JPH0829757A - 表示素子 - Google Patents
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- JPH0829757A JPH0829757A JP6167094A JP16709494A JPH0829757A JP H0829757 A JPH0829757 A JP H0829757A JP 6167094 A JP6167094 A JP 6167094A JP 16709494 A JP16709494 A JP 16709494A JP H0829757 A JPH0829757 A JP H0829757A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コントラストを向上させ、視認性を向上させ
る。 【構成】 液晶及び高分子を互いに分散させ、可視光を
反射するように調節した組成物が、少なくとも電極を有
する２枚の基板間に挟持された表示素子において、画素
間に光吸収処理または遮光処理を施す。
る。 【構成】 液晶及び高分子を互いに分散させ、可視光を
反射するように調節した組成物が、少なくとも電極を有
する２枚の基板間に挟持された表示素子において、画素
間に光吸収処理または遮光処理を施す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ、テレビ
ジョン、時計機器、広告板、機器操作パネル等の情報表
示装置に用いる表示素子に関する。
ジョン、時計機器、広告板、機器操作パネル等の情報表
示装置に用いる表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年情報機器の小型携帯化が進行し、そ
れに登載する表示装置も省電力化が求められている。そ
こで最近、偏光板を用いない、明るい反射型表示装置が
開発されつつある。
れに登載する表示装置も省電力化が求められている。そ
こで最近、偏光板を用いない、明るい反射型表示装置が
開発されつつある。
【０００３】ＳＩＤ ９２ ＤＩＧＥＳＴ，ｐ．７５９
によれば、コレステリック液晶（カイラルネマティック
液晶）に少量の高分子前駆体を添加して紫外線で重合さ
せることで、高分子により安定化したコレステリック組
織が報告されている。これは適切なパルス電圧を印加し
て明状態（平面状組織）または暗状態（フォーカルコニ
ック組織）の書き込みを行うと、電場を切った状態でも
書き込み時の状態を保持する性質（メモリ機能）を有す
る反射型の表示素子である。
によれば、コレステリック液晶（カイラルネマティック
液晶）に少量の高分子前駆体を添加して紫外線で重合さ
せることで、高分子により安定化したコレステリック組
織が報告されている。これは適切なパルス電圧を印加し
て明状態（平面状組織）または暗状態（フォーカルコニ
ック組織）の書き込みを行うと、電場を切った状態でも
書き込み時の状態を保持する性質（メモリ機能）を有す
る反射型の表示素子である。
【０００４】このような方式は繰り返して走査する必要
がないため、比較的表示容量の大きな表示に適し、さら
に消費電力を低く抑えることが可能である。
がないため、比較的表示容量の大きな表示に適し、さら
に消費電力を低く抑えることが可能である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来技術は、画素電極をマトリクス状に配置した場合、画
素電極間に電界がかからない部分があるために、電界を
印加する前のメタリックな選択色（カイラル成分濃度に
より選択された可視光）が、表示素子を駆動したときに
も画素間に残ってしまい、その結果、コントラストが低
下する問題があった。
来技術は、画素電極をマトリクス状に配置した場合、画
素電極間に電界がかからない部分があるために、電界を
印加する前のメタリックな選択色（カイラル成分濃度に
より選択された可視光）が、表示素子を駆動したときに
も画素間に残ってしまい、その結果、コントラストが低
下する問題があった。
【０００６】本発明は、このような課題を解決するため
に行われたものであり、その目的とするところは、表側
基板の表示を行う画素以外の部分からの反射光を吸収す
る、または遮ることにより、コントラスト比が高い反射
型表示素子を提供するところにある。
に行われたものであり、その目的とするところは、表側
基板の表示を行う画素以外の部分からの反射光を吸収す
る、または遮ることにより、コントラスト比が高い反射
型表示素子を提供するところにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の表示素子は、液
晶及び高分子を互いに分散させ、可視光を反射するよう
