JPH08297813A - 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ及びその製造方法Info
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- JPH08297813A JPH08297813A JP10437195A JP10437195A JPH08297813A JP H08297813 A JPH08297813 A JP H08297813A JP 10437195 A JP10437195 A JP 10437195A JP 10437195 A JP10437195 A JP 10437195A JP H08297813 A JPH08297813 A JP H08297813A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐蝕性を有効に向上させると共に、これによ
って装置全体の耐久性向上を図った磁気ヘッドスライダ
及びその製造方法を提供すること。 【構成】 磁気ヘッド１３が取り付けられたスライダ本
体１２，２２と、このスライダ本体１２，２２の空気支
持面部ＡＢＳ面に装着されたスライダ保護膜１５，２５
とを備えている。そして、スライダ保護膜１５，２５
を、酸化シリコンからなる接着層とカーボン層とからな
る保護皮膜により構成した。また、その製法にあって
は、接着層とカーボン層を形成する前に，逆スパッタリ
ング法を用いてスライダ本体の空気支持面部をエッチン
グすることを特徴とする。
って装置全体の耐久性向上を図った磁気ヘッドスライダ
及びその製造方法を提供すること。 【構成】 磁気ヘッド１３が取り付けられたスライダ本
体１２，２２と、このスライダ本体１２，２２の空気支
持面部ＡＢＳ面に装着されたスライダ保護膜１５，２５
とを備えている。そして、スライダ保護膜１５，２５
を、酸化シリコンからなる接着層とカーボン層とからな
る保護皮膜により構成した。また、その製法にあって
は、接着層とカーボン層を形成する前に，逆スパッタリ
ング法を用いてスライダ本体の空気支持面部をエッチン
グすることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドスライダ及
びその製造方法に係り、とくに空気支持面（Air Bearin
g Surface ；ＡＢＳ面）に保護膜を備えた磁気ヘッドス
ライダ及びその製造方法に関する。
びその製造方法に係り、とくに空気支持面（Air Bearin
g Surface ；ＡＢＳ面）に保護膜を備えた磁気ヘッドス
ライダ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】比較的小型のコンピュータシステムの外
部記憶装置のひとつとして、固定ディスク装置がある。
この固定ディスク装置は、小型化，或いは大容量化の動
きを反映してますます高密度化が進展している。このよ
うな固定ディスク装置に用いられる磁気ヘッドには、薄
膜技術を利用した薄膜磁気ヘッド，更には高密度化対応
としての狭トラック化が容易なＭＲヘッド（複合型ヘッ
ド）等のヘッドなどが採用されている。
部記憶装置のひとつとして、固定ディスク装置がある。
この固定ディスク装置は、小型化，或いは大容量化の動
きを反映してますます高密度化が進展している。このよ
うな固定ディスク装置に用いられる磁気ヘッドには、薄
膜技術を利用した薄膜磁気ヘッド，更には高密度化対応
としての狭トラック化が容易なＭＲヘッド（複合型ヘッ
ド）等のヘッドなどが採用されている。
【０００３】図７に、この複合型ヘッドの概略断面図を
示す。この図７において、アルチック基板６１はスライ
ダー材として機能する。エレメントとスライダーの絶縁
のためのアルミナ層６２、ＮｉＦｅからなる下シールド
６３、磁気回路の開放部を形成するアルミナギャップ６
４、媒体からの情報を読み出すＭＲ素子部６５、ＭＲの
磁区制御を行うための反強磁性膜６６を備えている。そ
の上にアルミナ保護膜６８、上シールド６９を設け、書
き込みポール７０、ヘッド保護膜であるアルミナ保護膜
７１を形成し、複合型ヘッドとなる。
示す。この図７において、アルチック基板６１はスライ
