JPH08280823A - マルチリング型レンジモジュレータ - Google Patents
マルチリング型レンジモジュレータInfo
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- JPH08280823A JPH08280823A JP9227495A JP9227495A JPH08280823A JP H08280823 A JPH08280823 A JP H08280823A JP 9227495 A JP9227495 A JP 9227495A JP 9227495 A JP9227495 A JP 9227495A JP H08280823 A JPH08280823 A JP H08280823A
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- block
- modulator
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N2005/1092—Details
- A61N2005/1095—Elements inserted into the radiation path within the system, e.g. filters or wedges
Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 陽子線治療に用いられる照射野形成装置を小
型化できるマルチリング型レンジモジュレータを提供す
ること。 【構成】 陽子線の軌道上にレンジモジュレータ３０が
配置される。このレンジモジュレータは第１及び第２の
ブロック３２及び３３を備えており、第１及び第２のブ
ロックは軌道軸を中心軸として同芯状に配置されてい
る。第１及び第２のブロックの外面には階段状のステッ
プが形成されている。第１及び第２のブロックはそれぞ
れ陽子線の散乱角が異なっている（第２のブロックの散
乱角＞第１のブロックの散乱角）。このレンジモジュレ
ータを用いると、レンジモジュレータ自体に第２散乱体
の機能が備えられ、フラットなビーム分布を有する陽子
線を得ることができる。
型化できるマルチリング型レンジモジュレータを提供す
ること。 【構成】 陽子線の軌道上にレンジモジュレータ３０が
配置される。このレンジモジュレータは第１及び第２の
ブロック３２及び３３を備えており、第１及び第２のブ
ロックは軌道軸を中心軸として同芯状に配置されてい
る。第１及び第２のブロックの外面には階段状のステッ
プが形成されている。第１及び第２のブロックはそれぞ
れ陽子線の散乱角が異なっている（第２のブロックの散
乱角＞第１のブロックの散乱角）。このレンジモジュレ
ータを用いると、レンジモジュレータ自体に第２散乱体
の機能が備えられ、フラットなビーム分布を有する陽子
線を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は陽子線治療装置に用いら
れるマルチリング型レンジモジュレータに関するもので
ある。
れるマルチリング型レンジモジュレータに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】陽子線は物質に入射すると徐々にエネル
ギーを失いつつ進行し、停止直前で最大エネルギーを放
出する。このような陽子線の特徴は一般にブラックピー
クと呼ばれており、このブラックピークを利用して、例
えば、体内の病巣に高線量を照射治療する装置として陽
子線治療装置が知られている。
ギーを失いつつ進行し、停止直前で最大エネルギーを放
出する。このような陽子線の特徴は一般にブラックピー
クと呼ばれており、このブラックピークを利用して、例
えば、体内の病巣に高線量を照射治療する装置として陽
子線治療装置が知られている。
【０００３】ここで、図５を参照して、陽子線治療装置
について概説する。
について概説する。
【０００４】陽子線治療装置（照射野形成装置）は、第
１散乱体１２、２重リング第２散乱体１３、リッヂフィ
ルタ１４、２進法エネルギー微調整器１５、照射線量モ
ニター１５ａ、エックス線管１６、光照射野装置１７、
ブロックコリメーター１８、ボーラス１９、及び最終コ
リメーター２０を備えており、図示のように、第１散乱
体１２、２重リング第２散乱体１３、リッヂフィルタ１
４、２進法エネルギー微調整器１５、照射線量モニター
１５ａ、エックス線管１６、光照射野装置１７、及びブ
ロックコリメーター１８は筒状体２１内に配置されてい
る。陽子線は、第１散乱体１２及び２重リング第２散乱
体１３を介してリッヂフィルター１４に与えられ、ここ
で、単一エネルギーの陽子線にエネルギー分布をもたせ
て拡大ブラックピークを生成する。リッヂフィルター１
