JPH08288068A - Organic electroluminescent element - Google Patents

Organic electroluminescent element

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JPH08288068A
JPH08288068A JP7089576A JP8957695A JPH08288068A JP H08288068 A JPH08288068 A JP H08288068A JP 7089576 A JP7089576 A JP 7089576A JP 8957695 A JP8957695 A JP 8957695A JP H08288068 A JPH08288068 A JP H08288068A
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JP
Japan
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electrode
transparent
organic
heat
organic layer
Prior art date
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Application number
JP7089576A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiromitsu Tanaka
洋充 田中
Kazuo Higuchi
和夫 樋口
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Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To effectively restrict the deterioration of an organic layer due to heat so as to improve the durability of an organic electroluminescent element. CONSTITUTION: A transparent first electrode 2, a heat radiating layer 3 made of the transparent material, which has a high heat conductivity and to which the P-type conductivity is given, an organic layer 4 made of the organic compound for emitting light with the application of voltage, and a second electrode 5 are laminated on a transparent substrate 1. Since the heat radiating layer 3, which has a high heat conductivity and to which the P-type conductivity is given, directly contacts the organic layer 4, heat can effectively escape from the organic layer 4, and the deterioration of the organic layer 4 due to the heat can be effectively restricted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は有機電界発光素子に関す
る。本発明の有機電界発光素子は、電気的に発光を起こ
すことのできる面状の発光体であることから、自動車の
フロントディスプレーなどの表示装置、液晶ディスプレ
ーのバックライトとして使用することができる。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an organic electroluminescent device. INDUSTRIAL APPLICABILITY Since the organic electroluminescent element of the present invention is a planar light-emitting body capable of electrically emitting light, it can be used as a display device such as a front display of an automobile and a backlight of a liquid crystal display.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機電界発光素子は強い蛍光をもつ有機
化合物固体に一対の電極を取り付けたもので、電圧の印
加によって発光する。一般に、有機電界発光素子は、図
4に示すように、透明ガラス基板81上に、透明電極
(ITO)82と、強い蛍光をもつ有機化合物固体より
なる発光層としての有機層83と、金属(Mg)電極8
4とが順に積層された構成を有している。この有機電界
発光素子の発光原理は以下の通りである。陽極から正孔
を、陰極から電子を注入すると、注入された正孔と電子
は固体中を移動し、衝突、再結合を起こして消滅する。
再結合により発生したエネルギーは蛍光分子の励起状態
の生成に使われて蛍光を発する。
2. Description of the Related Art An organic electroluminescence device is a solid organic compound having a strong fluorescence and a pair of electrodes attached thereto, and emits light when a voltage is applied. In general, as shown in FIG. 4, an organic electroluminescent device includes a transparent glass substrate 81, a transparent electrode (ITO) 82, an organic layer 83 made of an organic compound solid having strong fluorescence, and a metal ( Mg) electrode 8
4 has the structure laminated | stacked in order. The principle of light emission of this organic electroluminescent device is as follows. When holes are injected from the anode and electrons are injected from the cathode, the injected holes and electrons move in the solid, collide and recombine, and disappear.
The energy generated by the recombination is used to generate the excited state of the fluorescent molecule and emits fluorescence.

【0003】このような有機電界発光素子は、視野角の
制限がなく、また低電圧駆動、高速応答が可能であり、
液晶、プラズマディスプレー、無機ELディスプレーと
いった他の表示素子と比較して、ディスプレーとしての
優れた特性を持っている。しかしながら、有機電界発光
素子は寿命が短いという点が問題点として指摘されてい
る。有機電界発光素子の寿命が短い原因の一つとして、
熱劣化が考えられる。すなわち、駆動時の素子の発熱に
より素子の接合界面に剥離が起こったり、有機層83中
の有機物の熱により有機物の結晶構造の変化や有機物自
身の変質が起こり、有機層83が熱的に劣化したりす
る。
Such an organic electroluminescent device has no limitation on the viewing angle, can be driven at a low voltage, and can respond at high speed.
Compared with other display devices such as liquid crystal, plasma display and inorganic EL display, it has excellent characteristics as a display. However, it has been pointed out that the organic electroluminescent device has a short life. As one of the causes of the short life of the organic electroluminescence device,
Thermal deterioration is considered. That is, the heat generated in the element during driving causes peeling at the junction interface of the element, and the heat of the organic material in the organic layer 83 causes a change in the crystal structure of the organic material or the alteration of the organic material itself, and the organic layer 83 is thermally deteriorated. To do

【0004】そこで、有機電界発光素子の熱劣化を抑え
て長寿命化を図るべく、図5に示すように、ガラス基板
81と透明電極82との間や、あるいは金属電極84の
上に、ダイヤモンド、酸化ベリリウム(BeO)等の熱
伝導率の大きな物質よりなる放熱層85を組み込むこと
で熱を逃がし、素子の温度上昇を抑えるという手法が提
案されている(特開昭59−215694、特開平4−
129194、特開平5−101885)。
Therefore, in order to suppress the thermal deterioration of the organic electroluminescence device and prolong the life thereof, as shown in FIG. 5, a diamond is provided between the glass substrate 81 and the transparent electrode 82 or on the metal electrode 84. , A method of releasing heat by suppressing the temperature rise of the element by incorporating a heat dissipation layer 85 made of a material having a large thermal conductivity such as beryllium oxide (BeO) has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 59-215694, Japanese Patent Laid-Open No. 59-215694). 4-
129194, JP-A-5-101885).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記放
熱膜85と、最も発熱が大きな有機層83との間には、
透明電極82あるいは金属電極84が介在しており、放
熱層85と有機層83とは直接接していないことから、
放熱層85と有機層83との間の熱抵抗によって効率良
く熱を逃がすことができなかった。このため、素子の温
度上昇による素子の劣化を効率的に抑えることができな
かった。
However, between the heat dissipation film 85 and the organic layer 83 that generates the most heat,
Since the transparent electrode 82 or the metal electrode 84 is interposed and the heat dissipation layer 85 and the organic layer 83 are not in direct contact with each other,
Due to the thermal resistance between the heat dissipation layer 85 and the organic layer 83, heat could not be efficiently released. For this reason, it has not been possible to efficiently suppress deterioration of the element due to temperature rise of the element.

