JP3065486B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、映像表示、各種情報表
示、情報処理などに用いられる液晶表示装置の製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】捩れネマティックモードを利用した液晶
表示装置が既に知られている。この液晶表示装置におい
ては、視角によってコントラストに大きな差が認められ
る。この視角によるコントラストむらを少なくする方法
として、液晶分子の配向方向がそれぞれ異なる微小な複
数の領域を単位絵素上に形成する方法がある。この液晶
分子の配向方向を微小な領域に分割する配向分割の方法
として、以下に示す（１）ないし（３）の方法が特許公
報に開示されている。

【０００３】（１）液晶の捩れ方向による方法（特開昭
５４−５７５４号） この方法では、捩れネマティック型液晶において、ツイ
スト方向が右回りの領域と左回りの領域とを微小なピッ
チで均一に配置する。これより、液晶分子の配向方向が
異なる領域を同一平面内に形成することができる。

【０００４】（２）ラビング方向による方法（特開昭６
０−２１１４２１号） この方法では、異なる配向方向を有する配向膜を得るた
めに、配向膜の表面にフォトレジスト層を形成する。そ
して、露光及び現像によりフォトレジスト層をパターン
化し、フォトレジスト層のパターンの上からラビング法
による配向処理を施す。次に、フォトレジスト層を剥離
し、再度パターン化したフォトレジスト層を配向膜の上
部に形成し、先にラビング処理した領域とは異なる領域
に、異なる方向から、ラビング法による配向処理を施
す。これより、液晶分子の配向方向が異なる領域を同一
平面内に形成することができる。

【０００５】（３）プレティルトによる方法（特開平５
−１７３１３７号） この方法では、第１基板と第２基板とでそれぞれ条件の
異なるラビング処理を施したり、第１基板と第２基板と
で配向材料を変えたりすることにより、第１基板付近の
液晶分子のプレティルトより第２基板付近のプレティル
トが小さくなるような配向処理を施す。これにより、液
晶分子の配向方向が異なる領域を同一平面内に形成する
ことができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記（１）
の方法は、右回りと左回りの液晶分子を均一に配置しな
ければ、この両者の境界部で気泡状の表示むらとなって
視認される。この気泡状の表示むらの大きさを制御する
ことによって、高コントラストを得ている。しかし、右
回りと左回りとの液晶分子を均一に配置する制御が困難
であり、液晶分子の安定な配向分割状態を維持すること
が難しいという問題点を有している。

【０００７】上記（２）および（３）の方法は、フォト
レジストを使用して複数層の配向膜や複数回のラビング
処理が必要である。このため、製造のプロセスが複雑に
なるという問題点を有している。

【０００８】したがって、本発明は、配向分割のプロセ
スを簡略化することができ、かつ、 製造後に安定な配向
分割状態を維持することができる液晶表示装置の製造方
法の提供を目的としている。また、液晶表示パネルを押
圧した場合でも、コントラストむらが生じない広視角な
液晶表示装置が得られる液晶表示装置の製造方法の提供
を目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１の発明の液晶表示装置の製造方法は、マ
トリクス状に配列された複数の絵素を有し、それぞれの
絵素上にて、液晶分子の視角方向が互いに異なる領域に
分割され、任意の行の絵素上の下部領域と次行の絵素上
の上部領域とが同一の視角方向を有しており、かつ任意
の列の絵素上の下部領域と次列の絵素上の下部領域とが
同一の視角方向を有しており、絵素上における液晶分子
の視角方向が互いに異なる領域が、液晶分子のプレティ
ルトの大きさが互いに異なる領域である液晶表示装置の
製造方法であって、２枚の基板上に各々電極と液晶配向
膜とを形成する工程と、液晶配向膜上の所定領域にマス
クを施し、そのマスクの上から３００ｎｍ以下の波長の
紫外線による露光処理を行うことにより、露光領域の液
晶配向膜が液晶分子に与えうるプレティルトの大きさを
減少させる露光工程と、液晶配向膜に対して配向処理を
施す配向処理工程と、両基板を貼り合わせ、貼り合わせ
た両基板の間にネマティック液晶を注入する工程とを含
むことを特徴としている。

