JPH08277462A - 中屈折率の光学被膜 - Google Patents
中屈折率の光学被膜Info
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- JPH08277462A JPH08277462A JP8072244A JP7224496A JPH08277462A JP H08277462 A JPH08277462 A JP H08277462A JP 8072244 A JP8072244 A JP 8072244A JP 7224496 A JP7224496 A JP 7224496A JP H08277462 A JPH08277462 A JP H08277462A
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- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
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- G—PHYSICS
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- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視領域に吸収を有さない均質組成の均一な
被膜を作ることのできる蒸着材料を提供する。 【解決手段】 約１．６〜１．９の間の屈折率値を有す
る中屈折率の光学被膜を真空蒸着によって光学基体上に
製造するために式Ｉ ＹＡｌxＯz （Ｉ） ［但し式中、ｘ＝０．５〜５であり、ｚ＝３／２・（１
＋ｘ）である。］に相当する化学組成を有する蒸着材料
を使用する。
被膜を作ることのできる蒸着材料を提供する。 【解決手段】 約１．６〜１．９の間の屈折率値を有す
る中屈折率の光学被膜を真空蒸着によって光学基体上に
製造するために式Ｉ ＹＡｌxＯz （Ｉ） ［但し式中、ｘ＝０．５〜５であり、ｚ＝３／２・（１
＋ｘ）である。］に相当する化学組成を有する蒸着材料
を使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、中屈折率を有する
光学被膜に関する。
光学被膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】薄い酸化物被膜は広く工業的に、特に光
学材料に、保護被膜としてあるいは光学的機能目的のた
めに使用されている。例えば、腐食や機械的ダメージに
対する保護として、あるいは光学的な構成物や機器、特
にレンズ、ミラー、プリズムなどの表面のコーティング
に役立つものである。薄い酸化物被膜はさらに、反射率
増減のための高、中、低屈折率を有する光学被膜を製造
するために使用される。主要な用途範囲は、めがねレン
ズ、カメラ用のエレメント、双眼鏡、及び光学測定器な
らびにレーザー技術用の光学的構成物などの光学基体上
に反射防止被膜を作製することである。他の用途範囲
は、例えば干渉ミラー、ビームスプリッター、熱フィル
ターや透熱性ミラーにおける、一定の屈折率及び／又は
一定の光学的吸収特性を有する被膜の製造である。
学材料に、保護被膜としてあるいは光学的機能目的のた
めに使用されている。例えば、腐食や機械的ダメージに
対する保護として、あるいは光学的な構成物や機器、特
にレンズ、ミラー、プリズムなどの表面のコーティング
に役立つものである。薄い酸化物被膜はさらに、反射率
増減のための高、中、低屈折率を有する光学被膜を製造
するために使用される。主要な用途範囲は、めがねレン
ズ、カメラ用のエレメント、双眼鏡、及び光学測定器な
らびにレーザー技術用の光学的構成物などの光学基体上
に反射防止被膜を作製することである。他の用途範囲
は、例えば干渉ミラー、ビームスプリッター、熱フィル
ターや透熱性ミラーにおける、一定の屈折率及び／又は
一定の光学的吸収特性を有する被膜の製造である。
【０００３】このタイプの酸化物被膜製造のための出発
材料はそれ自体公知である。通常の出発材料はＳｉＯ2
及び広範囲の金属酸化物であり、必要によりそれらの組
み合わせでもよい。その選択は、目標とする光学特性及
び操作性によって実質上経験的に行われている。被膜
は、それ自体公知の真空蒸着法によって製造される。典
型的な例として、使用できる材料、操作方法、及びこれ
と関連して起こる問題点などを記載しているドイツ特許
第１２ ２８ ４８９号をここに参考文献として掲げ
る。
材料はそれ自体公知である。通常の出発材料はＳｉＯ2
及び広範囲の金属酸化物であり、必要によりそれらの組
み合わせでもよい。その選択は、目標とする光学特性及