４を通過した陽子線は、２進法エネルギー微調整器１５
でエネルギー分布が調整されて、患者２２に照射され
る。なお、患者ベッド２３に対向してイメージインテン
シファイアー２４が配置される。このように、照射野形
成装置では加速器から引き出された陽子線を患部の大き
さに合わせて整形することになる。そして、照射野形成
装置において、リッヂフィルタの代りに種々のレンジモ
ジュレータが用いられる場合がある。
１散乱体１２、２重リング第２散乱体１３、リッヂフィ
ルタ１４、２進法エネルギー微調整器１５、照射線量モ
ニター１５ａ、エックス線管１６、光照射野装置１７、
ブロックコリメーター１８、ボーラス１９、及び最終コ
リメーター２０を備えており、図示のように、第１散乱
体１２、２重リング第２散乱体１３、リッヂフィルタ１
４、２進法エネルギー微調整器１５、照射線量モニター
１５ａ、エックス線管１６、光照射野装置１７、及びブ
ロックコリメーター１８は筒状体２１内に配置されてい
る。陽子線は、第１散乱体１２及び２重リング第２散乱
体１３を介してリッヂフィルター１４に与えられ、ここ
で、単一エネルギーの陽子線にエネルギー分布をもたせ
て拡大ブラックピークを生成する。リッヂフィルター１
４を通過した陽子線は、２進法エネルギー微調整器１５
でエネルギー分布が調整されて、患者２２に照射され
る。なお、患者ベッド２３に対向してイメージインテン
シファイアー２４が配置される。このように、照射野形
成装置では加速器から引き出された陽子線を患部の大き
さに合わせて整形することになる。そして、照射野形成
装置において、リッヂフィルタの代りに種々のレンジモ
ジュレータが用いられる場合がある。
【０００５】上述の照射野形成装置において、散乱体は
陽子線のビーム径を拡大するために用いられ、レンジモ
ジュレータは陽子線を患部の深さ方向に対して広げるた
めに用いられる。ここで、図６を参照して、散乱体及び
レンジモジュレータによる陽子線の広がりについて概説
する。
陽子線のビーム径を拡大するために用いられ、レンジモ
ジュレータは陽子線を患部の深さ方向に対して広げるた
めに用いられる。ここで、図６を参照して、散乱体及び
レンジモジュレータによる陽子線の広がりについて概説
する。
【０００６】加速器から供給される陽子線はそのビーム
径が５ｍｍ程度であり、ガウス分布状のビーム分布をも
つ。第１散乱体１２に入射した陽子線は多重クーロン散
乱によってそのビーム径が増大する（第１散乱体通過後
において陽子線のビーム分布はガウス分布である）。第
２散乱体１３では、第１散乱体通過後のガウス分布状の
陽子線を患者の位置でフラットなビーム分布に整形す
る。つまり、この第２散乱体１３は中心付近と外側とで
原子番号の異なる２種類以上の材質で構成されており、
陽子線の散乱角が材質の原子番号によって異なる性質を
利用して陽子線のビーム分布をフラットにしている。例
えば、ビーム分布が高い中心軸付近の陽子線を鉛で外側
に大きく散乱させ、ビーム分布の低い外側の陽子線は散
乱の小さいアルミニウムを通過させて、第２散乱体通過
後のビーム分布を患者の位置でフラットにしている。
径が５ｍｍ程度であり、ガウス分布状のビーム分布をも
つ。第１散乱体１２に入射した陽子線は多重クーロン散
乱によってそのビーム径が増大する（第１散乱体通過後
において陽子線のビーム分布はガウス分布である）。第
２散乱体１３では、第１散乱体通過後のガウス分布状の
陽子線を患者の位置でフラットなビーム分布に整形す
る。つまり、この第２散乱体１３は中心付近と外側とで
原子番号の異なる２種類以上の材質で構成されており、
陽子線の散乱角が材質の原子番号によって異なる性質を
利用して陽子線のビーム分布をフラットにしている。例
えば、ビーム分布が高い中心軸付近の陽子線を鉛で外側
に大きく散乱させ、ビーム分布の低い外側の陽子線は散
乱の小さいアルミニウムを通過させて、第２散乱体通過
後のビーム分布を患者の位置でフラットにしている。
【０００７】第２散乱体１３を通過した陽子線のエネル
ギーは一定であり、このため、レンジモジュレータ２６
は後述するように陽子線の通過位置によって厚さの異な
る構造を備えており、この厚さに対応して通過後の陽子
線のエネルギー（レンジ）が異なる。この結果、ブラッ
クピークが深さ方向に幅を有することになり、厚みを有
する患部に対応することができる。
ギーは一定であり、このため、レンジモジュレータ２６
は後述するように陽子線の通過位置によって厚さの異な
る構造を備えており、この厚さに対応して通過後の陽子
線のエネルギー（レンジ）が異なる。この結果、ブラッ
クピークが深さ方向に幅を有することになり、厚みを有
する患部に対応することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ここで、図７及び図８
