JPH0830920A - 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0830920A JPH0830920A JP16354694A JP16354694A JPH0830920A JP H0830920 A JPH0830920 A JP H0830920A JP 16354694 A JP16354694 A JP 16354694A JP 16354694 A JP16354694 A JP 16354694A JP H0830920 A JPH0830920 A JP H0830920A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- interlayer insulating
- thin
- insulating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は磁気ディスク等に用いる垂直磁気記録
用薄膜磁気ヘッドに関し、主磁極に高透磁率、高飽和磁
束密度の特性を有する磁性薄膜を用いると共に、薄膜コ
イルの層間絶縁膜にフォトレジストを用いて、ヘッド特
性の高性能化と低コスト化、量産性の向上の両立をはた
すことを目的とする。 【構成】磁性基板11上にフォトレジストからなる層間
絶縁膜13、第一、第二の薄膜コイル121,122、
層間絶縁膜13に設けられたコンタクトホールを介して
磁性基板11と磁気的に接続された磁気コア14からな
る補助磁極部10と、非磁性基板22上に主磁極21を
形成してなる主磁極部20が接着層23を介して接着一
体化された構成とする。
用薄膜磁気ヘッドに関し、主磁極に高透磁率、高飽和磁
束密度の特性を有する磁性薄膜を用いると共に、薄膜コ
イルの層間絶縁膜にフォトレジストを用いて、ヘッド特
性の高性能化と低コスト化、量産性の向上の両立をはた
すことを目的とする。 【構成】磁性基板11上にフォトレジストからなる層間
絶縁膜13、第一、第二の薄膜コイル121,122、
層間絶縁膜13に設けられたコンタクトホールを介して
磁性基板11と磁気的に接続された磁気コア14からな
る補助磁極部10と、非磁性基板22上に主磁極21を
形成してなる主磁極部20が接着層23を介して接着一
体化された構成とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハードディスクあるいは
フロッピーディスクドライブに用いられる垂直磁気記録
用の薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関するものであ
る。
フロッピーディスクドライブに用いられる垂直磁気記録
用の薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】コンピューターの外部記憶装置等に用い
られている磁気ディスクの高記録密度化を実現する方法
の一つとして垂直磁気記録方式が提案され、開発が盛ん
に行なわれている。
られている磁気ディスクの高記録密度化を実現する方法
の一つとして垂直磁気記録方式が提案され、開発が盛ん
に行なわれている。
【0003】垂直磁気記録における信号の記録再生メカ
ニズムを考えると記録密度はヘッド主磁極の形状及び性
能に依存するところが大きい。即ち、媒体の磁気ディス
クの半径方向の記録密度いわゆるトラック密度を上げる
には主磁極の幅を狭くする必要があり、ディスクの円周
方向の記録密度いわゆる線記録密度を上げるには主磁極
の厚みを薄くする必要がある。つまり高記録密度になる
ほど主磁極を細くかつ薄くする必要があり、主磁極の磁
路断面積を小さくせざるを得ない。このような背景の下
で主磁極の材料となる軟磁性薄膜の磁気特性に対する要
求も厳しくなっており、面内磁気記録用薄膜ヘッドの磁
気コア材として一般的に用いられているNiFe膜より
も高透磁率、高飽和磁束密度の磁気特性を有する軟磁性
薄膜を主磁極膜として用いる必要性が高まってきてい
る。
ニズムを考えると記録密度はヘッド主磁極の形状及び性
能に依存するところが大きい。即ち、媒体の磁気ディス
クの半径方向の記録密度いわゆるトラック密度を上げる
には主磁極の幅を狭くする必要があり、ディスクの円周
方向の記録密度いわゆる線記録密度を上げるには主磁極
の厚みを薄くする必要がある。つまり高記録密度になる
ほど主磁極を細くかつ薄くする必要があり、主磁極の磁
路断面積を小さくせざるを得ない。このような背景の下
で主磁極の材料となる軟磁性薄膜の磁気特性に対する要
求も厳しくなっており、面内磁気記録用薄膜ヘッドの磁
気コア材として一般的に用いられているNiFe膜より
も高透磁率、高飽和磁束密度の磁気特性を有する軟磁性
薄膜を主磁極膜として用いる必要性が高まってきてい
る。