【００１０】また、請求項２の発明の液晶表示装置の製
造方法は、マトリクス状に配列された複数の絵素を有
し、それぞれの絵素上にて、液晶分子の視角方向が互い
に異なる領域に分割され、任意の列の絵素上の右部領域
とこの領域に隣接する次列の絵素上の左部領域とが同一
の視角方向を有しており、絵素上における液晶分子の視
角方向が互いに異なる領域が、液晶分子のプレティルト
の大きさが互いに異なる領域である液晶表示装置の製造
方法であって、２枚の基板上に各々電極と液晶配向膜と
を形成する工程と、液晶配向膜上の所定領域にマスクを
施し、そのマスクの上から３００ｎｍ以下の波長の紫外
線による露光処理を行うことにより、露光領域の液晶配
向膜が液晶分子に与えうるプレティルトの大きさを減少
させる露光 工程と、液晶配向膜に対して配向処理を施す
配向処理工程と、両基板を貼り合わせ、貼り合わせた両
基板の間にネマティック液晶を注入する工程とを含むこ
とを特徴としている。

【００１１】また、請求項３の発明の液晶表示装置の製
造方法は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置の製造
方法において、上記配向処理を、上記ネマティック液晶
の配向状態が捩れネマティック型となるように施すこと
を特徴としている。

【００１２】また、請求項４の発明の液晶表示装置の製
造方法は、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液
晶表示装置の製造方法において、上記絵素に非線形素子
を結合する工程をさらに含むことを特徴としている。

【００１３】

【作用】請求項１の方法によれば、配向分割のプロセス
を簡略化することができ、かつ、製造後に安定な配向分
割状態を維持することができる。

【００１４】また、配向分割を絵素上の上部領域と下部
領域とで上下視角方向に行なっていることにより、通常
の表示状態にて広い視角が得られ、上下視角方向でコン
トラストむらが発生するのを防止することができる。

【００１５】また、任意の行の絵素上の下部領域と次行
の絵素上の上部領域とが同一の視角方向を有しており、
かつ任意の列の絵素上の下部領域と次列の絵素上の下部
領域とが同一の視角方向を有している。

【００１６】これにより、例えば、液晶表示パネルを押
圧し、液晶表示パネル内部の液晶が移動した状態におい
て、押圧点付近では、液晶分子の視角方向が互いに異な
る領域のどちらか一方のみがゲート電極上にかたよるこ
とはない。したがって、絵素上に位置する液晶分子の視
角方向が互いに異なる領域の比率が変化しないことによ
り、押圧点上下におけるコントラストむらは認められ
ず、良好な表示状態を維持することができる。

【００１７】請求項２の方法によれば、配向分割のプロ
セスを簡略化することができ、かつ、製造後に安定な配
向分割状態を維持することができる。

【００１８】また、配向分割を絵素上の左部領域と右部
領域とで左右視角方向に行なっていることにより、通常
の表示状態にて広い視角が得られ、左右視角方向でコン
トラストむらが発生するのを防止することができる。

【００１９】また、任意の列の絵素上の右部領域とこの
領域に隣接する次列の絵素上の左部領域とが同一の視角
方向を有しており、かつ任意の行の絵素上の右部領域と
次行の絵素上の右部領域とが同一の視角方向を有してい
る。

【００２０】これにより、例えば、液晶表示パネルを押
圧し、液晶表示パネル内部の液晶が移動した状態におい
て、押圧点付近では、液晶分子の視角方向が互いに異な
る領域のどちらか一方のみがソース電極上にかたよるこ
とはない。したがって、絵素上に位置する液晶分子の視
角方向が互いに異なる領域の比率が変化しないことによ
り、押圧点左右におけるコントラストむらは認められ
ず、良好な表示状態を維持することができる。

【００２１】また、上記各方法によれば、請求項１又は
２の方法による作用に加え、例えば紫外光により液晶分
子のプレティルトの大きさを制御し、上記の視角方向の
異なる領域を形成することができるので、よりコントラ
ストに優れた液晶表示装置を簡単なプロセスで製造する
ことができる。