ダー材として機能する。エレメントとスライダーの絶縁
のためのアルミナ層６２、ＮｉＦｅからなる下シールド
６３、磁気回路の開放部を形成するアルミナギャップ６
４、媒体からの情報を読み出すＭＲ素子部６５、ＭＲの
磁区制御を行うための反強磁性膜６６を備えている。そ
の上にアルミナ保護膜６８、上シールド６９を設け、書
き込みポール７０、ヘッド保護膜であるアルミナ保護膜
７１を形成し、複合型ヘッドとなる。
【０００４】このように基板上に集積化され形成された
複合型ヘッドは、一列ごと切断される。その後、一旦所
要のラップ仕上げが行われ、スロート高さ寸法に達す
る。ラップ仕上げされた面にレールパターンが作られ、
図８に示すように空気支持面（Air Bearing Surface ；
ＡＢＳ面）が形成される。符号７２はスライダー基板で
あり、符号７３は図８に示した複合磁気ヘッド部であ
り、符号７４はＡＢＳ面の保護膜である。この保護膜に
ついては、特開平４−３６４２１７号公報，特開平４−
２７６３６７号公報にて開示されている。
複合型ヘッドは、一列ごと切断される。その後、一旦所
要のラップ仕上げが行われ、スロート高さ寸法に達す
る。ラップ仕上げされた面にレールパターンが作られ、
図８に示すように空気支持面（Air Bearing Surface ；
ＡＢＳ面）が形成される。符号７２はスライダー基板で
あり、符号７３は図８に示した複合磁気ヘッド部であ
り、符号７４はＡＢＳ面の保護膜である。この保護膜に
ついては、特開平４−３６４２１７号公報，特開平４−
２７６３６７号公報にて開示されている。
【０００５】そして、ラップ仕上げされてからレールの
パターンを空気支持面に作る前に、スライダーの空気支
持面に薄い接着層と薄いアモルファス水素添加炭素層と
から構成される保護膜を形成することとしている。ま
た、薄い接着層はシリコンからなることを特徴としてお
り、その厚さは約１０〜５０オングストローム、薄いア
モルファス水素添加炭素層は２５０オングストローム以
下とされている。
パターンを空気支持面に作る前に、スライダーの空気支
持面に薄い接着層と薄いアモルファス水素添加炭素層と
から構成される保護膜を形成することとしている。ま
た、薄い接着層はシリコンからなることを特徴としてお
り、その厚さは約１０〜５０オングストローム、薄いア
モルファス水素添加炭素層は２５０オングストローム以
下とされている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気ディス
クの高密度化が進むにつれて、記録媒体とのインタフェ
ースは縮小される方向にあり、保護膜の厚さも薄くする
方向に向かってその開発が進められている。例えば、
「接着層＋アモルファス水素添加炭素層」の厚さは１０
０オングストローム以下と設定される。
クの高密度化が進むにつれて、記録媒体とのインタフェ
ースは縮小される方向にあり、保護膜の厚さも薄くする
方向に向かってその開発が進められている。例えば、
「接着層＋アモルファス水素添加炭素層」の厚さは１０
０オングストローム以下と設定される。
【０００７】一方、上記保護膜の薄膜化に際しては、従
来例における接着層およびアモルファス水素添加炭素層
をそのまま用いるのみでは、十分な耐蝕効果が得られな
いという不都合が生じていた。
来例における接着層およびアモルファス水素添加炭素層
をそのまま用いるのみでは、十分な耐蝕効果が得られな
いという不都合が生じていた。
【０００８】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに耐蝕性を有効に向上させると共に、こ
れによって装置全体の耐久性向上を図った磁気ヘッドス
ライダ及びその製造方法を提供することを目的とする。
を改善し、とくに耐蝕性を有効に向上させると共に、こ
れによって装置全体の耐久性向上を図った磁気ヘッドス
ライダ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、磁気ヘッドが取り付けられたスライダ本体と、この
スライダ本体の空気支持面部に装着されたスライダ保護
膜とを備えて成る磁気ヘッドスライダにおいて、スライ
ダ保護膜を、酸化シリコンからなる接着層とカーボン層