び操作性によって実質上経験的に行われている。被膜
は、それ自体公知の真空蒸着法によって製造される。典
型的な例として、使用できる材料、操作方法、及びこれ
と関連して起こる問題点などを記載しているドイツ特許
第１２ ２８ ４８９号をここに参考文献として掲げ
る。
【０００４】中屈折率を有する被膜、すなわち約１．６
〜１．９（５００ｎｍの波長で）の光学屈折率値を有す
る被膜の製造のためには、原則として適する出発材料の
範囲は限られている。好適な出発材料は実質的にアルミ
ニウム、マグネシウム、イットリウム、ランタン、プラ
セオジムの酸化物であり、さらにまた弗化セリウム及び
弗化ランタンであり、それらの混合物でもある。
〜１．９（５００ｎｍの波長で）の光学屈折率値を有す
る被膜の製造のためには、原則として適する出発材料の
範囲は限られている。好適な出発材料は実質的にアルミ
ニウム、マグネシウム、イットリウム、ランタン、プラ
セオジムの酸化物であり、さらにまた弗化セリウム及び
弗化ランタンであり、それらの混合物でもある。
【０００５】それ自体適しているこれらの材料も、しか
しながら現実の観点からみると、処理過程で特に注目す
べき多数の欠点も有している。
しながら現実の観点からみると、処理過程で特に注目す
べき多数の欠点も有している。
【０００６】ここで一つの状況としては、これらの材料
が高融点及び高沸点を有し、かつさらにこの融点と沸点
が比較的近接していることである。しかしながら、実用
的観点からは、前記の蒸着材料が十分な蒸発を始める前
に完全に融解していることが重要である。こうしてはじ
めて均一、かつ、充分な蒸発速度が保証される。このこ
とが重要であるのは、被覆すべき対象物に均一な厚さの
均質な被膜を生成させるためである。しかしながら、通
常の操作条件では不完全にしか融けないか、あるいは全
く溶融しないマグネシウムやイットリウムの酸化物に対
する実用条件の下では、これは当てはまらない。上記酸
化物は概して蒸発困難であり、したがって様々な厚みを
有する被膜が得られる。
が高融点及び高沸点を有し、かつさらにこの融点と沸点
が比較的近接していることである。しかしながら、実用
的観点からは、前記の蒸着材料が十分な蒸発を始める前
に完全に融解していることが重要である。こうしてはじ
めて均一、かつ、充分な蒸発速度が保証される。このこ
とが重要であるのは、被覆すべき対象物に均一な厚さの
均質な被膜を生成させるためである。しかしながら、通
常の操作条件では不完全にしか融けないか、あるいは全
く溶融しないマグネシウムやイットリウムの酸化物に対
する実用条件の下では、これは当てはまらない。上記酸
化物は概して蒸発困難であり、したがって様々な厚みを
有する被膜が得られる。
【０００７】それ故、適した添加剤によってベース材料
の融点を下げることが望まれる。添加剤はまた、得られ
る被膜の屈折率を特定方法により一定の範囲内で変化さ
せ、調節するのに役立つ。
の融点を下げることが望まれる。添加剤はまた、得られ
る被膜の屈折率を特定方法により一定の範囲内で変化さ
せ、調節するのに役立つ。
【０００８】これらの目的のために適した添加剤の選択
は、吸収を有さないことが、その要件として限定され
る。適切な添加剤として当てはまる金属酸化物はそれ
故、近赤外及び可視スペクトル領域ならびに近紫外線波
長領域（およそ２００ｎｍまで）において吸収を有さな
いものに限られる。
は、吸収を有さないことが、その要件として限定され
る。適切な添加剤として当てはまる金属酸化物はそれ
故、近赤外及び可視スペクトル領域ならびに近紫外線波
長領域（およそ２００ｎｍまで）において吸収を有さな
いものに限られる。
【０００９】混合物の使用は真空蒸着技術においては望
ましくない。この理由は、混合物は一般に一致して蒸発
せず、すなわち蒸発過程中にその組成が変化し、蒸着し
た被膜の組成が変化し、したがってそれらの屈折率が変
化するためである。その典型的な例は、酸化タンタル／
酸化アルミニウム又は酸化ハフニウム／酸化アルミニウ
ムの混合系である。
ましくない。この理由は、混合物は一般に一致して蒸発
せず、すなわち蒸発過程中にその組成が変化し、蒸着し
た被膜の組成が変化し、したがってそれらの屈折率が変
化するためである。その典型的な例は、酸化タンタル／
酸化アルミニウム又は酸化ハフニウム／酸化アルミニウ
ムの混合系である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、真空蒸着技
術による中屈折率の光学被膜製造用の蒸着材料、すなわ
ち該材料が既知材料の欠点を有さず、これにより、特に
可視領域に吸収を有さない均質組成の均一な被膜をつく
ることのできる蒸着材料を見出すことを目的とする。