【0004】主磁極にNiFe以外の磁性膜を用いた垂
直磁気記録用磁気ヘッドの例を図6に示す。図6は日本
応用磁気学会誌Vol.17,supplement,
No.S2,1993の216ページに示された垂直磁
気記録用薄膜磁気ヘッドの断面写真の模式図である。図
において主磁極31はイオンビームスパッタリング法で
形成された厚さ0.2μm、幅6μmのCoZrNb膜
である。また、34はめっき法で形成したNiFe膜か
らなる磁気コア(文献中ではリターンヨーク)、32
1,322はそれぞれ第一、第二の薄膜コイル、33は
アルミナ膜からなる層間絶縁膜である。なおアルミナ膜
からなる保護膜は図示していない。本従来例においては
主磁極31は磁場中で熱処理を施され適当な一軸異方性
を付与される。
直磁気記録用磁気ヘッドの例を図6に示す。図6は日本
応用磁気学会誌Vol.17,supplement,
No.S2,1993の216ページに示された垂直磁
気記録用薄膜磁気ヘッドの断面写真の模式図である。図
において主磁極31はイオンビームスパッタリング法で
形成された厚さ0.2μm、幅6μmのCoZrNb膜
である。また、34はめっき法で形成したNiFe膜か
らなる磁気コア(文献中ではリターンヨーク)、32
1,322はそれぞれ第一、第二の薄膜コイル、33は
アルミナ膜からなる層間絶縁膜である。なおアルミナ膜
からなる保護膜は図示していない。本従来例においては
主磁極31は磁場中で熱処理を施され適当な一軸異方性
を付与される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで先に述べたよ
うに垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおいては主磁極3
1に用いられる軟磁性薄膜には面内磁気記録用薄膜磁気
ヘッドに比べ、より良好な軟磁気特性が要求される。上
記従来例においては主磁極31にはCoZrNb膜を用
い、かつ磁場中熱処理をおこなって磁気異方性の制御を
行い、軟磁気特性の向上を図っている。しかしながらこ
の磁場中熱処理において十分な磁気異方性制御の効果を
得るには一般的にはフォトレジストの耐熱温度を超える
高温で熱処理をする必要があり、層間絶縁膜33にフォ
トレジストを用いることができず、かわりにスパッタ法
で形成したアルミナ膜を用いていた。しかしながら、ア
ルミナスパッタ膜は耐熱性に優れるもののフォトレジス
トと比べると成膜に時間がかかる上に一般的には段差被
覆性も劣っており、コスト、量産性、信頼性の面で問題
があった。
うに垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおいては主磁極3
1に用いられる軟磁性薄膜には面内磁気記録用薄膜磁気
ヘッドに比べ、より良好な軟磁気特性が要求される。上
記従来例においては主磁極31にはCoZrNb膜を用
い、かつ磁場中熱処理をおこなって磁気異方性の制御を
行い、軟磁気特性の向上を図っている。しかしながらこ
の磁場中熱処理において十分な磁気異方性制御の効果を
得るには一般的にはフォトレジストの耐熱温度を超える
高温で熱処理をする必要があり、層間絶縁膜33にフォ
トレジストを用いることができず、かわりにスパッタ法
で形成したアルミナ膜を用いていた。しかしながら、ア
ルミナスパッタ膜は耐熱性に優れるもののフォトレジス
トと比べると成膜に時間がかかる上に一般的には段差被
覆性も劣っており、コスト、量産性、信頼性の面で問題
があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおい
ては、層間絶縁膜の少なくとも一部ににフォトレジスト
を用いる構成とする。また同時に主磁極に高透磁率、高
飽和磁束密度の磁気特性を有する磁性薄膜を用いる構成
とする。
め、本発明に係る垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおい
ては、層間絶縁膜の少なくとも一部ににフォトレジスト
を用いる構成とする。また同時に主磁極に高透磁率、高
飽和磁束密度の磁気特性を有する磁性薄膜を用いる構成
とする。
【0007】また、主磁極部と補助磁極部をそれぞれ別
工程で形成し主磁極部にのみ磁場中熱処理を施した後、
主磁極部と補助磁極部を接着一体化して垂直磁気記録用
薄膜磁気ヘッドを得る。
工程で形成し主磁極部にのみ磁場中熱処理を施した後、
主磁極部と補助磁極部を接着一体化して垂直磁気記録用
薄膜磁気ヘッドを得る。
【0008】
【作用】本発明によれば層間絶縁膜の少なくとも一部に
フォトレジストを用いることによりコスト、量産性、信
頼性が向上する。また同時に主磁極に軟磁気特性の優れ
た磁性薄膜を用いることによるヘッドの特性の改善との
両立も可能になる。