とからなる保護皮膜により構成する、という構成を採っ
ている。
は、磁気ヘッドが取り付けられたスライダ本体と、この
スライダ本体の空気支持面部に装着されたスライダ保護
膜とを備えて成る磁気ヘッドスライダにおいて、スライ
ダ保護膜を、酸化シリコンからなる接着層とカーボン層
とからなる保護皮膜により構成する、という構成を採っ
ている。
【００１０】請求項２記載の発明では、接着層の厚さを
１０〜５０オングストローム程度に設定する、という構
成を採っている。
１０〜５０オングストローム程度に設定する、という構
成を採っている。
【００１１】請求項３記載の発明では、カーボン層の厚
さを１０〜５０オングストローム程度に設定する、とい
う構成を採っている。
さを１０〜５０オングストローム程度に設定する、とい
う構成を採っている。
【００１２】請求項４記載の発明では、磁気ヘッドが取
り付けられたスライダ本体と、このスライダ本体の空気
支持面部に装着されたスライダ保護膜とを備えて成る磁
気ヘッドスライダにおいて、スライダ保護膜を、シリコ
ン層とカーボン層から構成される保護皮膜とすると共
に、シリコン層とカーボン層のシリコン組成比がカーボ
ン組成比に対して等倍以上からなる層とすると共に，前
記シリコン層とカーボン層から構成される層の空気支持
面側にカーボン層を配層する、という構成を採ってい
る。
り付けられたスライダ本体と、このスライダ本体の空気
支持面部に装着されたスライダ保護膜とを備えて成る磁
気ヘッドスライダにおいて、スライダ保護膜を、シリコ
ン層とカーボン層から構成される保護皮膜とすると共
に、シリコン層とカーボン層のシリコン組成比がカーボ
ン組成比に対して等倍以上からなる層とすると共に，前
記シリコン層とカーボン層から構成される層の空気支持
面側にカーボン層を配層する、という構成を採ってい
る。
【００１３】請求項５記載の発明では、前述した請求項
４記載において、シリコン層を８０オングストローム以
下とすると共に，カーボン層を２０オングストローム以
下とする、という構成を採っている。
４記載において、シリコン層を８０オングストローム以
下とすると共に，カーボン層を２０オングストローム以
下とする、という構成を採っている。
【００１４】請求項６記載の発明では、前述した請求項
１の磁気ヘッド支持用磁気ヘッドスライダーを形成する
工程において、接着層とカーボン層を形成する前に，逆
スパッタリング法を用いてスライダ本体の空気支持面部
をエッチングする、という構成を採っている。これによ
って前述した目的を達成しようとするものである。
１の磁気ヘッド支持用磁気ヘッドスライダーを形成する
工程において、接着層とカーボン層を形成する前に，逆
スパッタリング法を用いてスライダ本体の空気支持面部
をエッチングする、という構成を採っている。これによ
って前述した目的を達成しようとするものである。
【００１５】
【作 用】このため、シリコン酸化膜を接着層として採
用した試料において、交換バイアス量に変化が観測され
ないことから、その保護膜は十分に耐蝕効果があるとの
結果を得ることができた。
用した試料において、交換バイアス量に変化が観測され
ないことから、その保護膜は十分に耐蝕効果があるとの
結果を得ることができた。
【００１６】また、「カーボン２ｎｍ＋シリコン８ｎ
ｍ」の保護膜の試料では、その腐食電位が高くなってい
ることが実験的に確認され、これにより、耐蝕効果の十
分得られる膜であることが確認された。
ｍ」の保護膜の試料では、その腐食電位が高くなってい
ることが実験的に確認され、これにより、耐蝕効果の十
分得られる膜であることが確認された。
【００１７】更に、接着層とカーボン層を形成する前
に，逆スパッタリング法を用いてスライダ本体の空気支
持面部をエッチングする、という手法で作製された磁気
ヘッドスライダは、スライダ保護膜とＭＲヘッド部との
間に有機物や酸化物がないことから、信頼性に優れ且つ
耐久性も増大されたものとなっている。
に，逆スパッタリング法を用いてスライダ本体の空気支
持面部をエッチングする、という手法で作製された磁気
ヘッドスライダは、スライダ保護膜とＭＲヘッド部との
間に有機物や酸化物がないことから、信頼性に優れ且つ
耐久性も増大されたものとなっている。