【００２２】請求項３の方法によれば、請求項１又は２
の方法による作用に加え、高コントラストかつカラー表
示が可能な液晶表示装置の製造方法において、上記コン
トラストむらの発生が防止された液晶表示装置が得られ
る。

【００２３】請求項４の方法によれば、請求項１又は２
の方法による作用に加え、低コストかつ高画像解像度な
液晶表示装置の製造方法において、上記コントラストむ
らの発生が防止された液晶表示装置が得られる。

【００２４】

【実施例】本発明の一実施例を図１ないし図５に基づい
て以下に説明する。本実施例の液晶表示装置は、図３に
示す液晶表示パネル２２と、これを駆動する液晶ドライ
バ（図示せず）及び駆動回路（図示せず）とを備えてい
る。

【００２５】図３に示すように、上記液晶表示パネル２
２は、一対をなすアクティブマトリクス基板２０と対向
基板２１との間に液晶８を注入し、密封した後、偏光子
７・１２をこれらの基板２０・２１の外面に吸収軸方向
が互いに垂直になるように設けたものである。

【００２６】上記アクティブマトリクス基板２０には、
薄膜トランジスタ３１及び絵素６が形成されている。こ
のアクティブマトリクス基板２０の内面には、さらに配
向膜５が形成されている。

【００２７】上記対向基板２１には、遮光膜２４及び対
向電極１０が形成されている。この対向基板２１の内面
には、さらに配向膜１１が形成されている。

【００２８】上記薄膜トランジスタ３１は、図４に示す
ように、ベースコート３、ゲート電極１３、ゲート絶縁
膜４、水素化アモルファスシリコン層１４、ｎ＋アモル
ファスシリコン層１５、ソース電極１７、ドレイン電極
１６を透明基板２に順次堆積することにより形成され
る。

【００２９】以下にアクティブマトリクス基板２０の具
体的な作成手順を示す。図４に示すように、薄膜トラン
ジスタ３１は、透明基板２の内面に、ベースコート３、
ゲート電極１３、ゲート絶縁膜４、水素化アモルファス
シリコン層１４、ｎ＋アモルファスシリコン層１５、ソ
ース電極１７、ドレイン電極１６及び絵素６を順次設け
ることにより形成される。

【００３０】ベースコート３には、酸化タンタルが用い
られている。この酸化タンタルは、透明基板２上にタン
タルをスパッタリングにより堆積した後、これを熱酸化
したものである。

【００３１】ゲート電極１３は、ベースコート３の上に
タンタルをスパッタリングにより堆積した後、フォトリ
ソグラフィーによるパターニングを行なうことにより形
成される。

【００３２】ゲート絶縁膜４は、ゲート電極１３表面に
窒化シリコンをプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖ
ａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって堆積し、形
成される。

【００３３】ソース電極１７及びドレイン電極１６は、
ゲート絶縁膜４の上に、水素化アモルファスシリコン層
１４とｎ＋アモルファスシリコン層１５とをプラズマＣ
ＶＤによって順次堆積し、フォトリソグラフィーによる
パターニングを行ない、続いて、モリブデンをスパッタ
リングにより堆積した後、再度フォトリソグラフィーに
よるパターニングを行なうことにより形成される。

【００３４】上記の方法により薄膜トランジスタ３１が
形成された透明基板２上にＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉ
ｎ ｏｘｉｄｅ）を用いて、絵素（絵素電極）６を形成
する。

【００３５】絵素６を形成した後、さらに上記配向膜５
を印刷法によって形成する。この配向膜５には、オプト
マ−ＡＬ−３０４６（商品名：日本合成ゴム株式会社
製）を使用している。このオプトマ−ＡＬ−３０４６
は、側鎖を有する高プレティルト型のアクティブマトリ
クス液晶用配向膜の材料である。これを印刷法により１
００ｎｍの厚さで形成した後、１８０℃で１時間焼成
し、さらに３００ｎｍ以下の波長の紫外線を発する高圧
水銀ランプにより露光処理を行なう。このときに、図５
に示すように、上記配向膜５上の所定の領域（同図では
斜線部）にマスクを施して、その上から露光処理を行な
う。これにより、図１に示すように、アクティブマトリ
クス基板２０上の配向膜５には、非露光領域５ａ及び露
光領域５ｂが形成される。

