JPH0832217A - フラックスの供給装置 - Google Patents

フラックスの供給装置

Info

Publication number
JPH0832217A
JPH0832217A JP15860394A JP15860394A JPH0832217A JP H0832217 A JPH0832217 A JP H0832217A JP 15860394 A JP15860394 A JP 15860394A JP 15860394 A JP15860394 A JP 15860394A JP H0832217 A JPH0832217 A JP H0832217A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flux
chip
supply device
nozzle
discharging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15860394A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3127720B2 (ja
Inventor
Naoki Miyazaki
直紀 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP06158603A priority Critical patent/JP3127720B2/ja
Publication of JPH0832217A publication Critical patent/JPH0832217A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3127720B2 publication Critical patent/JP3127720B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 チップを基板に半田付けするためのフラック
スの供給装置において、揮発性溶剤を混合したフラック
スを用いる場合でも、溶剤の揮発によるフラックスの品
質劣化を解消できる手段を提供することを目的とする。 【構成】 ノズル部30から貯溜部20aにフラックス
を補給する。コレット5は貯溜部20aの上方で上下動
作を行い、チップ4の下面にフラックスを付着させて基
板3に搭載する。貯溜部20aはモータ14に駆動され
て回転することにより上下反転し、下向きとなって内部
のフラックスを排出する。貯溜部20aは再度反転して
上向きになり、ノズル部30から再びフラックスが補給
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、チップを基板に半田付
けするためのフラックスを供給するフラックスの供給装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】チップを基板の電極に半田付けするにあ
たっては、半田のヌレ性を向上させるために、基板の電
極や、あるいはチップの下面にフラックスが塗布され
る。
【0003】フラックスの供給装置としては、特開平4
−258200号公報に記載されたものが知られてい
る。このものは、皿状の容器にフラックスを貯溜してお
り、この容器をアクチュエータで水平回転させながら、
スキージによりフラックスの液面を平滑し、平滑された
液面に転写ピンの下面を没入させてこの下面にフラック
スを付着させ、次いでこの転写ピンを基板の上方へ移動
させ、そこで転写ピンに上下動作を行わせることによ
り、フラックスを基板の電極に転写するようになってい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところでフラックスと
して、その品質改善のために、アルコールなどの揮発性
の溶剤を混合したものが用いられている。しかしながら
このような揮発性の溶剤を含むフラックスを上記従来の
容器に貯溜した場合、溶剤は徐々に蒸発してしまい、溶
剤の含有量が次第に低下してフラックスの品質が劣化す
るという問題点があった。
【0005】また上記従来手段は、スキージによりフラ
ックスの液面を一定に保持して、安定した量のフラック
スを転写ピンの下面に付着させることができるという利
点があるものの、構造が複雑でコストアップになるとい
う問題点があった。
【0006】そこで本発明は、溶剤の揮発によるフラッ
クスの品質劣化を解消できるフラックスの供給装置を提
供することを目的とする。また構造が簡単で低コスト化
を図れるフラックスの供給装置を提供することを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】このために本発明は、フ
ラックスの貯溜部と、この貯溜部にフラックスを補給す
る補給手段と、この貯溜部からフラックスを排出させる
排出手段とからフラックスの供給装置を構成した。
【0008】
【作用】上記構成において、貯溜部に貯溜されたフラッ