術による中屈折率の光学被膜製造用の蒸着材料、すなわ
ち該材料が既知材料の欠点を有さず、これにより、特に
可視領域に吸収を有さない均質組成の均一な被膜をつく
ることのできる蒸着材料を見出すことを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、次式Ｉ ＹＡｌxＯz （Ｉ） ［但し式中、ｘ＝０．５〜５及びｚ＝３／２・（１＋
ｘ）である。］に相当する化学組成を有する蒸着材料
が、光学基体上の真空蒸着により約１．６〜１．９の間
の屈折率値を有する、中屈折率の光学被膜の製造に極め
て適していることがわかった。これらの材料は、容易
に、かつ、真空中に飛散する(spitting、「とび」)こと
なく蒸発し得るもので、真空蒸着技術の通常の操作条件
下で、所望の屈折率を有する均質な、吸収のない、安定
な被膜を容易に生成させることがわかった。
ｘ）である。］に相当する化学組成を有する蒸着材料
が、光学基体上の真空蒸着により約１．６〜１．９の間
の屈折率値を有する、中屈折率の光学被膜の製造に極め
て適していることがわかった。これらの材料は、容易
に、かつ、真空中に飛散する(spitting、「とび」)こと
なく蒸発し得るもので、真空蒸着技術の通常の操作条件
下で、所望の屈折率を有する均質な、吸収のない、安定
な被膜を容易に生成させることがわかった。
【００１２】本発明はしたがって、光学基体の真空蒸着
被膜による約１．６〜１．９の間の屈折率値を有する中
屈折率の光学被膜製造のための、式Ｉに相当する化学組
成を有する蒸着材料の使用に関する。
被膜による約１．６〜１．９の間の屈折率値を有する中
屈折率の光学被膜製造のための、式Ｉに相当する化学組
成を有する蒸着材料の使用に関する。
【００１３】本発明はさらに、光学基体に真空蒸着によ
りこれらの蒸着材料を被覆する、中屈折率の光学被膜の
製造方法に関する。
りこれらの蒸着材料を被覆する、中屈折率の光学被膜の
製造方法に関する。
【００１４】この新規な蒸着材料は、２つの酸化物の混
合物ではなく、固有の化学量論的に規定された組成を有
する混合酸化物化合物である。これらの化合物中には酸
化イットリウム及び酸化アルミニウムが２：１から１：
５までのモル比で存在する。酸素含量はそれぞれの場合
化学量論量である。
合物ではなく、固有の化学量論的に規定された組成を有
する混合酸化物化合物である。これらの化合物中には酸
化イットリウム及び酸化アルミニウムが２：１から１：
５までのモル比で存在する。酸素含量はそれぞれの場合
化学量論量である。
【００１５】この新規材料では真空中での蒸発過程にお
いて酸素が遊離することはない。真空蒸着技術における
通常の操作条件で吸収を有さない被膜が容易に生成す
る。ここでさらに、得られた被膜の光学特性が真空蒸着
中、残留酸素圧の変化によっても実質的に影響されない
ことがわかった。これらの発見は特に驚きに値するもの
であり、かつ、予測し得ないものである。
いて酸素が遊離することはない。真空蒸着技術における
通常の操作条件で吸収を有さない被膜が容易に生成す
る。ここでさらに、得られた被膜の光学特性が真空蒸着
中、残留酸素圧の変化によっても実質的に影響されない
ことがわかった。これらの発見は特に驚きに値するもの
であり、かつ、予測し得ないものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】この新規な蒸着材料は、酸化イッ
トリウム（Ｙ2Ｏ3）及び酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）
を２：１から１：５までのモル比で混合し、この混合物
を空気雰囲気中、融点以下の温度で焼結することにより
得ることができる。新規な蒸着材料のためのこの種の製
造方法は同様に本発明に包含される。この焼結生成物は
灰色から白色の固い粒子であり、概略１６００〜１７０
０℃の温度から完全に融解し、約１０-4ミリバールの真
空下、１８００〜１９００℃の間の温度で蒸発させるこ
とができる。
トリウム（Ｙ2Ｏ3）及び酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）
を２：１から１：５までのモル比で混合し、この混合物
を空気雰囲気中、融点以下の温度で焼結することにより
得ることができる。新規な蒸着材料のためのこの種の製
造方法は同様に本発明に包含される。この焼結生成物は
灰色から白色の固い粒子であり、概略１６００〜１７０
０℃の温度から完全に融解し、約１０-4ミリバールの真
空下、１８００〜１９００℃の間の温度で蒸発させるこ
とができる。
【００１７】代表的な新規蒸着材料は、Ｙ4Ａｌ2Ｏ
9（Ｙ2Ｏ3：Ａｌ2Ｏ3＝２：１、モル比で）、Ｙ3Ａｌ5