を参照して、従来のレンジモジュレータについて概説す
る。
を参照して、従来のレンジモジュレータについて概説す
る。
【０００９】図７に示すレンジモジュレータは回転型で
あり（以下回転型レンジモジュレータと呼ぶ）、この回
転型レンジモジュレータは中心軸回りに回転し、これに
よって、エネルギーの異なるビームを時間的に混合させ
る。このような回転型レンジモジュレータを用いた際に
は、回転型レンジモジュレータを駆動するためのモータ
駆動系が必要となって、照射野形成装置が大型となる。
あり（以下回転型レンジモジュレータと呼ぶ）、この回
転型レンジモジュレータは中心軸回りに回転し、これに
よって、エネルギーの異なるビームを時間的に混合させ
る。このような回転型レンジモジュレータを用いた際に
は、回転型レンジモジュレータを駆動するためのモータ
駆動系が必要となって、照射野形成装置が大型となる。
【００１０】一方、図８に示すレンジモジュレータはリ
ッジフィルターと呼ばれており、このリッジフイルター
では楔型のリッジが複数配置され、エネルギーの異なる
ビームを散乱効果を利用して空間的に混合させる。図示
のリッジフィルターは一般に１５０ｍｍ×１５０ｍｍ程
度の大きさである。このように、リッジフィルターの寸
法は小さくなく、この結果、照射野形成装置を小型化す
る際の制約となる。
ッジフィルターと呼ばれており、このリッジフイルター
では楔型のリッジが複数配置され、エネルギーの異なる
ビームを散乱効果を利用して空間的に混合させる。図示
のリッジフィルターは一般に１５０ｍｍ×１５０ｍｍ程
度の大きさである。このように、リッジフィルターの寸
法は小さくなく、この結果、照射野形成装置を小型化す
る際の制約となる。
【００１１】また、上述の回転型レンジモジュレータ及
びリッジフィルターともに第２散乱体の下流側に配置す
る必要がある。ところが、この位置は、ビーム径が大き
く広がっている関係上レンジモジュレータを大きくする
必要がある。
びリッジフィルターともに第２散乱体の下流側に配置す
る必要がある。ところが、この位置は、ビーム径が大き
く広がっている関係上レンジモジュレータを大きくする
必要がある。
【００１２】加えて、上述の照射野形成装置では、レン
ジモジュレータに加えて第１及び第２散乱体が必要であ
り、この結果、照射野形成装置を小型化することが難し
いという問題点がある。
ジモジュレータに加えて第１及び第２散乱体が必要であ
り、この結果、照射野形成装置を小型化することが難し
いという問題点がある。
【００１３】本発明の目的は照射野形成装置を小型化で
きるレンジモジュレータを提供することにある。
きるレンジモジュレータを提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、陽子線
を照射して治療を行う装置に用いられるレンジモジュレ
ータであって、陽子線の軌道上に配置され該軌道軸を中
心軸として同芯状に配置された複数のブロック体を有
し、前記ブロック体の各々は前記陽子線の散乱角が異な
っておりしかも前記ブロック体の各々において前記軌道
軸方向に規定される高さが前記軌道軸に直交する方向に
沿って変化することを特徴とするマルチリング型レンジ
モジュレータが得られる。
を照射して治療を行う装置に用いられるレンジモジュレ
ータであって、陽子線の軌道上に配置され該軌道軸を中
心軸として同芯状に配置された複数のブロック体を有
し、前記ブロック体の各々は前記陽子線の散乱角が異な
っておりしかも前記ブロック体の各々において前記軌道
軸方向に規定される高さが前記軌道軸に直交する方向に
沿って変化することを特徴とするマルチリング型レンジ
モジュレータが得られる。
【００１５】
【作用】本発明では、陽子線の軌道上に軌道軸を中心軸
として複数のブロック体を同芯状に配置し、ブロック体
の各々において陽子線の散乱角を異ならせてしかもブロ
ックの各々において軌道軸方向に規定される高さが軌道
軸に直交する方向に沿って変化するようにしたから、照
射野形成装置に用いた際、第２散乱体を兼ねることがで
きてフラットなビーム分布を有する陽子線を得ることが
できる。その結果、照射野形成装置を小型とすることが
できる。
として複数のブロック体を同芯状に配置し、ブロック体
の各々において陽子線の散乱角を異ならせてしかもブロ
ックの各々において軌道軸方向に規定される高さが軌道
軸に直交する方向に沿って変化するようにしたから、照
射野形成装置に用いた際、第２散乱体を兼ねることがで
きてフラットなビーム分布を有する陽子線を得ることが
できる。その結果、照射野形成装置を小型とすることが
できる。
【００１６】
【実施例】以下本発明について実施例によって説明す
る。
る。
【００１７】図１を参照して、図示のマルチリング型レ