クスに、チップや転写ピンの下面を没入させてフラック
スを付着させるが、フラックスを付着させた後、貯溜部
からフラックスを排出し、新しいフラックスを補給する
ことにより、常に高品質のフラックスをチップや転写ピ
ンの下面に付着させることができる。
【0009】
【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。図1は本発明の第一実施例のフラックスの供
給装置の斜視図、図2および図3は同要部断面図であ
る。図1において、1はフラックスの供給装置であっ
て、チップ供給部であるトレイ2と、チップが搭載され
る基板3の近傍に配設されている。トレイ2にはチップ
4が収納されており、このチップ4をコレット5の下端
部に真空吸着してピックアップし、基板3に搭載する
が、この搭載に先立って、チップ4の下面にフラックス
が付着される。6は基板3の搬送用コンベアである。
【0010】次に、フラックスの供給装置について説明
する。11はケースであり、その内部にブロック12が
収納されている。図2に示すように、ブロック12には
水平な回転軸13が挿着されている。回転軸13はモー
タ14に連結されている。図3に示すように、ブロック
12の横断面形状は2つのフラット面a,bと、その両
側部の円弧面c,dを有しており、円弧面c,dはオイ
ルシール15を介してケース11の内壁面に接してい
る。16はモータ14を支持するフレーム、17,18
はベアリングである。モータ14が駆動すると、ブロッ
ク12は回転軸13を中心に上下方向に反転する。
【0011】フラット面a,bには、それぞれフラック
スを貯溜するための皿状の貯溜部20a,20bが設け
られている。またケース11の下部にはノズル体21が
配設されている。図2に示すように、ノズル体21には
3個のノズル孔22,23,24が穿孔されており、そ
れぞれチューブ25,26,27に接続されている。ノ
ズル孔22,23,24は下向きの貯溜部20bに臨ん
でいる。またブロック12とノズル体21の間には、ケ
ース11とブロック12とノズル体21で包囲される密
閉空間28が形成されている。29はケース11とノズ
ル体21の間のシールである。
【0012】図1において、30はノズル部であり、そ
の先端部から貯溜部20a,20bにフラックスを吐出
して補給する。ノズル部30はチューブ31に接続され
ており、タンク(後述)からチューブ31を通してフラ
ックスが供給される。32はノズル部30を支持するフ
レームである。
【0013】図4は本発明の第一実施例のフラックスの
供給装置の配管系の模式図である。図中、41はエア源
であり、圧力調整用のレギュレータ42、アルコールな
どの洗浄液が貯溜されたタンク43、バルブ44、ジョ
イント45を通して上記ノズル体21のノズル孔24に
接続されている。またバルブ46を介してジョイント4
5に接続されている。エア源41でタンク43内を加圧
すると、タンク43内の洗浄液はジョイント45へ圧送
され、この洗浄液はバルブ46から圧送された加圧空気
と混合される。そしてこの洗浄液の混合空気はノズル孔
24から貯溜部20a,20bへ霧状に吹き付けられ、
貯溜部20a,20bをクリーニングする。
【0014】またエア源41は、レギュレータ47を介
してフラックスが貯溜されたタンク48に加圧空気を送
る。タンク48はバルブ49を通してノズル部30にフ
ラックスを供給し、ノズル部30は貯溜部20a,20
bにフラックスを吐出する。このフラックスには、アル
コールなどの揮発性の溶剤が混合されている。50はコ
ントローラであって、各バルブ44,46,49などを
制御する。51は吸引装置であり、ジョイント52を通
してノズル孔22,23に接続されている。
【0015】このフラックスの供給装置は上記のような
構成より成り、次にその動作を説明する。図1におい
て、コレット5はトレイ2のチップ4を真空吸着してピ
ックアップし、上向きの貯溜部20aの上方へ移動す
る。そこでコレット5は上下動作を行って、真空吸着し
たチップ4の下面を貯溜部20aに貯溜されたフラック
スに没入させ、この下面にフラックスを付着させる。次
いでコレット5は基板3の上方へ移動し、そこで上下動
作を行うことにより、チップ4を基板3に搭載する。
【0016】貯溜部20a,貯溜部20bに貯溜された
フラックスに含有される溶剤は揮発し、フラックスの品
質は劣化しやすい。そこで図2および図3において、モ
ータ14を駆動してブロック12を回転させて貯溜部2
0a,20bを上下反転させ、貯溜部20a又は貯溜部
20bを択一的に下向きにすることにより、下向きとな
った貯溜部20a又は貯溜部20bからフラックスを密
閉空間28に排出する。そこでまずバルブ44,46を
開いてノズル孔24から洗浄液を霧状に吹き出して貯溜
部20a又は貯溜部20bを洗浄するとともに、吸引装
置51を駆動し、密閉空間28内のフラックスや洗浄液
をノズル孔22,23から吸い出す。次にバルブ44を
閉じ、またバルブ46を開いた状態で、エア源41から
加圧空気を圧送し、ノズル孔24から吹き出して貯溜部
20a又は貯溜部20bを乾燥させる。その間、上向き
の貯溜部20a又は貯溜部20bにはノズル部30から
フラックスが供給され、上述したようにこのフラックス
をチップ4の下面に付着させて、チップ4を基板3に搭
載する。
【0017】以上のようにして貯溜部20a,20b内
のフラックスを排出し、貯溜部20a,20bを洗浄・
乾燥させたうえで、新たなフラックスをノズル部30か
ら補給することにより、常に品質の安定したフラックス
をチップ4に付着させることができる。また下向きの貯
溜部20a又は貯溜部20bを密閉空間28内で洗浄す
ることにより、ノズル孔24から吹き出されたフラック
スが周辺に飛散することもない。なおフラックスの排出
・補給を行う頻度は任意であって、チップ4にフラック
スを付着させる毎に(すなわち1回毎に)行ってもよ
く、あるいは数回毎に行ってもよい。また本実施例で
は、チップ4の下面に直接フラックスを付着させている
が、転写ピンの下面にフラックスを付着させ、この転写
ピンによりフラックスを基板に転写した後、チップを基
板に搭載する方式のものでもよい。
【0018】図5は本発明の第二実施例のフラックスの
供給装置の斜視図である。61,62,63は3本のア
ームであって、モータ64に駆動されて矢印方向へ水平
回転する。各アーム61,62,63の先端部には貯溜
部20a,20b,20cが設けられている。各貯溜部
20a,20b,20cは矢印方向に間欠的に水平回転
し、フラックスの付着ステージS1、クリーニングステ
ージS2、フラックスの補給ステージS3で一時停止す
る。
【0019】チップ4を真空吸着したコレット5は、付
着ステージS1で上下動作を行い。チップ4の下面を貯
溜部20a内のフラックスに没入させてフラックスを付
着させ、基板(図外)の上方へ移動して、チップ4を基
板に搭載する。クリーニングステージS2にはクリーニ
ング手段としてのエア吹き出し用のノズル部65が設け
られている。このノズル部65からエアが貯溜部20b
に吹き出され、貯溜部20b内のフラックスを飛散させ
て排出するとともに、フラックスが飛散した後の貯溜部
20bを乾燥させる。すなわちこのノズル部65は、フ
ラックスの排出手段を兼務している。なおこのクリーニ
ングステージS2には、フラックスの周辺への飛散を防
止する防止壁や、飛散したフラックスを回収する回収容
器を設けることが望ましい。また補給ステージS3には
ノズル部30が設けられており、貯溜部20cにフラッ
クスを補給する。
【0020】したがってこのフラックスの供給装置1
は、貯溜部20a,20b,20cを間欠回転させなが
ら、付着ステージS1でチップ4の下面にフラックスを
付着させ、またクリーニングステージS2でフラックス
の排出と貯溜部20a,20b,20cのクリーニング
を行い、補給ステージS3でフラックスの補給を行う。
なお付着ステージS1とクリーニングステージS2の間
に洗浄ステージを設け、この洗浄ステージで貯溜部20
a,20b,20cに洗浄液を吹き付けてフラックスを
強制的に排出するとともに洗浄し、その後、クリーニン
グステージS2でエアを吹き付けて乾燥させるようにし
てもよい。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、揮
発溶剤が混合されたフラックスを使用する場合でも、常
に品質の安定したフラックスをチップや転写ピンの下面
に付着させることができ、半田付けの品質を向上させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例のフラックスの供給装置の
斜視図
【図2】本発明の第一実施例のフラックスの供給装置の
要部断面図
【図3】本発明の第一実施例のフラックスの供給装置の
要部断面図
【図4】本発明の第一実施例のフラックスの供給装置の
配管系の模式図
【図5】本発明の第二実施例のフラックスの供給装置の
斜視図
【符号の説明】
1 フラックスの供給装置 3 基板 4 チップ 12 ブロック 13 回転軸 14 モータ 20a,20b,20c 貯溜部 21 ノズル体 22,23,24 ノズル孔 30 ノズル部 61,62,63 アーム 64 モータ 65 ノズル部 S1 付着ステージ S2 クリーニングステージ S3 補給ステージ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チップを基板に半田付けするためのフラッ
    クスの供給装置であって、フラックスの貯溜部と、この
    貯溜部にフラックスを補給する補給手段と、この貯溜部
    からフラックスを排出させる排出手段とを備えたことを
    特徴とするフラックスの供給装置。
  2. 【請求項2】前記排出手段が回転手段であって、この回
    転手段により前記貯溜部を上下反転させて前記貯溜部を