Ｏ12（３：５）、Ｙ2Ａｌ4Ｏ9（１：２）及びＹＡｌ5Ｏ
9（１：５）に従う化学組成を有する。
9（Ｙ2Ｏ3：Ａｌ2Ｏ3＝２：１、モル比で）、Ｙ3Ａｌ5
Ｏ12（３：５）、Ｙ2Ａｌ4Ｏ9（１：２）及びＹＡｌ5Ｏ
9（１：５）に従う化学組成を有する。
【００１８】この新規な蒸着材料は、真空蒸着装置なら
びに関連技術の慣用装置において公知の方法により慣用
の操作条件で使用できる。この真空蒸着は、熱的蒸発に
よるのみならず電子ビーム蒸発によっても行うことがで
きる。
びに関連技術の慣用装置において公知の方法により慣用
の操作条件で使用できる。この真空蒸着は、熱的蒸発に
よるのみならず電子ビーム蒸発によっても行うことがで
きる。
【００１９】この新規な材料は、任意の適した基体上
に、特に機械的、化学的影響に耐性のある、均一厚さで
接着性の良好な均質かつ薄い被膜の製造を可能にする。
この被膜は、測定が行われる波長に依存するが、約１．
６〜１．９の間の中屈折率を有する。この被膜は、近紫
外（約２００ｎｍから）から可視領域までの、さらに近
赤外（およそ７０００ｎｍ）までの波長範囲において高
い透過率を有し、さらに特に可視波長領域で吸収を全く
有さない。
に、特に機械的、化学的影響に耐性のある、均一厚さで
接着性の良好な均質かつ薄い被膜の製造を可能にする。
この被膜は、測定が行われる波長に依存するが、約１．
６〜１．９の間の中屈折率を有する。この被膜は、近紫
外（約２００ｎｍから）から可視領域までの、さらに近
赤外（およそ７０００ｎｍ）までの波長範囲において高
い透過率を有し、さらに特に可視波長領域で吸収を全く
有さない。
【００２０】
実施例１ ４２．９重量％の酸化イットリウム（III）及び５７．
１重量％の酸化アルミニウム（III）（モル比１：３）
から粉末混合物を調製し、この混合物を造粒した。この
組成は式ＹＡｌ3Ｏ6の化合物が生成するように選ばれ
た。
１重量％の酸化アルミニウム（III）（モル比１：３）
から粉末混合物を調製し、この混合物を造粒した。この
組成は式ＹＡｌ3Ｏ6の化合物が生成するように選ばれ
た。
【００２１】この粒状物を空気雰囲気中、１６４５℃の
温度で５時間焼結した。得られた生成物の融点は約１７
００℃であった。
温度で５時間焼結した。得られた生成物の融点は約１７
００℃であった。
【００２２】実施例２ ５７．１重量％の酸化イットリウム（III）及び４２．
９重量％の酸化アルミニウム（III）（モル比３：５）
から粉末混合物を調製し、この混合物を造粒した。この
組成は式Ｙ3Ａｌ5Ｏ12の化合物が生成するように選ばれ
た。
９重量％の酸化アルミニウム（III）（モル比３：５）
から粉末混合物を調製し、この混合物を造粒した。この
組成は式Ｙ3Ａｌ5Ｏ12の化合物が生成するように選ばれ
た。
【００２３】この粒状物を空気雰囲気中１６４５℃の温
度で５時間焼結した。得られた生成物の融点は約１７０
０℃であった。
度で５時間焼結した。得られた生成物の融点は約１７０
０℃であった。
【００２４】実施例３（使用方法） 実施例１の粒状物を銅の蒸発坩堝に入れ、電子ビーム蒸
発による市販の真空蒸着装置に装入した。蒸着被覆の対
象となる基体は石英又はガラスからなるものである。
発による市販の真空蒸着装置に装入した。蒸着被覆の対
象となる基体は石英又はガラスからなるものである。
【００２５】被覆は、１８００〜１９００℃の温度及び
２×１０-4ミリバールの残留Ｏ2圧力の下、１５０℃の
基体温度で行い、被膜の厚さが３６０ｎｍとなるまで
０．４ｎｍ／秒の蒸着速度で行った。
２×１０-4ミリバールの残留Ｏ2圧力の下、１５０℃の
基体温度で行い、被膜の厚さが３６０ｎｍとなるまで
０．４ｎｍ／秒の蒸着速度で行った。
【００２６】この被膜は５００ｎｍにおいて屈折率ｎ＝
１．５８であった。この被膜は、可視領域及びおよそ２
００ｎｍの波長まで吸収を示さなかった。
１．５８であった。この被膜は、可視領域及びおよそ２
００ｎｍの波長まで吸収を示さなかった。
【００２７】実施例２の粒状物を同様に操作することに
より、５００ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．６２を有する
被膜を得た。
より、５００ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．６２を有する
被膜を得た。
フロントページの続き (71)出願人 591032596 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． 250, Ｄ−64293 Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄ ｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅ ｒｍａｎｙ