に調節した組成物が、少なくとも電極を有する２枚の基
板間に挟持された表示素子において、画素間に光吸収処
理が施されていることを特徴とする。
晶及び高分子を互いに分散させ、可視光を反射するよう
に調節した組成物が、少なくとも電極を有する２枚の基
板間に挟持された表示素子において、画素間に光吸収処
理が施されていることを特徴とする。
【０００８】さらに、液晶及び高分子を互いに分散さ
せ、可視光を反射するように調節した組成物が、少なく
とも電極を有する２枚の基板間に挟持された表示素子に
おいて、画素間に遮光処理が施されていることを特徴と
する。
せ、可視光を反射するように調節した組成物が、少なく
とも電極を有する２枚の基板間に挟持された表示素子に
おいて、画素間に遮光処理が施されていることを特徴と
する。
【０００９】さらに、該液晶として、カイラルネマティ
ック液晶を用いたことを特徴とする。
ック液晶を用いたことを特徴とする。
【００１０】さらに、該高分子の前駆体として、紫外線
硬化型モノマーを用いたことを特徴とする。
硬化型モノマーを用いたことを特徴とする。
【００１１】さらに、可視光を反射するようにらせんピ
ッチを調節したことを特徴とする。
ッチを調節したことを特徴とする。
【００１２】
（実施例１）以下、本実施例では、画素間に光吸収層を
施した単純マトリクスによる構成を示す。図１は、本実
施例の表示素子の断面図を示した。表側基板は、基板１
０１上にＩＴＯをスパッタリングにより形成後、パター
ニングし、ストライプ状の電極１０２とした。つづい
て、有機レジスト（黒色）としてカラーモザイクＣＫ
（富士ハント社製）を、約５０００オングストロームス
ピンコーターにて塗布した後、パターニングにより、電
極１０２と電極１０８とが交差し表示が行われる画素以
外の部分にマトリクス状の光吸収層１０３を形成した。
つづいて、配向膜１０４としてポリイミドを形成し、ラ
ビング処理を施した。裏側の基板１０９上には、ＩＴＯ
の電極１０８が形成されており、配向膜１０７としてポ
リイミドを形成した後、ラビング処理を施した。これら
２枚の基板を空隙５μｍにて、基板周囲を貼り合わせ、
固定した。尚、ラビング方向は、基板間でほぼ平行にし
た。
施した単純マトリクスによる構成を示す。図１は、本実
施例の表示素子の断面図を示した。表側基板は、基板１
０１上にＩＴＯをスパッタリングにより形成後、パター
ニングし、ストライプ状の電極１０２とした。つづい
て、有機レジスト（黒色）としてカラーモザイクＣＫ
（富士ハント社製）を、約５０００オングストロームス
ピンコーターにて塗布した後、パターニングにより、電
極１０２と電極１０８とが交差し表示が行われる画素以
外の部分にマトリクス状の光吸収層１０３を形成した。
つづいて、配向膜１０４としてポリイミドを形成し、ラ
ビング処理を施した。裏側の基板１０９上には、ＩＴＯ
の電極１０８が形成されており、配向膜１０７としてポ
リイミドを形成した後、ラビング処理を施した。これら
２枚の基板を空隙５μｍにて、基板周囲を貼り合わせ、
固定した。尚、ラビング方向は、基板間でほぼ平行にし
た。
【００１３】次に、この基板間に封入する組成物につい
て説明する。ネマティク液晶としてＢＬ００８（メルク
社製）、カイラル成分としてＣＢ１５（メルク社製）と
Ｒ１０１１（メルク社製）との混合物、高分子前駆体と
してＭ２２０（東亜合成化学工業社製）、光重合開始剤
としてベンゾフェノンを用いた。
て説明する。ネマティク液晶としてＢＬ００８（メルク
社製）、カイラル成分としてＣＢ１５（メルク社製）と
Ｒ１０１１（メルク社製）との混合物、高分子前駆体と
してＭ２２０（東亜合成化学工業社製）、光重合開始剤
としてベンゾフェノンを用いた。
【００１４】ネマティック液晶７５重量％とカイラル成
分（重量比ＣＢ１５：Ｒ１０１１＝８５：１５混合物）
２５重量％とを混合し、緑色の可視光を選択反射するよ
うにカイラルピッチを調節し、カイラルネマティック液
晶とした。このカイラルネマティック液晶９８重量％に
対して高分子前駆体を１．５重量％になるように混合し
た。さらに光重合開始剤を高分子前駆体の１／２重量に
なるように添加した。次に、作製した空パネルに先に説
明した組成物を封入して、紫外線照射（３００ｎｍ〜４
００ｎｍ、３．８ｍＷ／ｃｍ２、１５分間、２０℃）に
より高分子前駆体を光重合させた。その後、基板１０９
の裏面に黒色の光吸収材１１０を配置し、本実施例の表
示素子を得た。
分（重量比ＣＢ１５：Ｒ１０１１＝８５：１５混合物）
２５重量％とを混合し、緑色の可視光を選択反射するよ
うにカイラルピッチを調節し、カイラルネマティック液
晶とした。このカイラルネマティック液晶９８重量％に
対して高分子前駆体を１．５重量％になるように混合し