ンジモジュレータ３０は円板状ベースプレート３１を備
えており、このベースプレート３１上には第１のブロッ
ク３２が配設されている。この第１のブロック３２は複
数の円筒状部を備えている（図示の例では３個の円筒状
部３２ａ，３２ｂ及び３２ｃを備えている）。これら円
筒状部３２ａ，３２ｂ及び３２ｃはベースプレート３１
の中心軸に対して同心的に配置されており、円筒状部３
２ａ，３２ｂ及び３２ｃの内壁面は同一面を形成してい
る。円筒状部３２ａ，３２ｂ及び３２ｃは外径が異なっ
ており、円筒状部３２ａの外径＞円筒状部３２ｂの外径
＞円筒状部３２ｃの外径となっている。従って、第１の
ブロック３２の外面には階段状の段差３２ｃが形成され
ることになる。第１のブロック３２は低原子番号の材料
（例えば、アルミニウム）で形成されている。
ンジモジュレータ３０は円板状ベースプレート３１を備
えており、このベースプレート３１上には第１のブロッ
ク３２が配設されている。この第１のブロック３２は複
数の円筒状部を備えている（図示の例では３個の円筒状
部３２ａ，３２ｂ及び３２ｃを備えている）。これら円
筒状部３２ａ，３２ｂ及び３２ｃはベースプレート３１
の中心軸に対して同心的に配置されており、円筒状部３
２ａ，３２ｂ及び３２ｃの内壁面は同一面を形成してい
る。円筒状部３２ａ，３２ｂ及び３２ｃは外径が異なっ
ており、円筒状部３２ａの外径＞円筒状部３２ｂの外径
＞円筒状部３２ｃの外径となっている。従って、第１の
ブロック３２の外面には階段状の段差３２ｃが形成され
ることになる。第１のブロック３２は低原子番号の材料
（例えば、アルミニウム）で形成されている。
【００１８】さらに、第１のブロック３２内においてベ
ースプレート３１上には第２のブロック３３が配設され
ている。この第２のブロック３３は複数の円柱部で形成
されている。図示の例では、３個の円柱部３３ａ乃至３
３ｃで構成されている。これら円柱部３３ａ乃至３３ｃ
はベースプレート３１の中心軸を中心軸として円柱部３
３ａ、３３ｂ、及び３３ｃの順に配置されており、この
結果、第２のブロック３３の外面には階段状の段差３３
ｄが形成されることになる。第２のブロック３３は高原
子番号の材料（例えば、鉛）で形成されている。なお、
図示のレンジモジュレータの外径は約φ５０ｍｍであ
る。
ースプレート３１上には第２のブロック３３が配設され
ている。この第２のブロック３３は複数の円柱部で形成
されている。図示の例では、３個の円柱部３３ａ乃至３
３ｃで構成されている。これら円柱部３３ａ乃至３３ｃ
はベースプレート３１の中心軸を中心軸として円柱部３
３ａ、３３ｂ、及び３３ｃの順に配置されており、この
結果、第２のブロック３３の外面には階段状の段差３３
ｄが形成されることになる。第２のブロック３３は高原
子番号の材料（例えば、鉛）で形成されている。なお、
図示のレンジモジュレータの外径は約φ５０ｍｍであ
る。
【００１９】ここで、図２を参照して、本発明によるマ
ルチリング型レンジモジュレータの動作について説明す
る。
ルチリング型レンジモジュレータの動作について説明す
る。
【００２０】図２（ａ）に示すように陽子線通路に沿っ
て第１散乱体１２を配置し、第１散乱体１２の下流にレ
ンジモジュレータ３０を配置した。さらに、レンジモジ
ュレータ３０の下流にコリメータ４０を配置して、ビー
ム分布を調べた。
て第１散乱体１２を配置し、第１散乱体１２の下流にレ
ンジモジュレータ３０を配置した。さらに、レンジモジ
ュレータ３０の下流にコリメータ４０を配置して、ビー
ム分布を調べた。
【００２１】陽子線は第１散乱体１２に入射される。そ
して、第１散乱体１２によって陽子線は前述したように
散乱される。そして、第１散乱体１２を通過した陽子線
はレンジモジュレータ３０に入射される。
して、第１散乱体１２によって陽子線は前述したように
散乱される。そして、第１散乱体１２を通過した陽子線
はレンジモジュレータ３０に入射される。
【００２２】前述のように、第２のブロック３３は鉛で
形成されているので、レンジモジュレータ３０の中心付
近に入射した陽子線は第２のブロック３３を通過後大き
く広がることになる（つまり、図２（ａ）に示すように
θ1 が大となる）。一方、第１のブロック３２はアルミ
ニウムで形成されているので、レンジモジュレータ３０
の外側部に入射した陽子線は第１のブロック３２を通過
後ほとんど広がらない（つまり、図２に示すようにθ2
が小となる）。この結果、レンジモジュレータ３０通過
後の陽子線はガウス分布の中心部が外側に移動してビー
ム強度が平坦になる。
形成されているので、レンジモジュレータ３０の中心付
近に入射した陽子線は第２のブロック３３を通過後大き
く広がることになる（つまり、図２（ａ）に示すように
θ1 が大となる）。一方、第１のブロック３２はアルミ