Claims (4)
- 【請求項１】 約１．６〜１．９の間の屈折率値を有す
る中屈折率の光学被膜を真空蒸着によって光学基体上に
製造するための式Ｉ ＹＡｌxＯz （Ｉ） ［但し式中、ｘ＝０．５〜５であり、ｚ＝３／２・（１
＋ｘ）である。］に相当する化学組成を有する蒸着材
料。 - 【請求項２】 光学基体上に真空蒸着により約１．６〜
１．９の間の屈折率値を有する中屈折率の光学被膜を製
造する方法であって、該基体を請求項１に記載の式Ｉに
相当する化学組成を有する蒸着材料で蒸着被覆すること
を特徴とする前記方法。 - 【請求項３】 請求項１に記載の式Ｉに相当する化学組
成を有する蒸着材料の真空蒸着によって製造された、約
１．６〜１．９の間の屈折率値を有する中屈折率の光学
被膜を特徴とする光学基体。 - 【請求項４】 Ｙ2Ｏ3及びＡｌ2Ｏ3を２：１から１：５
までのモル比で混合し、該混合物を空気雰囲気中におい
てその融点以下の温度で焼結することを特徴とする、請
求項１に記載の式Ｉに相当する化学組成を有する蒸着材
料の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19511663/1 | 1995-03-30 | ||
| DE19511663A DE19511663A1 (de) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Mittelbrechende optische Schichten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08277462A true JPH08277462A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=7758148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8072244A Withdrawn JPH08277462A (ja) | 1995-03-30 | 1996-03-27 | 中屈折率の光学被膜 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6087014A (ja) |
| EP (1) | EP0735386B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08277462A (ja) |
| KR (1) | KR960034115A (ja) |
| CN (1) | CN1103054C (ja) |
| DE (2) | DE19511663A1 (ja) |
| HU (1) | HU218466B (ja) |
| TW (1) | TW502006B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004501857A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | ノース・キャロライナ・ステイト・ユニヴァーシティ | マイクロエレクトロニクス、光学及び他の適用に使用するための新規な非晶質酸化物 |
| JP2006518008A (ja) * | 2003-02-19 | 2006-08-03 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 中程度屈折率の光学層を製造するための蒸着材料 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19825100A1 (de) * | 1998-06-05 | 1999-12-16 | Merck Patent Gmbh | Mittel zur Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten |
| US20050040478A1 (en) * | 2001-06-25 | 2005-02-24 | Gerald Lucovsky | Novel non-crystalline oxides for use in microelectronic, optical, and other applications |
| US6678082B2 (en) | 2001-09-12 | 2004-01-13 | Harris Corporation | Electro-optical component including a fluorinated poly(phenylene ether ketone) protective coating and related methods |