た。さらに光重合開始剤を高分子前駆体の１／２重量に
なるように添加した。次に、作製した空パネルに先に説
明した組成物を封入して、紫外線照射（３００ｎｍ〜４
００ｎｍ、３．８ｍＷ／ｃｍ２、１５分間、２０℃）に
より高分子前駆体を光重合させた。その後、基板１０９
の裏面に黒色の光吸収材１１０を配置し、本実施例の表
示素子を得た。
【００１５】次に測定法について説明する。作製した表
示素子を図２に示したような光学系に配置して、電圧パ
ルスを印加して初期状態として明状態とした後、０Ｖか
ら５０Ｖまで順次パルスを印加して、パルス毎の１秒後
の応答を図３の実線に示した。次に同様にして暗状態と
した後、パルスを印加してパルス毎の１秒後の応答を図
３の破線に示した。ここで横軸は印加したパルスの波高
値であり、縦軸は白い紙を素子のかわりに配置した場合
の反射率を１００％としたときの素子の反射率を示して
おり、値が大きいほど明るく、小さいほど暗い。それぞ
れのパルスは交流矩形波で、印加時間は４０ｍＳとし
た。パルス印加時間はこれ以下だと駆動電圧が上昇し、
コントラストが低下する、これ以上だとちらつきが目立
つ。上記の方法で決定したパルス波高値（Ｖｒ）を明状
態に転移する電圧とし、パルス波高値（Ｖｓ）を暗状態
に転移する電圧とした。
示素子を図２に示したような光学系に配置して、電圧パ
ルスを印加して初期状態として明状態とした後、０Ｖか
ら５０Ｖまで順次パルスを印加して、パルス毎の１秒後
の応答を図３の実線に示した。次に同様にして暗状態と
した後、パルスを印加してパルス毎の１秒後の応答を図
３の破線に示した。ここで横軸は印加したパルスの波高
値であり、縦軸は白い紙を素子のかわりに配置した場合
の反射率を１００％としたときの素子の反射率を示して
おり、値が大きいほど明るく、小さいほど暗い。それぞ
れのパルスは交流矩形波で、印加時間は４０ｍＳとし
た。パルス印加時間はこれ以下だと駆動電圧が上昇し、
コントラストが低下する、これ以上だとちらつきが目立
つ。上記の方法で決定したパルス波高値（Ｖｒ）を明状
態に転移する電圧とし、パルス波高値（Ｖｓ）を暗状態
に転移する電圧とした。
【００１６】上記の方法により得られた表示素子をスタ
ティックで駆動したところ、コントラストが８であっ
た。本実施例では、画素電極間に光吸収層を配置しない
比較例１の表示素子（コントラスト５）に比べて、大幅
に視認性が向上した。
ティックで駆動したところ、コントラストが８であっ
た。本実施例では、画素電極間に光吸収層を配置しない
比較例１の表示素子（コントラスト５）に比べて、大幅
に視認性が向上した。
【００１７】基板に使用される材料は、ソーダガラス、
石英、無アルカリガラス、シリコン単結晶、サファイア
基板、熱硬化型高分子、熱可塑性高分子などが好ましく
使用される。高分子材料は、基板間に挟持される液晶及
び高分子に悪影響を及ぼさなければ特に制限されること
はなく、ＰＥＴ、ポリエーテルスルホン、エポキシ硬化
樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリルエーテル等が好まし
く使用される。
石英、無アルカリガラス、シリコン単結晶、サファイア
基板、熱硬化型高分子、熱可塑性高分子などが好ましく
使用される。高分子材料は、基板間に挟持される液晶及
び高分子に悪影響を及ぼさなければ特に制限されること
はなく、ＰＥＴ、ポリエーテルスルホン、エポキシ硬化
樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリルエーテル等が好まし
く使用される。
【００１８】光吸収層は、有機レジストとしたが、光吸
収能が高く、パターニング性の優れた材料が望ましい。
吸収波長は、可視光全域（黒）が望ましい。
収能が高く、パターニング性の優れた材料が望ましい。
吸収波長は、可視光全域（黒）が望ましい。
【００１９】配向膜は、ポリイミド膜としたが、他にＳ
ｉＯ斜方蒸着膜、ポリビニルアルコール等が使用でき
る。なお、ラビング角度は、本実施例に限定されない。
ｉＯ斜方蒸着膜、ポリビニルアルコール等が使用でき
る。なお、ラビング角度は、本実施例に限定されない。
【００２０】液晶は、通常の液晶表示素子に使用されて
いるものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にする
ためには、液晶の複屈折率異方性Δｎが、０．１５以上
が望ましい。
いるものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にする
ためには、液晶の複屈折率異方性Δｎが、０．１５以上
が望ましい。
【００２１】カイラル成分は、可視光を選択反射する濃