【００１８】
【実施例１】以下、本発明の一実施例を図１乃至図２に
基づいて説明する。実施例１に基づいて実際の磁気ヘッ
ド付きのスライダーのＡＢＳ面に、スパッタリング法に
よってシリコン酸化膜を５０オングストローム，アモル
ファス水素添加炭素層，或いは水素添加ＤＬＣ（ダイヤ
モンドライクカーボン）膜を５０オングストローム形成
した。これにより、図１に示すように空気支持面（Air
Bearing Surface ；ＡＢＳ面）が形成される。
基づいて説明する。実施例１に基づいて実際の磁気ヘッ
ド付きのスライダーのＡＢＳ面に、スパッタリング法に
よってシリコン酸化膜を５０オングストローム，アモル
ファス水素添加炭素層，或いは水素添加ＤＬＣ（ダイヤ
モンドライクカーボン）膜を５０オングストローム形成
した。これにより、図１に示すように空気支持面（Air
Bearing Surface ；ＡＢＳ面）が形成される。
【００１９】この図１において、符号１２はスライダー
基板であり、符号１３は前述した従来例における複合磁
気ヘッド部と同一の複合磁気ヘッド部を示す。また、符
号１５は空気支持面（ＡＢＳ面）に付された５０オング
ストロームのＳｉＯ2 膜、５０オングストロームのアモ
ルファ水素添加炭素層或いは水素添加ＤＬＣ（ダイヤモ
ンドライクカーボン）膜等のスライダー保護膜である。
作製したスライダーの耐蝕性は良好であり、又動作時の
耐摩耗性も良好であった。
基板であり、符号１３は前述した従来例における複合磁
気ヘッド部と同一の複合磁気ヘッド部を示す。また、符
号１５は空気支持面（ＡＢＳ面）に付された５０オング
ストロームのＳｉＯ2 膜、５０オングストロームのアモ
ルファ水素添加炭素層或いは水素添加ＤＬＣ（ダイヤモ
ンドライクカーボン）膜等のスライダー保護膜である。
作製したスライダーの耐蝕性は良好であり、又動作時の
耐摩耗性も良好であった。
【００２０】ここで、上記スライダー保護膜１５の耐蝕
効果を確認するため、．１０〔ｍｍ〕×１０〔ｍｍ〕
程度のガラス基板にＭＲ部となるパーマロイ（ＮｉＦ
ｅ）、反強磁性膜ＦｅＭｎを順次積層し、その後、スパ
ッタリング法によってシリコン酸化膜を５０オングスト
ローム，アモルファス水素添加炭素層を５０オングスト
ローム形成したシート状の基板を、６０〔℃〕，７５
〔％R.H.〕の環境下にて約３００時間放置後の交換バイ
アス量について調べた。その結果を図２に示す。
効果を確認するため、．１０〔ｍｍ〕×１０〔ｍｍ〕
程度のガラス基板にＭＲ部となるパーマロイ（ＮｉＦ
ｅ）、反強磁性膜ＦｅＭｎを順次積層し、その後、スパ
ッタリング法によってシリコン酸化膜を５０オングスト
ローム，アモルファス水素添加炭素層を５０オングスト
ローム形成したシート状の基板を、６０〔℃〕，７５
〔％R.H.〕の環境下にて約３００時間放置後の交換バイ
アス量について調べた。その結果を図２に示す。
【００２１】同様に、．保護膜構成のみを変えた場合
の試料；ガラス基板にＭＲ部となるパーマロイ（ＮｉＦ
ｅ），反強磁性膜ＦｅＭｎを順次積層し、シリコン膜５
０オングストローム，アモルファス水素添加炭素層を５
０オングストロームの保護膜を設けた試料についても同
様の測定を行い比較評価した。その結果を同じく図２に
示す。
の試料；ガラス基板にＭＲ部となるパーマロイ（ＮｉＦ
ｅ），反強磁性膜ＦｅＭｎを順次積層し、シリコン膜５
０オングストローム，アモルファス水素添加炭素層を５
０オングストロームの保護膜を設けた試料についても同
様の測定を行い比較評価した。その結果を同じく図２に
示す。
【００２２】これによると、上記の「シリコン（5nm)
＋カーボン(5nm) 」の場合は交換バイアス量が約５０％
変化したのに対して、の「シリコン酸化膜（5nm)＋カ
ーボン（5nm)」の場合は「ほとんど変化なし」という結
果を得ることができた。
＋カーボン(5nm) 」の場合は交換バイアス量が約５０％
変化したのに対して、の「シリコン酸化膜（5nm)＋カ
ーボン（5nm)」の場合は「ほとんど変化なし」という結
果を得ることができた。
【００２３】このため、シリコン酸化膜を接着層として
採用した試料において、交換バイアス量に変化が観測さ
れないことから、その保護膜は十分に耐蝕効果があると