| US6789498B2 (en) | 2002-02-27 | 2004-09-14 | Applied Materials, Inc. | Elements having erosion resistance |
| US6984592B2 (en) * | 2002-08-28 | 2006-01-10 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming metal-doped alumina |
| US7087481B2 (en) * | 2002-08-28 | 2006-08-08 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming metal oxides using metal compounds containing aminosilane ligands |
| US7253122B2 (en) | 2002-08-28 | 2007-08-07 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming metal oxides using metal diketonates and/or ketoimines |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5429380B1 (ja) * | 1970-04-15 | 1979-09-22 | ||
| DE2022117C3 (de) * | 1970-05-06 | 1980-12-11 | Scherico Ltd., Luzern (Schweiz) | Pulverförmige Ausgangsmischung für die unter Methacrylsäuremethylester-Zusatz erfolgende Herstellung von Knochenzement |
| US4166831A (en) * | 1977-07-11 | 1979-09-04 | Gte Laboratories Incorporated | Transparent yttria ceramics and method for producing same |
| DE3513938A1 (de) * | 1985-04-18 | 1986-10-23 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Cytostatikahaltiges pharmakadepot |
| US4743502A (en) * | 1985-07-10 | 1988-05-10 | Mitsubishi Chemical Industries Limited | Magneto-optical medium |
| CH680214A5 (ja) * | 1989-11-06 | 1992-07-15 | Balzers Hochvakuum | |
| US5484752A (en) * | 1993-11-12 | 1996-01-16 | Ube Industries, Ltd. | Ceramic composite material |
-
1995
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-
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004501857A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | ノース・キャロライナ・ステイト・ユニヴァーシティ | マイクロエレクトロニクス、光学及び他の適用に使用するための新規な非晶質酸化物 |
| JP2006518008A (ja) * | 2003-02-19 | 2006-08-03 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 中程度屈折率の光学層を製造するための蒸着材料 |
| JP4740108B2 (ja) * | 2003-02-19 | 2011-08-03 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 中程度屈折率の光学層を製造するための蒸着材料の使用、光学層及び多層光学的システム |
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