度で添加され、通常のＴＮ、ＳＴＮに使用されている材
料が、そのまま好ましく使用できる。その添加量は、カ
イラル成分のねじり力と目的とする表示色の反射波長に
より決定される。なお表示色については本実施例で示し
た緑色に限らず、青色、赤色などの可視光色であればよ
い。
度で添加され、通常のＴＮ、ＳＴＮに使用されている材
料が、そのまま好ましく使用できる。その添加量は、カ
イラル成分のねじり力と目的とする表示色の反射波長に
より決定される。なお表示色については本実施例で示し
た緑色に限らず、青色、赤色などの可視光色であればよ
い。
【００２２】高分子前駆体は、特に制限されないが、液
晶表示素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマーが望
ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、重合部が単官
能アクリレート、２官能アクリレートあるいは多官能ア
クリレートなどが好ましく使用される。またメタクリレ
ートでもよい。非重合部はアルキルまたはアルキルエー
テル鎖、またフッ素、ベンゼン環を複数含んでいてもよ
い。これらのモノマーには、カイラル性の成分を含むも
のでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他
のモノマーと混合した後、紫外線を照射し重合しても良
い。
晶表示素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマーが望
ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、重合部が単官
能アクリレート、２官能アクリレートあるいは多官能ア
クリレートなどが好ましく使用される。またメタクリレ
ートでもよい。非重合部はアルキルまたはアルキルエー
テル鎖、またフッ素、ベンゼン環を複数含んでいてもよ
い。これらのモノマーには、カイラル性の成分を含むも
のでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他
のモノマーと混合した後、紫外線を照射し重合しても良
い。
【００２３】（実施例２）以下、本実施例では、画素間
を遮光した単純マトリクスによる構成を示す。図４は、
本実施例の表示素子の断面図を示した。表側基板は、基
板４０１上にクロムをスパッタリングにより、約１００
０オングストローム形成した後、パターニングにより、
電極４０４と電極４０９とが交差し表示が行われる画素
以外の部分にマトリクス状の遮光層４０２を形成した。
つづいて、絶縁層４０３として二酸化ケイ素をスパッタ
リングにより約３０００オングストローム形成した。こ
の絶縁層上に、ＩＴＯをスパッタリングにより、約１０
００オングストローム形成した後、パターニングしスト
ライプ状の電極４０４とした。つづいて、配向膜４０５
としてポリイミドを形成した後、ラビング処理を施し
た。基板４１０上にはストライプ状のＩＴＯの電極４０
９が形成され、表面には配向膜４０８としてポリイミド
を形成した後、ラビング処理を施した。これら２枚の基
板を空隙５μｍにて、基板周囲を貼り合わせ、固定し
た。尚、ラビング方向は、基板間で平行とした。
を遮光した単純マトリクスによる構成を示す。図４は、
本実施例の表示素子の断面図を示した。表側基板は、基
板４０１上にクロムをスパッタリングにより、約１００
０オングストローム形成した後、パターニングにより、
電極４０４と電極４０９とが交差し表示が行われる画素
以外の部分にマトリクス状の遮光層４０２を形成した。
つづいて、絶縁層４０３として二酸化ケイ素をスパッタ
リングにより約３０００オングストローム形成した。こ
の絶縁層上に、ＩＴＯをスパッタリングにより、約１０
００オングストローム形成した後、パターニングしスト
ライプ状の電極４０４とした。つづいて、配向膜４０５
としてポリイミドを形成した後、ラビング処理を施し
た。基板４１０上にはストライプ状のＩＴＯの電極４０
９が形成され、表面には配向膜４０８としてポリイミド
を形成した後、ラビング処理を施した。これら２枚の基
板を空隙５μｍにて、基板周囲を貼り合わせ、固定し
た。尚、ラビング方向は、基板間で平行とした。
【００２４】この基板間に、実施例１と同様の組成物を
真空封入し、実施例１と同じ方法で紫外線を照射し、高
分子を析出させた。その後、基板４１０の裏面に黒色の
光吸収材４１１を配置し、本実施例の表示素子を得た。
真空封入し、実施例１と同じ方法で紫外線を照射し、高
分子を析出させた。その後、基板４１０の裏面に黒色の
光吸収材４１１を配置し、本実施例の表示素子を得た。
【００２５】こうして得られた液晶表示素子は、スタテ