ニウムで形成されているので、レンジモジュレータ３０
の外側部に入射した陽子線は第１のブロック３２を通過
後ほとんど広がらない（つまり、図２に示すようにθ2
が小となる）。この結果、レンジモジュレータ３０通過
後の陽子線はガウス分布の中心部が外側に移動してビー
ム強度が平坦になる。
【００２３】さらに、レンジモジュレータ３０におい
て、第１及び第２のブロックは前述したように階段状の
段差が形成されているから、陽子線は段差の高さに対応
したレンジになり、照射位置では異なるビームが混合さ
れ最終的に治療に必要なレンジにモジュレートされる。
照射位置で線量分布測定を行った。線量分布測定用セン
サーとしてシリコン半導体検出器を用いて照射位置で出
力された陽子線のビーム分布を調べたところ、図２
（ｂ）（ｃ）に示すビーム分布が得られた（図２（ｂ）
では照射位置における横方向ビーム分布が、又図２
（ｃ）では同縦（深さ）方向ビーム分布が示されてい
る）。
て、第１及び第２のブロックは前述したように階段状の
段差が形成されているから、陽子線は段差の高さに対応
したレンジになり、照射位置では異なるビームが混合さ
れ最終的に治療に必要なレンジにモジュレートされる。
照射位置で線量分布測定を行った。線量分布測定用セン
サーとしてシリコン半導体検出器を用いて照射位置で出
力された陽子線のビーム分布を調べたところ、図２
（ｂ）（ｃ）に示すビーム分布が得られた（図２（ｂ）
では照射位置における横方向ビーム分布が、又図２
（ｃ）では同縦（深さ）方向ビーム分布が示されてい
る）。
【００２４】レンジモジュレータ３０から出射された陽
子線は、コリメータ４０で不要なビームがカットされ照
射位置に導かれる。
子線は、コリメータ４０で不要なビームがカットされ照
射位置に導かれる。
【００２５】第１のブロック３２と第２のブロック３３
の高さ（Ｈ）を高くすると、縦（深さ）方向ビーム分布
において平坦部が広くなる。つまり、第１のブロック３
２及び第２のブロック３３の高さ（Ｈ）をＨ-2からＨ-1
にすると、縦（深さ）方向ビーム分布における平坦部が
Ｈ-2からＨ-1に拡大する。
の高さ（Ｈ）を高くすると、縦（深さ）方向ビーム分布
において平坦部が広くなる。つまり、第１のブロック３
２及び第２のブロック３３の高さ（Ｈ）をＨ-2からＨ-1
にすると、縦（深さ）方向ビーム分布における平坦部が
Ｈ-2からＨ-1に拡大する。
【００２６】このように、本発明によるマルチリング型
レンジモジュレータを用いることによって、第２散乱体
がなくても所望の（つまり、フラットな）ビーム分布を
有する陽子線を得ることができる。つまり、本発明のマ
ルチリング型レンジモジュレータは実質的に第２散乱体
の機能をも有しているから、このマルチリング型レンジ
モジュレータを用いることによって、照射野形成装置を
小型とすることができる。
レンジモジュレータを用いることによって、第２散乱体
がなくても所望の（つまり、フラットな）ビーム分布を
有する陽子線を得ることができる。つまり、本発明のマ
ルチリング型レンジモジュレータは実質的に第２散乱体
の機能をも有しているから、このマルチリング型レンジ
モジュレータを用いることによって、照射野形成装置を
小型とすることができる。
【００２７】なお、上述の実施例では、低原子番号の材
料としてアルミニウムをあげ、高原子番号の材料として
鉛をあげたが、低原子番号の材料として、例えば、アク
リル及びポリエチレンをあげることができ、また、高原
子番号の材料として、タングステン及びタンタルをあげ
ることができる。
料としてアルミニウムをあげ、高原子番号の材料として
鉛をあげたが、低原子番号の材料として、例えば、アク
リル及びポリエチレンをあげることができ、また、高原
子番号の材料として、タングステン及びタンタルをあげ
ることができる。
【００２８】さらに、レンジモジュレータの構造として
は種々のものが考えられるが、例えば、図３，図４に示
す構造のものを用いてもよい。図３に示すレンジモジュ
レータでは、第１のブロック３２の外面にスロープ状の
傾斜面が形成されており、一方、第２のブロック３３の
外面は曲面状となっている。
は種々のものが考えられるが、例えば、図３，図４に示
す構造のものを用いてもよい。図３に示すレンジモジュ
レータでは、第１のブロック３２の外面にスロープ状の
傾斜面が形成されており、一方、第２のブロック３３の
外面は曲面状となっている。
【００２９】図４に示すレンジモジュレータでは第１乃
至第３のブロックを備えており、第３のブロックは中心
部材とこの中心部材をとり囲み外側程高さを低くした２
個のリングで構成され、この第３のブロックをとり囲む
ようにして第２のブロック及び第１のブロックが配設さ
れている。
至第３のブロックを備えており、第３のブロックは中心