【００３６】上記所定の領域とは、同図に示すように、
アクティブマトリクス基板２０上の任意の行のすべての
絵素６の下部と次行のすべての絵素６の上部とにまたが
る領域である。また非露光領域５ａと露光領域５ｂと
は、交互になるように形成されている。

【００３７】以下に対向基板２１の具体的な作成手順を
示す。対向基板２１は、図３に示すように、透明基板９
内面にチタンによる遮光膜２４を堆積し、その表面にＩ
ＴＯを用いて対向電極１０を形成することにより得られ
る。この対向電極１０の表面上に、配向膜１１を上記ア
クティブマトリクス基板２０と同じ方法で形成する。さ
らに配向膜１１上の所定の位置にマスクを施して、３０
０ｎｍ以下の波長の紫外線を発する高圧水銀ランプによ
る露光処理を行なう。これにより、対向基板２１上の配
向膜１１にも非露光領域１１ａ及び露光領域１１ｂが形
成される。

【００３８】図３に示すように、アクティブマトリクス
基板２０及び対向基板２１の各配向膜５・１１には、こ
れら２つの基板２０・２１を貼り合わせたとき、対向基
板２１側の配向膜１１の非露光領域１１ａが、アクティ
ブマトリクス基板２０の配向膜５の露光領域５ｂと対向
するように、又対向基板２１側の配向膜１１の露光領域
１１ｂが、アクティブマトリクス基板２０側の配向膜５
の非露光領域５ａと対向するようにマスクを施す。

【００３９】このようにして、上記２枚の基板２０・２
１にマスク露光を行なった後、これらの基板２０・２１
にそれぞれラビング法による配向処理を行なう。この配
向処理では、液晶８に右回りのカイラルドーパントを添
加したときに、観察者がアクティブマトリクス基板２０
を下にして、対向基板２１側から見て、ツイスト角９０
°のツイステッドネマティック配向が見られる方向に配
向処理を施す。また観察者がアクティブマトリクス基板
２０を下にして、対向基板２１側から見たとき、右側の
視角方向で大きなコントラストが得られるような方向に
配向処理を施す。

【００４０】上記のような露光処理及び配向処理を施し
たアクティブマトリクス基板２０と対向基板２１を純水
で洗浄した後、これらの基板２０・２１の内面に直径５
μｍのプラスティックスペーサ２３を散布し、これらの
基板２０・２１の周囲にエポキシ樹脂を塗布してこれを
硬化させる。さらに互いに貼り合わされたアクティブマ
トリクス基板２０と対向基板２１との間に左旋性のカイ
ラルドーパントであるコレステリルノナノエートを１重
量％添加した液晶８（ＺＬＩ−４７９２）が注入され注
入口を封止する。

【００４１】なお、上記のような配向処理を施すことに
より、左回りのカイラルドーパントを添加した液晶８を
液晶表示パネル２２に注入したときに、図１に示すよう
に、アクティブマトリクス基板２０の露光領域では上視
角領域１８、非露光領域では下視角領域１９を有する液
晶表示装置を得ることができる。

【００４２】これは配向膜５・１１の上記露光領域５ｂ
・１１ｂが紫外線露光によって劣化したことによる。こ
の劣化により、液晶分子にプレティルトを与える配向膜
５及び１１の力が弱くなって、上記露光領域５ｂ・１１
ｂにおける液晶分子のプレティルトは、ほぼゼロとなる
からである。

【００４３】また、上記配向処理により、左旋性を有す
る液晶８を液晶表示パネル２２に注入した場合、液晶分
子は、５°程度のプレティルトを示す配向膜５・１１の
非露光領域５ａ・１１ａ部分の影響を受ける。すなわ
ち、配向膜５・１１の非露光領域５ａ・１１ａ部分のラ
ビング方向に沿って液晶分子は配向する。