ィック駆動にてコントラストが８であった。本実施例で
は、画素電極間に遮光層を配置しない比較例１の表示素
子（コントラスト５）に比べて、大幅に視認性が向上し
た。
ィック駆動にてコントラストが８であった。本実施例で
は、画素電極間に遮光層を配置しない比較例１の表示素
子（コントラスト５）に比べて、大幅に視認性が向上し
た。
【００２６】本実施例の基板に使用される材料は、ソー
ダガラス、石英、無アルカリガラス、シリコン単結晶、
サファイア基板、熱硬化型高分子、熱可塑性高分子など
が好ましく使用される。高分子材料は、基板間に挟持さ
れる液晶及び高分子に悪影響を及ぼさなければ特に制限
されることはなく、ＰＥＴ、ポリエーテルスルホン、エ
ポキシ硬化樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリルエーテル
等が好ましく使用される。
ダガラス、石英、無アルカリガラス、シリコン単結晶、
サファイア基板、熱硬化型高分子、熱可塑性高分子など
が好ましく使用される。高分子材料は、基板間に挟持さ
れる液晶及び高分子に悪影響を及ぼさなければ特に制限
されることはなく、ＰＥＴ、ポリエーテルスルホン、エ
ポキシ硬化樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリルエーテル
等が好ましく使用される。
【００２７】光遮光層は、クロムとしたが、光を遮光す
る金属材料であれば何でも良く、特にクロムに限定され
るものでない。
る金属材料であれば何でも良く、特にクロムに限定され
るものでない。
【００２８】配向膜は、ポリイミド膜としたが、他にＳ
ｉＯ斜方蒸着膜、ポリビニルアルコール等が使用でき
る。なお、ラビング角度は本実施例に限定されない。
ｉＯ斜方蒸着膜、ポリビニルアルコール等が使用でき
る。なお、ラビング角度は本実施例に限定されない。
【００２９】液晶は、通常の液晶表示素子に使用されて
いるものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にする
ためには、液晶の複屈折率異方性Δｎが、０．１５以上
が望ましい。
いるものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にする
ためには、液晶の複屈折率異方性Δｎが、０．１５以上
が望ましい。
【００３０】カイラル成分は、可視光を選択反射する濃
度で添加され、通常のＴＮ、ＳＴＮに使用されている材
料が、そのまま好ましく使用できる。その添加量は、カ
イラル成分のねじり力と目的とする表示色の反射波長に
より決定される。なお表示色については本実施例で示し
た緑色に限らず、青色、赤色などの可視光色であればよ
い。
度で添加され、通常のＴＮ、ＳＴＮに使用されている材
料が、そのまま好ましく使用できる。その添加量は、カ
イラル成分のねじり力と目的とする表示色の反射波長に
より決定される。なお表示色については本実施例で示し
た緑色に限らず、青色、赤色などの可視光色であればよ
い。
【００３１】高分子前駆体は、特に制限されないが、液
晶表示素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマーが望
ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、重合部が単官
能アクリレート、２官能アクリレートあるいは多官能ア
クリレートなどが好ましく使用される。またメタクリレ
ートでもよい。非重合部はアルキルまたはアルキルエー
テル鎖、またフッ素、ベンゼン環を複数含んでいてもよ
い。これらのモノマーには、カイラル性の成分を含むも
のでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他
のモノマーと混合した後、紫外線を照射し重合しても良
い。
晶表示素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマーが望
ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、重合部が単官
能アクリレート、２官能アクリレートあるいは多官能ア
クリレートなどが好ましく使用される。またメタクリレ
ートでもよい。非重合部はアルキルまたはアルキルエー
テル鎖、またフッ素、ベンゼン環を複数含んでいてもよ
い。これらのモノマーには、カイラル性の成分を含むも
のでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他
のモノマーと混合した後、紫外線を照射し重合しても良
い。
【００３２】（比較例１）以下、本比較例では、画素間
に光吸収層を施さない、画素間を遮光しない単純マトリ
クスによる構成を示す。図５は、本実施例の表示素子の
断面図を示した。表側の基板５０１上に、ＩＴＯをスパ
ッタリングにより形成後、パターニングしストライプ状
の電極５０２とした。つづいて、配向膜５０３としてポ
リイミドを形成した後、ラビング処理を施した。基板５
０８上にも同様に、ストライプ状のＩＴＯ電極５０７が
形成され、表面には配向膜５０６としてポリイミドを形
成した後、ラビング処理を施した。これら２枚の基板を
空隙５μｍにて、基板周囲を貼り合わせ、固定した。
尚、ラビング方向は、基板間で平行とした。
に光吸収層を施さない、画素間を遮光しない単純マトリ
クスによる構成を示す。図５は、本実施例の表示素子の
断面図を示した。表側の基板５０１上に、ＩＴＯをスパ
ッタリングにより形成後、パターニングしストライプ状
の電極５０２とした。つづいて、配向膜５０３としてポ
リイミドを形成した後、ラビング処理を施した。基板５
０８上にも同様に、ストライプ状のＩＴＯ電極５０７が
形成され、表面には配向膜５０６としてポリイミドを形
成した後、ラビング処理を施した。これら２枚の基板を
空隙５μｍにて、基板周囲を貼り合わせ、固定した。
尚、ラビング方向は、基板間で平行とした。
【００３３】この基板間に、実施例１と同様の組成物を
真空封入し、実施例１と同じ方法で紫外線を照射し、高
分子を析出させた。その後、基板５０８の裏面に黒色の
光吸収材５０９を配置し、本比較例の表示素子を得た。
真空封入し、実施例１と同じ方法で紫外線を照射し、高
分子を析出させた。その後、基板５０８の裏面に黒色の
光吸収材５０９を配置し、本比較例の表示素子を得た。
【００３４】こうして得られた液晶表示素子は、スタテ
ィック駆動にてコントラストが５であった。本比較例で
は、画素間に光吸収層を施さない、画素間を遮光しない
ため電界を印加する前のメタリックな選択色が、駆動し
たときにも画素電極間に残ってしまい、その結果、コン
トラストが低下する。
ィック駆動にてコントラストが５であった。本比較例で
は、画素間に光吸収層を施さない、画素間を遮光しない
ため電界を印加する前のメタリックな選択色が、駆動し
たときにも画素電極間に残ってしまい、その結果、コン
トラストが低下する。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように本発明の表示素子の
構成により、明るい反射型の表示素子が提供できた。特
に、光吸収層または遮光層を配置するという簡易な方法
により、従来問題となっていた、表側基板の画素間から
の反射を抑えることにより、コントラストを大幅に向上
した表示素子を提供することができた。
構成により、明るい反射型の表示素子が提供できた。特
に、光吸収層または遮光層を配置するという簡易な方法
により、従来問題となっていた、表側基板の画素間から
の反射を抑えることにより、コントラストを大幅に向上
した表示素子を提供することができた。
【図１】 本発明実施例１の表示素子の断面図である。
【図２】 本発明実施例１の測定に用いた光学系を示す
図である。
図である。
【図３】 本発明実施例１の表示素子の応答を示す図で
ある。
ある。
【図４】 本発明実施例２の表示素子の断面図である。
【図５】 本発明比較例１の表示素子の断面図である。
１０１ 基板 １０２ 電極 １０３ 光吸収層 １０４ 配向膜 １０５ 液晶／高分子 １０６ 空隙保持剤 １０７ 配向膜 １０８ 電極 １０９ 基板 １１０ 光吸収材 ２０１ 光源 ２０２ 表示素子 ２０３ 光吸収材 ２０４ 凸レンズ ２０５ 検出器 ４０１ 基板 ４０２ 遮光層 ４０３ 絶縁層 ４０４ 電極 ４０５ 配向膜 ４０６ 液晶／高分子 ４０７ 空隙保持剤 ４０８ 配向膜 ４０９ 電極 ４１０ 基板 ４１１ 光吸収材 ５０１ 基板 ５０２ 電極 ５０３ 配向膜 ５０４ 液晶／高分子 ５０５ 空隙保持材 ５０６ 配向膜 ５０７ 電極 ５０８ 基板 ５０９ 光吸収材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢崎 正幸 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 飯坂 英仁 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 山田 周平 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 液晶及び高分子を互いに分散させ、可視
光を反射するように調節した組成物が、少なくとも電極
を有する２枚の基板間に挟持された表示素子において、
画素間に光吸収処理が施されていることを特徴とする表
示素子。 - 【請求項２】 液晶及び高分子を互いに分散させ、可視
光を反射するように調節した組成物が、少なくとも電極
を有する２枚の基板間に挟持された表示素子において、
画素間に遮光処理が施されていることを特徴とする表示
素子。 - 【請求項３】 該液晶として、カイラルネマティック液
晶を用いたことを特徴とする請求項１または２記載の表
示素子。 - 【請求項４】 該高分子の前駆体として、紫外線硬化型
モノマーを用いたことを特徴とする請求項１または２記
載の表示素子。 - 【請求項５】 可視光を反射するようにらせんピッチを
調節したことを特徴とする請求項１または２、３、４記
載の表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6167094A JPH0829757A (ja) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | 表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6167094A JPH0829757A (ja) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | 表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829757A true JPH0829757A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=15843317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6167094A Pending JPH0829757A (ja) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | 表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829757A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6966696B1 (en) | 1998-10-24 | 2005-11-22 | The Procter & Gamble Company | Methods for laundering delicate garments in a washing machine |
| US6995124B1 (en) | 1998-10-24 | 2006-02-07 | The Procter & Gamble Company | Methods for laundering delicate garments in a washing machine |
| US7185380B2 (en) | 1998-10-24 | 2007-03-06 | The Procter & Gamble Company | Methods for laundering delicate garments in a washing machine comprising a woven acrylic coated polyester garment container |
-
1994
- 1994-07-19 JP JP6167094A patent/JPH0829757A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6966696B1 (en) | 1998-10-24 | 2005-11-22 | The Procter & Gamble Company | Methods for laundering delicate garments in a washing machine |
| US6995124B1 (en) | 1998-10-24 | 2006-02-07 | The Procter & Gamble Company | Methods for laundering delicate garments in a washing machine |
| US7185380B2 (en) | 1998-10-24 | 2007-03-06 | The Procter & Gamble Company | Methods for laundering delicate garments in a washing machine comprising a woven acrylic coated polyester garment container |
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