JPH08319225A - シリコーン含有化粧料 - Google Patents
シリコーン含有化粧料Info
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- JPH08319225A JPH08319225A JP12546595A JP12546595A JPH08319225A JP H08319225 A JPH08319225 A JP H08319225A JP 12546595 A JP12546595 A JP 12546595A JP 12546595 A JP12546595 A JP 12546595A JP H08319225 A JPH08319225 A JP H08319225A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 通常化粧料に配合される多くの成分との相溶
性に優れると共に化粧料に配合したときに十分な撥水効
果、滑らかさ、しっとり感が得られるような化合物を配
合した、多様な剤形に対応できると共に、撥水性及び滑
らかさ、しっとり感に優れる化粧料を提供する。 【構成】 化粧料に、一般式（I）：Ｑn（ＳｉＯ3/2）n
（Ｑnはｎ価の有機基、ｎは２〜６の整数のいずれか１
つ）で示されるユニットの少なくとも１種を主構成ユニ
ットとし、末端が式（II）：（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2（Ｒ1は
同一又は異なる炭化水素基、又は水素原子の少なくとも
一部がフッ素原子で置換された炭化水素基で、少なくと
も一つのＲ1は前記フッ素置換炭化水素基）及び式（II
I）：（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2（Ｒ2は同一又は異なる炭化水
素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭
素原子で置換された炭化水素基）で示されるユニットで
封鎖されたシリコーンを配合する。
性に優れると共に化粧料に配合したときに十分な撥水効
果、滑らかさ、しっとり感が得られるような化合物を配
合した、多様な剤形に対応できると共に、撥水性及び滑
らかさ、しっとり感に優れる化粧料を提供する。 【構成】 化粧料に、一般式（I）：Ｑn（ＳｉＯ3/2）n
（Ｑnはｎ価の有機基、ｎは２〜６の整数のいずれか１
つ）で示されるユニットの少なくとも１種を主構成ユニ
ットとし、末端が式（II）：（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2（Ｒ1は
同一又は異なる炭化水素基、又は水素原子の少なくとも
一部がフッ素原子で置換された炭化水素基で、少なくと
も一つのＲ1は前記フッ素置換炭化水素基）及び式（II
I）：（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2（Ｒ2は同一又は異なる炭化水
素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭
素原子で置換された炭化水素基）で示されるユニットで
封鎖されたシリコーンを配合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は化粧料に関し、詳しくは
珪素原子−珪素原子間が有機鎖によって結合したユニッ
トを主構成ユニットとし、フッ素原子及び塩素原子又は
臭素原子含有の末端封鎖ユニットを有するシリコーンを
含有する、撥水性及び滑らかさ、しっとり感に優れる化
粧料に関する。
珪素原子−珪素原子間が有機鎖によって結合したユニッ
トを主構成ユニットとし、フッ素原子及び塩素原子又は
臭素原子含有の末端封鎖ユニットを有するシリコーンを
含有する、撥水性及び滑らかさ、しっとり感に優れる化
粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術】化粧料において、化粧料を介して肌や頭
髪に撥水性を付与することは、肌、頭髪の保護及び化粧
料の持ちの向上を考える上で非常に有益なことである。
この様な視点からこれまでに、化粧料の撥水性を向上さ
せるための様々な化合物、例えば、三次元構造を有する
シリコーンやパーフルオロポリエーテル等のフッ素系油
剤が開発され化粧料に配合されてきた。この様に撥水性
の向上のために上記化合物が化粧料に配合されたのであ
るが、これら化合物を化粧料に配合することは、また撥
水性の改善の他に、肌や頭髪に滑らかさやしっとり感を
付与する効果を高めることにも大きく寄与していた。
髪に撥水性を付与することは、肌、頭髪の保護及び化粧
料の持ちの向上を考える上で非常に有益なことである。
この様な視点からこれまでに、化粧料の撥水性を向上さ
せるための様々な化合物、例えば、三次元構造を有する
シリコーンやパーフルオロポリエーテル等のフッ素系油
剤が開発され化粧料に配合されてきた。この様に撥水性
の向上のために上記化合物が化粧料に配合されたのであ
るが、これら化合物を化粧料に配合することは、また撥
水性の改善の他に、肌や頭髪に滑らかさやしっとり感を
付与する効果を高めることにも大きく寄与していた。
【０００３】上記化合物を配合したこの様な化粧料は、
安全性の見地においても特に問題はなく、撥水性の見地
においてもそれ以前の技術に比較すれば優れた技術であ
ったが、三次元構造を有するシリコーンを含有する化粧
料においては、撥水性のレベルとしては物足りないもの
があり、パーフルオロポリエーテル等のフッ素系油剤を
含有する化粧料においては他の成分との相溶性に改善の
余地があった。すなわち、パーフルオロポリエーテル等
のフッ素系油剤は他の化粧料の成分と相溶しにくいた
め、これを配合できる剤形は口紅オーバーコート等の特
殊なものに限られてしまいがちであった。
安全性の見地においても特に問題はなく、撥水性の見地
においてもそれ以前の技術に比較すれば優れた技術であ
ったが、三次元構造を有するシリコーンを含有する化粧
料においては、撥水性のレベルとしては物足りないもの
があり、パーフルオロポリエーテル等のフッ素系油剤を
含有する化粧料においては他の成分との相溶性に改善の
余地があった。すなわち、パーフルオロポリエーテル等
のフッ素系油剤は他の化粧料の成分と相溶しにくいた
め、これを配合できる剤形は口紅オーバーコート等の特
殊なものに限られてしまいがちであった。
【０００４】そこで、化粧料の撥水性を向上させるため
の成分として、通常化粧料に配合される多くの成分との
相溶性に優れると共に、化粧料に配合したときに十分な
撥水効果が得られ、更に従来の配合化合物の様に肌や頭
髪に滑らかさやしっとり感を付与する効果を有する様な
化合物の研究開発や、この様な特性を有する化合物を配
合した多様な剤形に対応しうる撥水性及び滑らかさ、し
っとり感に優れた化粧料の開発が望まれていた。
の成分として、通常化粧料に配合される多くの成分との
相溶性に優れると共に、化粧料に配合したときに十分な
撥水効果が得られ、更に従来の配合化合物の様に肌や頭
髪に滑らかさやしっとり感を付与する効果を有する様な
化合物の研究開発や、この様な特性を有する化合物を配
合した多様な剤形に対応しうる撥水性及び滑らかさ、し
っとり感に優れた化粧料の開発が望まれていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記観点から
なされたものであり、通常化粧料に配合される多くの成
分との相溶性に優れると共に化粧料に配合したときに十
分な撥水効果、滑らかさ、しっとり感が得られるような
化合物を配合した、多様な剤形に対応できると共に、撥
水性及び滑らかさ、しっとり感に優れる化粧料を提供す
ることを課題とする。
なされたものであり、通常化粧料に配合される多くの成
分との相溶性に優れると共に化粧料に配合したときに十
分な撥水効果、滑らかさ、しっとり感が得られるような
化合物を配合した、多様な剤形に対応できると共に、撥
水性及び滑らかさ、しっとり感に優れる化粧料を提供す
ることを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、疎水性と溶媒親和性を合わせもつ新
規化合物を求めて鋭意研究を重ねたところ、珪素原子−
珪素原子間が有機鎖によって結合されたユニットを主構
成ユニットとしフッ素原子及び塩素原子又は臭素原子含
有の末端封鎖ユニットを有するシリコーンに、溶媒相溶
性があり優れた撥水性と柔軟性を有する被膜形成能があ
ることを見出し、これを化粧料に配合することにより多
様な剤形に対応できると共に、撥水性及び滑らかさ、し
っとり感に優れる化粧料が得られることを見出し、本発
明を完成させた。
を解決するために、疎水性と溶媒親和性を合わせもつ新
規化合物を求めて鋭意研究を重ねたところ、珪素原子−
珪素原子間が有機鎖によって結合されたユニットを主構
成ユニットとしフッ素原子及び塩素原子又は臭素原子含
有の末端封鎖ユニットを有するシリコーンに、溶媒相溶
性があり優れた撥水性と柔軟性を有する被膜形成能があ
ることを見出し、これを化粧料に配合することにより多
様な剤形に対応できると共に、撥水性及び滑らかさ、し
っとり感に優れる化粧料が得られることを見出し、本発
明を完成させた。
【０００７】すなわち本発明は、一般式（I）： Ｑn（ＳｉＯ3/2）n （但し、Ｑnはｎ価の有機基を表し、またｎは２〜６の
整数のいずれか１つを表す。）で示されるユニットの少
なくとも１種を主構成ユニットとし、末端が式（II）： （Ｒ1）3ＳｉＯ1/2 （但し、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ
素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ1
の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基でな
ければならない。）で示されるユニット又は式（II
I）： （Ｒ2）3ＳｉＯ1/2 （但し、Ｒ2は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素
原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表す。）で
示されるユニットで封鎖され、封鎖末端に式（II）で示
されるユニット及び式（III）で示されるユニットをそ
れぞれ少なくとも１つ有するシリコーンを含有する化粧
料である。
整数のいずれか１つを表す。）で示されるユニットの少
なくとも１種を主構成ユニットとし、末端が式（II）： （Ｒ1）3ＳｉＯ1/2 （但し、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ
素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ1
の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基でな
ければならない。）で示されるユニット又は式（II
I）： （Ｒ2）3ＳｉＯ1/2 （但し、Ｒ2は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素
原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表す。）で
示されるユニットで封鎖され、封鎖末端に式（II）で示
されるユニット及び式（III）で示されるユニットをそ
れぞれ少なくとも１つ有するシリコーンを含有する化粧
料である。
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。 （１）本発明に用いるシリコーン 本発明の化粧料に用いるシリコーンは、基本的には前記
一般式（I）のＱn（ＳｉＯ3/2）nユニットの少なくとも
１種を主構成ユニットとし、末端を前記一般式（II）の
（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2ユニット又は前記一般式（III）の
（Ｒ2）3ＳｉＯ1/ 2ユニットで封鎖したものであり、封
鎖末端には式（II）で示されるユニット及び式（III）
で示されるユニットをそれぞれ少なくとも１つ有するも
のである。また、本発明においては、前記シリコーンの
主構成ユニットとして更にＳｉＯ2ユニットを含有させ
ることができるが、この場合のＳｉＯ2ユニットの含有
量はＳｉＯ2／Ｑn（ＳｉＯ3/2）nモル比で（３／２）以
下、特に（１／２）以下とすることが好ましい。
（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2ユニット及び（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユニ
ットのＱn（ＳｉＯ3/2）nユニット及びＳｉＯ2ユニット
に対するモル比は特に制限されるものではない。
一般式（I）のＱn（ＳｉＯ3/2）nユニットの少なくとも
１種を主構成ユニットとし、末端を前記一般式（II）の
（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2ユニット又は前記一般式（III）の
（Ｒ2）3ＳｉＯ1/ 2ユニットで封鎖したものであり、封
鎖末端には式（II）で示されるユニット及び式（III）
で示されるユニットをそれぞれ少なくとも１つ有するも
のである。また、本発明においては、前記シリコーンの
主構成ユニットとして更にＳｉＯ2ユニットを含有させ
ることができるが、この場合のＳｉＯ2ユニットの含有
量はＳｉＯ2／Ｑn（ＳｉＯ3/2）nモル比で（３／２）以
下、特に（１／２）以下とすることが好ましい。
（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2ユニット及び（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユニ
ットのＱn（ＳｉＯ3/2）nユニット及びＳｉＯ2ユニット
に対するモル比は特に制限されるものではない。
【０００９】本発明に用いるシリコーンにおいて、上記
一般式（I）：Ｑn（ＳｉＯ3/2）nユニットでのＱnの具
体例としては、１）アルキレン基；２）ポリメチレン
基；３）フェニレン基；４）アリーレン基；５）前記
１）〜４）の基の水素原子が更にアルキル基、フェニル
基、アリール基、アルキレン基、ポリメチレン基、フェ
ニレン基及びアリーレン基よりなる群の少なくとも１種
で置換された基；６）前記１）〜４）の基の構造中にエ
ーテル、チオエーテル、エステル、ケトン、アミド、イ
ミド、アミン及びイミンよりなる群の少なくとも１種の
官能基を含んだ基；及び７）前記１）〜６）の基の水素
原子が塩素原子又は臭素原子で置換された基等の少なく
とも１種を例示することができる。
一般式（I）：Ｑn（ＳｉＯ3/2）nユニットでのＱnの具
体例としては、１）アルキレン基；２）ポリメチレン
基；３）フェニレン基；４）アリーレン基；５）前記
１）〜４）の基の水素原子が更にアルキル基、フェニル
基、アリール基、アルキレン基、ポリメチレン基、フェ
ニレン基及びアリーレン基よりなる群の少なくとも１種
で置換された基；６）前記１）〜４）の基の構造中にエ
ーテル、チオエーテル、エステル、ケトン、アミド、イ
ミド、アミン及びイミンよりなる群の少なくとも１種の
官能基を含んだ基；及び７）前記１）〜６）の基の水素
原子が塩素原子又は臭素原子で置換された基等の少なく
とも１種を例示することができる。
【００１０】また、本発明に用いるシリコーンにおいて
は、上述のように一般式（I）におけるＱnのｎは２〜６
の整数のいずれかを表す。上記例示されたＱnについて
Ｑnのｎが２である２価の有機基としては、１）アルキ
レン基、２）ポリメチレン基、３）フェニレン基、４）
アリーレン基、５）前記１）〜４）の基の水素原子が更
にアルキル基又はフェニル基で置換された基、６）前記
１）〜４）の基の構造中にエーテル、チオエーテル、エ
ステル、ケトン、アミド、イミド、アミン、及びイミン
よりなる群の少なくとも１種の官能基を含んだ基、及び
７）前記１）〜６）の基の水素原子が塩素原子又は臭素
原子で置換された基等が挙げられる。ｎが３である３価
の有機基としては、前記２価の有機基（前記１）〜７）
の基）の水素原子、塩素原子又は臭素原子の１つを、ア
ルキレン基、アリーレン基、ポリメチレン基、フェニレ
ン基から選ばれる１種で置換したもの、またこれらの基
の水素原子が塩素原子又は臭素原子で置換された基等が
例示できる。
は、上述のように一般式（I）におけるＱnのｎは２〜６
の整数のいずれかを表す。上記例示されたＱnについて
Ｑnのｎが２である２価の有機基としては、１）アルキ
レン基、２）ポリメチレン基、３）フェニレン基、４）
アリーレン基、５）前記１）〜４）の基の水素原子が更
にアルキル基又はフェニル基で置換された基、６）前記
１）〜４）の基の構造中にエーテル、チオエーテル、エ
ステル、ケトン、アミド、イミド、アミン、及びイミン
よりなる群の少なくとも１種の官能基を含んだ基、及び
７）前記１）〜６）の基の水素原子が塩素原子又は臭素
原子で置換された基等が挙げられる。ｎが３である３価
の有機基としては、前記２価の有機基（前記１）〜７）
の基）の水素原子、塩素原子又は臭素原子の１つを、ア
ルキレン基、アリーレン基、ポリメチレン基、フェニレ
ン基から選ばれる１種で置換したもの、またこれらの基
の水素原子が塩素原子又は臭素原子で置換された基等が
例示できる。
【００１１】同様に上記２価の有機基においてアルキレ
ン基、アリーレン基、ポリメチレン基、フェニレン基等
２価の基で置換される水素原子、塩素原子又は臭素原子
の数を２、３、４と増やせば、ｎが４である４価の有機
基、５である５価の有機基、６である６価の有機基が得
られることになる。この様にして上記一般式（I）にお
けるＱnのｎが２〜６の有機基が得られるが、本発明に
用いるシリコーンにおいては、Ｑnのｎは２、３、４が
好ましく更に２がより好ましい。これは、Ｑnの性質を
発現するためにＱnは分子の内部（珪素原子−珪素原子
間）におかなければならず、そのためには２価以上であ
ることが必要であるが、価数を増やす毎にコストが増え
るからである。また、更に好ましいＱnとして、ジカル
ボン酸のジアミドを含む２価の有機基を挙げることがで
きる。この様な好ましい条件を勘案すると、本発明によ
り好ましく用いられるシリコーンは、主構成ユニットが
上記一般式（I）にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを
含む２価の有機基を導入したユニット及び一般式（I）
にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを含む２価の有機
基以外の２価の有機基を導入したユニットで構成される
シリコーンである。
ン基、アリーレン基、ポリメチレン基、フェニレン基等
２価の基で置換される水素原子、塩素原子又は臭素原子
の数を２、３、４と増やせば、ｎが４である４価の有機
基、５である５価の有機基、６である６価の有機基が得
られることになる。この様にして上記一般式（I）にお
けるＱnのｎが２〜６の有機基が得られるが、本発明に
用いるシリコーンにおいては、Ｑnのｎは２、３、４が
好ましく更に２がより好ましい。これは、Ｑnの性質を
発現するためにＱnは分子の内部（珪素原子−珪素原子
間）におかなければならず、そのためには２価以上であ
ることが必要であるが、価数を増やす毎にコストが増え
るからである。また、更に好ましいＱnとして、ジカル
ボン酸のジアミドを含む２価の有機基を挙げることがで
きる。この様な好ましい条件を勘案すると、本発明によ
り好ましく用いられるシリコーンは、主構成ユニットが
上記一般式（I）にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを
含む２価の有機基を導入したユニット及び一般式（I）
にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを含む２価の有機
基以外の２価の有機基を導入したユニットで構成される
シリコーンである。
【００１２】本発明に用いるシリコーンの主構成ユニッ
トは、この様なＱnを構成要素とする上記一般式（Ｉ）
で示されるユニットの少なくとも１種で構成されるが、
Ｑnを更に具体的に例示すれば下記の通りである。な
お、以下の式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆは各々１以上
の整数を表す。 Ｑ2（２価の有機基）：
トは、この様なＱnを構成要素とする上記一般式（Ｉ）
で示されるユニットの少なくとも１種で構成されるが、
Ｑnを更に具体的に例示すれば下記の通りである。な
お、以下の式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆは各々１以上
の整数を表す。 Ｑ2（２価の有機基）：
【００１３】
【化１】 −(ＣＨ2)a− …(1)、 −ＣＨ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)a− …(2)、 −(ＣＨ2)a−Ｃ(Ｃ2Ｈ5)(ＣＨ3)− …(3)、 −Ｃ6Ｈ4− …(4)、 −(ＣＨ2)a−Ｃ6Ｈ4−(ＣＨ2Ｃｌ)− …(5)、 −ＣＨ(ＣＨ3)-Ｃ6Ｈ4-(ＣＨ2)a- …(6)、 −(ＣＨ2)a−Ｓ−(ＣＨ2)b- …(7)、 −(ＣＨ2)a-Ｓ-Ｃ6Ｈ4- …(8)、 −ＣＨ(ＣＨ3)−Ｓ−(ＣＨ2)a- …(9)
【００１４】
【化２】
【００１５】Ｑ3（３価の有機基）：
【００１６】
【化３】
【００１７】Ｑ4（４価の有機基）：
【００１８】
【化４】
【００１９】次に一般式（II）の（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2ユ
ニットであるが、このユニットのＲ1は、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、炭化水素基、又は水素原
子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された炭化水素
基を表し、且つ三つのＲ1の内、少なくとも一つは前記
フッ素置換炭化水素基でなければならないが、好ましく
は、アルキル基、フェニル基、アリール基及びこれらの
基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換され
た基より選ばれる基であり、具体例としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキ
ル基；フェニル基；アリール基；又は、これらの基の水
素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された基等
が挙げられる。
ニットであるが、このユニットのＲ1は、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、炭化水素基、又は水素原
子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された炭化水素
基を表し、且つ三つのＲ1の内、少なくとも一つは前記
フッ素置換炭化水素基でなければならないが、好ましく
は、アルキル基、フェニル基、アリール基及びこれらの
基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換され
た基より選ばれる基であり、具体例としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキ
ル基；フェニル基；アリール基；又は、これらの基の水