【００４４】上記の製造方法により構成された、本実施
例の液晶表示装置は、通常の駆動状態において上下（又
は左右）の視角が対称で、かつ広視角な視角特性が認め
られ、また正面コントラストも５０以上の良好な表示状
態が確認されている。

【００４５】ところで、本発明の前提となる技術とし
て、上記のような配向膜への紫外光のマスク照射によっ
て、照射部のプレティルトを低減させ、配向分割を行な
う方法がある。この方法では図６に示すように、マスク
露光処理によってアクティブマトリクス基板２０上の任
意の行の絵素６上にて絵素６の上部領域が下視角領域４
２、絵素６の下部領域が上視角領域４１になるように形
成されている。

【００４６】この液晶表示パネルを押圧した場合、図７
に示すように、押圧点５１を中心に上側に上視角優勢領
域５２と下側に下視角優勢領域５３とが生じる。すなわ
ち、押圧点５１の上部では、図８に示すように、下視角
領域４２はゲート電極１３上に移動し、上視角領域４１
は、絵素６上に移動する。このため、上視角優勢領域５
２となり、絵素上の上視角領域４１と下視角領域４２の
比率が変化してしまう。

【００４７】また、上下の領域で上下視角方向の領域の
割合が変化するため元の状態に復帰するまでにかなりの
時間を要する。したがって、視角方向によってコントラ
ストむらとなって視認され、表示品質を著しく低下させ
るという問題を有していた。

【００４８】ところが、本実施例の液晶表示装置は、液
晶表示パネル２２を２ｋｇｆの力で押圧した場合におい
て、図２に示すように、ゲート電極１３が上視角領域１
８または下視角領域１９の範囲に位置している。

【００４９】これにより、絵素６上の上視角領域１８と
下視角領域１９の比率が変化しないので、押圧点上下に
おけるコントラストむらは認められず、良好な表示状態
を維持することができる。したがって、この液晶表示装
置は、押圧してもコントラストむらが生じないことか
ら、ペン入力型やタッチパネル型の入力装置として使用
することができる。

【００５０】また、紫外光を利用した上記マスク露光処
理により、フォトレジストを使用して複数層の配向膜を
形成したり複数回のラビング処理をしたりする必要がな
いので、配向分割のプロセスを簡略化することができ
る。

【００５１】また、配向膜により液晶分子の配向方向を
制御する方法を用いているので、安定な配向分割状態を
維持することができる。

【００５２】なお、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、本実施例で説明した製造のプロセスや使用材料に限
定されるものではなく、以下に示すプロセスや材料を適
用することができる。

【００５３】例えば、本実施例ではアモルファスシリコ
ン薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス型液
晶表示装置を例示したが、ポリシリコンを用いたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置及び、２端子素子を用い
たアクティブマトリクス型液晶表示装置、また単純マト
リクス型液晶表示装置に対しても適用することができ
る。

【００５４】なお、本実施例では、配向分割が、絵素６
の上下で上下視角方向に設定されているが、配向分割の
方向は、絵素６の左右で左右視角方向、絵素６の左右で
上下視角方向、及び絵素６の上下で左右視角方向に設定
することができる。

【００５５】また、光によるプレティルトの制御以外の
マスクラビングによる配向分割を行なう場合または高低
２種のプレティルトを有する配向膜を用いる場合にも本
実施例に示した配向分割方法を適用することができる。

【００５６】

【発明の効果】以上のように、請求項１の発明の液晶表
示装置の製造方法は、マトリクス状に配列された複数の
絵素を有し、それぞれの絵素上にて、液晶分子の視角方
向が互いに異なる領域に分割され、任意の行の絵素上の
下部領域と次行の絵素上の上部領域とが同一の視角方向
を有しており、かつ任意の列の絵素上の下部領域と次列
の絵素上の下部領域とが同一の視角方向を有しており、
絵素上における液晶分子の視角方向が互いに異なる領域
が、液晶分子のプレティルトの大きさが互いに異なる領
域である液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板
上に各々電極と液晶配向膜とを形成する工程と、液晶配
向膜上の所定領域にマスクを施し、そのマスクの上から
３００ｎｍ以下の波長の紫外線による露光処理を行うこ
とにより、露光領域の液晶配向膜が液晶分子に与えうる
プレティルトの大きさを減少させる露光工程と、液晶配
向膜に対して配向処理を施す配向処理工程と、両基板を
貼り合わせ、貼り合わせた両基板の間にネマティック液
晶を注入する工程とを含む方法である。