【0006】なお、有機層83の熱を放熱層85から効
率良く熱逃がすために放熱層85と有機層83とを直接
接触させることは、ダイヤモンド、酸化ベリリウム(B
eO)等が絶縁性物質であることから、電界発光の原理
自体が損なわれるため不可能である。本発明は上記実情
に鑑みてなされたものであり、有機層の熱劣化を効果的
に抑えて、有機電界発光素子の耐久性を向上させること
を解決すべき技術課題とするものである。
It is to be noted that direct contact between the heat dissipation layer 85 and the organic layer 83 in order to efficiently dissipate the heat of the organic layer 83 from the heat dissipation layer 85 is achieved by diamond, beryllium oxide (B).
Since eO) and the like are insulating substances, the principle of electroluminescence is impaired, which is not possible. The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is a technical problem to be solved that effectively suppresses thermal deterioration of an organic layer and improves durability of the organic electroluminescent element.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】発明者等は、ダイヤモン
ド膜やベリリウム膜は透明性、熱伝導性、成膜性が高く
有機電界発光素子の膜要素に適した条件を備えており、
このダイヤモンド膜等にもし導電性を付与せしめること
ができれば、それ自体を光透過側の電極としたり、ある
いは有機層と透明電極との間に挟んだりすることが可能
となることに着目し、その結果、例えばドーピング処
理、あるいは表面を水素プラズマ処理することにより導
電性を付与せしめたダイヤモンド膜等を電極材料として
用いれば有機電界発光素子の長寿命化に有効であること
を見い出し、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems The inventors have found that a diamond film or a beryllium film has high transparency, thermal conductivity, and film formability and is suitable for a film element of an organic electroluminescence device.
Focusing on that if it is possible to impart conductivity to this diamond film or the like, it is possible to use itself as an electrode on the light transmitting side, or to sandwich it between an organic layer and a transparent electrode. As a result, they have found that the use of a diamond film or the like, which has been given conductivity by, for example, doping treatment or hydrogen plasma treatment on the surface, as an electrode material is effective in extending the life of the organic electroluminescence device, and completed the present invention. did.

【0008】すなわち、本第1発明の有機電界発光素子
は、透明基板上に、透明第1電極と、高い熱伝導性を有
するとともにP型導電性が付与せしめられた透明材料で
構成された放熱層と、電圧の印加により発光する有機化
合物よりなる有機層と、第2電極とを順に積層してなる
ことを特徴とする。上記透明基板は特に限定されず、ガ
ラス基板、透明セラミックス基板、ダイヤモンド基板等
を用いることができる。
That is, the organic electroluminescent device according to the first aspect of the present invention includes a transparent substrate, a transparent first electrode, and a heat dissipating material formed of a transparent material having high thermal conductivity and P-type conductivity. It is characterized in that a layer, an organic layer made of an organic compound that emits light when a voltage is applied, and a second electrode are sequentially laminated. The transparent substrate is not particularly limited, and a glass substrate, a transparent ceramic substrate, a diamond substrate or the like can be used.

【0009】上記透明第1電極は、高い光透過性及び導
電性を有する電極のことであり、従来と同様、例えば金
の蒸着膜、ITO、ポリアニリンを用いることができ
る。上記電圧の印加により発光する有機化合物よりなる
有機層は特に限定されないが、一般に、電子輸送剤、発
光剤、ホール輸送剤、バインダー、あるいはこれらを兼
ね備えた有機物より構成され、単層あるいは多層からな
る数十から数百nmの均一厚みの薄膜とすることができ
る。
The transparent first electrode is an electrode having high light transmittance and conductivity, and for example, a vapor deposition film of gold, ITO or polyaniline can be used as in the conventional case. The organic layer made of an organic compound that emits light by applying the above voltage is not particularly limited, but is generally composed of an electron transporting agent, a light emitting agent, a hole transporting agent, a binder, or an organic material having these in combination, and is composed of a single layer or multiple layers. A thin film having a uniform thickness of several tens to several hundreds of nm can be formed.

【0010】上記第2電極は、透明電極あるいは不透明
電極のいずれでもよく、一般に、Mg、Ag、Mg−A
g等の金属電極を用いることができる。本第1発明にお
いては、透明第1電極と有機層との間に、高い熱伝導性
を有するとともにP型導電性が付与せしめられた透明材
料で構成された放熱層が介在されている。この高い熱伝
導性を有するとともにP型導電性が付与せしめられた透
明材料の好適な態様として、ドーピング処理又は水素プ
ラズマ処理によりP型導電性が付与せしめられたダイヤ
モンドを挙げることができる。すなわち、ダイヤモンド
膜の全体あるいは一部をP型導電性を付与せしめること
のできる元素(例えば、ホウ素)でドーピング処理する
か、ダイヤモンド膜の表面あるいは全体を水素プラズマ
処理することにより、ダイヤモンド膜にP型導電性を付
与せしめることができる。
The second electrode may be a transparent electrode or an opaque electrode, and is generally Mg, Ag, Mg-A.
A metal electrode such as g can be used. In the first aspect of the present invention, the heat dissipation layer made of a transparent material having high thermal conductivity and imparting P-type conductivity is interposed between the transparent first electrode and the organic layer. As a preferable embodiment of the transparent material having the high thermal conductivity and the P-type conductivity, diamond having the P-type conductivity by the doping treatment or the hydrogen plasma treatment can be mentioned. That is, the diamond film is entirely or partially doped with an element (for example, boron) capable of imparting P-type conductivity, or the surface or the whole of the diamond film is subjected to hydrogen plasma treatment, so that the diamond film is P-doped. Mold conductivity can be imparted.