の結果を得ることができた。
採用した試料において、交換バイアス量に変化が観測さ
れないことから、その保護膜は十分に耐蝕効果があると
の結果を得ることができた。
【００２４】
【実施例２】次に、第２実施例を図３乃至図６に基づい
て説明する。この図３に示す第２実施例は、磁気ヘッド
付きのスライダーのＡＢＳ面に，スパッタリング法によ
りシリコン膜を８０オングストローム，アモルファス水
素添加炭素層或いは水素添加ＤＬＣカーボン（ダイヤモ
ンドライクカーボン）膜を２０オングストローム形成
し、これをスライダ保護膜とした。これにより、図３に
示すように空気支持面（Air Bearing Surface ；ＡＢＳ
面）が形成される。
て説明する。この図３に示す第２実施例は、磁気ヘッド
付きのスライダーのＡＢＳ面に，スパッタリング法によ
りシリコン膜を８０オングストローム，アモルファス水
素添加炭素層或いは水素添加ＤＬＣカーボン（ダイヤモ
ンドライクカーボン）膜を２０オングストローム形成
し、これをスライダ保護膜とした。これにより、図３に
示すように空気支持面（Air Bearing Surface ；ＡＢＳ
面）が形成される。
【００２５】この図３において、符号２２はスライダー
基板であり、符号２３は前述した従来例における複合磁
気ヘッド部と同一の複合磁気ヘッド部を示す。又、符号
２５は空気支持面（ＡＢＳ面）に付された８０オングス
トロームのシリコン膜、２０オングストロームのアモル
ファス水素添加炭素層或いは水素添加ＤＬＣカーボン
（ダイヤモンドライクカーボン）膜である。作製したス
ライダーの耐蝕性は良好であり、また、動作時の耐摩耗
性も良好であった。
基板であり、符号２３は前述した従来例における複合磁
気ヘッド部と同一の複合磁気ヘッド部を示す。又、符号
２５は空気支持面（ＡＢＳ面）に付された８０オングス
トロームのシリコン膜、２０オングストロームのアモル
ファス水素添加炭素層或いは水素添加ＤＬＣカーボン
（ダイヤモンドライクカーボン）膜である。作製したス
ライダーの耐蝕性は良好であり、また、動作時の耐摩耗
性も良好であった。
【００２６】ここで、上記スライダー保護膜１５の耐蝕
効果を確認するため、前述した実施例１の場合と同様に
ＭＲヘッド部の構成部をシート状のガラス基板に形成
し、複数の保護膜をそれぞれ形成した。実験に用いた保
護膜は「カーボン層２ｎｍ＋シリコン層８ｎｍ」、「カ
ーボン層５ｎｍ＋シリコン層５ｎｍ」、「カーボン層８
ｎｍ＋シリコン層２ｎｍ」の試料である。保護膜全体の
厚さを１０〔ｎｍ〕にし、カーボン層とシリコン層の厚
さをそれぞれ変化させた。
効果を確認するため、前述した実施例１の場合と同様に
ＭＲヘッド部の構成部をシート状のガラス基板に形成
し、複数の保護膜をそれぞれ形成した。実験に用いた保
護膜は「カーボン層２ｎｍ＋シリコン層８ｎｍ」、「カ
ーボン層５ｎｍ＋シリコン層５ｎｍ」、「カーボン層８
ｎｍ＋シリコン層２ｎｍ」の試料である。保護膜全体の
厚さを１０〔ｎｍ〕にし、カーボン層とシリコン層の厚
さをそれぞれ変化させた。
【００２７】そして、これらの試料を海水相当のＮａＣ
ｌ溶液に浸積し、膜の腐食電位について測定した結果を
図４に示す。
ｌ溶液に浸積し、膜の腐食電位について測定した結果を
図４に示す。
【００２８】この図４に示す結果より、「カーボン層５
ｎｍ＋シリコン層５ｎｍ」の保護膜の試料ではその腐食
電位が低く、耐蝕効果の小さいことがわかる。一方、
「カーボン層２ｎｍ＋シリコン層８ｎｍ」の保護膜の試
料では、その腐食電位が高くなっており、耐蝕効果の得
られる膜であることが確認された。
ｎｍ＋シリコン層５ｎｍ」の保護膜の試料ではその腐食
電位が低く、耐蝕効果の小さいことがわかる。一方、
「カーボン層２ｎｍ＋シリコン層８ｎｍ」の保護膜の試
料では、その腐食電位が高くなっており、耐蝕効果の得
られる膜であることが確認された。
【００２９】一方、両者の試験前のオージェ分析による
組成比について調べた結果を、図５図６に示す。図５は
「カーボン層５ｎｍ＋シリコン層５ｎｍ」の場合、図６
は「カーボン層２ｎｍ＋シリコン層８ｎｍ」の場合であ
る。
組成比について調べた結果を、図５図６に示す。図５は
「カーボン層５ｎｍ＋シリコン層５ｎｍ」の場合、図６