フォトレジストを用いることによりコスト、量産性、信
頼性が向上する。また同時に主磁極に軟磁気特性の優れ
た磁性薄膜を用いることによるヘッドの特性の改善との
両立も可能になる。
【0009】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例について
詳細に説明する。図1及び図3から図5までの図面にお
いては素子の上面が媒体との対向面となるように描かれ
ている。
詳細に説明する。図1及び図3から図5までの図面にお
いては素子の上面が媒体との対向面となるように描かれ
ている。
【0010】初めに図1を用いて本発明の第一の実施例
について説明する。図1は本実施例の垂直磁気記録用薄
膜磁気ヘッドの構造を示す要部断面図である。11はN
i−ZnフェライトやMn−Znフェライト基板等の磁
性基板であり、この基板上にCu等の導電体からなる第
一の薄膜コイル121、フォトレジストからなる層間絶
縁膜13、第二の薄膜コイル122、フォトレジストか
らなる層間絶縁膜13が交互に積層形成される。次に層
間絶縁膜13にコンタクトホールを形成し、NiFe等
の磁性薄膜からなる磁気コア14が形成される。磁気コ
ア14はコンタクトホールを介して磁性基板11と磁気
的に接続され、補助磁極として動作する。さらにエポキ
シ樹脂、接着剤等から成る接着層23を介してCo系も
しくはFe系の磁性薄膜からなる主磁極21と非磁性基
板22からなる主磁極部20が形成される。
について説明する。図1は本実施例の垂直磁気記録用薄
膜磁気ヘッドの構造を示す要部断面図である。11はN
i−ZnフェライトやMn−Znフェライト基板等の磁
性基板であり、この基板上にCu等の導電体からなる第
一の薄膜コイル121、フォトレジストからなる層間絶
縁膜13、第二の薄膜コイル122、フォトレジストか
らなる層間絶縁膜13が交互に積層形成される。次に層
間絶縁膜13にコンタクトホールを形成し、NiFe等
の磁性薄膜からなる磁気コア14が形成される。磁気コ
ア14はコンタクトホールを介して磁性基板11と磁気
的に接続され、補助磁極として動作する。さらにエポキ
シ樹脂、接着剤等から成る接着層23を介してCo系も
しくはFe系の磁性薄膜からなる主磁極21と非磁性基
板22からなる主磁極部20が形成される。
【0011】次に図2を用いて本実施例の垂直磁気記録
用薄膜磁気ヘッドの製造工程について説明する。図2に
示すように主磁極部20と補助磁極部10は各々別基板
上に形成される。はじめに補助磁極部10の製造工程に
ついて説明する。まずMn−Znフェライト基板やNi
−Znフェライト基板等の磁性基板11上に回転塗布法
でフォトレジストを塗布し層間絶縁膜13を形成する。
その後、Cu,Al,Au等の導電膜をめっき法で形成
して第一の薄膜コイル121を得る。次に再び回転塗布
法でフォトレジストを塗布し層間絶縁膜13を形成した
後、第一の薄膜コイル121と同様の方法で第二の薄膜
コイル122を形成して再び層間絶縁膜13を形成した
後、コンタクトホールを形成する。次にNiFe膜をめ
っき法で形成し磁気コア14を得る。磁気コア14はコ
ンタクトホールを介して磁性基板11と磁気的に接続さ
れる。なお図示しないが磁気コア14の上にSiO2や
Al2O3、ポリイミド樹脂等からなる絶縁膜を保護膜
として形成しても良い。以上で素子形成工程は完了し、
ダイシングソーやワイヤーソー等を用いた機械加工によ
ってウエハーは切断されて各素子ごとに分離され、補助
磁極部10が得られる。次に主磁極部20の製造工程を
説明する。非磁性基板22上にスパッタリング法、蒸着
法あるいはメッキ法等の方法で主磁極膜を形成する。次
にイオンミリング法等のフォトリソグラフィー技術を用
いてパターニングし、主磁極21を得る。以上で主磁極
部20の素子形成工程が完了する。なお、主磁極21の
上に保護膜を形成しても良い。次に主磁極21の磁気特
性の向上を目的として磁場中で熱処理を行う。このとき
の熱処理温度、印加磁場強度、熱処理方法は主磁極膜に
応じた最適な条件が選択される。最後に補助磁極部同
様、機械加工によってウエハーは切断されて各素子ごと
に分離され、主磁極部20が得られる。主磁極膜には優
れた軟磁気特性が必要とされ、膜材料としてCoNbZ
r,CoTaZr等のCo系非晶質磁性膜、あるいはF
e系磁性膜等または磁性薄膜と非磁性薄膜との積層膜な
どが用いられる。また、熱処理工程とウエハー切断工程
は上記順序で行う必要はなく、工程順を入れ替えても構
わない。
用薄膜磁気ヘッドの製造工程について説明する。図2に
示すように主磁極部20と補助磁極部10は各々別基板
上に形成される。はじめに補助磁極部10の製造工程に
ついて説明する。まずMn−Znフェライト基板やNi
−Znフェライト基板等の磁性基板11上に回転塗布法