【００５７】これにより、配向分割のプロセスを簡略化
することができ、かつ、製造後に安定な配向分割状態を
維持することができる液晶表示装置の製造方法を提供で
きるという効果を奏する。

【００５８】また、上下視角方向でコントラストむらが
発生するのを防止することができる液晶表示装置が得ら
れるという効果を奏する。また、押圧が液晶表示パネル
に加わった場合において、コントラストむらが発生する
のを防止することができる液晶表示装置が得られるとい
う効果を奏する。

【００５９】また、請求項２の発明の液晶表示装置は、
マトリクス状に配列された複数の絵素を有し、それぞれ
の絵素上にて、液晶分子の視角方向が互いに異なる領域
に分割され、任意の列の絵素上の右部領域とこの領域に
隣接する次列の絵素上の左部領域とが同一の視角方向を
有しており、かつ任意の行の絵素上の右部領域と次行の
絵素上の右部領域とが同一の視角方向を有しており、絵
素上における液晶分子の視角方向が互いに異なる領域
が、液晶分子のプレティルトの大きさが互いに異なる領
域である液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板
上に各々電極と液晶配向膜とを形成する工程と、液晶配
向膜上の所定領域にマスクを施し、そのマスクの上から
３００ｎｍ以下の波長の紫外線による露光処理を行うこ
とにより、露光領域の液晶配向膜が液晶分子に与えうる
プレティルトの大きさを減少させる露光工程と、液晶配
向膜に対して配向処理を施す配向処理工程と、両基板を
貼り合わせ、貼り合わせた両基板の間にネマティック液
晶を注入する工程とを含む方法である。

【００６０】これにより、配向分割のプロセスを簡略化
することができ、かつ、製造後に安定な配向分割状態を
維持することができる液晶表示装置の製造方法を提供で
きるという効果を奏する。

【００６１】また、左右視角方向でコントラストむらが
発生するのを防止することができる液晶表示装置が得ら
れるという効果を奏する。

【００６２】また、押圧が液晶表示パネルに加わった場
合において、コントラストむらが発生するのを防止する
ことができる液晶表示装置が得られるという効果を奏す
る。

【００６３】また、上記各方法では、上記の視角方向の
異なる領域が、上記２枚の基板上における液晶分子のプ
レティルトの大きさが異なる領域を設けることにより形
成されるので、よりコントラストに優れた液晶表示装置
を簡単なプロセスで製造することができるという効果を
奏する。

【００６４】また、請求項３の発明の液晶表示装置の製
造方法は、請求項１又は２の発明において、上記配向処
理を、上記ネマティック液晶の配向状態が捩れネマティ
ック型となるように施す方法である。これにより、請求
項１又は２の発明の効果に加え、高コントラストかつカ
ラー表示が可能な液晶表示装置の製造方法において、上
記コントラストむらの発生が防止された液晶表示装置を
製造できるという効果を奏する。

【００６５】また、請求項４の発明の液晶表示装置の製
造方法は、請求項１ないし３のいずれかの発明におい
て、上記絵素に非線形素子を結合する工程をさらに含む
方法である。これにより、請求項１ないし３のいずれか
の発明の効果に加え、低コストかつ高画像解像度な液晶
表示装置の製造方法において、上記コントラストむらの
発生が防止された液晶表示装置を製造できるという効果
を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例におけるアクティブマトリク
ス基板上の上視角領域と下視角領域とを示す説明図であ
る。