部材とこの中心部材をとり囲み外側程高さを低くした２
個のリングで構成され、この第３のブロックをとり囲む
ようにして第２のブロック及び第１のブロックが配設さ
れている。
【００３０】図３及び図４に示す構造のレンジモジュレ
ータにおいても、図１で説明したレンジモジュレータと
同様の効果が得られる。
ータにおいても、図１で説明したレンジモジュレータと
同様の効果が得られる。
【００３１】いずれにしても、レンジモジュレータは、
陽子線の軌道上に配置されこの軌道軸を中心軸として同
芯状に配置された複数のブロック体を有し、これらブロ
ック体の各々は陽子線の散乱角が異なっておりしかもブ
ロック体の各々において軌道軸方向に規定される高さが
軌道軸に直交する方向に沿って変化する構造であればよ
い。
陽子線の軌道上に配置されこの軌道軸を中心軸として同
芯状に配置された複数のブロック体を有し、これらブロ
ック体の各々は陽子線の散乱角が異なっておりしかもブ
ロック体の各々において軌道軸方向に規定される高さが
軌道軸に直交する方向に沿って変化する構造であればよ
い。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるマル
チリング型レンジモジュレータを用いると、第２散乱体
を用いることなく、フラットなビーム分布を有する陽子
線を得ることができ、その結果、照射野形成装置を小型
とすることができるという効果がある。
チリング型レンジモジュレータを用いると、第２散乱体
を用いることなく、フラットなビーム分布を有する陽子
線を得ることができ、その結果、照射野形成装置を小型
とすることができるという効果がある。
【図１】本発明によるマルチリング型レンジモジュレー
タの一実施例を一部破断して示す斜視図である。
タの一実施例を一部破断して示す斜視図である。
【図２】本発明によるマルチリング型レンジモジュレー
タを用いた際のビーム分布を説明するための図である。
タを用いた際のビーム分布を説明するための図である。
【図３】本発明によるマルチリング型レンジモジュレー
タの他の実施例を示す断面図である。
タの他の実施例を示す断面図である。
【図４】本発明によるマルチリング型レンジモジュレー
タの他の実施例を示す断面図である。
タの他の実施例を示す断面図である。
【図５】照射野形成装置を概略的に示す図である。
【図６】従来のレンジモジュレータを用いた際の陽子線
の広がりについて説明するための図である。
の広がりについて説明するための図である。
【図７】従来のレンジモジュレータの一例の外観を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図８】従来のレンジモジュレータの他の例の外観を示
す斜視図である。
す斜視図である。
１２ 第１散乱体 １３ 第２散乱体 １４ リッヂフィルタ １５ ２進法エネルギー微調整器 １５ａ 照射線量モニター １６ エックス線管 １７ 光照射野装置 １８ ブロックコリメーター １９ ボーラス ２０ 最終コリメーター ２１ 筒状体 ２２ 患者 ２３ 患者ベッド ２４ イメージインテンシファイアー ３０ レンジモジュレータ ３１ ベースプレート ３２ 第１のブロック ３３ 第２のブロック ４０ コリメータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥村 敏之 茨城県つくば市天王台１丁目１番地の１ 筑波大学内 (72)発明者 辻 比呂志 茨城県つくば市天王台１丁目１番地の１ 筑波大学内 (72)発明者 早川 吉則 茨城県つくば市天王台１丁目１番地の１ 筑波大学内
Claims (2)
- 【請求項１】 陽子線を照射して治療を行う装置に用い
られるレンジモジュレータであって、陽子線の軌道上に
配置され該軌道軸を中心軸として同芯状に配置された複
数のブロック体を有し、前記ブロック体の各々は前記陽
子線の散乱角が異なっておりしかも前記ブロック体の各
々において前記軌道軸方向に規定される高さが前記軌道
軸に直交する方向に沿って変化することを特徴とするマ
ルチリング型レンジモジュレータ。 - 【請求項２】 請求項１に記載されたマルチリング型レ
ンジモジュレータにおいて、前記陽子線に対する散乱角
は同心的配置の外側に位置するブロック体ほど小さいこ
とを特徴とするマルチリング型レンジモジュレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7092274A JP2893512B2 (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | マルチリング型レンジモジュレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7092274A JP2893512B2 (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | マルチリング型レンジモジュレータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08280823A true JPH08280823A (ja) | 1996-10-29 |
| JP2893512B2 JP2893512B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=14049830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7092274A Expired - Lifetime JP2893512B2 (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | マルチリング型レンジモジュレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2893512B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000084097A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-03-28 | Mitsubishi Electric Corp | 粒子線エネルギー変更装置及び粒子線照射装置 |
| EP1684313A2 (en) * | 2005-01-24 | 2006-07-26 | Hitachi, Ltd. | Ion beam delivery equipment and method |
| US8309939B2 (en) | 2008-05-13 | 2012-11-13 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam treatment apparatus and particle beam treatment method |
| JP2016512142A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-04-25 | ヴァリアン メディカル システムズ インコーポレイテッド | 放射線治療システムのためのエネルギー分解器 |
-
1995
- 1995-04-18 JP JP7092274A patent/JP2893512B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
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| EP1684313A3 (en) * | 2005-01-24 | 2009-11-18 | Hitachi, Ltd. | Ion beam delivery equipment and method |
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| JP2016512142A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-04-25 | ヴァリアン メディカル システムズ インコーポレイテッド | 放射線治療システムのためのエネルギー分解器 |
| CN110292722A (zh) * | 2013-03-15 | 2019-10-01 | 瓦里安医疗系统公司 | 用于放射治疗系统的能量降能器 |
| US10926103B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-02-23 | Varian Medical Systems, Inc. | Energy degrader having layer structure parallel to the incident beam direction for radiation therapy system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2893512B2 (ja) | 1999-05-24 |
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| JPH0373093B2 (ja) |
Legal Events
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|---|---|---|---|
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