は「カーボン層２ｎｍ＋シリコン層８ｎｍ」の場合であ
る。
【００３０】図５に示す「カーボン層５ｎｍ＋シリコン
層５ｎｍ」の保護膜構成の場合、カーボンのシリコン層
への拡散のため、シリコン層の組成比がカーボン組成比
の半分程度になっていることがわかる。
層５ｎｍ」の保護膜構成の場合、カーボンのシリコン層
への拡散のため、シリコン層の組成比がカーボン組成比
の半分程度になっていることがわかる。
【００３１】同時に、図６の「カーボン層２ｎｍ＋シリ
コン層８ｎｍ」の場合、シリコン層の組成比がカーボン
組成比とほぼ同程度になっていることがわかった。
コン層８ｎｍ」の場合、シリコン層の組成比がカーボン
組成比とほぼ同程度になっていることがわかった。
【００３２】次に、上記各実施例における複合型ヘッド
を装備した磁気ヘッドスライダの製法について、説明す
る。
を装備した磁気ヘッドスライダの製法について、説明す
る。
【００３３】この場合、磁気ヘッドスライダに装備され
る複合型ヘッドは、前述した従来例における図７のもの
が使用される。具体的には、基板上に集積化され形成さ
れた図７に示す複合型ヘッドは、一列ごと切断される。
その後、一旦所要のラップ仕上げが行われ、スロート高
さ寸法に達する。そして、ラップ仕上げされた面に前述
した実施例１，２に示す保護膜を形成する直前に逆スパ
ッタリング法を用いて表面の有機物，酸化物などを除去
する。その後、前述した実施例１，２に示すように、そ
れぞれスライダ保護膜１５，２５を形成し、これによっ
て、磁気ヘッドスライダが作製される。
る複合型ヘッドは、前述した従来例における図７のもの
が使用される。具体的には、基板上に集積化され形成さ
れた図７に示す複合型ヘッドは、一列ごと切断される。
その後、一旦所要のラップ仕上げが行われ、スロート高
さ寸法に達する。そして、ラップ仕上げされた面に前述
した実施例１，２に示す保護膜を形成する直前に逆スパ
ッタリング法を用いて表面の有機物，酸化物などを除去
する。その後、前述した実施例１，２に示すように、そ
れぞれスライダ保護膜１５，２５を形成し、これによっ
て、磁気ヘッドスライダが作製される。
【００３４】この手法で作製された磁気ヘッドスライダ
は、スライダ保護膜１５（又は２５）とＭＲヘッド部と
の間に有機物や酸化物がないことから、信頼性に優れ且
つ耐久性も増大されたものとなっている。
は、スライダ保護膜１５（又は２５）とＭＲヘッド部と
の間に有機物や酸化物がないことから、信頼性に優れ且
つ耐久性も増大されたものとなっている。
【００３５】
【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、磁気ヘッドスライダ耐蝕性が改善
され、その耐久性を著しく向上させることができ、従っ
て、これに組み込まれた磁気ヘッドの耐久性および信頼
性を大幅に向上させることができるという従来にない優
れた磁気ヘッドスライダ及びその製造方法を提供するこ
とができる。
ので、これによると、磁気ヘッドスライダ耐蝕性が改善
され、その耐久性を著しく向上させることができ、従っ
て、これに組み込まれた磁気ヘッドの耐久性および信頼
性を大幅に向上させることができるという従来にない優
れた磁気ヘッドスライダ及びその製造方法を提供するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例である磁気ヘッドスライダを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図２】図１の実験結果の一例を示す図表である。
【図３】第２実施例を示す斜視図である。
【図４】図３の実施例における実験結果を示す線図であ
る。
る。
【図５】図３の実施例を説明するためのオージェ分析結
果を示す図表である。
果を示す図表である。
【図６】図３の実施例を説明するための他のオージェ分
析結果を示す図表である。
析結果を示す図表である。
【図７】従来例における複合型ヘッド部の概略断面図で
ある。
ある。
【図８】従来例における磁気ヘッドスライダを示す斜視
図である。
図である。
１２，２２ スライダ本体 １３ 磁気ヘッド １５，２５ スライダ保護膜
Claims (6)
- 【請求項１】 磁気ヘッドが取り付けられたスライダ本