【0011】また本第2発明の有機電界発光素子は、透
明基板上に、高い熱伝導性を有するとともにP型導電性
が付与せしめられた透明材料で構成された熱伝導性透明
第1電極と、電圧の印加により発光する有機化合物より
なる有機層と、第2電極とを順に積層してなることを特
徴とする。本第2発明の有機電界発光素子を構成する透
明基板、有機層及び第2電極は、前記第1発明の有機電
界発光素子のものとそれぞれ同様のものを用いることが
できる。
The organic electroluminescent device of the second invention comprises a heat-conductive transparent first electrode made of a transparent material having high heat conductivity and P-type conductivity provided on a transparent substrate. An organic layer made of an organic compound that emits light when a voltage is applied, and a second electrode are sequentially stacked. As the transparent substrate, the organic layer and the second electrode constituting the organic electroluminescent device of the second invention, the same ones as those of the organic electroluminescent device of the first invention can be used.

【0012】本第2発明においては、従来ITO電極等
で構成されていた透明電極の代わりに、高い熱伝導性を
有するとともにP型導電性が付与せしめられた透明材料
で構成された熱伝導性透明第1電極を用いている。この
高い熱伝導性を有するとともにP型導電性が付与せしめ
られた透明材料の好適な態様として、上記第1発明と同
様に、ドーピング処理又は水素プラズマ処理によりP型
導電性が付与せしめられたダイヤモンドを挙げることが
できる。
In the second aspect of the present invention, instead of the transparent electrode which is conventionally composed of the ITO electrode or the like, the thermal conductivity which is composed of the transparent material having high thermal conductivity and imparted with P-type conductivity is used. The transparent first electrode is used. As a preferred embodiment of the transparent material having the high thermal conductivity and the P-type conductivity, a diamond having the P-type conductivity by the doping treatment or the hydrogen plasma treatment is provided as in the first invention. Can be mentioned.

【0013】[0013]

【作用】本第1発明の有機電界発光素子は、透明第1電
極と有機層との間に、高い熱伝導性を有するとともにP
型導電性が付与せしめられた透明材料で構成された放熱
層が介在されている。また本第2発明の有機電界発光素
子は、従来ITO電極等で構成されていた透明電極の代
わりに、高い熱伝導性を有するとともにP型導電性が付
与せしめられた透明材料で構成された熱伝導性透明第1
電極を用いている。このように、本第1発明及び第2発
明の有機電界発光素子では、高い熱伝導性を有する放熱
層あるいは熱伝導性透明第1電極が直接有機層と接触し
ているので、有機層から効率良く熱が外に逃がされ、有
機層の温度が抑えられるために有機層の熱的な劣化を効
果的に抑えることができる。
The organic electroluminescent device of the first invention has a high thermal conductivity between the transparent first electrode and the organic layer and P
A heat radiating layer made of a transparent material provided with mold conductivity is interposed. In addition, the organic electroluminescent element of the second aspect of the present invention is made of a transparent material, which has high thermal conductivity and is imparted with P-type conductivity, instead of the transparent electrode which is conventionally composed of an ITO electrode or the like. Conductive transparent first
It uses electrodes. As described above, in the organic electroluminescent device of the first and second aspects of the present invention, the heat dissipation layer having high thermal conductivity or the heat conductive transparent first electrode is in direct contact with the organic layer. The heat is well radiated to the outside and the temperature of the organic layer is suppressed, so that the thermal deterioration of the organic layer can be effectively suppressed.

【0014】また、高い熱伝導性を有するとともにP型
導電性が付与せしめられた透明材料として、ドーピング
処理を施したダイヤモンドを用いた場合、従来電極材料
として使用されてきたITOと比較してフェルミ準位の
エネルギー準位が5.2eVと低い(ITOは4.8e
V)ために、有機層に対するホールの注入がより容易と
なる。このため、従来、価電子帯のエネルギー準位が低
すぎるためにホール注入物質として使用できなかった有
機物質、例えばPBO(t−ブチルフェニルビフェニル
オキサジアゾール)やAlq3(トリス(δ−キノリノ
ール)アルミニウム)をホール注入物質として使用する
ことが可能となる。さらに、電極からのホール注入効率
も向上する。
Further, in the case of using doped diamond as a transparent material having high thermal conductivity and P-type conductivity, Fermi is used as compared with ITO which has been conventionally used as an electrode material. The energy level of the energy level is as low as 5.2 eV (ITO is 4.8 eV).
V) makes it easier to inject holes into the organic layer. Therefore, organic substances such as PBO (t-butylphenylbiphenyl oxadiazole) and Alq3 (tris (δ-quinolinol) aluminum, which cannot be used as a hole injecting substance because the energy level in the valence band is too low, have been used. ) Can be used as a hole injecting material. Further, the efficiency of hole injection from the electrodes is also improved.

【0015】[0015]

【実施例】【Example】

(実施例1)図1に示す本実施例の有機電界発光素子
は、透明基板1上に、透明第1電極2と、高い熱伝導性
を有するとともにP型導電性が付与せしめられた透明材
料、すなわちホウ素をドーピングしたダイヤモンド膜よ
りなる放熱層3と、電圧の印加により発光する有機化合
物よりなる有機層4と、第2金属電極5とを順に積層し
てなるものである。
(Example 1) The organic electroluminescent device of this example shown in FIG. 1 is a transparent material having a transparent first electrode 2 on a transparent substrate 1 and high thermal conductivity and P-type conductivity. That is, the heat dissipation layer 3 made of a diamond film doped with boron, the organic layer 4 made of an organic compound that emits light when a voltage is applied, and the second metal electrode 5 are sequentially laminated.

【0016】以下、本実施例の有機電界発光素子の構成
について、その製造方法とともに詳述する。透明基板1
は厚さ0.5mmの石英ガラスよりなり、この透明基板
1上に真空蒸着法により、ITO電極よりなる膜厚10
0nmの透明第1電極2を成膜した。そして、透明第1
電極2の上に、ホウ素をドーピングしたダイヤモンド膜
よりなる放熱層3を成膜した。放熱層3の作製は、マイ
クロ波プラズマCVD法により行った。
The structure of the organic electroluminescent device of this example will be described in detail below along with its manufacturing method. Transparent substrate 1
Is made of quartz glass having a thickness of 0.5 mm, and a film thickness of ITO electrode 10 is formed on the transparent substrate 1 by a vacuum deposition method.
The transparent 1st electrode 2 of 0 nm was formed into a film. And the transparent first
A heat dissipation layer 3 made of a diamond film doped with boron was formed on the electrode 2. The heat dissipation layer 3 was manufactured by the microwave plasma CVD method.

【0017】すなわち、水素とメタン(CH4/H2
1.5%)の混合ガスに、B2 6 (ジボラン)をCH
4 (メタン)に対して167ppm混合したガスを、透
明第1電極2が成膜された透明基板1をセットした反応
容器中に導入した。そして、40Torrで300W、
2.45GHzのマイクロ波を2時間照射する条件で、
透明第1電極2の上に、ホウ素をドーピングしたダイヤ
モンド膜を堆積させて放熱層3を成膜した。この放熱層
3の厚みは0.9μm、ホウ素濃度は、5×10 20cm
-3、抵抗率は3×10-3Ωcmであった。
That is, hydrogen and methane (CHFour/ H2=
1.5%) mixed gas, B2H6CH (diborane)
FourGas mixed with 167 ppm of (methane)
Reaction of setting transparent substrate 1 on which first electrode 2 is formed
It was introduced into the container. And 300W at 40 Torr,
Under the condition that the microwave of 2.45 GHz is irradiated for 2 hours,
A diamond doped with boron on the transparent first electrode 2.
A heat dissipation layer 3 was formed by depositing a Mondo film. This heat dissipation layer
3 has a thickness of 0.9 μm and a boron concentration of 5 × 10 20cm
-3, Resistivity is 3 × 10-3It was Ωcm.

【0018】次いで、透明第1電極2及び放熱層3が成
膜された透明基板1をアセトン、純水で洗浄して有機層
4の蒸着に供した。まず、TPD(テトラフェニルベン
ジジン)を真空蒸着した。なお、蒸着時の圧力は1×1
-5Pa、膜厚は50nm、製膜速度は5nm/min
とした。引き続きこの上に、Alq3(トリス(δ−キ
ノリノール)アルミニウム)を真空蒸着した。なお、蒸
着時の圧力は1×10 -5Pa、膜厚は50nm、製膜速
度は5nm/minとした。これにより、放熱層3の上
に、電圧の印加により発光する有機化合物(TPD及び
Alq3)よりなる有機層4を成膜した。
Next, the transparent first electrode 2 and the heat dissipation layer 3 are formed.
The transparent substrate 1 on which the film is formed is washed with acetone and pure water to form an organic layer.
4 was subjected to vapor deposition. First, TPD (tetraphenylben
Dizine) was vacuum-deposited. The pressure during vapor deposition is 1 x 1
0-FivePa, film thickness 50 nm, film formation speed 5 nm / min
And Subsequently, Alq3 (tris (δ-key
Norinol) aluminum) was vacuum deposited. In addition, steam
The pressure when wearing is 1 x 10 -FivePa, film thickness is 50 nm, film formation speed
The degree was 5 nm / min. As a result, on the heat dissipation layer 3
In addition, organic compounds (TPD and
An organic layer 4 made of Alq3) was formed.

【0019】その後、Mg−Ag合金を10:1の割合
で二元蒸着法によって共蒸着した。蒸着時の圧力は1×
10-5Pa、膜厚は200nmとした。これにより、有
機層4の上に、Mg−Ag合金よりなる第2金属電極5
を成膜した。以上のように作製した本実施例の有機電界
発光素子は、電圧の印加によって緑色に発光した。電流
密度50mA/cm2 における発光輝度は500cd/
2であり、十分な電界発光性能が確保されていた。本
実施例では、高熱伝導性を有するとともにP型導電性が
付与せしめられた透明材料として、ドーピング処理を施
したダイヤモンドを用いているので、従来電極材料とし
て使用されてきたITOと比較してフェルミ準位のエネ
ルギー準位が5.2eVと低く(ITOは4.8e
V)、有機層に対するホールの注入がより容易となった
ため、500cd/m2 と高い発光輝度を示したものと
考えられる。
Thereafter, a Mg-Ag alloy was co-deposited at a ratio of 10: 1 by a binary vapor deposition method. Deposition pressure is 1 ×
The film thickness was 10 −5 Pa and the film thickness was 200 nm. As a result, the second metal electrode 5 made of a Mg—Ag alloy is formed on the organic layer 4.
Was deposited. The organic electroluminescent element of this example manufactured as described above emitted green light when a voltage was applied. The emission luminance at a current density of 50 mA / cm 2 is 500 cd /
It was m 2 , and sufficient electroluminescence performance was secured. In this embodiment, since the diamond that has been subjected to the doping treatment is used as the transparent material having high thermal conductivity and P-type conductivity, Fermi is used as compared with ITO which has been conventionally used as an electrode material. The energy level of the energy level is as low as 5.2 eV (4.8 e for ITO).
V), since it became easier to inject holes into the organic layer, it is considered that a high emission luminance of 500 cd / m 2 was exhibited.

【0020】また、発光輝度の半減期は200時間であ
った。これは、後述する比較例よりも有機層4の熱劣化
が遅いためである。 (実施例2)本実施例の有機電界発光素子は、放熱層3
を構成する、高熱伝導性を有するとともにP型導電性が
付与せしめられた透明材料として、ホウ素をドーピング
したダイヤモンド膜の代わりに、水素プラズマ処理した
ダイヤモンド膜を用いること以外は、上記実施例1の有
機電界発光素子と同様である。
The half-life of the emission brightness was 200 hours. This is because the thermal deterioration of the organic layer 4 is slower than that of the comparative example described later. (Example 2) The organic electroluminescent device of this example has a heat dissipation layer 3
As a transparent material which has a high thermal conductivity and is imparted with P-type conductivity, which constitutes the above, except that a hydrogen plasma-treated diamond film is used instead of the boron-doped diamond film. It is similar to the organic electroluminescent device.

【0021】まず、上記上記実施例1と同様に、透明基
板1の上にITO電極よりなる透明第1電極2を成膜し
た。そして、透明第1電極2の上にマイクロ波プラズマ
CVD法によりダイヤモンド膜を作製した。すなわち、
水素とメタン(CH4/H2 =1.0%)の混合ガスを原
料とし、40Torrで300W、2.45GHzのマ
イクロ波を2時間照射して基板上にダイヤモンド膜を堆
積させ、引き続いてメタンガスの供給を止め、水素雰囲
気中で30分間プラズマ処理を行った。これにより、透
明第1電極2の上に、水素プラズマ処理したダイヤモン
ド膜よりなる放熱層3を成膜した。この放熱層3の厚み
は1.1μm、抵抗率は8×10-2Ωcmであった。
First, the transparent first electrode 2 made of an ITO electrode was formed on the transparent substrate 1 in the same manner as in Example 1 above. Then, a diamond film was formed on the transparent first electrode 2 by the microwave plasma CVD method. That is,
Using a mixed gas of hydrogen and methane (CH 4 / H 2 = 1.0%) as a raw material, microwaves of 300 W and 2.45 GHz are irradiated at 40 Torr for 2 hours to deposit a diamond film on the substrate, and subsequently methane gas Was stopped and plasma treatment was performed for 30 minutes in a hydrogen atmosphere. Thus, the heat dissipation layer 3 made of the hydrogen plasma-treated diamond film was formed on the transparent first electrode 2. The heat dissipation layer 3 had a thickness of 1.1 μm and a resistivity of 8 × 10 −2 Ωcm.

【0022】次いで、上記実施例1と同様に、放熱層3
の上に有機層4を成膜し、さらに有機層4の上に第2金
属電極5を成膜した。以上のように作製した本実施例の
有機電界発光素子は、電圧の印加によって緑色に発光し
た。電流密度50mA/cm2 における発光輝度は50
0cd/m2であり、十分な電界発光性能が確保されて
いた。また、発光輝度の半減期は180時間であった。
Then, in the same manner as in the first embodiment, the heat dissipation layer 3 is formed.
The organic layer 4 was formed on the organic layer 4, and the second metal electrode 5 was further formed on the organic layer 4. The organic electroluminescent element of this example manufactured as described above emitted green light when a voltage was applied. The emission brightness at a current density of 50 mA / cm 2 is 50.
It was 0 cd / m 2 , and sufficient electroluminescence performance was secured. In addition, the half-life of emission brightness was 180 hours.

【0023】(比較例1)放熱層3を無処理のダイヤモ
ンド膜とすること以外は、上記実施例1と同様に作成し
た有機電界発光素子の輝度の半減期は60時間であっ
た。 (実施例3)図2に示す本実施例の有機電界発光素子
は、透明基板1上に、高熱伝導性を有するとともにP型
導電性が付与せしめられた透明材料、すなわちホウ素を
ドーピングしたダイヤモンド膜よりなる高熱伝導性透明
第1電極6と、電圧の印加により発光する有機化合物よ
りなる有機層4と、第2金属電極5とを順に積層してな
るものである。
(Comparative Example 1) The half-life of luminance of the organic electroluminescent element produced in the same manner as in Example 1 was 60 hours, except that the heat dissipation layer 3 was an untreated diamond film. (Embodiment 3) The organic electroluminescence device of this embodiment shown in FIG. 2 has a transparent substrate 1, a transparent material having high thermal conductivity and P-type conductivity, that is, a diamond film doped with boron. The transparent first electrode 6 having high thermal conductivity, the organic layer 4 made of an organic compound that emits light when a voltage is applied, and the second metal electrode 5 are sequentially laminated.

【0024】以下、本実施例の有機電界発光素子の構成
について、その製造方法とともに詳述する。上記実施例
1と同様の透明基板1をダイヤモンド砥粒で研磨処理
後、この透明基板1の上に、ホウ素をドーピングしたダ
イヤモンド膜よりなる高熱伝導性透明第1電極6を作製
した。膜の作製は、マイクロ波プラズマCVD法により
行った。
The structure of the organic electroluminescent device of this example will be described in detail below along with its manufacturing method. After polishing the same transparent substrate 1 as in Example 1 with diamond abrasive grains, a highly heat-conductive transparent first electrode 6 made of a diamond film doped with boron was formed on the transparent substrate 1. The film was formed by the microwave plasma CVD method.

【0025】すなわち、水素とメタン(CH4/H2
1.5%)の混合ガスに、B2 6 (ジボラン)をCH
4 (メタン)に対して167ppm混合したガスを、透
明基板1をセットした反応容器中に導入した。そして、
40Torrで300W、2.45GHzのマイクロ波
を4時間照射する条件で、透明基板1の上に、ホウ素を
ドーピングしたダイヤモンド膜を堆積させて高熱伝導性
透明第1電極6を成膜した。この高熱伝導性透明第1電
極6の厚みは2.0μm、ホウ素濃度は5×10 20cm
-3、抵抗率は3×10-3Ωcmであった。
That is, hydrogen and methane (CHFour/ H2=
1.5%) mixed gas, B2H6CH (diborane)
FourGas mixed with 167 ppm of (methane)
The bright substrate 1 was introduced into the set reaction container. And
Microwave of 2.45 GHz, 300 W at 40 Torr
On the transparent substrate 1 under the condition of irradiating with boron for 4 hours.
High thermal conductivity by depositing doped diamond film
The transparent first electrode 6 was deposited. This high thermal conductivity transparent first
The pole 6 has a thickness of 2.0 μm and a boron concentration of 5 × 10 20cm
-3, Resistivity is 3 × 10-3It was Ωcm.

【0026】次いで、上記実施例1と同様に、高熱伝導
性透明第1電極6の上に有機層4を成膜し、さらに有機
層4の上に第2金属電極5を成膜した。以上のように作
製した本実施例の有機電界発光素子は、電圧の印加によ
って緑色に発光した。電流密度80mA/cm2 におけ
る発光輝度は400cd/m2であり、十分な電界発光
性能が確保されていた。また、発光輝度の半減期は50
0時間であった。なお、実施例1及び実施例2の有機電
界発光素子と比べて、発光輝度の半減期が2.5〜2.
8倍程度になっているのは、ダイヤモンド層の厚さが増
し、放熱効率が向上したためと考えられる。
Then, in the same manner as in Example 1, the organic layer 4 was formed on the high heat conductive transparent first electrode 6, and further the second metal electrode 5 was formed on the organic layer 4. The organic electroluminescent element of this example manufactured as described above emitted green light when a voltage was applied. The emission luminance at a current density of 80 mA / cm 2 was 400 cd / m 2 , and sufficient electroluminescence performance was secured. In addition, the half-life of emission brightness is 50
It was 0 hours. It should be noted that, compared with the organic electroluminescent elements of Example 1 and Example 2, the half life of the emission luminance was 2.5 to 2.
It is considered that the reason for the increase of about 8 times is that the thickness of the diamond layer is increased and the heat dissipation efficiency is improved.

【0027】(実施例4)図3に示す本実施例の有機電
界発光素子は、透明基板1上に、ノンドープのダイヤモ
ンド膜よりなる補助放熱層7と、高熱伝導性を有すると
ともにP型導電性が付与せしめられた透明材料、すなわ
ちホウ素をドーピングしたダイヤモンド膜よりなる高熱
伝導性透明第1電極6と、電圧の印加により発光する有
機化合物よりなる有機層4と、第2金属電極5とを順に
積層してなるものである。
(Embodiment 4) The organic electroluminescent device of this embodiment shown in FIG. 3 has an auxiliary heat dissipation layer 7 made of a non-doped diamond film on the transparent substrate 1, a high heat conductivity and a P-type conductivity. A transparent material provided with a high heat conductive transparent first electrode 6 made of a diamond film doped with boron, an organic layer 4 made of an organic compound which emits light when a voltage is applied, and a second metal electrode 5 in order. It is made by stacking.

【0028】以下、本実施例の有機電界発光素子の構成
について、その製造方法とともに詳述する。厚さ1mm
のモリブデン基板をダイヤモンド砥粒で研磨処理後、そ
の上にノンドープのダイヤモンド膜よりなる放熱層7を
作製した。膜の作製は、マイクロ波プラズマCVD法に
より行った。
The structure of the organic electroluminescent device of this example will be described in detail below along with its manufacturing method. Thickness 1mm
After the molybdenum substrate of No. 1 was polished with diamond abrasive grains, a heat dissipation layer 7 made of a non-doped diamond film was formed thereon. The film was formed by the microwave plasma CVD method.

【0029】すなわち、水素とメタン(CH4/H2
1.0%)の混合ガスを、モリブデン基板をセットした
反応容器中に導入した。そして、50Torrで3k
W、2.45GHzのマイクロ波を96時間照射する条
件で、モリブデン基板の上に、ノンドープのダイヤモン
ド膜を堆積させて放熱層7を成膜した。なお、この放熱
層7の厚みは500μmであった。
That is, hydrogen and methane (CH 4 / H 2 =
1.0%) of the mixed gas was introduced into the reaction vessel in which the molybdenum substrate was set. And 3k at 50 Torr
A heat-dissipating layer 7 was formed by depositing a non-doped diamond film on a molybdenum substrate under the condition that W was irradiated with a microwave of 2.45 GHz for 96 hours. The heat dissipation layer 7 had a thickness of 500 μm.

【0030】そして、この放熱層7の上に、上記実施例
3と同様の方法により、厚み2.0μmの高熱伝導性透
明第1電極6を成膜した。その後、モリブデン基板を希
硝酸で溶解除去した。次いで、高熱伝導性透明第1電極
6の上に、上記実施例1と同様の方法により、有機層4
及び第2金属電極5を成膜した。最後に、放熱層7の下
に透明基板1を設けた。
Then, a highly heat-conductive transparent first electrode 6 having a thickness of 2.0 μm was formed on the heat dissipation layer 7 by the same method as in Example 3 above. Then, the molybdenum substrate was dissolved and removed with dilute nitric acid. Then, the organic layer 4 was formed on the transparent first electrode 6 having high thermal conductivity in the same manner as in Example 1 above.
And the 2nd metal electrode 5 was formed into a film. Finally, the transparent substrate 1 was provided below the heat dissipation layer 7.

【0031】以上のように作製した本実施例の有機電界
発光素子は、電圧の印加によって緑色に発光した。電流
密度80mA/cm2 における発光輝度は400cd/
2であり、十分な電界発光性能が確保されていた。ま
た、輝度の半減期は800時間と、実施例3と比べてさ
らに耐久性が向上した。これは、ノンドープダイヤモン
ド膜である放熱層7の存在によりさらに有機層4の熱劣
化が抑えられたためと考えられる。
The organic electroluminescent device of this example manufactured as described above emitted green light when a voltage was applied. The emission brightness at a current density of 80 mA / cm 2 is 400 cd /
It was m 2 , and sufficient electroluminescence performance was secured. Further, the half-life of luminance was 800 hours, which is further improved in durability as compared with Example 3. It is considered that this is because the heat deterioration of the organic layer 4 was further suppressed by the presence of the heat dissipation layer 7 which was a non-doped diamond film.

【0032】(実施例5)本実施例の有機電界発光素子
は、高熱伝導性透明第1電極を構成する、高熱伝導性を
有するとともにP型導電性が付与せしめられた透明材料
として、ホウ素をドーピングしたダイヤモンド膜の代わ
りに、マイクロ波プラズマCVD法により膜表面を処理
してP型導電性を付与せしめたダイヤモンド膜を用いる
こと以外は、上記実施例4の有機電界発光素子と同様で
ある。
Example 5 In the organic electroluminescent device of this example, boron was used as a transparent material having a high thermal conductivity and having a P-type conductivity, which constitutes the highly heat-conductive transparent first electrode. The organic electroluminescence device of Example 4 is the same as the organic electroluminescence device of Example 4 except that a diamond film whose surface is treated by a microwave plasma CVD method to impart P-type conductivity is used instead of the doped diamond film.

【0033】以下、本実施例の有機電界発光素子の構成
について、その製造方法とともに詳述する。上記実施例
4と同様のモリブデン基板をダイヤモンド砥粒で研磨処
理後、このモリブデン基板の上にノンドープのダイヤモ
ンド膜を作製した。膜の作製は、マイクロ波プラズマC
VD法により行った。
The structure of the organic electroluminescent element of this example will be described in detail below along with its manufacturing method. A molybdenum substrate similar to that used in Example 4 was polished with diamond abrasive grains, and a non-doped diamond film was formed on the molybdenum substrate. Microwave plasma C is used to form the film.
It was performed by the VD method.

【0034】すなわち、水素とメタン(CH4/H2
1.0%)の混合ガスを、モリブデン基板をセットした
反応容器中に導入した。そして、50Torrで3k
W、2.45GHzのマイクロ波を96時間照射する条
件で、モリブデン基板の上に、ノンドープのダイヤモン
ド膜を堆積させた。なお、このダイヤモンド膜の厚みは
500μmであった。その後、モリブデン基板を希硝酸
で溶解除去した。
That is, hydrogen and methane (CH 4 / H 2 =
1.0%) of the mixed gas was introduced into the reaction vessel in which the molybdenum substrate was set. And 3k at 50 Torr
A non-doped diamond film was deposited on the molybdenum substrate under the condition of being irradiated with W microwave at 2.45 GHz for 96 hours. The thickness of this diamond film was 500 μm. Then, the molybdenum substrate was dissolved and removed with dilute nitric acid.

【0035】そして、ノンドープダイヤモンド膜を反応
容器中に導入し、圧力40Torrで水素雰囲気中、3
00W、2.45GHzのマイクロ波を1時間照射して
ダイヤモンド膜表面を処理し、P型導電性を付与させ
た。これによりP型導電性が付与せしめられたダイヤモ
ンド膜よりなる高熱伝導性透明第1電極を形成した。次
いで、高熱伝導性透明第1電極の上に、上記実施例1と
同様の方法により、有機層及び第2金属電極を成膜し
た。最後に、高熱伝導性透明第1電極を設けた。
Then, the non-doped diamond film was introduced into the reaction vessel, and the pressure was set to 40 Torr in a hydrogen atmosphere for 3 times.
The diamond film surface was treated by irradiating it with a microwave of 00W and 2.45 GHz for 1 hour to impart P-type conductivity. As a result, a highly heat-conductive transparent first electrode made of a diamond film imparted with P-type conductivity was formed. Next, an organic layer and a second metal electrode were formed on the high thermal conductive transparent first electrode by the same method as in Example 1 above. Finally, a high heat conductive transparent first electrode was provided.

【0036】以上のように作製した本実施例の有機電界
発光素子は、電圧の印加によって緑色に発光した。電流
密度40mA/cm2 における発光輝度は250cd/
2であり、十分な電界発光性能が確保されていた。ま
た、輝度の半減期は750時間であった。本実施例で
は、ダイヤモンド膜の作製方法としてマイクロ波プラズ
マCVD法についてのみ示したが、ダイヤモンド膜の作
製方法は特に限定されない。例えば、熱フィラメントC
VD法、DCプラズマジェット法、RF熱プラズマ法、
燃焼炎法等も用いることができる。ホウ素をドーピング
する際においても、ホウ素をダイヤモンド膜中にドーピ
ングできる方法であれば、原料ガスと成膜方法は限定さ
れない。ドーピングガスとしてジボラン(B2 6 )以
外にも、トリエトキシボロン(B(OC2 5 3
等、ホウ素を含む原料ならば、いずれも用いることがで
きる。また、ドーピング元素もP型導電性を付与せしめ
ることのできる元素であればホウ素に限定されず、例え
ば、周期律表中 III族元素のアルミニウム等も利用でき
る。
The organic electroluminescent device of this example manufactured as described above emitted green light when a voltage was applied. The emission brightness at a current density of 40 mA / cm 2 is 250 cd /
It was m 2 , and sufficient electroluminescence performance was secured. The half life of luminance was 750 hours. In this example, only the microwave plasma CVD method was shown as the method for producing the diamond film, but the method for producing the diamond film is not particularly limited. For example, hot filament C
VD method, DC plasma jet method, RF thermal plasma method,
A combustion flame method or the like can also be used. Also in the case of doping boron, the source gas and the film forming method are not limited as long as the diamond film can be doped with boron. In addition to diborane (B 2 H 6 ) as a doping gas, triethoxyboron (B (OC 2 H 5 ) 3 )
Any raw material containing boron can be used. The doping element is not limited to boron as long as it can impart P-type conductivity, and, for example, aluminum of Group III element in the periodic table can be used.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の有機電界
発光素子は、高い熱伝導性を有する放熱層あるいは熱伝
導性透明第1電極を直接有機層と接触させる構成を有す
るので、有機層の熱的劣化を効果的に抑えて、有機電界
発光素子の耐久性を向上させることができる。
As described in detail above, the organic electroluminescent device of the present invention has a structure in which the heat dissipation layer having high heat conductivity or the heat conductive transparent first electrode is brought into direct contact with the organic layer. The thermal deterioration of the layer can be effectively suppressed, and the durability of the organic electroluminescent element can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の有機電界発光素子の構成を模式的に
示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an organic electroluminescence device of Example 1.

【図2】実施例3の有機電界発光素子の構成を模式的に
示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view that schematically shows the configuration of the organic electroluminescent element of Example 3.

【図3】実施例4の有機電界発光素子の構成を模式的に
示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view that schematically shows the configuration of the organic electroluminescent element of Example 4.

【図4】従来の有機電界発光素子の構成を模式的に示す
断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional organic electroluminescent device.

【図5】他の従来の有機電界発光素子の構成を模式的に
示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of another conventional organic electroluminescent element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1は透明基板、2は透明第1電極、3は放熱層、4は有
機層、5は第2電極、6は高熱伝導性透明第1電極、7
はノンドープダイヤモンド膜の放熱層である。
1 is a transparent substrate, 2 is a transparent first electrode, 3 is a heat dissipation layer, 4 is an organic layer, 5 is a second electrode, 6 is a high thermal conductive transparent first electrode, 7
Is a heat dissipation layer of a non-doped diamond film.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基板上に、透明第1電極と、高い熱伝
導性を有するとともにP型導電性が付与せしめられた透
明材料で構成された放熱層と、電圧の印加により発光す
る有機化合物よりなる有機層と、第2電極とを順に積層
してなることを特徴とする有機電界発光素子。
1. A transparent first electrode on a transparent substrate, a heat dissipation layer made of a transparent material having high thermal conductivity and imparting P-type conductivity, and an organic compound which emits light when a voltage is applied. An organic electroluminescent device, comprising: an organic layer made of a metal and a second electrode, which are sequentially stacked.
【請求項2】透明基板上に、高い熱伝導性を有するとと
もにP型導電性が付与せしめられた透明材料で構成され
た熱伝導性透明第1電極と、電圧の印加により発光する
有機化合物よりなる有機層と、第2電極とを順に積層し
てなることを特徴とする有機電界発光素子。
2. A heat-conductive transparent first electrode made of a transparent material having high heat conductivity and imparted with P-type conductivity on a transparent substrate, and an organic compound which emits light when a voltage is applied. An organic electroluminescent device, comprising: an organic layer having the following structure and a second electrode stacked in this order.
【請求項3】前記高い伝熱性を有するとともにP型導電
性が付与せしめられた透明材料は、ドーピング処理又は
水素プラズマ処理によりP型導電性が付与せしめられた
ダイヤモンドであることを特徴とする請求項1又は2記
載の有機電界発光素子。
3. The transparent material having high heat conductivity and being imparted with P-type conductivity is diamond having P-type conductivity imparted by doping treatment or hydrogen plasma treatment. Item 3. The organic electroluminescence device according to item 1 or 2.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0950254A4 (en) * 1996-12-23 2002-11-27 Univ Princeton An organic light emitting device containing a protection layer
WO2010016512A1 (en) * 2008-08-06 2010-02-11 昭和電工株式会社 Organic electroluminescent element, display device and illuminating device
WO2010032758A1 (en) * 2008-09-17 2010-03-25 昭和電工株式会社 Organic electroluminescent element, display device and illuminating device
WO2010032757A1 (en) * 2008-09-16 2010-03-25 昭和電工株式会社 Organic electroluminescent element, display device and illuminating device
JP2011134724A (en) * 2001-07-27 2011-07-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device
US8390019B2 (en) 2001-07-27 2013-03-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, semiconductor device, and method of fabricating the devices
JP2013514612A (en) * 2009-12-16 2013-04-25 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Organic light emitting device having uniform temperature distribution
JP2014162033A (en) * 2013-02-22 2014-09-08 Waseda Univ Transparent conductive body and production method of transparent conductive body

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0950254A4 (en) * 1996-12-23 2002-11-27 Univ Princeton An organic light emitting device containing a protection layer
JP2011134724A (en) * 2001-07-27 2011-07-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device
US8390019B2 (en) 2001-07-27 2013-03-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, semiconductor device, and method of fabricating the devices
WO2010016512A1 (en) * 2008-08-06 2010-02-11 昭和電工株式会社 Organic electroluminescent element, display device and illuminating device
WO2010032757A1 (en) * 2008-09-16 2010-03-25 昭和電工株式会社 Organic electroluminescent element, display device and illuminating device
WO2010032758A1 (en) * 2008-09-17 2010-03-25 昭和電工株式会社 Organic electroluminescent element, display device and illuminating device
JP2013514612A (en) * 2009-12-16 2013-04-25 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Organic light emitting device having uniform temperature distribution
JP2014162033A (en) * 2013-02-22 2014-09-08 Waseda Univ Transparent conductive body and production method of transparent conductive body

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