でフォトレジストを塗布し層間絶縁膜13を形成する。
その後、Cu,Al,Au等の導電膜をめっき法で形成
して第一の薄膜コイル121を得る。次に再び回転塗布
法でフォトレジストを塗布し層間絶縁膜13を形成した
後、第一の薄膜コイル121と同様の方法で第二の薄膜
コイル122を形成して再び層間絶縁膜13を形成した
後、コンタクトホールを形成する。次にNiFe膜をめ
っき法で形成し磁気コア14を得る。磁気コア14はコ
ンタクトホールを介して磁性基板11と磁気的に接続さ
れる。なお図示しないが磁気コア14の上にSiO2や
Al2O3、ポリイミド樹脂等からなる絶縁膜を保護膜
として形成しても良い。以上で素子形成工程は完了し、
ダイシングソーやワイヤーソー等を用いた機械加工によ
ってウエハーは切断されて各素子ごとに分離され、補助
磁極部10が得られる。次に主磁極部20の製造工程を
説明する。非磁性基板22上にスパッタリング法、蒸着
法あるいはメッキ法等の方法で主磁極膜を形成する。次
にイオンミリング法等のフォトリソグラフィー技術を用
いてパターニングし、主磁極21を得る。以上で主磁極
部20の素子形成工程が完了する。なお、主磁極21の
上に保護膜を形成しても良い。次に主磁極21の磁気特
性の向上を目的として磁場中で熱処理を行う。このとき
の熱処理温度、印加磁場強度、熱処理方法は主磁極膜に
応じた最適な条件が選択される。最後に補助磁極部同
様、機械加工によってウエハーは切断されて各素子ごと
に分離され、主磁極部20が得られる。主磁極膜には優
れた軟磁気特性が必要とされ、膜材料としてCoNbZ
r,CoTaZr等のCo系非晶質磁性膜、あるいはF
e系磁性膜等または磁性薄膜と非磁性薄膜との積層膜な
どが用いられる。また、熱処理工程とウエハー切断工程
は上記順序で行う必要はなく、工程順を入れ替えても構
わない。
【0012】最後に上記工程で得られた主磁極部20と
補助磁極部10を、補助磁極部10の磁性基板11と主
磁極部の主磁極21が磁気的に接続されるように両者を
接着一体化して図1に示す垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッ
ドを得る。この製造方法によれば補助磁極部の製造工程
には高温が加わらないので耐熱性の低いフォトレジスト
を層間絶縁膜13として用いることができる。
補助磁極部10を、補助磁極部10の磁性基板11と主
磁極部の主磁極21が磁気的に接続されるように両者を
接着一体化して図1に示す垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッ
ドを得る。この製造方法によれば補助磁極部の製造工程
には高温が加わらないので耐熱性の低いフォトレジスト
を層間絶縁膜13として用いることができる。
【0013】このようにして形成された垂直磁気記録用
薄膜磁気ヘッドの主磁極21は磁場中で熱処理を施され
ているため磁区構造が制御されて良好な軟磁気特性が得
られる一方、層間絶縁膜13にフォトレジストを用いて
いるので量産性及び段差被覆性に優れるという、性能面
とコスト面の両方に優れたヘッドを提供することが可能
になる。
薄膜磁気ヘッドの主磁極21は磁場中で熱処理を施され
ているため磁区構造が制御されて良好な軟磁気特性が得
られる一方、層間絶縁膜13にフォトレジストを用いて
いるので量産性及び段差被覆性に優れるという、性能面
とコスト面の両方に優れたヘッドを提供することが可能
になる。
【0014】また図中に示したように、磁気コア14の
パターン端部は媒体から遠ざかるに従ってパターン幅が
漸次広がるような斜め構造した方が磁気コア14の端部
に磁束が集中して媒体に不要な信号を書き込むのを避け
ることができるのでより望ましい。
パターン端部は媒体から遠ざかるに従ってパターン幅が
漸次広がるような斜め構造した方が磁気コア14の端部
に磁束が集中して媒体に不要な信号を書き込むのを避け
ることができるのでより望ましい。
【0015】次に図3を用いて本発明の第二の実施例に
ついて説明する。図3は本実施例の垂直磁気記録用薄膜
磁気ヘッドの要部断面図である。本実施例においては層
間絶縁膜はフォトレジストからなる層間絶縁膜131と
無機絶縁膜からなる層間絶縁膜132の2種類からなっ
ており、接着層23に面する部分すなわち主磁極部10
との接着面には無機絶縁膜からなる層間絶縁膜132の
みが露出する構造となっている。本実施例の構造はスル
ーホール形成と同時に主磁極部20との接着面になる部
分のフォトレジストからなる層間絶縁膜131を除去
し、その部分にSiO2やアルミナ等の無機絶縁膜をマ
スクスパッタ等の方法で選択的に形成することで得るこ
とができる。なおその他の部分の製造工程は上記第一の
実施例と同じであるので省略する。本実施例によれば補