体と、このスライダ本体の空気支持面部に装着されたス
ライダ保護膜とを備えて成る磁気ヘッドスライダにおい
て、 前記スライダ保護膜を、酸化シリコンからなる接着層と
カーボン層とからなる保護皮膜により構成したことを特
徴とする磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項２】 前記接着層の厚さを１０〜５０オングス
トローム程度に設定したことを特徴とする請求項１記載
の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項３】 前記カーボン層の厚さを１０〜５０オン
グストローム程度に設定したことを特徴とする請求項１
記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項４】 磁気ヘッドが取り付けられたスライダ本
体と、このスライダ本体の空気支持面部に装着されたス
ライダ保護膜とを備えて成る磁気ヘッドスライダにおい
て、 前記スライダ保護膜を、シリコン層とカーボン層から構
成される保護皮膜とすると共に、 前記シリコン層とカーボン層のシリコン組成比がカーボ
ン組成比に対して等倍以上からなる層と，前記シリコン
層とカーボン層から構成される層の空気支持面側にカー
ボン層を配層したことを特徴とする磁気ヘッドスライ
ダ。 - 【請求項５】 前記シリコン層を８０オングストローム
以下とすると共に，前記カーボン層を２０オングストロ
ーム以下としたことを特徴とする請求項４記載の磁気ヘ
ッドスライダ。 - 【請求項６】 前記請求項１の磁気ヘッド支持用磁気ヘ
ッドスライダーを形成する工程において、前記接着層と
カーボン層を形成する前に，逆スパッタリング法を用い
て前記スライダ本体の空気支持面部をエッチングするこ
とを特徴とした磁気ヘッドスライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10437195A JPH08297813A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10437195A JPH08297813A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08297813A true JPH08297813A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=14378942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10437195A Pending JPH08297813A (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08297813A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5986851A (en) * | 1997-08-15 | 1999-11-16 | Seagate Technology, Inc. | Selective carbon overcoat of the trailing edge of MR sliders |
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| US7308751B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-12-18 | Tdk Corporation | Magnetic head and method of manufacturing same, head suspension assembly and magnetic disk apparatus |
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- 1995-04-27 JP JP10437195A patent/JPH08297813A/ja active Pending
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