素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された基等
が挙げられる。
【００２０】また一般式（III）の（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユ
ニットであるが、このユニットのＲ 2は、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、炭化水素基、又は水素原
子の少なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換され
た炭化水素基を表すが、好ましくは、アルキル基、フェ
ニル基、アリール基及びこれらの基の水素原子の少なく
とも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された基より選
ばれる基であり、具体例としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキル基；フェ
ニル基；アリール基；又は、これらの基の水素原子の少
なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された基等
が挙げられ、好ましくはアルキル基（置換されていな
い）が挙げられる。
ニットであるが、このユニットのＲ 2は、互いに同一で
あっても異なっていてもよく、炭化水素基、又は水素原
子の少なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換され
た炭化水素基を表すが、好ましくは、アルキル基、フェ
ニル基、アリール基及びこれらの基の水素原子の少なく
とも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された基より選
ばれる基であり、具体例としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキル基；フェ
ニル基；アリール基；又は、これらの基の水素原子の少
なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された基等
が挙げられ、好ましくはアルキル基（置換されていな
い）が挙げられる。
【００２１】以上のようなユニットで構成される本発明
に用いるシリコーンのネットワーク構造例を、Ｑnのｎ
が２、すなわち２価の有機基の場合を例にして、下記に
示す。
に用いるシリコーンのネットワーク構造例を、Ｑnのｎ
が２、すなわち２価の有機基の場合を例にして、下記に
示す。
【００２２】
【化５】
【００２３】（但し、化５中Ｑ2は２価の有機基を表
す。また、Ｚは前記一般式（II）の（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2
ユニット又は一般式（III）の（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユニッ
トを表し、Ｚの少なくとも１つは式（II）で示されるユ
ニットであり、更に少なくとも１つは式（III）で示さ
れるユニットである。） また本発明に用いるシリコーンの具体例は次の通りであ
る。
す。また、Ｚは前記一般式（II）の（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2
ユニット又は一般式（III）の（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユニッ
トを表し、Ｚの少なくとも１つは式（II）で示されるユ
ニットであり、更に少なくとも１つは式（III）で示さ
れるユニットである。） また本発明に用いるシリコーンの具体例は次の通りであ
る。
【００２４】イ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）2｝3ＳｉＯ1/2］
のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット及び
［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3
−で示される２価の有機基を表す。）のユニットからな
るシリコーン。
のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット及び
［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3
−で示される２価の有機基を表す。）のユニットからな
るシリコーン。
【００２５】ロ）［（ＣＦ3ＣＨ2）3ＳｉＯ1/2］のユニ
ット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は下記式
（１ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニッ
ト、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット及び［Ｏ3/2Ｓ
ｉＱ'2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ' 2は−（ＣＨ2）2Ｓ（Ｃ
Ｈ2）3−で示される２価の有機基を表す。）のユニット
からなるシリコーン。
ット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は下記式
（１ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニッ
ト、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット及び［Ｏ3/2Ｓ
ｉＱ'2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ' 2は−（ＣＨ2）2Ｓ（Ｃ
Ｈ2）3−で示される２価の有機基を表す。）のユニット
からなるシリコーン。
【００２６】
【化６】
【００２７】ハ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝（ＣＨ3）2Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［ＳｉＯ2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ2Ｓ
ｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は下記式（２ａ）で示される２価
の有機基を表す。）のユニットからなるシリコーン。
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［ＳｉＯ2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ2Ｓ
ｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は下記式（２ａ）で示される２価
の有機基を表す。）のユニットからなるシリコーン。
【００２８】
【化７】
【００２９】ニ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3｝2（Ｃ2Ｈ5）Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ6Ｈ5）（ＣＨ3）2ＳｉＯ
1/2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ
3は下記式（３ａ）で示される３価の有機基を表す。）
のユニットからなるシリコーン。
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ6Ｈ5）（ＣＨ3）2ＳｉＯ
1/2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ
3は下記式（３ａ）で示される３価の有機基を表す。）
のユニットからなるシリコーン。
【００３０】
【化８】
【００３１】ホ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝（ＣＨ3）2Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ3Ｈ7）3ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［ＳｉＯ2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3
Ｑ3］（但し、Ｑ3は下記式（４ａ）で示される３価の有
機基を表す。）のユニットからなるシリコーン。
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ3Ｈ7）3ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［ＳｉＯ2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3
Ｑ3］（但し、Ｑ3は下記式（４ａ）で示される３価の有
機基を表す。）のユニットからなるシリコーン。
【００３２】
【化９】
【００３３】ヘ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝
2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＯ1/2］のユニット、［｛（ＣＨ3）
3Ｃ｝｛ＣＨ3｝2ＳｉＯ1/2］のユニット及び［（Ｏ3／2
Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ3は下記式（５ａ）で示される
３価の有機基を表す。）のユニットからなるシリコー
ン。
2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＯ1/2］のユニット、［｛（ＣＨ3）
3Ｃ｝｛ＣＨ3｝2ＳｉＯ1/2］のユニット及び［（Ｏ3／2
Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ3は下記式（５ａ）で示される
３価の有機基を表す。）のユニットからなるシリコー
ン。
【００３４】
【化１０】
【００３５】ト）［（ＣＦ3ＣＨ2）3ＳｉＯ1/2］のユニ
ット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｓｉ
Ｏ2］のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、
Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−で示される２価の有
機基を表す。）のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］
（但し、Ｑ4は下記式（６ａ）で示される４価の有機基
を表す。）のユニットからなるシリコーン。
ット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｓｉ
Ｏ2］のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、
Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−で示される２価の有
機基を表す。）のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］
（但し、Ｑ4は下記式（６ａ）で示される４価の有機基
を表す。）のユニットからなるシリコーン。
【００３６】
【化１１】
【００３７】チ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）2｝3ＳｉＯ1/2］
のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット、
［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は下記式（７ａ）で
示される４価の有機基を表す。）のユニット及び［Ｓｉ
Ｏ2］のユニットからなるシリコーン。
のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット、
［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は下記式（７ａ）で
示される４価の有機基を表す。）のユニット及び［Ｓｉ
Ｏ2］のユニットからなるシリコーン。
【００３８】
【化１２】
【００３９】リ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝
2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、
Ｑ4は下記式（８ａ）で示される４価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーン。
2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、
Ｑ4は下記式（８ａ）で示される４価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーン。
【００４０】
【化１３】
【００４１】ヌ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝
2｛Ｃ2Ｈ5｝ＳｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3−を表す。）のユニット及び［
3/2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但しＱ 2'は、下記式（９
ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニットから
なるシリコーン。
2｛Ｃ2Ｈ5｝ＳｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3−を表す。）のユニット及び［
3/2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但しＱ 2'は、下記式（９
ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニットから
なるシリコーン。
【００４２】
【化１４】
【００４３】ル）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2｝
｛Ｃ2Ｈ5｝2ＳｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−を表す。）のユ
ニット及び［3/2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3 /2］（但しＱ2'は、
前記式（９ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユ
ニットからなるシリコーン。
｛Ｃ2Ｈ5｝2ＳｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−を表す。）のユ
ニット及び［3/2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3 /2］（但しＱ2'は、
前記式（９ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユ
ニットからなるシリコーン。
【００４４】ヲ）［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝｛ＣＨ3｝2Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但しＱ2は、前記
式（１ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニッ
ト、［Ｏ3/2ＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但しＱ2'は、前記式
（９ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニット
及び［ＳｉＯ2］のユニットからなるシリコーン。
ｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但しＱ2は、前記
式（１ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニッ
ト、［Ｏ3/2ＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但しＱ2'は、前記式
（９ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニット
及び［ＳｉＯ2］のユニットからなるシリコーン。
【００４５】次に、本発明に用いるシリコーンの製造方
法について説明する。 （２）シリコーンの製造方法 本発明に用いる上記シリコーンを製造するには、基本的
には、一般式（IV）: Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］n （但し、Ｑnはｎ価の有機基を表し、またｎは２〜６の
整数のいずれか１つを表す。Ｘは互いに同一でも異なっ
ていてもよく、加水分解性の基を表す。）で示される加
水分解性珪素化合物を加水分解重縮合させた後、これに
一般式（V）： （Ｒ1）3ＳｉＸ （但し、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ
素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ1
の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基でな
ければならない。またＸは加水分解性の基を表す。）で
示される珪素化合物と、一般式（VI）： （Ｒ2）3ＳｉＸ （但し、Ｒ2は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素
原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表し、また
Ｘは加水分解性の基を表す。）で示される珪素化合物及
び／又は一般式（VII）： （Ｒ2）3ＳｉＯＳｉ（Ｒ2）3 （但し、Ｒ2は前記一般式（VI）のＲ2に同じ。）で示さ
れる珪素化合物と、を末端封鎖剤として反応させて前記
重縮合物の末端を封鎖するという製造方法を取ればよ
い。
法について説明する。 （２）シリコーンの製造方法 本発明に用いる上記シリコーンを製造するには、基本的
には、一般式（IV）: Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］n （但し、Ｑnはｎ価の有機基を表し、またｎは２〜６の
整数のいずれか１つを表す。Ｘは互いに同一でも異なっ
ていてもよく、加水分解性の基を表す。）で示される加
水分解性珪素化合物を加水分解重縮合させた後、これに
一般式（V）： （Ｒ1）3ＳｉＸ （但し、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ
素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ1
の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基でな
ければならない。またＸは加水分解性の基を表す。）で
示される珪素化合物と、一般式（VI）： （Ｒ2）3ＳｉＸ （但し、Ｒ2は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素
原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表し、また
Ｘは加水分解性の基を表す。）で示される珪素化合物及
び／又は一般式（VII）： （Ｒ2）3ＳｉＯＳｉ（Ｒ2）3 （但し、Ｒ2は前記一般式（VI）のＲ2に同じ。）で示さ
れる珪素化合物と、を末端封鎖剤として反応させて前記
重縮合物の末端を封鎖するという製造方法を取ればよ
い。
【００４６】この様な方法で本発明に用いる上記シリコ
ーンを製造するためには、まず一般式（IV）の加水分解
性珪素化合物Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］nに水を添加し、加水
分解重縮合を行う。この場合、必要に応じて珪素化合物
Ｓｉ（Ｘ）4（但し、Ｘは互いに同一でも異なっていて
もよく、加水分解性の基を表す。）を混合し、前記珪素
化合物（IV）との共加水分解重縮合を行ってもよい。水
の添加量は、反応の進行を制御するため、用いた珪素化
合物の加水分解性の基Ｘを加水分解させるのに必要な理
論量以下の量が好ましい。
ーンを製造するためには、まず一般式（IV）の加水分解
性珪素化合物Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］nに水を添加し、加水
分解重縮合を行う。この場合、必要に応じて珪素化合物
Ｓｉ（Ｘ）4（但し、Ｘは互いに同一でも異なっていて
もよく、加水分解性の基を表す。）を混合し、前記珪素
化合物（IV）との共加水分解重縮合を行ってもよい。水
の添加量は、反応の進行を制御するため、用いた珪素化
合物の加水分解性の基Ｘを加水分解させるのに必要な理
論量以下の量が好ましい。
【００４７】この時、反応を均一に進行させるため有機
溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒は反応に用いる
珪素化合物を溶解できるものであればよく、特に限定さ
れない。反応温度は０〜８０℃が好ましい。低すぎると
溶媒の凝固が起こったり、高すぎると溶媒の極端な蒸発
が起こったりして反応の進行が不均一になる。
溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒は反応に用いる
珪素化合物を溶解できるものであればよく、特に限定さ
れない。反応温度は０〜８０℃が好ましい。低すぎると
溶媒の凝固が起こったり、高すぎると溶媒の極端な蒸発
が起こったりして反応の進行が不均一になる。
【００４８】また、反応の進行を促進するため、塩基及
び／又は酸を触媒として用いることが好ましい。塩基及
び／又は酸触媒の添加量は反応に用いる珪素化合物の５
モル％以下が好ましい。
び／又は酸を触媒として用いることが好ましい。塩基及
び／又は酸触媒の添加量は反応に用いる珪素化合物の５
モル％以下が好ましい。
【００４９】この加水分解重縮合の反応式の一例を化１
５に、また得られる重縮合体のネットワーク構造の一例
を化１６に示す。
５に、また得られる重縮合体のネットワーク構造の一例
を化１６に示す。
【００５０】
【化１５】
【００５１】（但し、化１５中Ｑ2は２価の有機基を表
す。）
す。）
【００５２】
【化１６】
【００５３】（但し、化１６中Ｑ2は２価の有機基を表
す。） 以上の加水分解重縮合工程で使用される材料の詳細は次
の通りである。
す。） 以上の加水分解重縮合工程で使用される材料の詳細は次
の通りである。
【００５４】一般式（IV）の加水分解性珪素化合物Ｑn
［Ｓｉ（Ｘ）3］n：公知の珪素化合物の公知の有機反応
によって合成される。例えばアミノ基を有するアルコキ
シシラン、クロロシラン［ＮＨ2Ｃ3Ｈ6Ｓｉ(ＯＲ)3、Ｎ
Ｈ2Ｃ3Ｈ6Ｃｌ3］等と酸クロライド、無水酸等の酸誘導
体との反応；不飽和結合を有する化合物へのハイドロジ
ェンシラン又はメルカプトシランの付加反応；アルコキ
シシラン化合物又はクロロシラン化合物とグリニャール
試薬又は有機リチウム化合物との反応などにより合成さ
れる。この一般式（IV）の加水分解性珪素化合物Ｑ
n［Ｓｉ（Ｘ）3］n中におけるＱnについては、前述の一
般式（Ｉ）でのＱnと同様である。また、一般式（IV）
中においてＸは、加水分解性の基であれば特に制限され
ず、互いに同一であっても異なっていてもよい。
［Ｓｉ（Ｘ）3］n：公知の珪素化合物の公知の有機反応
によって合成される。例えばアミノ基を有するアルコキ
シシラン、クロロシラン［ＮＨ2Ｃ3Ｈ6Ｓｉ(ＯＲ)3、Ｎ
Ｈ2Ｃ3Ｈ6Ｃｌ3］等と酸クロライド、無水酸等の酸誘導
体との反応；不飽和結合を有する化合物へのハイドロジ
ェンシラン又はメルカプトシランの付加反応；アルコキ
シシラン化合物又はクロロシラン化合物とグリニャール
試薬又は有機リチウム化合物との反応などにより合成さ
れる。この一般式（IV）の加水分解性珪素化合物Ｑ
n［Ｓｉ（Ｘ）3］n中におけるＱnについては、前述の一
般式（Ｉ）でのＱnと同様である。また、一般式（IV）
中においてＸは、加水分解性の基であれば特に制限され
ず、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００５５】本発明に用いるシリコーンの製造に際して
は、この加水分解性珪素化合物の少なくとも１種を原料
として用いるが、好ましくは、加水分解性珪素化合物と
して、一般式（IV）にＱnとしてジカルボン酸のジアミ
ドを含む２価の有機基を導入した加水分解性珪素化合物
及び一般式（IV）にＱnとしてジカルボン酸のジアミド
を含む２価の有機基以外の２価の有機基を導入した加水
分解性珪素化合物を組み合わせて用いる。
は、この加水分解性珪素化合物の少なくとも１種を原料
として用いるが、好ましくは、加水分解性珪素化合物と
して、一般式（IV）にＱnとしてジカルボン酸のジアミ
ドを含む２価の有機基を導入した加水分解性珪素化合物
及び一般式（IV）にＱnとしてジカルボン酸のジアミド
を含む２価の有機基以外の２価の有機基を導入した加水
分解性珪素化合物を組み合わせて用いる。
【００５６】珪素化合物Ｓｉ（Ｘ）4：シリコーンの固
さを調節するために添加する。添加量が多ければシリコ
ーンは固くなり、少なければ柔らかくなる。上記一般式
中のＸは、加水分解性の基であれば特に制限されず、互
いに同一であっても異なっていてもよい。この様な珪素
化合物の具体例としては四塩化珪素、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシ
ラン、テトライソプロポキシシラン等、好ましくは四塩
化珪素、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
が挙げられる。
さを調節するために添加する。添加量が多ければシリコ
ーンは固くなり、少なければ柔らかくなる。上記一般式
中のＸは、加水分解性の基であれば特に制限されず、互
いに同一であっても異なっていてもよい。この様な珪素
化合物の具体例としては四塩化珪素、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシ
ラン、テトライソプロポキシシラン等、好ましくは四塩
化珪素、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
が挙げられる。
【００５７】有機溶媒：上記二種の珪素化合物、水、触
媒などを溶解するものであれば特に限定されず、メチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の
セロソルブ類；テトラヒドロキシフラン；ジメチルスル
フォキシド等が挙げられる。
媒などを溶解するものであれば特に限定されず、メチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の
セロソルブ類；テトラヒドロキシフラン；ジメチルスル
フォキシド等が挙げられる。
【００５８】塩基及び／又は酸触媒：塩酸、硝酸等の無
機酸；酢酸、クエン酸等の有機酸；水酸化ナトリウム、
アンモニア水等の無機塩基；アミン、モルフォリン等の
有機塩基；３−アミノアルコキシシランのような塩基性
基含有シラン等、好ましくはアミノ置換基、４，５−ジ
ヒドロイミダゾール置換基等の塩基性基含有シラン、例
えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、３−（４，５−ジヒド
ロイミダゾール）プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β
−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
機酸；酢酸、クエン酸等の有機酸；水酸化ナトリウム、
アンモニア水等の無機塩基；アミン、モルフォリン等の
有機塩基；３−アミノアルコキシシランのような塩基性
基含有シラン等、好ましくはアミノ置換基、４，５−ジ
ヒドロイミダゾール置換基等の塩基性基含有シラン、例
えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、３−（４，５−ジヒド
ロイミダゾール）プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β
−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
【００５９】次に、一定時間重縮合反応を行った後、得
られた重縮合体の反応末端を封鎖して重縮合体を安定に
取り出すため、末端封鎖剤として一般式（V）の珪素化
合物（Ｒ1）3ＳｉＸと、一般式（VI）の珪素化合物（Ｒ
2）3ＳｉＸ及び／又は一般式（VII）の珪素化合物
（Ｒ2）3ＳｉＯＳｉ（Ｒ2）3と、を添加し反応させる。
この時、末端封鎖剤の加水分解を促進して末端封鎖反応
を進行しやすくするため、水及び酸触媒も合わせて添加
する。水の添加量は特に限定されないが、添加した末端
封鎖剤を加水分解するのに必要な理論量以上の量を添加
することが望ましい。また酸触媒の添加量は一般式
（V）、（VI）、（VII）の末端封鎖剤の合計量の２モル
％以上が好ましい。
られた重縮合体の反応末端を封鎖して重縮合体を安定に
取り出すため、末端封鎖剤として一般式（V）の珪素化
合物（Ｒ1）3ＳｉＸと、一般式（VI）の珪素化合物（Ｒ
2）3ＳｉＸ及び／又は一般式（VII）の珪素化合物
（Ｒ2）3ＳｉＯＳｉ（Ｒ2）3と、を添加し反応させる。
この時、末端封鎖剤の加水分解を促進して末端封鎖反応
を進行しやすくするため、水及び酸触媒も合わせて添加
する。水の添加量は特に限定されないが、添加した末端
封鎖剤を加水分解するのに必要な理論量以上の量を添加
することが望ましい。また酸触媒の添加量は一般式
（V）、（VI）、（VII）の末端封鎖剤の合計量の２モル
％以上が好ましい。
【００６０】またこの末端封鎖工程は、反応を均一に進
行させるため攪拌条件下で行う。反応時間は４〜２０時
間が好ましい。反応終了後は重縮合体が相分離する場合
はデカンテーションで、また相分離しない場合は溶媒留
去、凍結乾燥などの方法によって目的物を取り出す。
行させるため攪拌条件下で行う。反応時間は４〜２０時
間が好ましい。反応終了後は重縮合体が相分離する場合
はデカンテーションで、また相分離しない場合は溶媒留
去、凍結乾燥などの方法によって目的物を取り出す。
【００６１】上記重縮合体と末端封鎖剤との反応で得ら
れるシリコーンのネットワーク構造における末端封鎖状
況の一例を下記に示す。
れるシリコーンのネットワーク構造における末端封鎖状
況の一例を下記に示す。
【００６２】
【化１７】
【００６３】（但し、化１７中Ｑ2は２価の有機基を表
す。また、Ｚは前記一般式（II）の（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2
ユニット又は一般式（III）の（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユニッ
トを表し、Ｚの少なくとも１つは式（II）で示されるユ
ニットであり、更に少なくとも１つは式（III）で示さ
れるユニットである。） 以上の末端封鎖工程で使用される材料の詳細は次の通り
である。
す。また、Ｚは前記一般式（II）の（Ｒ1）3ＳｉＯ1/2
ユニット又は一般式（III）の（Ｒ2）3ＳｉＯ1/2ユニッ
トを表し、Ｚの少なくとも１つは式（II）で示されるユ
ニットであり、更に少なくとも１つは式（III）で示さ
れるユニットである。） 以上の末端封鎖工程で使用される材料の詳細は次の通り
である。
【００６４】一般式（V）の（Ｒ1）3ＳｉＸ ：上記一般
式（V）中、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていても
よく、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフ
ッ素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ
1の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基で
なければならないが、好ましくは、アルキル基、フェニ
ル基、アリール基及びこれらの基の水素原子の少なくと
も一部がフッ素原子で置換された基より選ばれる基であ
り、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−
ブチル基等のアルキル基；フェニル基；アリール基；又
は、これらの基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原
子で置換された基等が挙げられる。また、上記一般式
（V）中、Ｘは加水分解性の基であれば特に制限されな
いが、アルコキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシアル
コキシ基等を好ましく挙げることができる。
式（V）中、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていても
よく、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフ
ッ素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ
1の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基で
なければならないが、好ましくは、アルキル基、フェニ
ル基、アリール基及びこれらの基の水素原子の少なくと
も一部がフッ素原子で置換された基より選ばれる基であ
り、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−
ブチル基等のアルキル基；フェニル基；アリール基；又
は、これらの基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原
子で置換された基等が挙げられる。また、上記一般式
（V）中、Ｘは加水分解性の基であれば特に制限されな
いが、アルコキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシアル
コキシ基等を好ましく挙げることができる。
【００６５】この様な化合物として具体的には、(ＣＦ3
ＣＨ2)3Ｓｉ(ＯＣＨ3)、[ＣＦ3(ＣＦ2)2]2(ＣＨ3)Ｓｉ
Ｃｌ、[ＣＦ3(ＣＦ2)5](ＣＨ3)2Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)、[ＣＦ
3(ＣＦ2)3(ＣＨ2)2]2(Ｃ2Ｈ5)ＳｉＣｌ等が挙げられ、
該当するフルオロアルキル基を有するグリニャール試薬
又はリチウム塩と公知の珪素化合物との反応によって容
易に合成できる。すなわち
ＣＨ2)3Ｓｉ(ＯＣＨ3)、[ＣＦ3(ＣＦ2)2]2(ＣＨ3)Ｓｉ
Ｃｌ、[ＣＦ3(ＣＦ2)5](ＣＨ3)2Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)、[ＣＦ
3(ＣＦ2)3(ＣＨ2)2]2(Ｃ2Ｈ5)ＳｉＣｌ等が挙げられ、
該当するフルオロアルキル基を有するグリニャール試薬
又はリチウム塩と公知の珪素化合物との反応によって容
易に合成できる。すなわち
【００６６】
【化１８】
【００６７】（但し、化１８中、Ｒfはフルオロアルキ
ル基、Ｒは炭化水素基、ＡはＢｒ又はＩ、ｎは０〜２の
いずれか、ｍは１〜３のいずれかを表す。）
ル基、Ｒは炭化水素基、ＡはＢｒ又はＩ、ｎは０〜２の
いずれか、ｍは１〜３のいずれかを表す。）
【００６８】一般式（VI）の（Ｒ2）3ＳｉＸ ：上記一
般式（VI）中、Ｒ2は互いに同一であっても異なってい
てもよく、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部
が塩素原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表す
が、好ましくは、アルキル基、フェニル基、アリール基
及びこれらの基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子
又は臭素原子で置換された基より選ばれる基であり、例
えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基等のアルキル基；フェニル基；アリール基；又は、こ
れらの基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭
素原子で置換された基等が挙げられ、好ましくはアルキ
ル基（置換されていない）が挙げられる。また、上記一
般式（VI）中、Ｘは加水分解性の基であれば特に制限さ
れないが、アルコキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシ
アルコキシ基等を好ましく挙げることができる。この様
な化合物として具体的には、トリメチルクロロシラン、
トリエチルクロロシラン、tert−ブチルジメチルクロロ
シラン、フェニルジメチルクロロシラン、トリメチルメ
トキシシラン、トリメチルエトキシシラン等が挙げられ
る。
般式（VI）中、Ｒ2は互いに同一であっても異なってい
てもよく、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部
が塩素原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表す
が、好ましくは、アルキル基、フェニル基、アリール基
及びこれらの基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子
又は臭素原子で置換された基より選ばれる基であり、例
えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基等のアルキル基；フェニル基；アリール基；又は、こ
れらの基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭
素原子で置換された基等が挙げられ、好ましくはアルキ
ル基（置換されていない）が挙げられる。また、上記一
般式（VI）中、Ｘは加水分解性の基であれば特に制限さ
れないが、アルコキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシ
アルコキシ基等を好ましく挙げることができる。この様
な化合物として具体的には、トリメチルクロロシラン、
トリエチルクロロシラン、tert−ブチルジメチルクロロ
シラン、フェニルジメチルクロロシラン、トリメチルメ
トキシシラン、トリメチルエトキシシラン等が挙げられ
る。
【００６９】一般式（VII）の（Ｒ2）3ＳｉＯＳｉ
（Ｒ2）3：上記一般式（VII）中のＲ2は、上記一般式
（VI）中のＲ2と同様であり、この様な化合物として、
具体的には、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチル
ジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、ヘキサフ
ェニルジシロキサン等が挙げられる。
（Ｒ2）3：上記一般式（VII）中のＲ2は、上記一般式
（VI）中のＲ2と同様であり、この様な化合物として、
具体的には、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチル
ジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、ヘキサフ
ェニルジシロキサン等が挙げられる。
【００７０】酸触媒：具体的には塩酸、硝酸等の無機
酸；酢酸、クエン酸等の有機酸；好ましくは塩酸、硝
酸、酢酸等の揮発性の酸が挙げられる。
酸；酢酸、クエン酸等の有機酸；好ましくは塩酸、硝
酸、酢酸等の揮発性の酸が挙げられる。
【００７１】（３）本発明の化粧料 本発明の化粧料は上記シリコーンの１種又は２種以上を
含有する。本発明の化粧料には上記シリコーンを配合す
ることにより優れた撥水性と共に撥油性が付与される。
これは、本発明の化粧料に配合する上記シリコーンが撥
水性に優れ、更に末端ユニットにフッ素原子を有するこ
とから撥油性に優れることによるが、上記シリコーン
は、また化粧料に一般的に配合される多くの原料成分と
の相溶性にも優れることから、化粧料の多くの剤形に適
用可能であるという特徴を有する。更に、本発明で用い
るシリコーンは肌や頭髪上に被膜を形成する際、その被
膜は柔軟性を有することから、これを化粧料に配合する
ことにより肌や頭髪に滑らかさやしっとり感を与え、肌
や頭髪へのなじみのよい化粧料が得られることになる。
この様なシリコーン被膜の優れた撥水性、撥油性、柔軟
性等が総合的に作用して、本発明の化粧料に化粧持ちの
よさを付与している。
含有する。本発明の化粧料には上記シリコーンを配合す
ることにより優れた撥水性と共に撥油性が付与される。
これは、本発明の化粧料に配合する上記シリコーンが撥
水性に優れ、更に末端ユニットにフッ素原子を有するこ
とから撥油性に優れることによるが、上記シリコーン
は、また化粧料に一般的に配合される多くの原料成分と
の相溶性にも優れることから、化粧料の多くの剤形に適
用可能であるという特徴を有する。更に、本発明で用い
るシリコーンは肌や頭髪上に被膜を形成する際、その被
膜は柔軟性を有することから、これを化粧料に配合する
ことにより肌や頭髪に滑らかさやしっとり感を与え、肌
や頭髪へのなじみのよい化粧料が得られることになる。
この様なシリコーン被膜の優れた撥水性、撥油性、柔軟
性等が総合的に作用して、本発明の化粧料に化粧持ちの
よさを付与している。
【００７２】本発明の化粧料における上記シリコーンの
好適な含有量は、剤形の種類や使用目的により異なる
が、大凡０．１〜８０重量％であり、具体的に剤形毎に
見るならば、クリームや乳液などの基礎化粧料において
は０．５〜４０重量％が更に好ましく、ファンデーショ
ン、リップカラー、アンダーメークアップ等のメークア
ップ化粧料としては０．５〜６０重量％、スカルプロー
ションやコーティングエッセンス等の頭髪用の化粧料と
しては０．５〜２０重量％が更に好ましい。
好適な含有量は、剤形の種類や使用目的により異なる
が、大凡０．１〜８０重量％であり、具体的に剤形毎に
見るならば、クリームや乳液などの基礎化粧料において
は０．５〜４０重量％が更に好ましく、ファンデーショ
ン、リップカラー、アンダーメークアップ等のメークア
ップ化粧料としては０．５〜６０重量％、スカルプロー
ションやコーティングエッセンス等の頭髪用の化粧料と
しては０．５〜２０重量％が更に好ましい。
【００７３】本発明の化粧料の剤形は、特に限定される
ものではなく、例えば、ローション、乳液、クリーム、
水性ゲル、オイルゲル、軟膏、アンダーメークアップ、
ファンデーション、パウダー、リップカラー、アイライ
ナー、スカルプローション、コーティングエッセンス、
ヘアトニック、シャンプー、リンス、ポマード、ヘアト
リートメント、ヘアパック、ヘアリキッド、ヘアローシ
ョン、スタイリングフォーム、ヘアブロースプレー等の
通常、皮膚用や頭髪用の化粧料として用いられているも
のが挙げられる。これらの化粧料は、上記シリコーン
を、好ましくは上記配合量の範囲で、配合する以外は、
通常の化粧料と同様の方法で製造することができる。
ものではなく、例えば、ローション、乳液、クリーム、
水性ゲル、オイルゲル、軟膏、アンダーメークアップ、
ファンデーション、パウダー、リップカラー、アイライ
ナー、スカルプローション、コーティングエッセンス、
ヘアトニック、シャンプー、リンス、ポマード、ヘアト
リートメント、ヘアパック、ヘアリキッド、ヘアローシ
ョン、スタイリングフォーム、ヘアブロースプレー等の
通常、皮膚用や頭髪用の化粧料として用いられているも
のが挙げられる。これらの化粧料は、上記シリコーン
を、好ましくは上記配合量の範囲で、配合する以外は、
通常の化粧料と同様の方法で製造することができる。
【００７４】また、本発明の化粧料には、上記シリコー
ン以外に、通常、化粧料に適用される、流動パラフィ
ン、ワセリン、スクワラン等の炭化水素類、ミリスチン
酸イソプロピル（ＩＰＭ）や合成ゲイロウ、ホホバ油、
カルナウバワックス等のエステル類、オリーブ油、牛脂
等の動植物油脂、セタノール、ステアリルアルコール等
の高級アルコール類、ステアリン酸、オレイン酸等の高
級脂肪酸類、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルスルホ
コハク酸エステル等のアニオン界面活性剤、４級アルキ
ルアミン塩等のカチオン界面活性剤、脂肪酸モノグリセ
ライド、ポオキシエチレン硬化ヒマシ油等のノニオン界
面活性剤、アルキルベタイン等の両性界面活性剤等の界
面活性剤類、グリセリンやプロピレングリコール等の多
価アルコール類、エタノール、プロパノール等の低級ア
ルコール類、パラベン類やグルコン酸クロルヘキシジン
等の防腐剤類、パラアミノ安息香酸誘導体、ベンゾフェ
ノン誘導体等の紫外線吸収剤類、ビタミンＥやブチルヒ
ドロキシトルエン等の酸化防止剤、アラビアゴム、カル
ボキシビニルポリマー等の増粘剤、ポリエチレングリコ
ール等の保湿剤、クエン酸塩、酢酸塩等のｐＨ調整剤、
酸化チタン、シリカゲル、タルク等の粉体類、香料、色
素等、ヒアルロン酸、胎盤抽出物、朝鮮人参エキス、ス
テロール配糖体等の各種目的に応じた薬効成分などが適
宜選択されて配合される。また、上記シリコーン以外の
従来から化粧料に配合されているシリコーン類を配合す
ることもできる。
ン以外に、通常、化粧料に適用される、流動パラフィ
ン、ワセリン、スクワラン等の炭化水素類、ミリスチン
酸イソプロピル（ＩＰＭ）や合成ゲイロウ、ホホバ油、
カルナウバワックス等のエステル類、オリーブ油、牛脂
等の動植物油脂、セタノール、ステアリルアルコール等
の高級アルコール類、ステアリン酸、オレイン酸等の高
級脂肪酸類、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルスルホ
コハク酸エステル等のアニオン界面活性剤、４級アルキ
ルアミン塩等のカチオン界面活性剤、脂肪酸モノグリセ
ライド、ポオキシエチレン硬化ヒマシ油等のノニオン界
面活性剤、アルキルベタイン等の両性界面活性剤等の界
面活性剤類、グリセリンやプロピレングリコール等の多
価アルコール類、エタノール、プロパノール等の低級ア
ルコール類、パラベン類やグルコン酸クロルヘキシジン
等の防腐剤類、パラアミノ安息香酸誘導体、ベンゾフェ
ノン誘導体等の紫外線吸収剤類、ビタミンＥやブチルヒ
ドロキシトルエン等の酸化防止剤、アラビアゴム、カル
ボキシビニルポリマー等の増粘剤、ポリエチレングリコ
ール等の保湿剤、クエン酸塩、酢酸塩等のｐＨ調整剤、
酸化チタン、シリカゲル、タルク等の粉体類、香料、色
素等、ヒアルロン酸、胎盤抽出物、朝鮮人参エキス、ス
テロール配糖体等の各種目的に応じた薬効成分などが適
宜選択されて配合される。また、上記シリコーン以外の
従来から化粧料に配合されているシリコーン類を配合す
ることもできる。
【００７５】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。まず本発
明に用いるシリコーンの製造例について、上記一般式
（IV）の珪素化合物Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］nの製造例及び
一般式（V）のフッ素置換型末端封鎖珪素化合物（Ｒ1）
3ＳｉＸの製造例と共に説明する。 ＜Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］nの製造例＞
明に用いるシリコーンの製造例について、上記一般式
（IV）の珪素化合物Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］nの製造例及び
一般式（V）のフッ素置換型末端封鎖珪素化合物（Ｒ1）
3ＳｉＸの製造例と共に説明する。 ＜Ｑn［Ｓｉ（Ｘ）3］nの製造例＞
【００７６】
【製造例１】耐圧ビン型の反応容器にアリルトリクロロ
シラン７０．２ｇ、モノハイドロジェントリクロロシラ
ン５４．２ｇを採り混合した。次に塩化白金酸Ｈ2Ｐｔ
Ｃｌ6・６Ｈ2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金
０．２ミリモルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に
添加した後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。ろ
過、分留を行ってテトラヒドロフラン、塩化白金酸を除
去して透明液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−Ｎ
ＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が
式（１ｂ）で表される化合物であることが確認された。
シラン７０．２ｇ、モノハイドロジェントリクロロシラ
ン５４．２ｇを採り混合した。次に塩化白金酸Ｈ2Ｐｔ
Ｃｌ6・６Ｈ2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金
０．２ミリモルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に
添加した後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。ろ
過、分留を行ってテトラヒドロフラン、塩化白金酸を除
去して透明液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−Ｎ
ＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が
式（１ｂ）で表される化合物であることが確認された。
【００７７】
【化１９】 Ｃｌ3Ｓｉ（ＣＨ2 ）3ＳｉＣｌ3 ・・・（１ｂ）
【００７８】
【製造例２】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコにテレフタル酸ジアリル４９．３ｇ、３
−メルカプトトリメトキシシラン７８．６ｇ、ベンゼン
４５０ｍｌを採り、攪拌混合した。さらに、この溶液
に、アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをベンゼン５
０ｍｌに溶解した溶液を添加し、攪拌混合した。攪拌を
続けながら、室温で乾燥窒素ガスによるバブリングを１
時間行った後、加熱してベンゼンの沸点で２４時間還流
を行って反応を完結させた。ロータリーエバポレーター
でベンゼンを除去して粘性液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−Ｎ
ＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、この液体が式（２ｂ）で表される化合物であること
が確認された。
三つ口フラスコにテレフタル酸ジアリル４９．３ｇ、３
−メルカプトトリメトキシシラン７８．６ｇ、ベンゼン
４５０ｍｌを採り、攪拌混合した。さらに、この溶液
に、アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをベンゼン５
０ｍｌに溶解した溶液を添加し、攪拌混合した。攪拌を
続けながら、室温で乾燥窒素ガスによるバブリングを１
時間行った後、加熱してベンゼンの沸点で２４時間還流
を行って反応を完結させた。ロータリーエバポレーター
でベンゼンを除去して粘性液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−Ｎ
ＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、この液体が式（２ｂ）で表される化合物であること
が確認された。
【００７９】
【化２０】
【００８０】
【製造例３】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコにビニルトリメトキシシラン４４．５
ｇ、３−メルカプトトリメトキシシラン５８．９ｇ、ベ
ンゼン４００ｍｌを採り攪拌混合した。さらにこの溶液
に、アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをベンゼン５
０ｍｌに溶解した溶液を添加し、攪拌混合した。攪拌を
続けながら、室温で乾燥窒素ガスによるバブリングを１
時間行った後、加熱してベンゼンの沸点で２４時間還流
を行って反応を完結させた。ロータリーエバポレーター
でベンゼンを除去して粘性液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−Ｎ
ＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、この液体が式（３ｂ）で表される化合物であること
が確認された。
三つ口フラスコにビニルトリメトキシシラン４４．５
ｇ、３−メルカプトトリメトキシシラン５８．９ｇ、ベ
ンゼン４００ｍｌを採り攪拌混合した。さらにこの溶液
に、アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをベンゼン５
０ｍｌに溶解した溶液を添加し、攪拌混合した。攪拌を
続けながら、室温で乾燥窒素ガスによるバブリングを１
時間行った後、加熱してベンゼンの沸点で２４時間還流
を行って反応を完結させた。ロータリーエバポレーター
でベンゼンを除去して粘性液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−Ｎ
ＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、この液体が式（３ｂ）で表される化合物であること
が確認された。
【００８１】
【化２１】 （ＣＨ3Ｏ）3Ｓｉ（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 ・・・（３ｂ）
【００８２】
【製造例４】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン１１０．７ｇ、ジエチルエーテル４００ｍｌ、トリエ
チルアミン１００ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合した。
さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、３−ブテノ
イルクロライド４５．３ｇをジエチルエーテル１００ｍ
ｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪拌
を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリー
エバポレーターでジエチルエーテル、トリエチルアミン
を除去して粘性液体を得た。
三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン１１０．７ｇ、ジエチルエーテル４００ｍｌ、トリエ
チルアミン１００ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合した。
さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、３−ブテノ
イルクロライド４５．３ｇをジエチルエーテル１００ｍ
ｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪拌
を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリー
エバポレーターでジエチルエーテル、トリエチルアミン
を除去して粘性液体を得た。
【００８３】耐圧ビン型の反応容器に上記の液体８２．
７ｇ、モノハイドロジェントリエトキシシラン４９．３
ｇを採り混合した。次に塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ
2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミリ
モルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した
後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。ろ過、分留を
行ってテトラヒドロフラン、塩化白金酸を除去して透明
液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が式（４ｂ）
で表される化合物であることが確認された。
７ｇ、モノハイドロジェントリエトキシシラン４９．３
ｇを採り混合した。次に塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ
2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミリ
モルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した
後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。ろ過、分留を
行ってテトラヒドロフラン、塩化白金酸を除去して透明
液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が式（４ｂ）
で表される化合物であることが確認された。
【００８４】
【化２２】
【００８５】
【製造例５】耐圧ビン型の反応容器にグリセリントリ１
０−ウンデセノエート１７７．３ｇ、モノハイドロジェ
ントリメトキシシラン１１０．０ｇを採り混合した。次
に塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏをテトラヒドロフ
ラン中で加熱し、白金０．２ミリモルに相当するこの溶
液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を８０℃で
４時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフラ
ン、塩化白金酸を除去して透明液体を得た。ＩＲ、1Ｈ
−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行った
ところ、この液体が式（５ｂ）で表される化合物である
ことが確認された。
０−ウンデセノエート１７７．３ｇ、モノハイドロジェ
ントリメトキシシラン１１０．０ｇを採り混合した。次
に塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏをテトラヒドロフ
ラン中で加熱し、白金０．２ミリモルに相当するこの溶
液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を８０℃で
４時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフラ
ン、塩化白金酸を除去して透明液体を得た。ＩＲ、1Ｈ
−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行った
ところ、この液体が式（５ｂ）で表される化合物である
ことが確認された。
【００８６】
【化２３】
【００８７】
【製造例６】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコに１，２，４−トリビニルシクロヘキサ
ン４８．７ｇ、３−メルカプトトリス（β−メトキシメ
トキシ）シラン２５７．８ｇ、ベンゼン８００ｍｌを採
り攪拌混合した。さらにこの溶液に、アゾビスイソブチ
ロニトリル０．８ｇをベンゼン１００ｍｌに溶解した溶
液を添加し、攪拌混合した。攪拌を続けながら、室温で
乾燥窒素ガスによるバブリングを１時間行った後、加熱
してベンゼンの沸点で２４時間還流を行って反応を完結
させた。ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去し
て粘性液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が式
（６ｂ）で表される化合物であることが確認された。
三つ口フラスコに１，２，４−トリビニルシクロヘキサ
ン４８．７ｇ、３−メルカプトトリス（β−メトキシメ
トキシ）シラン２５７．８ｇ、ベンゼン８００ｍｌを採
り攪拌混合した。さらにこの溶液に、アゾビスイソブチ
ロニトリル０．８ｇをベンゼン１００ｍｌに溶解した溶
液を添加し、攪拌混合した。攪拌を続けながら、室温で
乾燥窒素ガスによるバブリングを１時間行った後、加熱
してベンゼンの沸点で２４時間還流を行って反応を完結
させた。ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去し
て粘性液体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が式
（６ｂ）で表される化合物であることが確認された。
【００８８】
【化２４】
【００８９】
【製造例７】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリクロロシラン
５７．９ｇ、ジエチルエーテル３２０ｍｌ、トリエチル
アミン８０ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合した。さら
に、氷冷攪拌を続けながらこの溶液にトリメゾイルクロ
ライド２６．８ｇをジエチルエーテル１００ｍｌに溶解
した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間を攪拌を続け
た。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリーエバポ
レーターでジエチルエーテル、トリエチルアミンを除去
して白色固体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この固体が式
（７ｂ）で表される化合物であることが確認された。
三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリクロロシラン
５７．９ｇ、ジエチルエーテル３２０ｍｌ、トリエチル
アミン８０ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合した。さら
に、氷冷攪拌を続けながらこの溶液にトリメゾイルクロ
ライド２６．８ｇをジエチルエーテル１００ｍｌに溶解
した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間を攪拌を続け
た。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリーエバポ
レーターでジエチルエーテル、トリエチルアミンを除去
して白色固体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この固体が式
（７ｂ）で表される化合物であることが確認された。
【００９０】
【化２５】
【００９１】
【製造例８】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコに３，３’−ジアミノベンジジン６４．
３ｇ、テトラヒドロフラン９００ｍｌ、トリエチルアミ
ン２００ｍｌを採り、氷冷しつつ攪拌混合した。さら
に、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、アクリロイルク
ロライド１０８．６ｇをテトラヒドロフラン３００ｍｌ
に溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪拌を
続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリーエ
バポレーターで、テトラヒドロフラントリエチルアミン
を除去して白色固体を得た。
三つ口フラスコに３，３’−ジアミノベンジジン６４．
３ｇ、テトラヒドロフラン９００ｍｌ、トリエチルアミ
ン２００ｍｌを採り、氷冷しつつ攪拌混合した。さら
に、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、アクリロイルク
ロライド１０８．６ｇをテトラヒドロフラン３００ｍｌ
に溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪拌を
続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリーエ
バポレーターで、テトラヒドロフラントリエチルアミン
を除去して白色固体を得た。
【００９２】耐圧ビン型の反応容器に上記の固体８６．
１ｇ、モノハイドロジェントリメトキシシラン９７．８
ｇを採り混合した。次に塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ
2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミリ
モルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した
後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。ろ過、分留を
行ってテトラヒドロフラン、塩化白金酸を除去して白色
固体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この固体が式（８ｂ）
で表される化合物であることが確認された。
１ｇ、モノハイドロジェントリメトキシシラン９７．８
ｇを採り混合した。次に塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ
2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミリ
モルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した
後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。ろ過、分留を
行ってテトラヒドロフラン、塩化白金酸を除去して白色
固体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この固体が式（８ｂ）
で表される化合物であることが確認された。
【００９３】
【化２６】
【００９４】
【製造例９】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付き
三つ口フラスコにペンタエリトリトールテトラメタクリ
レート８１．７ｇ、３−メルカプトトリエトキシシラン
１９０．７ｇ、ベンゼン８００ｍｌを採り、攪拌混合し
た。さらにこの溶液に、アゾビスイソブチロニトリル
０．５ｇをベンゼン１００ｍｌに溶解した溶液を添加
し、攪拌混合した。攪拌を続けながら、室温で乾燥窒素
ガスによるバブリングを１時間行った後、加熱してベン
ゼンの沸点で２４時間還流を行って反応を完結させた。
ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去して粘性液
体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ
−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が式（９ｂ）で
表される化合物であることが確認された。
三つ口フラスコにペンタエリトリトールテトラメタクリ
レート８１．７ｇ、３−メルカプトトリエトキシシラン
１９０．７ｇ、ベンゼン８００ｍｌを採り、攪拌混合し
た。さらにこの溶液に、アゾビスイソブチロニトリル
０．５ｇをベンゼン１００ｍｌに溶解した溶液を添加
し、攪拌混合した。攪拌を続けながら、室温で乾燥窒素
ガスによるバブリングを１時間行った後、加熱してベン
ゼンの沸点で２４時間還流を行って反応を完結させた。
ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去して粘性液
体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ
−ＮＭＲ測定を行ったところ、この液体が式（９ｂ）で
表される化合物であることが確認された。
【００９５】
【化２７】
【００９６】
【製造例１０】還流冷却器、攪拌装置及びガス導入管付
き三つ口フラスコにグリセロール−１，３−ジアリルエ
ーテル２７．６ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、ト
リエチルアミン５０ｍｌを採り、氷冷しつつ攪拌混合し
た。さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、アジポ
イルクロライド１４．６ｇをテトラヒドロフラン１００
ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪
拌を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリ
ーエバポレーターでジエチルエーテル、トリエチルアミ
ンを除去して粘性液体を得た。
き三つ口フラスコにグリセロール−１，３−ジアリルエ
ーテル２７．６ｇ、テトラヒドロフラン２００ｍｌ、ト
リエチルアミン５０ｍｌを採り、氷冷しつつ攪拌混合し
た。さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、アジポ
イルクロライド１４．６ｇをテトラヒドロフラン１００
ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪
拌を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリ
ーエバポレーターでジエチルエーテル、トリエチルアミ
ンを除去して粘性液体を得た。
【００９７】耐圧ビン型の反応容器に上記の液体２８．
２ｇ、モノハイドロジェントリクロロシシラン５４．２
ｇを採り混合した。次に、塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６
Ｈ2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミ
リモルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した
後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。分留を行って
テトラヒドロフラン、塩化白金酸を除去して透明液体を
得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲ測定を行ったところ、この液体が式（１０ｂ）で表
される化合物であることが確認された。
２ｇ、モノハイドロジェントリクロロシシラン５４．２
ｇを採り混合した。次に、塩化白金酸Ｈ2ＰｔＣｌ6・６
Ｈ2Ｏをテトラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミ
リモルに相当するこの溶液を前述の混合溶液に添加した
後、反応容器を８０℃で４時間加熱した。分留を行って
テトラヒドロフラン、塩化白金酸を除去して透明液体を
得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲ測定を行ったところ、この液体が式（１０ｂ）で表
される化合物であることが確認された。
【００９８】
【化２８】
【００９９】
【製造例１１】還流冷却器、攪拌装置およびガス導入管
付き三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン１０７．６ｇ、テトラヒドロフラン６００ｍｌ、
トリエチルアミン２００ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合
した。さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、テレ
フタル酸クロリド６０．９ｇをテトラヒドロフラン２０
０ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間
攪拌を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータ
リーエバポレーターでテトラヒドロフラン、トリエチル
アミンを除去して白色固体を得た。ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、 29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、この固体が式（１１ｂ）で表される化合物であるこ
とが確認された。
付き三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン１０７．６ｇ、テトラヒドロフラン６００ｍｌ、
トリエチルアミン２００ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合
した。さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、テレ
フタル酸クロリド６０．９ｇをテトラヒドロフラン２０
０ｍｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間
攪拌を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータ
リーエバポレーターでテトラヒドロフラン、トリエチル
アミンを除去して白色固体を得た。ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、 29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、この固体が式（１１ｂ）で表される化合物であるこ
とが確認された。
【０１００】
【化２９】
【０１０１】
【製造例１２】還流冷却器、攪拌装置およびガス導入管
付き三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリクロロシ
シラン９６．５ｇ、ジエチルエーテル５００ｍｌ、トリ
エチルアミン１５０ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合し
た。さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、イソフ
タル酸クロリド５０．８ｇをジエチルエーテル１５０ｍ
ｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪拌
を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリー
エバポレーターでジエチルエーテル、トリエチルアミン
を除去して白色固体を得た。ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ
−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この固
体が（１２ｂ）で表される化合物であることが確認され
た。
付き三つ口フラスコに３−アミノプロピルトリクロロシ
シラン９６．５ｇ、ジエチルエーテル５００ｍｌ、トリ
エチルアミン１５０ｍｌを採り氷冷しつつ攪拌混合し
た。さらに、氷冷攪拌を続けながらこの溶液に、イソフ
タル酸クロリド５０．８ｇをジエチルエーテル１５０ｍ
ｌに溶解した溶液を滴下した。滴下後さらに１時間攪拌
を続けた。生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリー
エバポレーターでジエチルエーテル、トリエチルアミン
を除去して白色固体を得た。ＩＲ、1 Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ
−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この固
体が（１２ｂ）で表される化合物であることが確認され
た。
【０１０２】
【化３０】
【０１０３】＜（Ｒ1）3ＳｉＸの製造例＞
【０１０４】
【製造例１３】十分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
８．７ｇを採り、乾燥窒素ガスで十分置換を行う。さら
に、この反応容器に金属ナトリウムによる還流と蒸留と
によって脱水精製したテトラヒドロフラン１５０ｍｌを
採り、攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、
前述のテトラヒドロフラン２００ｍｌに２、２、２−ト
リフルオロエチルヨーダイド６３．０ｇを溶解した溶液
を滴下した。さらに攪拌を続けながら、氷冷下で、前述
のテトラヒドロフラン１５０ｍｌにテトラメトキシシラ
ン１５．２ｇを溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、
テトラヒドロフランの沸点で還流を２４時間行って反応
を完結させた。生成した沈殿をろ別後、分留を行って目
的化合物を単離した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス
気流下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、
29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、式（１３ｂ）で表
される目的化合物が単離されていることを確認した。
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
８．７ｇを採り、乾燥窒素ガスで十分置換を行う。さら
に、この反応容器に金属ナトリウムによる還流と蒸留と
によって脱水精製したテトラヒドロフラン１５０ｍｌを
採り、攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、
前述のテトラヒドロフラン２００ｍｌに２、２、２−ト
リフルオロエチルヨーダイド６３．０ｇを溶解した溶液
を滴下した。さらに攪拌を続けながら、氷冷下で、前述
のテトラヒドロフラン１５０ｍｌにテトラメトキシシラ
ン１５．２ｇを溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、
テトラヒドロフランの沸点で還流を２４時間行って反応
を完結させた。生成した沈殿をろ別後、分留を行って目
的化合物を単離した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス
気流下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、
29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、式（１３ｂ）で表
される目的化合物が単離されていることを確認した。
【０１０５】
【化３１】 （ＣＦ3ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3） ・・・(１３ｂ)
【０１０６】
【製造例１４】十分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
３．０ｇを採り、乾燥窒素ガスで十分置換を行う。さら
に、この反応容器に金属ナトリウムによる還流と蒸留と
によって脱水精製したテトラヒドロフラン１００ｍｌを
採り、攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、
前述のテトラヒドロフラン３００ｍｌにパーフルオロヘ
キシルヨーダイド４４．６ｇを溶解した溶液を滴下し
た。さらに攪拌を続けながら、氷冷下で、前述のテトラ
ヒドロフラン２００ｍｌにジメチルジエトキシシラン１
４．８ｇを溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、テト
ラヒドロフランの沸点で還流を２４時間行って反応を完
結させた。生成した沈殿をろ別後、分留を行って目的化
合物を単離した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス気流
下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行って式（１４ｂ）で表される目的化
合物が単離されていることを確認した。
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
３．０ｇを採り、乾燥窒素ガスで十分置換を行う。さら
に、この反応容器に金属ナトリウムによる還流と蒸留と
によって脱水精製したテトラヒドロフラン１００ｍｌを
採り、攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、
前述のテトラヒドロフラン３００ｍｌにパーフルオロヘ
キシルヨーダイド４４．６ｇを溶解した溶液を滴下し
た。さらに攪拌を続けながら、氷冷下で、前述のテトラ
ヒドロフラン２００ｍｌにジメチルジエトキシシラン１
４．８ｇを溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、テト
ラヒドロフランの沸点で還流を２４時間行って反応を完
結させた。生成した沈殿をろ別後、分留を行って目的化
合物を単離した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス気流
下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行って式（１４ｂ）で表される目的化
合物が単離されていることを確認した。
【０１０７】
【化３２】 ［ＣＦ3（ＣＦ2）5］（ＣＨ3）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5） ・・・(１４ｂ)
【０１０８】
【製造例１５】十分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
５．３ｇ及びよう素０．０５ｇを採り、乾燥窒素ガスで
十分置換を行う。さらに、この反応容器に金属ナトリウ
ムによる還流と蒸留とによって脱水精製したジエチルエ
ーテル５００ｍｌにパーフルオロブチルヨーダイド６
９．２ｇ及びエチルトリメトキシラン１５．０ｇを溶解
した溶液を滴下した。滴下終了後、攪拌を続けながら室
温で２時間放置し反応を完結させた。生成した沈殿をろ
別後、分留を行って目的化合物を単離した。尚、全ての
操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、式（１５ｂ）で表される目的化合物が単離されてい
ることを確認した。
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
５．３ｇ及びよう素０．０５ｇを採り、乾燥窒素ガスで
十分置換を行う。さらに、この反応容器に金属ナトリウ
ムによる還流と蒸留とによって脱水精製したジエチルエ
ーテル５００ｍｌにパーフルオロブチルヨーダイド６
９．２ｇ及びエチルトリメトキシラン１５．０ｇを溶解
した溶液を滴下した。滴下終了後、攪拌を続けながら室
温で２時間放置し反応を完結させた。生成した沈殿をろ
別後、分留を行って目的化合物を単離した。尚、全ての
操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったとこ
ろ、式（１５ｂ）で表される目的化合物が単離されてい
ることを確認した。
【０１０９】
【化３３】 ［ＣＦ3（ＣＦ2）3 ］2（Ｃ2Ｈ5）Ｓｉ（ＯＣＨ3） ・・・(１５ｂ)
【０１１０】
【製造例１６】十分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
５．６ｇを採り、乾燥窒素ガスで十分置換を行う。さら
に、この反応容器に金属ナトリウムによる還流と蒸留と
によって脱水精製したテトラヒドロフラン１００ｍｌを
採り、攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、
前述のテトラヒドロフラン３００ｍｌにパーフルオロプ
ロピルブロミド５２．３ｇを溶解した溶液を滴下した。
さらに攪拌を続けながら、氷冷下で、前述のテトラヒド
ロフラン１００ｍｌにテトラクロロシラン１１．９ｇを
溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフ
ランの沸点で還流を２４時間行って反応を完結させた。
生成した沈殿をろ別後、分留を行って目的化合物を単離
した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行っ
た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭ
Ｒ測定を行ったところ、式（１６ｂ）で表される目的化
合物が単離されていることを確認した。
置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグシウム
５．６ｇを採り、乾燥窒素ガスで十分置換を行う。さら
に、この反応容器に金属ナトリウムによる還流と蒸留と
によって脱水精製したテトラヒドロフラン１００ｍｌを
採り、攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、
前述のテトラヒドロフラン３００ｍｌにパーフルオロプ
ロピルブロミド５２．３ｇを溶解した溶液を滴下した。
さらに攪拌を続けながら、氷冷下で、前述のテトラヒド
ロフラン１００ｍｌにテトラクロロシラン１１．９ｇを
溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフ
ランの沸点で還流を２４時間行って反応を完結させた。
生成した沈殿をろ別後、分留を行って目的化合物を単離
した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行っ
た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭ
Ｒ測定を行ったところ、式（１６ｂ）で表される目的化
合物が単離されていることを確認した。
【０１１１】
【化３４】 ［ＣＦ3（ＣＦ2）2］3ＳｉＣｌ ・・・(１６ｂ)
【０１１２】
【製造例１７】乾燥窒素ガスで十分置換を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシルリチウム
５０．８ｇを及び金属ナトリウムによる還流と蒸留とに
よって脱水精製したジエチルエーテル４００ｍｌ採り攪
拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、前述のジ
エチルエーテル１００ｍｌにエチルトリクロロシラン１
６．４ｇを溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、さら
に２時間攪拌を続けた後、還流を８時間行って反応を完
結させた。生成した沈殿をろ別後、分留を行って目的化
合物を単離した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス気流
下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、式（１７ｂ）で表され
る目的化合物が単離されていることを確認した。
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシルリチウム
５０．８ｇを及び金属ナトリウムによる還流と蒸留とに
よって脱水精製したジエチルエーテル４００ｍｌ採り攪
拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液に、前述のジ
エチルエーテル１００ｍｌにエチルトリクロロシラン１
６．４ｇを溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、さら
に２時間攪拌を続けた後、還流を８時間行って反応を完
結させた。生成した沈殿をろ別後、分留を行って目的化
合物を単離した。なお、全ての操作は乾燥窒素ガス気流
下で行った。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、式（１７ｂ）で表され
る目的化合物が単離されていることを確認した。
【０１１３】
【化３５】 ［ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2］2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＣｌ ・・・(１７ｂ)
【０１１４】
【製造例１８】充分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装
置およびガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグネシ
ウム５．８ｇを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を行っ
た。さらに、この反応容器に金属ナトリウムによる還流
と蒸留とによって脱水生成したジエチルエーテル２００
ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液
に前述のジエチルエーテル３００ｍｌに１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈヘプタデカフルオロデキシルヨーダイド１１
４．８ｇを溶解した溶液を滴下した。さらに、攪拌を続
けながら、氷零下で、前述のジエチルエーテル２００ｍ
ｌにジエチルジメトキシシラン２９．７ｇを溶解した溶
液を滴下した。滴下終了後ジエチルエーテルの沸点で還
流を２４時間行って反応を完結させた。生成した沈殿を
ろ別後、分留を行って、目的の化合物を単離した。なお
全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。ＩＲ、1Ｈ
−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行った
ところ、式（１８ｂ）で表される目的化合物が単離され
ていることを確認した。
置およびガス導入管付き三つ口フラスコに金属マグネシ
ウム５．８ｇを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を行っ
た。さらに、この反応容器に金属ナトリウムによる還流
と蒸留とによって脱水生成したジエチルエーテル２００
ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、この溶液
に前述のジエチルエーテル３００ｍｌに１Ｈ，１Ｈ，２
Ｈ，２Ｈヘプタデカフルオロデキシルヨーダイド１１
４．８ｇを溶解した溶液を滴下した。さらに、攪拌を続
けながら、氷零下で、前述のジエチルエーテル２００ｍ
ｌにジエチルジメトキシシラン２９．７ｇを溶解した溶
液を滴下した。滴下終了後ジエチルエーテルの沸点で還
流を２４時間行って反応を完結させた。生成した沈殿を
ろ別後、分留を行って、目的の化合物を単離した。なお
全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。ＩＲ、1Ｈ
−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行った
ところ、式（１８ｂ）で表される目的化合物が単離され
ていることを確認した。
【０１１５】
【化３６】 ［ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2］［Ｃ2Ｈ5］2Ｓｉ（ＯＣＨ3） ・・・(１８ｂ) ＜シリコーンの製造例＞
【０１１６】
【製造例１９】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例１の珪素化合物６４．０ｇ、メチルエチルケトン
１５０ｍｌを採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこ
の溶液に、水９．０ｇをメチルエチルケトン５０ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けなが
ら４０℃で３０分間放置した。この混合溶液に、製造例
１６の珪素化合物５７．０ｇ、トリメチルクロロシラン
４３．４ｇ、水４０．５ｇ、メチルエチルケトン１００
ｍｌ、濃塩酸１．３ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌を
さらに続けながら４０℃で４時間放置した。反応終了
後、系は二相に分離したので、デカンテーションにより
溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及
び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除去
し、８０℃で一昼夜乾燥して重縮合物を単離した。Ｉ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定
を行ったところ、この重縮合体は［｛ＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）2｝3ＳｉＯ1/ 2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ
1/2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ 3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3−で示される２価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーンであることが確認
された。得られたシリコーンをシリコーン１として後述
の化粧料の実施例に用いた。
製造例１の珪素化合物６４．０ｇ、メチルエチルケトン
１５０ｍｌを採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこ
の溶液に、水９．０ｇをメチルエチルケトン５０ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けなが
ら４０℃で３０分間放置した。この混合溶液に、製造例
１６の珪素化合物５７．０ｇ、トリメチルクロロシラン
４３．４ｇ、水４０．５ｇ、メチルエチルケトン１００
ｍｌ、濃塩酸１．３ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌を
さらに続けながら４０℃で４時間放置した。反応終了
後、系は二相に分離したので、デカンテーションにより
溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及
び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除去
し、８０℃で一昼夜乾燥して重縮合物を単離した。Ｉ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定
を行ったところ、この重縮合体は［｛ＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）2｝3ＳｉＯ1/ 2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ
1/2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ 3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3−で示される２価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーンであることが確認
された。得られたシリコーンをシリコーン１として後述
の化粧料の実施例に用いた。
【０１１７】
【製造例２０】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例２の珪素化合物８９．６ｇ、製造例３の珪素化合
物４８．２ｇ、３−アミノプロピルトリメトキシシラン
０．８ｇおよびエチルアルコール／テトラヒドロフラン
混合溶媒（重量比で７／３）３００ｍｌを採り、混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水９．１ｇを前
述の混合溶媒１００ｍｌに溶解した溶液を添加した。添
加終了後、攪拌を続けながら２５℃で４時間放置した。
この混合溶液に製造例１３の珪素化合物３１．４ｇ、ト
リメチルメトキシシシラン３１．９ｇ、水１００．８
ｇ、前述の混合溶媒２００ｍｌ、濃塩酸２．８ｍｌから
なる溶液を添加し、攪拌をさらに続けながら２５℃で１
０時間放置した。反応終了後、系は二相に分離したの
で、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５
％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカン
テーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜乾燥して
重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮合体
が［（ＣＦ3ＣＨ2）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｏ3/2
ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は前記式（１ａ）で示
される２価の有機基を表す。）のユニット、［（Ｃ
Ｈ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ'2Ｓｉ
Ｏ3/2］（但し、Ｑ'2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−で
示される２価の有機基を表す。）のユニットからなるシ
リコーンであることが確認された。得られたシリコーン
をシリコーン２として後述の化粧料の実施例に用いた。
製造例２の珪素化合物８９．６ｇ、製造例３の珪素化合
物４８．２ｇ、３−アミノプロピルトリメトキシシラン
０．８ｇおよびエチルアルコール／テトラヒドロフラン
混合溶媒（重量比で７／３）３００ｍｌを採り、混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水９．１ｇを前
述の混合溶媒１００ｍｌに溶解した溶液を添加した。添
加終了後、攪拌を続けながら２５℃で４時間放置した。
この混合溶液に製造例１３の珪素化合物３１．４ｇ、ト
リメチルメトキシシシラン３１．９ｇ、水１００．８
ｇ、前述の混合溶媒２００ｍｌ、濃塩酸２．８ｍｌから
なる溶液を添加し、攪拌をさらに続けながら２５℃で１
０時間放置した。反応終了後、系は二相に分離したの
で、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５
％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカン
テーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜乾燥して
重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮合体
が［（ＣＦ3ＣＨ2）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｏ3/2
ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但し、Ｑ2は前記式（１ａ）で示
される２価の有機基を表す。）のユニット、［（Ｃ
Ｈ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ'2Ｓｉ
Ｏ3/2］（但し、Ｑ'2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−で
示される２価の有機基を表す。）のユニットからなるシ
リコーンであることが確認された。得られたシリコーン
をシリコーン２として後述の化粧料の実施例に用いた。
【０１１８】
【製造例２１】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例４の珪素化合物４４．０ｇ、テトラメトキシシラ
ン２２．８ｇ、３−（４，５−ジヒドロイミダゾール）
プロピルトリエトキシシラン２．１ｇおよびイソプロピ
ルアルコール４００ｍｌを採り、混合溶解した。攪拌を
続けながらこの溶液に、水１０．１ｇをイソプロピルア
ルコール１００ｍｌに溶解した溶液を添加した。添加終
了後、攪拌を続けながら６０℃で２時間放置した。この
混合溶液に製造例１４の珪素化合物１０１．４ｇ、ヘキ
サエチルジシロキサン１１８．３ｇ、イソプロピルアル
コール２００ｍｌ、濃硝酸３．０ｍｌからなる溶液を添
加し、攪拌をさらに続けながら６０℃で１６時間放置し
た。反応終了後、系は二相に分離したので、デカンテー
ションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナト
リウム溶液及び水で洗浄後、凍結乾燥により水を除去し
て重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−Ｎ
ＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮合
体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｓｉ
Ｏ2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但
し、Ｑ2は前記式（２ａ）で示される２価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーンであることが確認
された。得られたシリコーンをシリコーン３として後述
の化粧料の実施例に用いた。
製造例４の珪素化合物４４．０ｇ、テトラメトキシシラ
ン２２．８ｇ、３−（４，５−ジヒドロイミダゾール）
プロピルトリエトキシシラン２．１ｇおよびイソプロピ
ルアルコール４００ｍｌを採り、混合溶解した。攪拌を
続けながらこの溶液に、水１０．１ｇをイソプロピルア
ルコール１００ｍｌに溶解した溶液を添加した。添加終
了後、攪拌を続けながら６０℃で２時間放置した。この
混合溶液に製造例１４の珪素化合物１０１．４ｇ、ヘキ
サエチルジシロキサン１１８．３ｇ、イソプロピルアル
コール２００ｍｌ、濃硝酸３．０ｍｌからなる溶液を添
加し、攪拌をさらに続けながら６０℃で１６時間放置し
た。反応終了後、系は二相に分離したので、デカンテー
ションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナト
リウム溶液及び水で洗浄後、凍結乾燥により水を除去し
て重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−Ｎ
ＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮合
体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2］のユ
ニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｓｉ
Ｏ2］のユニット及び［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但
し、Ｑ2は前記式（２ａ）で示される２価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーンであることが確認
された。得られたシリコーンをシリコーン３として後述
の化粧料の実施例に用いた。
【０１１９】
【製造例２２】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例５の珪素化合物７６．６ｇ、トリエチルアミン
０．４５ｇおよびエチルセロソルブ３００ｍｌを採り、
混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水３．９
ｇをエチルセロソルブ１００ｍｌに溶解した溶液を添加
した。添加終了後、攪拌を続けながら５℃で２時間放置
した。この混合溶液に、製造例１５の珪素化合物１２
６．３ｇ、フェニルジメチルクロロシラン４１．０ｇ、
水４３．２ｇ、エチルセロソルブ１５０ｍｌ、濃硝酸
３．０ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けな
がら２０℃で８時間放置した。反応終了後、系は二相に
分離したので、デカンテーションにより溶媒相を除去
し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液、水で洗浄後再
びデカンテーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜
乾燥して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1
Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この
重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3｝2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＯ
1/2］のユニット、［（Ｃ6Ｈ5）（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2］
のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ3は前
記式（３ａ）で示される３価の有機基を表す。）のユニ
ットからなるシリコーンであることが確認された。得ら
れたシリコーンをシリコーン４として後述の化粧料の実
施例に用いた。
製造例５の珪素化合物７６．６ｇ、トリエチルアミン
０．４５ｇおよびエチルセロソルブ３００ｍｌを採り、
混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水３．９
ｇをエチルセロソルブ１００ｍｌに溶解した溶液を添加
した。添加終了後、攪拌を続けながら５℃で２時間放置
した。この混合溶液に、製造例１５の珪素化合物１２
６．３ｇ、フェニルジメチルクロロシラン４１．０ｇ、
水４３．２ｇ、エチルセロソルブ１５０ｍｌ、濃硝酸
３．０ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けな
がら２０℃で８時間放置した。反応終了後、系は二相に
分離したので、デカンテーションにより溶媒相を除去
し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液、水で洗浄後再
びデカンテーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜
乾燥して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1
Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この
重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3｝2（Ｃ2Ｈ5）ＳｉＯ
1/2］のユニット、［（Ｃ6Ｈ5）（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2］
のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ3は前
記式（３ａ）で示される３価の有機基を表す。）のユニ
ットからなるシリコーンであることが確認された。得ら
れたシリコーンをシリコーン４として後述の化粧料の実
施例に用いた。
【０１２０】
【製造例２３】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例６の珪素化合物３２．２ｇ、テトラエトキシシラ
ン２．８ｇ、酢酸０．１８ｇおよびジメチルスルフォキ
シド２５０ｍｌを採り、混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液に、水５．５ｇをジメチルスルフォキシド５
０ｍｌに溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を
続けながら６０℃で６時間放置した。この混合溶液に、
製造例１４の珪素化合物１１．４ｇ、ヘキサプロピルジ
シロキサン４０．２ｇ、水１３．４ｇ、ジメチルスルフ
ォキシド１５０ｍｌ、クエン酸４．０ｇからなる溶液を
添加し、攪拌をさらに続けながら６０℃で１８時間放置
した。反応終了後、系は二相に分離したので、デカンテ
ーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で洗浄後、凍結乾燥により水を除去
して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮
合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2］の
ユニット、［（Ｃ3Ｈ7）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｓ
ｉＯ2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、
Ｑ3は前記式（４ａ）で示される３価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーンであることが確認
された。得られたシリコーンをシリコーン５として後述
の化粧料の実施例に用いた。
製造例６の珪素化合物３２．２ｇ、テトラエトキシシラ
ン２．８ｇ、酢酸０．１８ｇおよびジメチルスルフォキ
シド２５０ｍｌを採り、混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液に、水５．５ｇをジメチルスルフォキシド５
０ｍｌに溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を
続けながら６０℃で６時間放置した。この混合溶液に、
製造例１４の珪素化合物１１．４ｇ、ヘキサプロピルジ
シロキサン４０．２ｇ、水１３．４ｇ、ジメチルスルフ
ォキシド１５０ｍｌ、クエン酸４．０ｇからなる溶液を
添加し、攪拌をさらに続けながら６０℃で１８時間放置
した。反応終了後、系は二相に分離したので、デカンテ
ーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で洗浄後、凍結乾燥により水を除去
して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮
合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝（ＣＨ3）2ＳｉＯ1/2］の
ユニット、［（Ｃ3Ｈ7）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［Ｓ
ｉＯ2］のユニット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）3Ｑ3］（但し、
Ｑ3は前記式（４ａ）で示される３価の有機基を表
す。）のユニットからなるシリコーンであることが確認
された。得られたシリコーンをシリコーン５として後述
の化粧料の実施例に用いた。
【０１２１】
【製造例２４】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例７の珪素化合物８８．５ｇ、テトラヒドロフラン
５００ｍｌを採り混合溶解した。攪拌を続けながらこの
溶液に、水１５．６ｇ及び濃アンモニア水１．５ｍｌを
テトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した溶液を添加し
た。添加終了後、攪拌を続けながら１０℃で１時間放置
した。この混合溶液に製造例１７の珪素化合物２１９．
６ｇ、tert−ブチルジメチルクロロシラン３７．６ｇ、
水４５．Ｏｇ、テトラヒドロフラン３００ｍｌ、酢酸
５．０ｇからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けなが
ら１０℃で４時間放置した。反応終了後、系は二相に分
離したので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、
さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再
びデカンテーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜
乾燥して重縮合物を単離した。ＩＲ、 13Ｃ−ＮＭＲ、1
Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この
重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝2（Ｃ
2Ｈ5）ＳｉＯ1/2］のユニット、［｛（ＣＨ3）3Ｃ｝
｛ＣＨ3｝2ＳｉＯ1/2］のユニット及び［（Ｏ3／2Ｓ
ｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ3は前記式（５ａ）で示される３
価の有機基を表す。）のユニットからなるシリコーンで
あることが確認された。得られたシリコーンをシリコー
ン６として後述の化粧料の実施例に用いた。
製造例７の珪素化合物８８．５ｇ、テトラヒドロフラン
５００ｍｌを採り混合溶解した。攪拌を続けながらこの
溶液に、水１５．６ｇ及び濃アンモニア水１．５ｍｌを
テトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した溶液を添加し
た。添加終了後、攪拌を続けながら１０℃で１時間放置
した。この混合溶液に製造例１７の珪素化合物２１９．
６ｇ、tert−ブチルジメチルクロロシラン３７．６ｇ、
水４５．Ｏｇ、テトラヒドロフラン３００ｍｌ、酢酸
５．０ｇからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けなが
ら１０℃で４時間放置した。反応終了後、系は二相に分
離したので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、
さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再
びデカンテーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜
乾燥して重縮合物を単離した。ＩＲ、 13Ｃ−ＮＭＲ、1
Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この
重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝2（Ｃ
2Ｈ5）ＳｉＯ1/2］のユニット、［｛（ＣＨ3）3Ｃ｝
｛ＣＨ3｝2ＳｉＯ1/2］のユニット及び［（Ｏ3／2Ｓ
ｉ）3Ｑ3］（但し、Ｑ3は前記式（５ａ）で示される３
価の有機基を表す。）のユニットからなるシリコーンで
あることが確認された。得られたシリコーンをシリコー
ン６として後述の化粧料の実施例に用いた。
【０１２２】
【製造例２５】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例８の珪素化合物１８．１ｇ、製造例３の珪素化合
物４．１ｇ、テトラメトキシシラン０．９ｇ、テトラヒ
ドロフラン３００ｍｌ及び３−アミノプロピルメトキシ
シラン０．６ｇを採り、混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液に、水６．０ｇをテトラヒドロフラン１００
ｍｌに溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続
けながら２０℃で３時間放置した。この混合溶液に製造
例１３の珪素化合物５９．７ｇ、トリメチルメトキシシ
ラン１８．８ｇ、水５９．４ｇ、テトラヒドロフラン２
５０ｍｌ、濃塩酸３．０ｍｌからなる溶液を添加し、攪
拌をさらに続けながら２０℃で１２時間放置した。反応
終了後、系は二相に分離したので、デカンテーションに
より溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶
液及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除
去し、８０℃で一昼夜乾燥して重縮合物を単離した。Ｉ
Ｒ、 13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定
を行ったところ、この重縮合体が［（ＣＦ3ＣＨ2）3Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニ
ット、［ＳｉＯ2］のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ
3/2］（但し、Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−で示さ
れる２価の有機基を表す。）のユニット及び［（Ｏ3/2
Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は前記式（６ａ）で示される
４価の有機基を表す。）のユニットからなるシリコーン
であることが確認された。得られたシリコーンをシリコ
ーン７として後述の化粧料の実施例に用いた。
製造例８の珪素化合物１８．１ｇ、製造例３の珪素化合
物４．１ｇ、テトラメトキシシラン０．９ｇ、テトラヒ
ドロフラン３００ｍｌ及び３−アミノプロピルメトキシ
シラン０．６ｇを採り、混合溶解した。攪拌を続けなが
らこの溶液に、水６．０ｇをテトラヒドロフラン１００
ｍｌに溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続
けながら２０℃で３時間放置した。この混合溶液に製造
例１３の珪素化合物５９．７ｇ、トリメチルメトキシシ
ラン１８．８ｇ、水５９．４ｇ、テトラヒドロフラン２
５０ｍｌ、濃塩酸３．０ｍｌからなる溶液を添加し、攪
拌をさらに続けながら２０℃で１２時間放置した。反応
終了後、系は二相に分離したので、デカンテーションに
より溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶
液及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除
去し、８０℃で一昼夜乾燥して重縮合物を単離した。Ｉ
Ｒ、 13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定
を行ったところ、この重縮合体が［（ＣＦ3ＣＨ2）3Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニ
ット、［ＳｉＯ2］のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ
3/2］（但し、Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−で示さ
れる２価の有機基を表す。）のユニット及び［（Ｏ3/2
Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は前記式（６ａ）で示される
４価の有機基を表す。）のユニットからなるシリコーン
であることが確認された。得られたシリコーンをシリコ
ーン７として後述の化粧料の実施例に用いた。
【０１２３】
【製造例２６】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例９の珪素化合物９８．１ｇ、テトラエトキシシラ
ン１．７ｇ、イソプロピルアルコール／テトラヒドロフ
ラン混合溶媒（重量比７／３）７００ｍｌ及びモルフォ
リン２．１ｇを採り、混合溶解した。攪拌を続けながら
この溶液に、水３．１ｇを前述の混合溶媒１００ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けなが
ら２０℃で４時間放置した。この混合溶液に製造例１６
の珪素化合物２２８．２ｇ、トリメチルクロロシラン４
１．７ｇ、水６４．８ｇ、前述の混合溶媒４００ｍｌ、
濃塩酸７．５ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに
続けながら２０℃で１２時間放置した。反応終了後、系
は二相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相
を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で
洗浄後、再びデカンテーションにより水を除去し、８０
℃で一昼夜乾燥して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−
ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったと
ころ、この重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）2｝3ＳｉＯ
1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニッ
ト、［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は前記式（７
ａ）で示される４価の有機基を表す。）のユニット及び
［ＳｉＯ2］のユニットからなるシリコーンであること
が確認された。得られたシリコーンをシリコーン８とし
て後述の化粧料の実施例に用いた。
製造例９の珪素化合物９８．１ｇ、テトラエトキシシラ
ン１．７ｇ、イソプロピルアルコール／テトラヒドロフ
ラン混合溶媒（重量比７／３）７００ｍｌ及びモルフォ
リン２．１ｇを採り、混合溶解した。攪拌を続けながら
この溶液に、水３．１ｇを前述の混合溶媒１００ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けなが
ら２０℃で４時間放置した。この混合溶液に製造例１６
の珪素化合物２２８．２ｇ、トリメチルクロロシラン４
１．７ｇ、水６４．８ｇ、前述の混合溶媒４００ｍｌ、
濃塩酸７．５ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに
続けながら２０℃で１２時間放置した。反応終了後、系
は二相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相
を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で
洗浄後、再びデカンテーションにより水を除去し、８０
℃で一昼夜乾燥して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−
ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったと
ころ、この重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）2｝3ＳｉＯ
1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニッ
ト、［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は前記式（７
ａ）で示される４価の有機基を表す。）のユニット及び
［ＳｉＯ2］のユニットからなるシリコーンであること
が確認された。得られたシリコーンをシリコーン８とし
て後述の化粧料の実施例に用いた。
【０１２４】
【製造例２７】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例１０の珪素化合物８２．４ｇ、アセトン４００ｍ
ｌを採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液
に、水２１．６ｇをアセトン１００ｍｌに溶解した溶液
を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら２０℃で１
時間放置した。この混合溶液に、製造例１７の珪素化合
物１１７．３ｇ、ヘキサメチルジシロキサン３２．５
ｇ、水３６．０ｇ、アセトン２００ｍｌ、濃塩酸７．０
ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けながら２
０℃で４時間放置した。反応終了後、系は二相に分離し
たので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さら
に５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデ
カンテーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜乾燥
して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮
合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝2（Ｃ2Ｈ5）Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニ
ット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は前記式
（８ａ）で示される４価の有機基を表す。）のユニット
からなるシリコーンであることが確認された。得られた
シリコーンをシリコーン９として後述の化粧料の実施例
に用いた。
製造例１０の珪素化合物８２．４ｇ、アセトン４００ｍ
ｌを採り、混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液
に、水２１．６ｇをアセトン１００ｍｌに溶解した溶液
を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら２０℃で１
時間放置した。この混合溶液に、製造例１７の珪素化合
物１１７．３ｇ、ヘキサメチルジシロキサン３２．５
ｇ、水３６．０ｇ、アセトン２００ｍｌ、濃塩酸７．０
ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けながら２
０℃で４時間放置した。反応終了後、系は二相に分離し
たので、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さら
に５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデ
カンテーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜乾燥
して重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところ、この重縮
合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝2（Ｃ2Ｈ5）Ｓ
ｉＯ1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニ
ット及び［（Ｏ3/2Ｓｉ）4Ｑ4］（但し、Ｑ4は前記式
（８ａ）で示される４価の有機基を表す。）のユニット
からなるシリコーンであることが確認された。得られた
シリコーンをシリコーン９として後述の化粧料の実施例
に用いた。
【０１２５】
【製造例２８】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例１の珪素化合物２４．９ｇ、製造例１２の珪素化
合物６１．９ｇ、テトラヒドロフラン２５０ｍｌを採り
混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水１６．
２ｇをテトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解した溶液を添
加した。添加終了後攪拌を続けながら２０℃で１時間放
置した。この混合溶液に製造例１７の珪素化合物１７
６．０ｇ、トリメチルクロロシラン９１．１ｇ、水２
４．３ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｍｌ、濃塩酸３ｍ
ｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けながら２０
℃で８時間放置した。反応終了後水を少量加えると系は
二相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相を
除去し、ロータリーエバポレーターで残存する揮発成分
を除去し、重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、
1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところこの
重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝2｛Ｃ
2Ｈ5｝ＳｉＯ 1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2ＳｉＯ 3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3−を表す。）のユニット及び［
3/2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但しＱ2'は、前記式（９
ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニットから
なるシリコーンであることが確認された。得られたシリ
コーンをシリコーン１０として後述の化粧料の実施例に
用いた。
製造例１の珪素化合物２４．９ｇ、製造例１２の珪素化
合物６１．９ｇ、テトラヒドロフラン２５０ｍｌを採り
混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水１６．
２ｇをテトラヒドロフラン７０ｍｌに溶解した溶液を添
加した。添加終了後攪拌を続けながら２０℃で１時間放
置した。この混合溶液に製造例１７の珪素化合物１７
６．０ｇ、トリメチルクロロシラン９１．１ｇ、水２
４．３ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｍｌ、濃塩酸３ｍ
ｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに続けながら２０
℃で８時間放置した。反応終了後水を少量加えると系は
二相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相を
除去し、ロータリーエバポレーターで残存する揮発成分
を除去し、重縮合物を単離した。ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、
1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行ったところこの
重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）3（ＣＨ2）2｝2｛Ｃ
2Ｈ5｝ＳｉＯ 1/2］のユニット、［（ＣＨ3）3Ｓｉ
Ｏ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2ＳｉＯ 3/2］（但
し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3−を表す。）のユニット及び［
3/2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但しＱ2'は、前記式（９
ａ）で示される２価の有機基を表す。）のユニットから
なるシリコーンであることが確認された。得られたシリ
コーンをシリコーン１０として後述の化粧料の実施例に
用いた。
【０１２６】
【製造例２９】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例３の珪素化合物３８．８ｇ、製造例１１の珪素化
合物１８．３ｇ、３−アミノプロピルチリメトキシシラ
ン１．１ｇ、エチルアルコール１００ｍｌを採り混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水８．２ｇをエ
チルアルコール４０ｍｌに溶解した溶液を添加した。添
加終了後攪拌を続けながら２０℃で２時間放置した。こ
の混合溶液に製造例１８の珪素化合物１５２．３ｇ、ト
リメチルメトキシシラン１８．８ｇ、水１２．２ｇ、エ
チルアルコール６０ｍｌ、濃塩酸１．５ｍｌからなる溶
液を添加し、攪拌をさらに続けながら２０℃で１６時間
放置した。反応終了後系は二相に分離したので、デカン
テーションにより溶媒相を除去し、５％炭酸水素ナトリ
ウム溶液および水で洗浄後、ロータリーエバポレーター
で残存する揮発成分を除去し、重縮合物を単離した。Ｉ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定
を行ったところこの重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）
7（ＣＨ2）2｝｛Ｃ2Ｈ5｝2ＳｉＯ 1/2］のユニット、
［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2
ＳｉＯ 3/2］（但し、Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−
を表す。）のユニット及び［3/ 2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］
（但しＱ2'は、前記式（９ａ）で示される２価の有機基
を表す。）のユニットからなるシリコーンであることが
確認された。得られたシリコーンをシリコーン１１とし
て後述の化粧料の実施例に用いた。
製造例３の珪素化合物３８．８ｇ、製造例１１の珪素化
合物１８．３ｇ、３−アミノプロピルチリメトキシシラ
ン１．１ｇ、エチルアルコール１００ｍｌを採り混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に、水８．２ｇをエ
チルアルコール４０ｍｌに溶解した溶液を添加した。添
加終了後攪拌を続けながら２０℃で２時間放置した。こ
の混合溶液に製造例１８の珪素化合物１５２．３ｇ、ト
リメチルメトキシシラン１８．８ｇ、水１２．２ｇ、エ
チルアルコール６０ｍｌ、濃塩酸１．５ｍｌからなる溶
液を添加し、攪拌をさらに続けながら２０℃で１６時間
放置した。反応終了後系は二相に分離したので、デカン
テーションにより溶媒相を除去し、５％炭酸水素ナトリ
ウム溶液および水で洗浄後、ロータリーエバポレーター
で残存する揮発成分を除去し、重縮合物を単離した。Ｉ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定
を行ったところこの重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）
7（ＣＨ2）2｝｛Ｃ2Ｈ5｝2ＳｉＯ 1/2］のユニット、
［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］のユニット、［3/2ＯＳｉＱ2
ＳｉＯ 3/2］（但し、Ｑ2は−（ＣＨ2）2Ｓ（ＣＨ2）3−
を表す。）のユニット及び［3/ 2ＯＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］
（但しＱ2'は、前記式（９ａ）で示される２価の有機基
を表す。）のユニットからなるシリコーンであることが
確認された。得られたシリコーンをシリコーン１１とし
て後述の化粧料の実施例に用いた。
【０１２７】
【製造例３０】冷却器、攪拌装置付き三つ口フラスコに
製造例２の珪素化合物５７．５ｇ、製造例１１の珪素化
合物１４．７ｇ、テトラメトキシシラン４．６ｇ、３−
アミノプロピルチリメトキシシラン０．３ｇ、エチルア
ルコール／テトラヒドロフラン混合溶媒（重量比で７／
３）２００ｍｌを採り混合溶解した。攪拌を続けながら
この溶液に、水１５．０ｇを前記の混合溶媒５０ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後攪拌を続けながら
２０℃で２時間放置した。この混合溶液に製造例１４の
珪素化合物２２８．１ｇ、ヘキサエチルジシロキサン４
４．４ｇ、水２０．０ｇ、前記の混合溶媒１００ｍｌ、
濃硝酸２．５ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに
続けながら２０℃で１２時間放置した。反応終了後少量
の水の添加で系は二相に分離したので、デカンテーショ
ンにより溶媒相を除去し、５％炭酸水素ナトリウム溶液
および水で洗浄後、ロータリーエバポレーターで残存す
る揮発成分を除去し、重縮合物を単離した。ＩＲ、1Ｈ
−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行った
ところ、この重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝｛Ｃ
Ｈ3｝2ＳｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ
1/2］のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但しＱ
2は、前記式（１ａ）で示される２価の有機基を表
す。）のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但し
Ｑ2'は、前記式（９ａ）で示される２価の有機基を表
す。）のユニット及び［ＳｉＯ2］のユニットからなる
シリコーンであることが確認された。得られたシリコー
ンをシリコーン１２として後述の化粧料の実施例に用い
た。
製造例２の珪素化合物５７．５ｇ、製造例１１の珪素化
合物１４．７ｇ、テトラメトキシシラン４．６ｇ、３−
アミノプロピルチリメトキシシラン０．３ｇ、エチルア
ルコール／テトラヒドロフラン混合溶媒（重量比で７／
３）２００ｍｌを採り混合溶解した。攪拌を続けながら
この溶液に、水１５．０ｇを前記の混合溶媒５０ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後攪拌を続けながら
２０℃で２時間放置した。この混合溶液に製造例１４の
珪素化合物２２８．１ｇ、ヘキサエチルジシロキサン４
４．４ｇ、水２０．０ｇ、前記の混合溶媒１００ｍｌ、
濃硝酸２．５ｍｌからなる溶液を添加し、攪拌をさらに
続けながら２０℃で１２時間放置した。反応終了後少量
の水の添加で系は二相に分離したので、デカンテーショ
ンにより溶媒相を除去し、５％炭酸水素ナトリウム溶液
および水で洗浄後、ロータリーエバポレーターで残存す
る揮発成分を除去し、重縮合物を単離した。ＩＲ、1Ｈ
−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定を行った
ところ、この重縮合体が［｛ＣＦ3（ＣＦ2）5｝｛Ｃ
Ｈ3｝2ＳｉＯ1/2］のユニット、［（Ｃ2Ｈ5）3ＳｉＯ
1/2］のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2ＳｉＯ3/2］（但しＱ
2は、前記式（１ａ）で示される２価の有機基を表
す。）のユニット、［Ｏ3/2ＳｉＱ2'ＳｉＯ3/2］（但し
Ｑ2'は、前記式（９ａ）で示される２価の有機基を表
す。）のユニット及び［ＳｉＯ2］のユニットからなる
シリコーンであることが確認された。得られたシリコー
ンをシリコーン１２として後述の化粧料の実施例に用い
た。
【０１２８】次に、上記各製造例で得られたシリコーン
１〜１２を含有する本発明の化粧料の実施例について説
明する。尚、以下に示す配合量は全て重量部である。
１〜１２を含有する本発明の化粧料の実施例について説
明する。尚、以下に示す配合量は全て重量部である。
【０１２９】
【実施例１〜４】 クリーム 表１に示すＡ成分、Ｂ成分をそれぞれ８０℃に加熱溶解
した後、Ａ成分にＢ成分を徐々に加え乳化し撹拌冷却し
てクリームを得た。また表１に組成を示す、実施例１の
クリームにおける製造例のシリコーンの代わりにポリジ
メチルシロキサンを用いた比較例１のクリームを、上記
実施例と同様に製造した。更に、実施例１のクリームに
おけるシリコーン１の代わりにパーフルオロポリエーテ
ルとしてフォンブリンＨＣ−４（モンテフルオス社製）
を同量用いた以外は、実施例１と同様にして別の比較例
のクリームを製造しようとしたところ、各成分は乳化で
きずに二層に分離してしまいクリームは得られなかっ
た。
した後、Ａ成分にＢ成分を徐々に加え乳化し撹拌冷却し
てクリームを得た。また表１に組成を示す、実施例１の
クリームにおける製造例のシリコーンの代わりにポリジ
メチルシロキサンを用いた比較例１のクリームを、上記
実施例と同様に製造した。更に、実施例１のクリームに
おけるシリコーン１の代わりにパーフルオロポリエーテ
ルとしてフォンブリンＨＣ−４（モンテフルオス社製）
を同量用いた以外は、実施例１と同様にして別の比較例
のクリームを製造しようとしたところ、各成分は乳化で
きずに二層に分離してしまいクリームは得られなかっ
た。
【０１３０】
【表１】
【０１３１】
【実施例５〜８】 ファンデーション 表２に示す各成分をニーダーに秤込み、８０℃に加熱し
ながら混練りし、金皿に詰めて加圧成型してファンデー
ションを得た。また表２に組成を示す、実施例８のファ
ンデーションにおける製造例のシリコーンの代わりにポ
リジメチルシロキサンを用いた比較例２のファンデーシ
ョンを、上記実施例と同様に製造した。
ながら混練りし、金皿に詰めて加圧成型してファンデー
ションを得た。また表２に組成を示す、実施例８のファ
ンデーションにおける製造例のシリコーンの代わりにポ
リジメチルシロキサンを用いた比較例２のファンデーシ
ョンを、上記実施例と同様に製造した。
【０１３２】
【表２】
【０１３３】
【実施例９〜１２】 リップカラー 表３に示す各成分を８０℃で加熱溶解分散し、６０℃の
加温ロールをかけ、再度９０℃に加熱し、金型に流し込
み冷却して取り出してリップカラーを得た。また表３に
組成を示す、実施例１２のリップカラーにおける製造例
のシリコーンの代わりに三次元構造のシリコーンである
シリコーンワニス（シリコーンＫＦ７３１２Ｆ：信越化
学製）を用いた比較例３のリップカラーを、上記実施例
と同様に製造した。
加温ロールをかけ、再度９０℃に加熱し、金型に流し込
み冷却して取り出してリップカラーを得た。また表３に
組成を示す、実施例１２のリップカラーにおける製造例
のシリコーンの代わりに三次元構造のシリコーンである
シリコーンワニス（シリコーンＫＦ７３１２Ｆ：信越化
学製）を用いた比較例３のリップカラーを、上記実施例
と同様に製造した。
【０１３４】
【表３】
【０１３５】
【実施例１３〜１６】 ヘアブロースプレー 表４に示す各成分を加熱溶解冷却し、スプレーノズル付
き耐圧容器に充填し、天然ガスを注入し密閉してヘアブ
ロースプレーを得た。また表４に組成を示す、実施例１
４のヘアブロースプレーにおける製造例のシリコーンの
代わりにポリジメチルシロキサン（１００ｃ．ｓ．）を
用いた比較例４のヘアブロースプレーを、上記実施例と
同様に製造した。
き耐圧容器に充填し、天然ガスを注入し密閉してヘアブ
ロースプレーを得た。また表４に組成を示す、実施例１
４のヘアブロースプレーにおける製造例のシリコーンの
代わりにポリジメチルシロキサン（１００ｃ．ｓ．）を
用いた比較例４のヘアブロースプレーを、上記実施例と
同様に製造した。
【０１３６】
【表４】
【０１３７】上記各実施例で得られた本発明の４種類の
剤形の化粧料について、上記製造例のシリコーンの代わ
りに従来のシリコーンを含有する比較例の化粧料との比
較において、撥水性、なじみのよさ、滑らかさやしっと
り感、化粧持ちのよさ等の官能評価を行った。
剤形の化粧料について、上記製造例のシリコーンの代わ
りに従来のシリコーンを含有する比較例の化粧料との比
較において、撥水性、なじみのよさ、滑らかさやしっと
り感、化粧持ちのよさ等の官能評価を行った。
【０１３８】（１）クリームの評価 実施例１〜４及び比較例１で得られたクリームの官能評
価を専門パネラー５名により行った。評価項目は、しっ
とり感、水滴を落としたときの撥水性、肌なじみのよ
さ、メークアップ料を上に乗せたときのメークアップ料
の崩れにくさ、総合評価で、良いを評点５、やや良いを
評点４、普通を評点３、やや悪いを評点２、悪いを評点
１とした五段階評価で行った。結果は、全ての実施例の
クリームにおいて比較例１のクリームに比べ、全ての評
価項目で評点が高かった。その代表的な結果（実施例１
及び比較例１）を表５に示す。
価を専門パネラー５名により行った。評価項目は、しっ
とり感、水滴を落としたときの撥水性、肌なじみのよ
さ、メークアップ料を上に乗せたときのメークアップ料
の崩れにくさ、総合評価で、良いを評点５、やや良いを
評点４、普通を評点３、やや悪いを評点２、悪いを評点
１とした五段階評価で行った。結果は、全ての実施例の
クリームにおいて比較例１のクリームに比べ、全ての評
価項目で評点が高かった。その代表的な結果（実施例１
及び比較例１）を表５に示す。
【０１３９】
【表５】
【０１４０】この結果より、本発明に用いるシリコーン
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のクリーム
に比べ、実施例のクリームが撥水性をはじめとする上記
全ての評価項目において優れた官能を有することがわか
る。また、実施例のクリームで肌を整えた後、メークア
ップすると化粧の持ちがよいことが確認され、このクリ
ームは基礎化粧料であると同時にアンダーメークアップ
の機能も有することがわかった。
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のクリーム
に比べ、実施例のクリームが撥水性をはじめとする上記
全ての評価項目において優れた官能を有することがわか
る。また、実施例のクリームで肌を整えた後、メークア
ップすると化粧の持ちがよいことが確認され、このクリ
ームは基礎化粧料であると同時にアンダーメークアップ
の機能も有することがわかった。
【０１４１】（２）ファンデーションの評価 実施例５〜８及び比較例２で得られたファンデーション
の官能評価を専門パネラー５名により行った。評価項目
はしっとり感、水滴を落としたときの撥水性、肌なじみ
のよさ、化粧崩れのしにくさ、総合評価で、良いを評点
５、やや良いを評点４、普通を評点３、やや悪いを評点
２、悪いを評点１とした五段階評価で行った。結果は、
全ての実施例のファンデーションにおいて比較例２のフ
ァンデーションに比べ、全ての評価項目で評点が高かっ
た。その代表的な結果（実施例８及び比較例２）を表６
に示す。
の官能評価を専門パネラー５名により行った。評価項目
はしっとり感、水滴を落としたときの撥水性、肌なじみ
のよさ、化粧崩れのしにくさ、総合評価で、良いを評点
５、やや良いを評点４、普通を評点３、やや悪いを評点
２、悪いを評点１とした五段階評価で行った。結果は、
全ての実施例のファンデーションにおいて比較例２のフ
ァンデーションに比べ、全ての評価項目で評点が高かっ
た。その代表的な結果（実施例８及び比較例２）を表６
に示す。
【０１４２】
【表６】
【０１４３】この結果より、本発明に用いるシリコーン
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のファンデ
ーションに比べ、実施例のファンデーションが撥水性を
はじめとする上記全ての評価項目において優れた官能を
有することがわかる。また、実施例５〜８及び比較例２
で得られたファンデーションを上腕部に塗布し、流水下
指で擦する試験を行ったところ、比較例２で得られたフ
ァンデーションが流水下の擦りに対して抵抗性が少なか
ったのに比べ、実施例のファンデーションについては何
れもファンデーションの落ちは認められず化粧持ちがよ
いことが確認された。
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のファンデ
ーションに比べ、実施例のファンデーションが撥水性を
はじめとする上記全ての評価項目において優れた官能を
有することがわかる。また、実施例５〜８及び比較例２
で得られたファンデーションを上腕部に塗布し、流水下
指で擦する試験を行ったところ、比較例２で得られたフ
ァンデーションが流水下の擦りに対して抵抗性が少なか
ったのに比べ、実施例のファンデーションについては何
れもファンデーションの落ちは認められず化粧持ちがよ
いことが確認された。
【０１４４】（３）リップカラーの評価 実施例９〜１２及び比較例３で得られたリップカラーの
官能評価を専門パネラー５名により行った。評価項目は
色移りのしにくさ、水滴を落としたときの撥水性、唇へ
のなじみのよさ、化粧崩れのしにくさ、総合評価で、良
いを評点５、やや良いを評点４、普通を評点３、やや悪
いを評点２、悪いを評点１とした五段階評価で行った。
結果は、全ての実施例のリップカラーにおいて比較例３
のリップカラーに比べ、全ての評価項目で評点が高かっ
た。その代表的な結果（実施例１２及び比較例３）を表
７に示す。
官能評価を専門パネラー５名により行った。評価項目は
色移りのしにくさ、水滴を落としたときの撥水性、唇へ
のなじみのよさ、化粧崩れのしにくさ、総合評価で、良
いを評点５、やや良いを評点４、普通を評点３、やや悪
いを評点２、悪いを評点１とした五段階評価で行った。
結果は、全ての実施例のリップカラーにおいて比較例３
のリップカラーに比べ、全ての評価項目で評点が高かっ
た。その代表的な結果（実施例１２及び比較例３）を表
７に示す。
【０１４５】
【表７】
【０１４６】この結果より、本発明に用いるシリコーン
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のリップカ
ラーに比べ、実施例のリップカラーが撥水性をはじめと
する上記全ての評価項目において優れた官能を有するこ
とがわかる。更に、比較例３のリップカラーを塗布しそ
の上に市販の口紅オーバーコートを塗布した場合と実施
例９〜１２のリップカラーのみを塗布した場合とを対比
したところ、色移りのしにくさは比較例と従来品の組み
合わせよりも実施例のリップカラーの方が優っており、
本発明のリップカラーは一品にして、従来のリップカラ
ー及び口紅オーバーコートの二品の組み合わせ以上の機
能を有することがわかった。
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のリップカ
ラーに比べ、実施例のリップカラーが撥水性をはじめと
する上記全ての評価項目において優れた官能を有するこ
とがわかる。更に、比較例３のリップカラーを塗布しそ
の上に市販の口紅オーバーコートを塗布した場合と実施
例９〜１２のリップカラーのみを塗布した場合とを対比
したところ、色移りのしにくさは比較例と従来品の組み
合わせよりも実施例のリップカラーの方が優っており、
本発明のリップカラーは一品にして、従来のリップカラ
ー及び口紅オーバーコートの二品の組み合わせ以上の機
能を有することがわかった。
【０１４７】（４）ヘアブロースプレーの評価 実施例１３〜１６及び比較例４で得られたヘアブロース
プレーの官能評価を専門パネラー５名により行った。評
価項目は艶の持続性、水滴を落としたときの撥水性、櫛
通りのよさ、セットの崩れにくさ、総合評価で、良いを
評点５、やや良いを評点４、普通を評点３、やや悪いを
評点２、悪いを評点１とした五段階評価で行った。結果
は、全ての実施例のヘアブロースプレーにおいて比較例
４のヘアブロースプレーに比べ、全ての評価項目で評点
が高かった。その代表的な結果（実施例１４及び比較例
４）を表８に示す。
プレーの官能評価を専門パネラー５名により行った。評
価項目は艶の持続性、水滴を落としたときの撥水性、櫛
通りのよさ、セットの崩れにくさ、総合評価で、良いを
評点５、やや良いを評点４、普通を評点３、やや悪いを
評点２、悪いを評点１とした五段階評価で行った。結果
は、全ての実施例のヘアブロースプレーにおいて比較例
４のヘアブロースプレーに比べ、全ての評価項目で評点
が高かった。その代表的な結果（実施例１４及び比較例
４）を表８に示す。
【０１４８】
【表８】
【０１４９】この結果より、本発明に用いるシリコーン
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のヘアブロ
ースプレーに比べ、実施例のヘアブロースプレーが撥水
性をはじめとする上記全ての評価項目において優れた官
能を有することがわかる。また、実施例１３〜１６と比
較例４で得られたヘアブロースプレーの櫛通りのよさの
持続性について評価したところ、実施例のヘアブロース
プレーを使用したときの櫛通りのよさは、比較例のヘア
ブロースプレーを使用したときに比べ、長く持続した。
の代わりに従来のシリコーンを含する比較例のヘアブロ
ースプレーに比べ、実施例のヘアブロースプレーが撥水
性をはじめとする上記全ての評価項目において優れた官
能を有することがわかる。また、実施例１３〜１６と比
較例４で得られたヘアブロースプレーの櫛通りのよさの
持続性について評価したところ、実施例のヘアブロース
プレーを使用したときの櫛通りのよさは、比較例のヘア
ブロースプレーを使用したときに比べ、長く持続した。
【０１５０】これらの結果を総合的に評価すると、本発
明の化粧料は、従来のシリコーンを含有する化粧料に比
べ、撥水性、化粧持ちに優れると共に、肌や頭髪によく
なじんで滑らかさやしっとり感を与える効果に優れるこ
とがわかる。
明の化粧料は、従来のシリコーンを含有する化粧料に比
べ、撥水性、化粧持ちに優れると共に、肌や頭髪によく
なじんで滑らかさやしっとり感を与える効果に優れるこ
とがわかる。
【０１５１】
【発明の効果】本発明の化粧料は、通常化粧料に配合さ
れる多くの成分との相溶性に優れると共に、優れた撥水
性、柔軟性の被膜形成能を有するシリコーンを含有する
ので、多様な剤形を取ることが可能であり、撥水性に優
れ化粧持ちがよく、更に、肌や頭髪によくなじんで滑ら
かさやしっとり感を与える効果に優れる。
れる多くの成分との相溶性に優れると共に、優れた撥水
性、柔軟性の被膜形成能を有するシリコーンを含有する
ので、多様な剤形を取ることが可能であり、撥水性に優
れ化粧持ちがよく、更に、肌や頭髪によくなじんで滑ら
かさやしっとり感を与える効果に優れる。
Claims (9)
- 【請求項１】 一般式（I）： Ｑn（ＳｉＯ3/2）n （但し、Ｑnはｎ価の有機基を表し、またｎは２〜６の
整数のいずれか１つを表す。）で示されるユニットの少
なくとも１種を主構成ユニットとし、末端が式（II）： （Ｒ1）3ＳｉＯ1/2 （但し、Ｒ1は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ
素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのＲ1
の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基でな
ければならない。）で示されるユニット又は式（II
I）： （Ｒ2）3ＳｉＯ1/2 （但し、Ｒ2は互いに同一であっても異なっていてもよ
く、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素
原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表す。）で
示されるユニットで封鎖され、封鎖末端に式（II）で示
されるユニット及び式（III）で示されるユニットをそ
れぞれ少なくとも１つ有するシリコーンを含有する化粧
料。 - 【請求項２】 前記シリコーンが、主構成ユニットとし
て更にＳｉＯ2ユニットを、Ｑn（ＳｉＯ3/2）nで表され
るユニットに対してモル比３／２以下で含むシリコーン
である請求項１記載の化粧料。 - 【請求項３】 前記シリコーンにおける一般式（Ｉ）の
ｎが２、３、４の何れかである請求項１記載の化粧料。 - 【請求項４】 前記シリコーンにおける一般式（I）の
Ｑnが、１）アルキレン基；２）ポリメチレン基；３）
フェニレン基；４）アリーレン基；５）前記１）〜４）
の基の水素原子が更にアルキル基、フェニル基、アリー
ル基、アルキレン基、ポリメチレン基、フェニレン基及
びアリーレン基よりなる群の少なくとも１種で置換され
た基；６）前記１）〜４）の基の構造中にエーテル、チ
オエーテル、エステル、ケトン、アミド、イミド、アミ
ン及びイミンよりなる群の少なくとも１種の官能基を含
んだ基；及び７）前記１）〜６）の基の水素原子が塩素
原子又は臭素原子で置換された基；よりなる群の１種で
ある請求項１記載の化粧料。 - 【請求項５】 前記シリコーンにおける主構成ユニット
が、一般式（I）にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを
含む２価の有機基を導入したユニットを含むことを特徴
とする請求項１記載の化粧料。 - 【請求項６】 前記シリコーンにおける主構成ユニット
が、一般式（I）にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを
含む２価の有機基を導入したユニット及び一般式（I）
にＱnとしてジカルボン酸のジアミドを含む２価の有機
基以外の２価の有機基を導入したユニットからなること
を特徴とする請求項１記載の化粧料。 - 【請求項７】 前記シリコーンにおける一般式（II）の
Ｒ1が、アルキル基、フェニル基、アリール基及びこれ
らの基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換
された基よりなる群の１種である請求項１記載の化粧
料。 - 【請求項８】 前記シリコーンにおける一般式（III）
のＲ2が、アルキル基、フェニル基、アリール基及びこ
れらの基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭
素原子で置換された基よりなる群の１種である請求項１
記載の化粧料。 - 【請求項９】 前記シリコーンの含有量が、化粧料全量
に対して０．１〜８０重量％である請求項１〜８の何れ
か１項に記載の化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12546595A JP3558410B2 (ja) | 1995-05-24 | 1995-05-24 | シリコーン含有化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12546595A JP3558410B2 (ja) | 1995-05-24 | 1995-05-24 | シリコーン含有化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08319225A true JPH08319225A (ja) | 1996-12-03 |
| JP3558410B2 JP3558410B2 (ja) | 2004-08-25 |
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ID=14910766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12546595A Expired - Fee Related JP3558410B2 (ja) | 1995-05-24 | 1995-05-24 | シリコーン含有化粧料 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3558410B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10218725A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-18 | Shiseido Co Ltd | 固型状非水系粉末化粧料 |
| WO2008085455A1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Momentive Performance Materials Inc. | Silated cyclic core polysulfides, their preparation and use in filled elastomer compostions |
| WO2008085453A1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Momentive Performance Materials Inc. | Silated core polysulfides, their preparation and use in filled elastomer compositions |
-
1995
- 1995-05-24 JP JP12546595A patent/JP3558410B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10218725A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-18 | Shiseido Co Ltd | 固型状非水系粉末化粧料 |
| WO2008085455A1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Momentive Performance Materials Inc. | Silated cyclic core polysulfides, their preparation and use in filled elastomer compostions |
| WO2008085453A1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Momentive Performance Materials Inc. | Silated core polysulfides, their preparation and use in filled elastomer compositions |
| EP2829543A1 (en) * | 2006-12-28 | 2015-01-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Silated core polysulfides, their preparation and use in filled elastomer compositions |
| EP2829544A1 (en) * | 2006-12-28 | 2015-01-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Silated cyclic core polysulfides, their preparation and use in filled elastomer compositions |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3558410B2 (ja) | 2004-08-25 |
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