助磁極部10の主磁極部20との接着面には無機絶縁膜
からなる層間絶縁膜132のみが露出するため接着時の
機械的強度が増すとともに接着後の経時劣化も少なくな
り、信頼性が向上する。
ついて説明する。図3は本実施例の垂直磁気記録用薄膜
磁気ヘッドの要部断面図である。本実施例においては層
間絶縁膜はフォトレジストからなる層間絶縁膜131と
無機絶縁膜からなる層間絶縁膜132の2種類からなっ
ており、接着層23に面する部分すなわち主磁極部10
との接着面には無機絶縁膜からなる層間絶縁膜132の
みが露出する構造となっている。本実施例の構造はスル
ーホール形成と同時に主磁極部20との接着面になる部
分のフォトレジストからなる層間絶縁膜131を除去
し、その部分にSiO2やアルミナ等の無機絶縁膜をマ
スクスパッタ等の方法で選択的に形成することで得るこ
とができる。なおその他の部分の製造工程は上記第一の
実施例と同じであるので省略する。本実施例によれば補
助磁極部10の主磁極部20との接着面には無機絶縁膜
からなる層間絶縁膜132のみが露出するため接着時の
機械的強度が増すとともに接着後の経時劣化も少なくな
り、信頼性が向上する。
【0016】次に図4を用いて本発明の第三の実施例に
ついて説明する。図4は本実施例の垂直磁気記録用薄膜
磁気ヘッドの要部断面図である。本発明においては無機
絶縁膜からなる層間絶縁膜132と磁気コア14によっ
てフォトレジストからなる層間絶縁膜131の全面が覆
われた構造となっている。本実施例の構造は上記第二の
実施例と同様にスルーホール形成と同時に主磁極部20
との接着面になる部分のフォトレジストからなる層間絶
縁膜131を除去した後SiO2やアルミナ等の無機絶
縁膜を全面に形成し磁気コア14が露出するまで平滑研
磨することで得られる。なおその他の部分の製造工程は
上記第一の実施例と同じであるので省略する。本実施例
によればフォトレジストからなる層間絶縁膜131の全
面が無機絶縁膜からなる層間絶縁膜132と磁気コア1
4によって覆われ、媒体対向面に機械的強度の弱いフォ
トレジストは露出せず、信頼性が向上する。
ついて説明する。図4は本実施例の垂直磁気記録用薄膜
磁気ヘッドの要部断面図である。本発明においては無機
絶縁膜からなる層間絶縁膜132と磁気コア14によっ
てフォトレジストからなる層間絶縁膜131の全面が覆
われた構造となっている。本実施例の構造は上記第二の
実施例と同様にスルーホール形成と同時に主磁極部20
との接着面になる部分のフォトレジストからなる層間絶
縁膜131を除去した後SiO2やアルミナ等の無機絶
縁膜を全面に形成し磁気コア14が露出するまで平滑研
磨することで得られる。なおその他の部分の製造工程は
上記第一の実施例と同じであるので省略する。本実施例
によればフォトレジストからなる層間絶縁膜131の全
面が無機絶縁膜からなる層間絶縁膜132と磁気コア1
4によって覆われ、媒体対向面に機械的強度の弱いフォ
トレジストは露出せず、信頼性が向上する。
【0017】次に図5を用いて本発明の第四の実施例に
ついて説明する。図5は本実施例の垂直磁気記録用薄膜
磁気ヘッドの要部断面図である。本実施例においては上
記第三の実施例と同様に無機絶縁膜からなる層間絶縁膜
132と磁気コア14がフォトレジストからなる層間絶
縁膜131の全面を覆う構造であり、さらに上記無機絶
縁膜からなる層間絶縁膜132の一部と上記磁気コア1
4の一部が膜厚方向に重なった構造となっている。この
重なり部分では上記磁気コア14の方が上記無機絶縁膜
からなる層間絶縁膜132より媒体に近い構造となって
いる。本実施例の構造はスルーホール形成と主磁極部2
0との接着面になる部分のフォトレジストからなる層間
絶縁膜131の除去を同時には行わず、まずフォトレジ
ストからなる層間絶縁膜131の除去を行った後無機絶
縁膜からなる層間絶縁膜132を全面に形成して平滑研
磨した後、スルーホール形成、磁気コア14の形成を行
うことで得ることができる。なおその他の部分の製造工
程は上記第一の実施例と同じであるので省略する。但し
前記平滑研磨は省略しても良い。本実施例によれば、磁
気コア14が媒体により近づいた構造になっており、記
録再生の効率が向上する。
ついて説明する。図5は本実施例の垂直磁気記録用薄膜
磁気ヘッドの要部断面図である。本実施例においては上
記第三の実施例と同様に無機絶縁膜からなる層間絶縁膜
132と磁気コア14がフォトレジストからなる層間絶
縁膜131の全面を覆う構造であり、さらに上記無機絶
縁膜からなる層間絶縁膜132の一部と上記磁気コア1
4の一部が膜厚方向に重なった構造となっている。この
重なり部分では上記磁気コア14の方が上記無機絶縁膜
からなる層間絶縁膜132より媒体に近い構造となって
いる。本実施例の構造はスルーホール形成と主磁極部2