    下向きにすることにより、フラックスを排出させること
    を特徴とする請求項1記載のフラックスの供給装置。
  3. 【請求項3】フラックスを排出した前記貯溜部をクリー
    ニングするクリーニング手段を備えたことを特徴とする
    請求項1記載のフラックスの供給装置。
  4. 【請求項4】前記貯溜部を水平回転させる水平回転手段
    を備え、この水平回転軌道上に、チップや転写ピンの下
    面にフラックスを付着させる付着ステージと、貯溜部の
    フラックスを排出させる排出手段を備えた排出ステージ
    と、補給手段により貯溜部にフラックスを補給する補給
    ステージとを設けたことを特徴とする請求項1記載のフ
    ラックスの供給装置。
JP06158603A 1994-07-11 1994-07-11 フラックスの供給装置 Expired - Fee Related JP3127720B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06158603A JP3127720B2 (ja) 1994-07-11 1994-07-11 フラックスの供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06158603A JP3127720B2 (ja) 1994-07-11 1994-07-11 フラックスの供給装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0832217A true JPH0832217A (ja) 1996-02-02
JP3127720B2 JP3127720B2 (ja) 2001-01-29

Family

ID=15675314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06158603A Expired - Fee Related JP3127720B2 (ja) 1994-07-11 1994-07-11 フラックスの供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3127720B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100830224B1 (ko) * 2007-07-24 2008-05-16 (주) 에스에스피 반도체 다이본딩 장비의 딥핑장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100830224B1 (ko) * 2007-07-24 2008-05-16 (주) 에스에스피 반도체 다이본딩 장비의 딥핑장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP3127720B2 (ja) 2001-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI284567B (en) A pre-discharging apparatus for a slit coater
TWI750344B (zh) 鍍覆方法及鍍覆裝置
KR100559642B1 (ko) 액처리장치
TW201842238A (zh) 電性鍍覆裝置及電性鍍覆裝置之清洗方法
KR20010062439A (ko) 도포막 형성장치
JP2005329340A (ja) スリットコータの予備吐出装置
JP2001232250A (ja) 膜形成装置
US4528934A (en) Thin-film coating apparatus
JPH0832217A (ja) フラックスの供給装置
US6090216A (en) Cleaning device and cleaning method for applicator nozzle
JP4256583B2 (ja) 塗布膜形成装置
JP2507966B2 (ja) 塗布装置
JPH10216586A (ja) 接着剤アプリケータ
JP4409930B2 (ja) 塗工ノズル清浄装置
JPH11290792A (ja) 処理液供給装置
KR0164605B1 (ko) 액체공급장치
JP2001068402A (ja) 基板処理装置
JP4371337B2 (ja) 塗布ノズルの洗浄装置
JP2002134388A (ja) レジスト吐出口洗浄方法および装置、並びにレジスト塗布方法および装置
JP3453022B2 (ja) 現像装置
JPS63152123A (ja) 浸漬式の液処理装置
JP3393856B2 (ja) 処理方法
JPH06182537A (ja) フラックス塗布装置
JP2580459Y2 (ja) スプレーフラクサー
JP3290773B2 (ja) 処理装置および処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees