JPH08285459A - 真空加圧炉 - Google Patents
真空加圧炉Info
- Publication number
- JPH08285459A JPH08285459A JP8517195A JP8517195A JPH08285459A JP H08285459 A JPH08285459 A JP H08285459A JP 8517195 A JP8517195 A JP 8517195A JP 8517195 A JP8517195 A JP 8517195A JP H08285459 A JPH08285459 A JP H08285459A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heaters
- heater
- furnace
- power
- electrodes
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- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】対流による温度差の発生を簡単な構成で確実に
抑制する。 【構成】スイッチ８ａ、８ｂを用いて、下方に位置する
ヒータ５に上方に位置するヒータ５よりも大電力が供給
されるように結線状態を切り換える。これにより、対流
の温度差と逆の温度分布を作り、対流の影響を相殺する
ことができる。
抑制する。 【構成】スイッチ８ａ、８ｂを用いて、下方に位置する
ヒータ５に上方に位置するヒータ５よりも大電力が供給
されるように結線状態を切り換える。これにより、対流
の温度差と逆の温度分布を作り、対流の影響を相殺する
ことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、焼結炉や、シンター・
ヒップ炉等として利用される真空加圧炉に関するもので
ある。
ヒップ炉等として利用される真空加圧炉に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】この種の真空加圧炉は、炉内を真空排気
した状態で処理物を加熱処理し、続いて各種の処理ガス
を加圧雰囲気となるまで導入し、その状態で処理物を加
熱して熱処理を行うものである。その際に、処理物を均
一に加熱する必要があることから、ヒータは処理物を包
囲する位置に処理物を基準として互いに略点対称な位置
関係で配置され、各ヒータへの電力供給を処理物を基準
として水平方向及び鉛直方向に均等に行うようにしてい
る。
した状態で処理物を加熱処理し、続いて各種の処理ガス
を加圧雰囲気となるまで導入し、その状態で処理物を加
熱して熱処理を行うものである。その際に、処理物を均
一に加熱する必要があることから、ヒータは処理物を包
囲する位置に処理物を基準として互いに略点対称な位置
関係で配置され、各ヒータへの電力供給を処理物を基準
として水平方向及び鉛直方向に均等に行うようにしてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、炉内にガス
を導入して処理物を高圧下で加熱するとき、ガスによる
対流が生じる。このため、各電極やヒータを処理物の周
囲に点対称に配置しても、対流によって炉内の上層空間
の方が下層空間よりも高温にならざるを得ない。このた
め、加圧時に処理物に対する加熱むらを生じ、ひいては
製品品質のばらつきや不良品の増加を招く不具合に繋が
る。
を導入して処理物を高圧下で加熱するとき、ガスによる
対流が生じる。このため、各電極やヒータを処理物の周
囲に点対称に配置しても、対流によって炉内の上層空間
の方が下層空間よりも高温にならざるを得ない。このた
め、加圧時に処理物に対する加熱むらを生じ、ひいては
製品品質のばらつきや不良品の増加を招く不具合に繋が
る。
【０００４】このような不具合を解決するために、配電
回路を複数の回路から構成し、各回路ごとにそれぞれ熱
電対、サイリスタ、トランス等からなる温度制御回路を
接続して各回路への給電状態を個々に制御することも考
えられるが、このような対策は構造の複雑化やコストア
ップを招くため好ましくなく、既存設備への適用も困難
である。
回路を複数の回路から構成し、各回路ごとにそれぞれ熱
電対、サイリスタ、トランス等からなる温度制御回路を
接続して各回路への給電状態を個々に制御することも考
えられるが、このような対策は構造の複雑化やコストア
ップを招くため好ましくなく、既存設備への適用も困難
である。
【０００５】本発明は、このような課題を簡単且つ効果
的に解決することを目的としている。
的に解決することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
【０００７】すなわち、本発明に係る真空加圧炉は、処
理物を包囲する位置に処理物を基準として互いに略点対
称な位置関係で複数のヒータを配置し、これらのヒータ
間を環状に結線するとともに、各ヒータ間に電極及び配
電回路を介して三相電源を接続し、各ヒータへの電力供
給を処理物を基準として水平方向及び鉛直方向に略均等
に行い得るように構成してなるものにおいて、前記配電
回路に、各ヒータへの電力供給を処理物を基準として水
平方向に均等を保ち鉛直方向に不均等とするように結線
状態を切換える切換部を設け、この切換部により下方に
位置するヒータに上方に位置するヒータよりも大電力を
供給し得るようにしたことを特徴とする。
理物を包囲する位置に処理物を基準として互いに略点対
称な位置関係で複数のヒータを配置し、これらのヒータ
間を環状に結線するとともに、各ヒータ間に電極及び配
電回路を介して三相電源を接続し、各ヒータへの電力供
給を処理物を基準として水平方向及び鉛直方向に略均等
に行い得るように構成してなるものにおいて、前記配電
回路に、各ヒータへの電力供給を処理物を基準として水
平方向に均等を保ち鉛直方向に不均等とするように結線
状態を切換える切換部を設け、この切換部により下方に
位置するヒータに上方に位置するヒータよりも大電力を
供給し得るようにしたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】このような構成において、炉内が真空状態にあ
るときは、各ヒータへの電力供給を水平方向及び鉛直方
向に均等に行う。これにより、処理物は周囲から放射に
よって加熱され、均一加熱に供される。一方、炉内が導
入ガスによる加圧雰囲気にあるときは、切換部において
各ヒータへの電力供給を水平方向に均等で鉛直方向に不
均等となるように切換える。具体的には、炉の下方に位
置するヒータに、炉の上方に位置するヒータよりも大電
力を供給する。これにより、対流で処理物の下部よりも
上部の方が過熱ぎみになっても、ヒータの加熱は下方を
上方よりも相対的に高温とする温度分布を形成すべく行
われるため、結果的に温度分布が相殺して、対流に起因
した鉛直方向への温度差が縮小されることになる。
るときは、各ヒータへの電力供給を水平方向及び鉛直方
向に均等に行う。これにより、処理物は周囲から放射に
よって加熱され、均一加熱に供される。一方、炉内が導
入ガスによる加圧雰囲気にあるときは、切換部において
各ヒータへの電力供給を水平方向に均等で鉛直方向に不
均等となるように切換える。具体的には、炉の下方に位
置するヒータに、炉の上方に位置するヒータよりも大電
力を供給する。これにより、対流で処理物の下部よりも
上部の方が過熱ぎみになっても、ヒータの加熱は下方を
上方よりも相対的に高温とする温度分布を形成すべく行
われるため、結果的に温度分布が相殺して、対流に起因
した鉛直方向への温度差が縮小されることになる。
【０００９】しかも、本発明は、既存の配電回路にスイ
ッチ等の切換部を付加するだけで構成できるため、配電
回路自体を複雑にしたり、複数対の温度制御回路を設け
る必要などが一切ない。
ッチ等の切換部を付加するだけで構成できるため、配電
回路自体を複雑にしたり、複数対の温度制御回路を設け
る必要などが一切ない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図面を参照して
説明する。
説明する。
【００１１】図１および図２に示す真空加圧炉は、炉胴
１の内部に断熱材２により閉成される処理空間３を有
し、その処理空間３の略中心位置に処理物Ｗを収容して
熱処理に供するように構成される。
１の内部に断熱材２により閉成される処理空間３を有
し、その処理空間３の略中心位置に処理物Ｗを収容して
熱処理に供するように構成される。
【００１２】前記処理空間３内であって、処理物Ｗを包
囲する位置には、円周方向に６０°間隔でＴ字状の腕部
４ａを有した６本の電極４が炉の軸心に垂直な平面内に
おいて左右対称および上下対称となるように等角に配置
されており、これらの電極４の基端側は断熱材２及び炉
胴１を貫通して外部に引き出され、その貫通部分が炉胴
１に気密に支持されている。各電極４の腕部４ａの左右
両端には、炉の軸心方向に沿って伸びるロッドヒータ５
ａがそれぞれ支持されており、全部で１２本のロッドヒ
ータ５ａが円周方向に３０°間隔で処理空間３を包囲し
ている。また、互いに隣接し且つ異なる電極４によって
支持された一対のロッドヒータ５ａ、５ａ間は、端部に
配設した渡りヒータ５ｂによって連結されている。つま
り、ロッドヒータ５の抵抗をｒ1 、渡りヒータの抵抗を
ｒ2 とした場合、電極４、４間には（ｒ1 ＋ｒ2 ）の抵
抗が２本並列に入っていることになり、ｒ＝（ｒ1 ＋ｒ
2）／２なる値が電極４、４間の抵抗となる。したがっ
て、この炉は、図３に示すように、各電極４、４間を抵
抗ｒのヒータ５で環状に接続した回路と等価になる。
囲する位置には、円周方向に６０°間隔でＴ字状の腕部
４ａを有した６本の電極４が炉の軸心に垂直な平面内に
おいて左右対称および上下対称となるように等角に配置
されており、これらの電極４の基端側は断熱材２及び炉
胴１を貫通して外部に引き出され、その貫通部分が炉胴
１に気密に支持されている。各電極４の腕部４ａの左右
両端には、炉の軸心方向に沿って伸びるロッドヒータ５
ａがそれぞれ支持されており、全部で１２本のロッドヒ
ータ５ａが円周方向に３０°間隔で処理空間３を包囲し
ている。また、互いに隣接し且つ異なる電極４によって
支持された一対のロッドヒータ５ａ、５ａ間は、端部に
配設した渡りヒータ５ｂによって連結されている。つま
り、ロッドヒータ５の抵抗をｒ1 、渡りヒータの抵抗を
ｒ2 とした場合、電極４、４間には（ｒ1 ＋ｒ2 ）の抵
抗が２本並列に入っていることになり、ｒ＝（ｒ1 ＋ｒ
2）／２なる値が電極４、４間の抵抗となる。したがっ
て、この炉は、図３に示すように、各電極４、４間を抵
抗ｒのヒータ５で環状に接続した回路と等価になる。
【００１３】一方、これらのヒータ５を駆動するため
に、各電極４に配電回路６を介して三相トランスの２次
側電源７を接続している。三相電源の第１相をＲ、第２
相をＳ、第３相をＴで表わすと、第１相Ｒを任意の電極
４に接続した場合に、第２相Ｓを隣接する電極４を飛ば
して反時計回りに１２０°離間位置にある電極４に、第
３相Ｔを隣接する電極４を飛ばして反時計回りに更に１
２０°離間位置にある電極４にそれぞれ配線６ａ、６
ｂ、６ｃを介して接続している。
に、各電極４に配電回路６を介して三相トランスの２次
側電源７を接続している。三相電源の第１相をＲ、第２
相をＳ、第３相をＴで表わすと、第１相Ｒを任意の電極
４に接続した場合に、第２相Ｓを隣接する電極４を飛ば
して反時計回りに１２０°離間位置にある電極４に、第
３相Ｔを隣接する電極４を飛ばして反時計回りに更に１
２０°離間位置にある電極４にそれぞれ配線６ａ、６
ｂ、６ｃを介して接続している。
【００１４】以上の構成に加えて、本実施例では、前記
配電回路６に切換部たる２つのスイッチ８ａ、８ｂを付
設している。第１のスイッチ８ａは、配線６ａ上にあっ
て、第１相Ｒを正規の配電先の電極４から切り離して反
時計方向に隣接する電極４に接続する機能を有し、第２
のスイッチ８ｂは、配線６ｃ上にあって、第３相Ｔを正
規の配電先の電極４に対して反時計方向に隣接する電極
４にも接続する機能を有している。
配電回路６に切換部たる２つのスイッチ８ａ、８ｂを付
設している。第１のスイッチ８ａは、配線６ａ上にあっ
て、第１相Ｒを正規の配電先の電極４から切り離して反
時計方向に隣接する電極４に接続する機能を有し、第２
のスイッチ８ｂは、配線６ｃ上にあって、第３相Ｔを正
規の配電先の電極４に対して反時計方向に隣接する電極
４にも接続する機能を有している。
【００１５】次に、本実施例の作動を説明する。炉内が
真空状態にあるときは、図３に示すように、第１のスイ
ッチ８ａを正規の配電先の電極４に接続し、第２のスイ
ッチ８ｂをＯＦＦにする。この状態で、三相電源７から
線間電圧ｅを掛けると、何れの相間においても、電極
４、４間には、それぞれ（ｅ2 ／２ｒ）の電力が供給さ
れ、各ヒータ５への電力供給はその半分の（ｅ2 ／４
ｒ）となる。そして、全てのヒータ５は処理物Ｗを基準
にして水平方向及び鉛直方向に均等に分布して機能して
いるため、処理物Ｗは周囲から放射によって均一加熱に
供される。なお、必要に応じて余った電極４を結んでス
ター結線しておいてもよい。その時にヒータ５に供給さ
れる電力は３／４になる。
真空状態にあるときは、図３に示すように、第１のスイ
ッチ８ａを正規の配電先の電極４に接続し、第２のスイ
ッチ８ｂをＯＦＦにする。この状態で、三相電源７から
線間電圧ｅを掛けると、何れの相間においても、電極
４、４間には、それぞれ（ｅ2 ／２ｒ）の電力が供給さ
れ、各ヒータ５への電力供給はその半分の（ｅ2 ／４
ｒ）となる。そして、全てのヒータ５は処理物Ｗを基準
にして水平方向及び鉛直方向に均等に分布して機能して
いるため、処理物Ｗは周囲から放射によって均一加熱に
供される。なお、必要に応じて余った電極４を結んでス
ター結線しておいてもよい。その時にヒータ５に供給さ
れる電力は３／４になる。
【００１６】一方、炉内を、処理ガスを導入して例えば
１ＭPascal程度の加圧雰囲気にするときは、図４に示す
ように、第１のスイッチ８ａを正規の配電先の電極４か
ら切り離して隣接する電極４側に倒し、第２のスイッチ
をＯＮにする。この状態で、三相電源７から線間電圧ｅ
を掛けると、第１、第２相間（ＲＳ間）に介挿されるの
は１個のヒータ５だけとなり、（ｅ2 ／ｒ）の電力が供
給される。この電力は図３で各ヒータ５が受ける電力の
４倍である。また、第２、第３相間（ＳＴ間）、及び、
第３、第１相間（ＴＲ間）は図３における各相間と同様
に２つのヒータ５が介挿された状態になるため、各ヒー
タ５への供給電力は図３の値と同一となる。更に、同相
の部分は全て同一電位であるため供給電力は０である。
すなわち、各ヒータ５における電力供給比率は図３に括
弧書きで示す分布から図４に括弧書きで示す分布に変化
する。この給電状態を、処理物Ｗの中心を通る水平面を
境にして上部と下部に分けて考えると、図３の電力供給
比率が３：３であるのに対して、図４のそれは２：６と
なる。つまり、対流により処理物Ｗの上部が下部よりも
過熱ぎみになっても、ヒータ５の機能に積極的に鉛直方
向への温度分布を形成することによって、処理物Ｗの下
部をより強く加熱して、対流の影響を相殺することがで
きる。このため、処理物Ｗに対する処理むらをなくし
て、製品品質や歩留まりを確実に向上させることが可能
になる。本実施例では、実際の実験で上下の温度差を例
えば６０℃→７℃程度に低減できる効果がある事を確認
している。しかも、このような構成は、炉外において既
存の配電回路に２つのスイッチ８ａ、８ｂを付加するだ
けで実現でき、配電回路６には一切手を加える必要がな
く、多くの温度制御回路を改めて外付けする必要なども
ないため、新規設備のみならず既存設備にも極めて簡単
に適用することが可能になる。
１ＭPascal程度の加圧雰囲気にするときは、図４に示す
ように、第１のスイッチ８ａを正規の配電先の電極４か
ら切り離して隣接する電極４側に倒し、第２のスイッチ
をＯＮにする。この状態で、三相電源７から線間電圧ｅ
を掛けると、第１、第２相間（ＲＳ間）に介挿されるの
は１個のヒータ５だけとなり、（ｅ2 ／ｒ）の電力が供
給される。この電力は図３で各ヒータ５が受ける電力の
４倍である。また、第２、第３相間（ＳＴ間）、及び、
第３、第１相間（ＴＲ間）は図３における各相間と同様
に２つのヒータ５が介挿された状態になるため、各ヒー
タ５への供給電力は図３の値と同一となる。更に、同相
の部分は全て同一電位であるため供給電力は０である。
すなわち、各ヒータ５における電力供給比率は図３に括
弧書きで示す分布から図４に括弧書きで示す分布に変化
する。この給電状態を、処理物Ｗの中心を通る水平面を
境にして上部と下部に分けて考えると、図３の電力供給
比率が３：３であるのに対して、図４のそれは２：６と
なる。つまり、対流により処理物Ｗの上部が下部よりも
過熱ぎみになっても、ヒータ５の機能に積極的に鉛直方
向への温度分布を形成することによって、処理物Ｗの下
部をより強く加熱して、対流の影響を相殺することがで
きる。このため、処理物Ｗに対する処理むらをなくし
て、製品品質や歩留まりを確実に向上させることが可能
になる。本実施例では、実際の実験で上下の温度差を例
えば６０℃→７℃程度に低減できる効果がある事を確認
している。しかも、このような構成は、炉外において既
存の配電回路に２つのスイッチ８ａ、８ｂを付加するだ
けで実現でき、配電回路６には一切手を加える必要がな
く、多くの温度制御回路を改めて外付けする必要なども
ないため、新規設備のみならず既存設備にも極めて簡単
に適用することが可能になる。
【００１７】なお、図１及び図２に示す真空加圧炉が、
例えば４Ｍ〜６ＭPascal程度の加圧雰囲気を形成する必
要がある場合には、上述した雰囲気よりも対流の影響が
より大きく現われる。そこで、このような場合には、切
換部に図３の構成に代えて図５の構成を採用しておくこ
とが有効となる。この構成も、２つのスイッチ９ａ、９
ｂを若干の配線を用いて付加するだけのものであって、
第１のスイッチ９ａは、第１相Ｒを正規の配電先の電極
４の１８０°対向位置にある電極４にも接続する機能を
有し、第２のスイッチ９ｂは第３相を正規の配電先の電
極４から切り離して１８０°対向位置にある電極４に接
続する機能を有している。
例えば４Ｍ〜６ＭPascal程度の加圧雰囲気を形成する必
要がある場合には、上述した雰囲気よりも対流の影響が
より大きく現われる。そこで、このような場合には、切
換部に図３の構成に代えて図５の構成を採用しておくこ
とが有効となる。この構成も、２つのスイッチ９ａ、９
ｂを若干の配線を用いて付加するだけのものであって、
第１のスイッチ９ａは、第１相Ｒを正規の配電先の電極
４の１８０°対向位置にある電極４にも接続する機能を
有し、第２のスイッチ９ｂは第３相を正規の配電先の電
極４から切り離して１８０°対向位置にある電極４に接
続する機能を有している。
【００１８】このような構成により、図６に示すよう
に、第１のスイッチ９ａをＯＮにし、第２のスイッチ９
ｂを正規の配電先の電極４から切り離して１８０°対向
位置にある電極４に接続すると、各相間電圧ｅは全て下
方に配置された各ヒータ５に単独で掛かるため、それら
のヒータ５への供給電力は（ｅ2 ／ｒ）となる。また、
上方に配置されたヒータ５は全て同電位に保持されるた
め、供給電力は０である。すなわち、各ヒータ５におけ
る電力供給比率は図５に括弧書きで示す分布から図６に
括弧書きで示す分布に変化する。この給電状態を、処理
物Ｗの中心を通る水平面を境にして上部と下部に分けて
考えると、図５の電力供給比率が３：３であったのに対
して、図４のそれは０：１２となる。つまり、対流が支
配的になっても、ヒータ５の機能に更に大きな温度勾配
をつけることによって、対流による不具合を克服して処
理を均一処理に近づけることができる。
に、第１のスイッチ９ａをＯＮにし、第２のスイッチ９
ｂを正規の配電先の電極４から切り離して１８０°対向
位置にある電極４に接続すると、各相間電圧ｅは全て下
方に配置された各ヒータ５に単独で掛かるため、それら
のヒータ５への供給電力は（ｅ2 ／ｒ）となる。また、
上方に配置されたヒータ５は全て同電位に保持されるた
め、供給電力は０である。すなわち、各ヒータ５におけ
る電力供給比率は図５に括弧書きで示す分布から図６に
括弧書きで示す分布に変化する。この給電状態を、処理
物Ｗの中心を通る水平面を境にして上部と下部に分けて
考えると、図５の電力供給比率が３：３であったのに対
して、図４のそれは０：１２となる。つまり、対流が支
配的になっても、ヒータ５の機能に更に大きな温度勾配
をつけることによって、対流による不具合を克服して処
理を均一処理に近づけることができる。
【００１９】なお、各部の具体的な構成は上述した実施
例のみに限定されるものではない。例えば、前記実施例
では各電極間が全て炉内において渡りヒータ７で接続さ
れているが、図７に示すように処理物の中心を通る水平
面に空間を確保するために、渡りヒータ７を炉外に配置
してもよい。このようにすると、その開放された空間に
仕切板１０を入れて炉内を上層空間と下層空間及び処理
空間に明確に区成することができ、対流の影響をより効
果的に低減することができる。また、切換部の構成や、
電極・ヒータの数、配設場所なども、本発明の趣旨を逸
脱しない範囲で種々変形が可能である。
例のみに限定されるものではない。例えば、前記実施例
では各電極間が全て炉内において渡りヒータ７で接続さ
れているが、図７に示すように処理物の中心を通る水平
面に空間を確保するために、渡りヒータ７を炉外に配置
してもよい。このようにすると、その開放された空間に
仕切板１０を入れて炉内を上層空間と下層空間及び処理
空間に明確に区成することができ、対流の影響をより効
果的に低減することができる。また、切換部の構成や、
電極・ヒータの数、配設場所なども、本発明の趣旨を逸
脱しない範囲で種々変形が可能である。
【００２０】
【発明の効果】本発明の真空加圧炉は、以上説明したよ
うに、配電回路に結線状態を切換える切換部を設けて、
各ヒータへの電力供給を均等な状態から鉛直方向に不均
等となるように切換え、下方に位置するヒータに上方に
位置するヒータよりも大電力を供給するようにしたもの
である。このため、ヒータの加熱能力に、対流によって
生じる温度差とは逆の温度分布を形成して、対流による
影響を相殺することができ、処理物の熱処理の均一性、
均質性を確実に向上させることが可能になる。しかも、
配電回路にスイッチ等の簡単な切換部を付加するだけで
構成できるため、新規設備のみならず既存設備にも簡単
に適用でき、コスト的にも安価に構成することが可能に
なる。
うに、配電回路に結線状態を切換える切換部を設けて、
各ヒータへの電力供給を均等な状態から鉛直方向に不均
等となるように切換え、下方に位置するヒータに上方に
位置するヒータよりも大電力を供給するようにしたもの
である。このため、ヒータの加熱能力に、対流によって
生じる温度差とは逆の温度分布を形成して、対流による
影響を相殺することができ、処理物の熱処理の均一性、
均質性を確実に向上させることが可能になる。しかも、
配電回路にスイッチ等の簡単な切換部を付加するだけで
構成できるため、新規設備のみならず既存設備にも簡単
に適用でき、コスト的にも安価に構成することが可能に
なる。
【図１】本発明の一実施例を示す横断面図。
【図２】同縦断面図。
【図３】同実施例において真空時の配線状態を示す回路
図。
図。
【図４】同実施例において加圧時の配設状態を示す回路
図。
図。
【図５】本発明の他の実施例を示す図３に対応した回路
図。
図。
【図６】同実施例を示す図４に対応した回路図。
【図７】本発明の更に他の実施例を示す模式的な横断面
図。
図。
Ｗ…処理物 ４…電極 ５、５ａ、５ｂ…ヒータ ６…配電回路 ７…三相電源 ８ａ、８ｂ…切換部（スイッチ） ９ａ、９ｂ…切換部（スイッチ）
Claims (1)
- 【請求項１】処理物を包囲する位置に処理物を基準とし
て互いに略点対称な位置関係で複数のヒータを配置し、
これらのヒータ間を環状に結線するとともに、各ヒータ
間に電極及び配電回路を介して三相電源を接続し、各ヒ
ータへの電力供給を処理物を基準として水平方向及び鉛
直方向に略均等に行い得るように構成してなるものにお
いて、前記配電回路に、各ヒータへの電力供給を処理物
を基準として水平方向に均等を保ち鉛直方向に不均等と
するように結線状態を切換える切換部を設け、この切換
部により下方に位置するヒータに上方に位置するヒータ
よりも大電力を供給し得るようにしたことを特徴とする
真空加圧炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8517195A JPH08285459A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 真空加圧炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8517195A JPH08285459A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 真空加圧炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08285459A true JPH08285459A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=13851224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8517195A Withdrawn JPH08285459A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 真空加圧炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08285459A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014122735A (ja) * | 2012-12-20 | 2014-07-03 | Ipsen Inc | 真空熱処理炉用の加熱素子配列構造 |
| CN108253780A (zh) * | 2018-04-02 | 2018-07-06 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 一种实现四区域控温的真空烧结炉 |
| CN118031636A (zh) * | 2024-03-22 | 2024-05-14 | 拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司 | 加热模块和加工设备 |
-
1995
- 1995-04-11 JP JP8517195A patent/JPH08285459A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014122735A (ja) * | 2012-12-20 | 2014-07-03 | Ipsen Inc | 真空熱処理炉用の加熱素子配列構造 |
| CN108253780A (zh) * | 2018-04-02 | 2018-07-06 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 一种实现四区域控温的真空烧结炉 |
| CN108253780B (zh) * | 2018-04-02 | 2023-12-15 | 宁波恒普技术股份有限公司 | 一种实现四区域控温的真空烧结炉 |
| CN118031636A (zh) * | 2024-03-22 | 2024-05-14 | 拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司 | 加热模块和加工设备 |
| CN118031636B (zh) * | 2024-03-22 | 2024-09-27 | 拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司 | 加热模块和加工设备 |
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