0との接着面になる部分のフォトレジストからなる層間
絶縁膜131の除去を同時には行わず、まずフォトレジ
ストからなる層間絶縁膜131の除去を行った後無機絶
縁膜からなる層間絶縁膜132を全面に形成して平滑研
磨した後、スルーホール形成、磁気コア14の形成を行
うことで得ることができる。なおその他の部分の製造工
程は上記第一の実施例と同じであるので省略する。但し
前記平滑研磨は省略しても良い。本実施例によれば、磁
気コア14が媒体により近づいた構造になっており、記
録再生の効率が向上する。
【0018】これまでの実施例においては補助磁極部1
0の基板として磁性基板11を用いたが非磁性基板上に
磁性薄膜を形成したものもしくは磁性基板上に磁性薄膜
を形成したものを用いても上記実施例と同様の効果が得
られる。
0の基板として磁性基板11を用いたが非磁性基板上に
磁性薄膜を形成したものもしくは磁性基板上に磁性薄膜
を形成したものを用いても上記実施例と同様の効果が得
られる。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば主磁極に高透磁率、高飽
和磁束密度の磁気特性を有する磁性薄膜を用いることに
よるヘッドの記録再生特性の改善と、層間絶縁膜にフォ
トレジストを用いることによるコスト、量産性、信頼性
の確保の両立が可能になる。また層間絶縁膜をフォトレ
ジストと無機絶縁膜からなる構成とすることでフォトレ
ジストを用いることによる信頼性の低下を防止すること
ができる。
和磁束密度の磁気特性を有する磁性薄膜を用いることに
よるヘッドの記録再生特性の改善と、層間絶縁膜にフォ
トレジストを用いることによるコスト、量産性、信頼性
の確保の両立が可能になる。また層間絶縁膜をフォトレ
ジストと無機絶縁膜からなる構成とすることでフォトレ
ジストを用いることによる信頼性の低下を防止すること
ができる。
【図1】本発明の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの第一
の実施例を示す要部断面図である。
の実施例を示す要部断面図である。
【図2】本発明の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの製造
工程を説明する図である。
工程を説明する図である。
【図3】本発明の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの第二
の実施例を示す要部断面図である。
の実施例を示す要部断面図である。
【図4】本発明の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの第三
の実施例を示す要部断面図である。
の実施例を示す要部断面図である。
【図5】本発明の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの第四
の実施例を示す要部断面図である。
の実施例を示す要部断面図である。
【図6】従来の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドを説明す
るための要部断面図である。
るための要部断面図である。
10…補助磁極部、 11…磁性基板、 13,33…層間絶縁膜、 14,34…磁気コア、 20…主磁極部、 21,31…主磁極、 22…非磁性基板、 23…接着層、 121,321…第一の薄膜コイル、 122,322…第二の薄膜コイル、 131…フォトレジストからなる層間絶縁膜、 132…無機絶縁膜からなる層間絶縁膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴山 優子 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所映像メディア研究所内 (72)発明者 小西 捷雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所映像メディア研究所内 (72)発明者 植村 典夫 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号日立 金属株式会社内
Claims (8)
- 【請求項1】磁性体上に形成された第一の薄膜コイル
(121)、第二の薄膜コイル(122)及び層間絶縁
膜(13)、該磁性体に磁気的に接続された磁気コア
(14)、軟磁性薄膜からなる主磁極(21)を備えて
なる垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおいて、前記主磁
極(21)と前記層間絶縁膜(13)の間の少なくとも
一部に接着層(23)を有し、かつ層間絶縁膜(13)
がフォトレジストからなることを特徴とする垂直磁気記
録用薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項2】磁性体上に形成された第一の薄膜コイル
(121)、第二の薄膜コイル(122)及び層間絶縁
膜(13)、該磁性体に磁気的に接続された磁気コア
(14)、軟磁性薄膜からなる主磁極(21)、前記主
磁極(21)と前記層間絶縁膜(13)の間の少なくと
も一部に形成された接着層(23)を備えてなる垂直磁
気記録用薄膜磁気ヘッドにおいて、前記層間絶縁膜(1
3)がフォトレジストからなる層間絶縁膜(131)と
無機絶縁材からなる層間絶縁膜(132)の組合せから
なることを特徴とする垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項3】前記層間絶縁膜(13)のうち前記無機絶
縁材からなる層間絶縁膜(132)のみが前記接着層
(23)と接することを特徴とする請求項2記載の垂直
磁気記録用薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項4】前記フォトレジストからなる層間絶縁膜
(131)は前記無機絶縁材からなる層間絶縁膜(13
2)及び前記磁気コア(14)で全面覆われていること
を特徴とする請求項2又は請求項3記載の垂直磁気記録
用薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項5】前記磁気コア(14)の少なくとも一部と
前記無機絶縁材からなる層間絶縁膜(132)の少なく
とも一部が、前記磁気コア(14)の方が媒体対向面に
近くなるように重なりあう部分を有することを特徴とす
る請求項2、請求項3又は請求項4記載の垂直磁気記録
用薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項6】前記主磁極(21)はCo系またはFe系
磁性膜もしくは磁性膜と非磁性膜の積層膜からなること
を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記
載の垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項7】前記磁気コア(14)の幅が媒体対向面か
ら離れるに従って漸次広がることを特徴とする請求項1
から請求項6のいずれか1項に記載の垂直磁気記録用薄
膜磁気ヘッド。 - 【請求項8】磁性体上に形成された第一の薄膜コイル
(121)、第二の薄膜コイル(122)及び層間絶縁
膜(13)、該磁性体に磁気的に接続された磁気コア
(14)からなる補助磁極部(10)と、軟磁性薄膜か
らなる主磁極(21)からなる主磁極部(20)を備え
てなる垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドにおいて、前記主
磁極部(20)と前記補助磁極部(10)は別基板上に
形成され、かつ前記主磁極部(10)にのみ磁場中熱処
理を施して前記磁気コア(14)と前記主磁極(21)
が磁気的に結合するように補助磁極部(10)と主磁極
部(20)を貼りあわせて一体化してなることを特徴と
する垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16354694A JPH0830920A (ja) | 1994-07-15 | 1994-07-15 | 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16354694A JPH0830920A (ja) | 1994-07-15 | 1994-07-15 | 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0830920A true JPH0830920A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=15775954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16354694A Pending JPH0830920A (ja) | 1994-07-15 | 1994-07-15 | 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0830920A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7335517B2 (en) * | 1996-12-02 | 2008-02-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof |
-
1994