【図２】上記実施例における液晶表示装置の液晶表示パ
ネルを押圧した場合の上視角領域と下視角領域との状態
を示す説明図である。

【図３】上記実施例における液晶表示装置の液晶表示パ
ネルの断面図である。

【図４】図３に示した薄膜トランジスタの構成を示す断
面図である。

【図５】上記実施例におけるアクティブマトリクス基板
の配向膜の露光領域と非露光領域とを示す説明図であ
る。

【図６】本発明の前提技術となる液晶表示装置のアクテ
ィブマトリクス基板上の上視角領域と下視角領域とを示
す説明図である。

【図７】図６の液晶表示装置の液晶表示パネルを押圧し
た場合のパネルの状態を示す説明図である。

【図８】図６の液晶表示装置の液晶表示パネルを押圧し
た場合の上視角領域と下視角領域との状態を示す説明図
である。

【符号の説明】

２ 透明基板 ３ ベースコート ４ ゲート絶縁膜 ５ 配向膜 ５ａ 非露光領域 ５ｂ 露光領域 ６ 絵素（絵素電極） ７ 偏光子 ８ 液晶 ９ 透明基板 １０ 対向電極 １１ 配向膜 １１ａ 非露光領域 １１ｂ 露光領域 １２ 偏光子 １３ ゲート電極 １４ 水素化アモルファスシリコン層 １５ ｎ＋アモルファスシリコン層 １６ ドレイン電極 １７ ソース電極 １８ 上視角領域 １９ 下視角領域 ２０ アクティブマトリクス基板 ２１ 対向基板 ２２ 液晶表示パネル ２３ スペーサ ２４ 遮光膜 ３１ 薄膜トランジスタ ４１ 上視角領域 ４２ 下視角領域 ５１ 押圧点 ５２ 上視角優勢領域 ５３ 下視角優勢領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/1337 505

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】マトリクス状に配列された複数の絵素を有
   し、それぞれの絵素上にて、液晶分子の視角方向が互い
   に異なる領域に分割され、任意の行の絵素上の下部領域
   と次行の絵素上の上部領域とが同一の視角方向を有して
   おり、かつ任意の列の絵素上の下部領域と次列の絵素上
   の下部領域とが同一の視角方向を有しており、絵素上に
   おける液晶分子の視角方向が互いに異なる領域が、液晶
   分子のプレティルトの大きさが互いに異なる領域である
   液晶表示装置の製造方法であって、 ２枚の基板上に各々電極と液晶配向膜とを形成する工程
   と、 液晶配向膜上の所定領域にマスクを施し、そのマスクの
   上から３００ｎｍ以下の波長の紫外線による露光処理を
   行うことにより、露光領域の液晶配向膜が液晶分子に与
   えうるプレティルトの大きさを減少させる露光工程と、 液晶配向膜に対して配向処理を施す配向処理工程と、 両基板を貼り合わせ、貼り合わせた両基板の間にネマテ
   ィック液晶を注入する工程とを含む ことを特徴とする液
   晶表示装置の製造方法。
2. 【請求項２】マトリクス状に配列された複数の絵素を有
   し、それぞれの絵素上にて、液晶分子の視角方向が互い
   に異なる領域に分割され、任意の列の絵素上の右部領域
   とこの領域に隣接する次列の絵素上の左部領域とが同一
   の視角方向を有しており、かつ任意の行の絵素上の右部
   領域と次行の絵素上の右部領域とが同一の視角方向を有
   しており、絵素上における液晶分子の視角方向が互いに
   異なる領域が、液晶分子のプレティルトの大きさが互い
   に異なる領域である液晶表示装置の製造方法であって、 ２枚の基板上に各々電極と液晶配向膜とを形成する工程
   と、 液晶配向膜上の所定領域にマスクを施し、そのマスクの
   上から３００ｎｍ以下の波長の紫外線による露光処理を
   行うことにより、露光領域の液晶配向膜が液晶分子に与
   えうるプレティルトの大きさを減少させる露光工程と、 液晶配向膜に対して配向処理を施す配向処理工程と、 両基板を貼り合わせ、貼り合わせた両基板の間にネマテ
   ィック液晶を注入する工程とを含む ことを特徴とする液
   晶表示装置の製造方法。
3. 【請求項３】上記配向処理を、上記ネマティック液晶の
   配向状態が捩れネマティック型となるように施すことを
   特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置の製造
   方法。
4. 【請求項４】上記絵素に非線形素子を結合する工程をさ
   らに含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか
   １項に記載の液晶表示装置の製造方法。