【0048】その理由としては、絶縁膜15上に設ける
画素部1の配向膜16は、表面形状が滑らかで表面粗さ
が小さいため、この画素部1の液晶分子17はプレチル
ト角19が低い配向状態となる。
【0049】また、非画素部2である酸化インジウムス
ズ上やガラス上に設ける配向膜16は、表面形状に凹凸
が多く表面粗さが大きいために、この非画素部2の液晶
分子17はプレチルト角19が高い配向状態となる。
【0050】このような構造の液晶表示パネルを実際に
画像表示を行ったところ、黒表示を行っている画素部1
にディスクリネーションライン3の発生は見られなかっ
た。これは隣接する非画素部2の液晶分子17のプレチ
ルト角19が高いため、斜め電界や横電界の影響を受け
難くなり、リバースチルトが起こり難くなったことによ
るものである。
【0051】つぎに本発明の液晶表示パネルを得るため
の製造方法を、図1と図2とを用いて説明する。
【0052】ガラス材料からなる第1の基板11に、透
明導電膜である酸化インジウムスズ(ITO)をスパッ
タリング法により膜厚200nmで形成する。
【0053】その後、全面に感光性樹脂を形成し、フォ
トマスクを用いて露光現像処理を行い、この感光性樹脂
をパターニングし、さらにこのパターニングした感光性
樹脂をエッチングマスクに用いて酸化インジウムスズを
パターニングするフォトエッチング法によって、表示用
電極13をパターニングする。
【0054】つづいてこの表示用電極13を形成した第
1の基板11上の全面に、酸化タンタル(Ta2 O5 )
をスパッタリング法により膜厚100nmで形成する。
【0055】その後、上述と同様なフォトエッチング法
により、酸化タンタルをパターニングし、表示用電極1
3上の画素部1に酸化タンタル膜からなる絶縁膜15を
形成する。
【0056】さらに、第1の基板11の画素部1と非画
素部2との上部には、配向膜16としてLQ−T120
(日立化成工業製)をフレキソ印刷法を用いて膜厚50
nmで形成する。
【0057】その後、温度250℃で1時間の焼成を行
った後、レーヨン布を用いて切り込み量0.4mmで一
定方向にラビング処理を行う。
【0058】一方、ガラスからなる第2の基板12は、
前述と同様な処理方法によって、透明導電膜からなる対
向電極14上の画素部1に、酸化タンタル膜からなる絶
縁膜15を形成する。
【0059】そして、第2の基板12の画素部1と非画
素部2との上部に、配向膜16としてLQ−T120
(日立化成工業製)をフレキソ印刷法を用いて膜厚50
nmで形成し、温度250℃で1時間の焼成を行った
後、レーヨン布を用いて切り込み量0.4mmで一定方
向にラビング処理を行う。
【0060】その後、第1の基板11と第2の基板12
とを張り合わせる。これは、どちらか一方の基板に熱硬
化性のエポキシ樹脂からなるシール部18をスクリーン
印刷法により形成し、さらに他方の基板には図示しない
が内部スペーサーとして球状のプラスチックビーズを散
布する。その後、第1の基板11と第2の基板12と
を、ラビング方向が直交するような配置で重ね合わせ
る。
【0061】その後、第1の基板11と第2の基板12
とを加圧しながら温度150℃で、時間2時間の熱処理
を行い、シール部18を硬化させる。
【0062】そして、第1の基板11と第2の基板12
との隙間に、フッ素系のカイラルネマティック液晶MJ
93567(メルク製)を注入して、液晶分子17層を
形成する。
【0063】そして、液晶分子17はラビング方向に沿
って配列し、第1の基板11と第2の基板12との間で
90度ねじれた配向状態となる。
【0064】ここで、酸化タンタル膜からなる絶縁膜1
5上に形成している画素部1の配向膜16は、表面形状
が滑らかで表面粗さが小さいため、この画素部1の液晶
分子17はプレチルト角19が低い配向状態となる。
【0065】また、酸化インジウムスズ上とガラス上と
に形成している非画素部2の配向膜16は、表面形状に
凹凸が多く表面粗さが大きいため、この非画素部2の液
晶分子17はプレチルト角19が高い配向状態となる。
【0066】それぞれのプレチルト角19をクリスタル
ローテーション法により測定したところ、画素部1の液
晶分子17は1.5度のプレチルト角19を有し、非画
素部2の液晶分子17は5.8度のプレチルト角19を
有していた。
【0067】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
液晶表示パネルは、非画素部の液晶分子は画素部の液晶
分子より高いプレチルトを有するため、斜め電界や横電
界が加わっても、リバースチルトは起こり難く、画素部
へのディスクリネーションラインの発生を防ぐことがで
きる。このことにより、画素部は充分な黒表示を行うこ
とができ、コントラスト比の高く表示品質の良好な液晶
表示パネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における液晶表示パネルの構造
を示す断面図である。
【図2】本発明の実施例における液晶表示パネルの構造
を示す平面図である。
【図3】本発明の実施例におけるスィッチング素子を有
する液晶表示パネルの構造を示す平面図である。
【図4】従来例における液晶表示パネルの構造を示す断
面図である。
【図5】従来例における液晶表示パネルの構造と画素欠
陥とを示す平面図である。
【符号の説明】
11 第1の基板 12 第2の基板 15 絶縁膜 16 配向膜 17 液晶分子

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表示用電極と配向膜とを備える第1の基
    板と、対向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1
    の基板と第2の基板との間に液晶分子を封入するための
    シール部とを備え、表示用電極と対向電極とが対面して
    なる画素部には絶縁膜を設け、画素部における液晶分子
    のプレチルト角は非画素部における液晶分子のプレチル
    ト角より低くすることを特徴とする液晶表示パネル。
  2. 【請求項2】 表示用電極と配向膜とを備える第1の基
    板と、対向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1
    の基板と第2の基板との間に液晶分子を封入するための
    シール部とを備え、表示用電極と対向電極とが対面して
    なる画素部には酸化タンタル膜を設け、画素部における
    液晶分子のプレチルト角は非画素部における液晶分子の
    プレチルト角より低くすることを特徴とする液晶表示パ
    ネル。
  3. 【請求項3】 表示用電極と配向膜とを備える第1の基
    板と、対向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1
    の基板と第2の基板との間に液晶分子を封入するための
    シール部とを備え、表示用電極と対向電極とが対面して
    なる画素部には窒化珪素膜を設け、画素部における液晶
    分子のプレチルト角は非画素部における液晶分子のプレ
    チルト角より低くすることを特徴とする液晶表示パネ
    ル。
  4. 【請求項4】 表示用電極と配向膜とを備える第1の基
    板と、対向電極と配向膜とを備える第2の基板と、第1
    の基板と第2の基板との間に液晶分子を封入するための
    シール部とを備え、表示用電極と対向電極とが対面して
    なる画素部には酸化珪素膜を設け、画素部における液晶
    分子のプレチルト角は非画素部における液晶分子のプレ
    チルト角より低くすることを特徴とする液晶表示パネ
    ル。
  5. 【請求項5】 表示用電極とスィッチング素子と配向膜
    とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを備える
    第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分
    子を封入するためのシール部とを備え、表示用電極と対
    向電極とが対面してなる画素部には絶縁膜を設け、画素
    部における液晶分子のプレチルト角は非画素部における
    液晶分子のプレチルト角より低くすることを特徴とする
    液晶表示パネル。
  6. 【請求項6】 表示用電極とスィッチング素子と配向膜
    とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを備える
    第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分
    子を封入するためのシール部とを備え、表示用電極と対
    向電極とが対面してなる画素部には酸化タンタル膜を設
    け、画素部における液晶分子のプレチルト角は非画素部
    における液晶分子のプレチルト角より低くすることを特
    徴とする液晶表示パネル。
  7. 【請求項7】 表示用電極とスィッチング素子と配向膜
    とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを備える
    第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分
    子を封入するためのシール部とを備え、表示用電極と対
    向電極とが対面してなる画素部には窒化珪素膜を設け、
    画素部における液晶分子のプレチルト角は非画素部にお
    ける液晶分子のプレチルト角より低くすることを特徴と
    する液晶表示パネル。
  8. 【請求項8】 表示用電極とスィッチング素子と配向膜
    とを備える第1の基板と、対向電極と配向膜とを備える
    第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に液晶分
    子を封入するためのシール部とを備え、表示用電極と対
    向電極とが対面してなる画素部には酸化珪素膜を設け、
    画素部における液晶分子のプレチルト角は非画素部にお
    ける液晶分子のプレチルト角より低くすることを特徴と
    する液晶表示パネル。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100449368C (zh) * 2002-01-25 2009-01-07 三星电子株式会社 液晶显示设备

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