- 1994-07-15 JP JP16354694A patent/JPH0830920A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7335517B2 (en) * | 1996-12-02 | 2008-02-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof |
US7829975B2 (en) | 1996-12-02 | 2010-11-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof |
US8174093B2 (en) | 1996-12-02 | 2012-05-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof |
US8283755B2 (en) | 1996-12-02 | 2012-10-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multichip semiconductor device, chip therefor and method of formation thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5995342A (en) | Thin film heads having solenoid coils | |
JP4970744B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法並びにヘッドジンバルアセンブリおよびハードディスク装置 | |
JPH09120507A (ja) | 磁気ヘッド・アセンブリ | |
US4438471A (en) | Magnetic head for perpendicular magnetic recording system | |
US8139321B2 (en) | Perpendicular magnetic recording write head with improved laminated main pole | |
JP3394266B2 (ja) | 磁気書込/読取ヘッドの製造方法 | |
JPH04366411A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP3367877B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
US5247415A (en) | Magnetic head having main and auxiliary magnetic paths | |
JPH0830920A (ja) | 垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
EP0585930A2 (en) | Thin film magnetic head | |
JPH08106613A (ja) | 垂直磁気記録型薄膜磁気ヘッド | |
JP2002140803A (ja) | 磁気ヘッドおよび磁気ヘッドの製造方法およびこれを用いた磁気ディスク装置 | |
JP2002208114A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JPS60256907A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JPH069083B2 (ja) | 垂直磁気ヘッド | |
JP3611156B2 (ja) | 薄膜コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダー | |
JPH0234081B2 (ja) | Jikihetsudo | |
JPH07225918A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP2576536B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JPS60256903A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS60115014A (ja) | 垂直磁化用磁気ヘッド | |
JPH06243418A (ja) | 積層型磁気ヘッド | |
JPS61117714A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JPH06295418A (ja) | 複合型磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |