HU218466B - Közepes törésmutatójú optikai rétegek, eljárás ilyen rétegek, valamint gőzölőanyagok előállítására, továbbá e gőzölőanyagok alkalmazása - Google Patents
Közepes törésmutatójú optikai rétegek, eljárás ilyen rétegek, valamint gőzölőanyagok előállítására, továbbá e gőzölőanyagok alkalmazása Download PDFInfo
- Publication number
- HU218466B HU218466B HU9600820A HUP9600820A HU218466B HU 218466 B HU218466 B HU 218466B HU 9600820 A HU9600820 A HU 9600820A HU P9600820 A HUP9600820 A HU P9600820A HU 218466 B HU218466 B HU 218466B
- Authority
- HU
- Hungary
- Prior art keywords
- layers
- optical
- materials
- refractive index
- vaporizers
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000010025 steaming Methods 0.000 title claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 abstract 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical group [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSNPEOOEWZZFPJ-UHFFFAOYSA-N alumane;yttrium Chemical compound [AlH3].[Y] PSNPEOOEWZZFPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Chemical group 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Chemical group 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Chemical group 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Chemical group 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G02B1/105—
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Geology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
A találmány (I) általános képletű YAlxOz (I) – amely képletbenx értéke 0,5-től 5-ig terjedő szám, és z értéke 3/2·(1+x) – kémiaiösszetételű gőzölőanyagok alkalmazása közepes, 1,6 és 1,9 közöttitörésmutatójú optikai rétegek előállítására optikai szubsztrátumokon aszubsztrátumok vákuumban történő gőzölése útján. A találmánytárgyköréhez tartoznak még a fenti, közepes törésmutatójú optikairétegek, valamint eljárás ilyen rétegek, továbbá gőzölőanyagokelőállítására. ŕ
Description
A találmány közepes törésmutatójú optikai rétegekre, ilyen rétegek, valamint gőzölőanyagok előállítására, továbbá e gőzölóanyagok alkalmazására vonatkozik.
Vékony oxidrétegeket a műszaki gyakorlatban, különösen az optikában elteijedten alkalmaznak védőrétegekként vagy optikai célokra. Ilyen rétegek többek között korrózió és mechanikai sérülések elleni védelemként vagy optikai alkatrészek és berendezések, így különösen lencsék, tükrök, prizmák felületének nemesítésére szolgálhatnak. Vékony oxidrétegeket alkalmaznak továbbá a reflexió növelését vagy csökkentését szolgáló nagy, közepes és kis törésmutatójú optikai rétegek előállítására is. A fő alkalmazási területek optikai szubsztrátumokon, így szemüvegek, kamerák és távcsövek lencséin, optikai mérőberendezések és lézertechnikai eszközök alkatrészein tükrözésgátló és nemesítőrétegek előállítása. További alkalmazási területek meghatározott törésmutatójú és/vagy meghatározott optikai elnyelési tulajdonságú rétegek előállítása egyebek mellett interferenciatükrök, sugárelosztók, hőszűrök és hidegfényű tükrök esetében.
Ilyen oxidrétegek előállítására szolgáló kiindulási anyagok ismeretesek. Szokásos a szilícium-dioxid, valamint számos fém-oxid, amelyeket adott esetben egymással kombinálva használnak. Az anyagok kiválasztása lényegében empirikusan történik a kívánt optikai tulajdonságoktól és a feldolgozhatóságtól függően. A rétegeket az ismert vákuumgőzölési eljárással állítják elő. Forrásként idézhetjük a DE-PS 1 228 489 dokumentumot, amely tárgyalja az alkalmazható anyagokat és a megmunkálási eljárásokat, valamint az ezekkel összefüggő nehézségeket.
Közepes, tehát (500 nm hullámhosszúságnál) 1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú rétegek előállításához az elvileg alkalmas kiindulási anyagok választéka korlátozott. Kiindulási anyagokként lényegében az alumínium, magnézium, ittrium, lantán és prazeodímium oxidjai, a cerfluorid- és lantán-fluorid, valamint a felsorolt anyagok elegyei jönnek szóba.
Ismertették bevonatok előállítását szórással, ehhez sajtolt por céltárgyat használtak, amely 1 mól Al2O3-ra vonatkoztatva 1 mól MgO-ot és 2 mól Y2O3-ot tartalmazott. A leválasztott anyag vizsgálata során ortorombos szerkezetre jellemző csúcsokat mutatott. E gőzölőanyagot használva a szórás kitermelése Y2O3-ra háromszor nagyobb, mint Al2O3-ra [Pawlewitz: Thin solid films, 73, 1., 69-175 (1980)].
X3Y2Si3O12 általános képletű ittrium-alumínium gránátokról is beszámoltak, amely képletben X jelentése vas-, magnézium- vagy mangánatom, és Y jelentése alumínium-, vas-, titán- vagy krómatom (Database WPI Derwent Pub. AN 79-76500 b).
Az EP-A-01 208 549 dokumentum mágnes-optikai elven végzett adatrögzítéshez használt mágnes-optikai anyagot ismertet. Ennek az anyagnak az összetétele különbözik az optikai bevonatokhoz használt gőzölőanyagétól, a két anyaggal szemben támasztott műszaki követelmények pedig teljesen eltérők.
Ezek az egyébként alkalmas anyagok azonban számos hátrányt mutatnak, amelyek különösen a feldolgozás tekintetében lépnek fel.
Az egyik ilyen szempont az, hogy ezeknek az anyagoknak magas az olvadás- és forráspontja, amelyek ezenkívül viszonylag közel esnek egymáshoz. Gyakorlati szempontból fontos azonban, hogy a gőzölőanyagok az érzékelhető gőzölés kezdete előtt teljesen megolvadjanak. Csak ebben az esetben biztosítható egyenletes és kielégítő gőzölési sebesség. Ez szükséges ahhoz, hogy a gőzölendő tárgyakon homogén és egyenletes vastagságú rétegek képződjenek. A magnézium és ittrium oxidjai esetében a gyakorlatban alkalmazott körülmények között azonban ez nem következik be. A fenti anyagok a szokásos üzemeltetési körülmények között nem, illetve nem teljes mértékben olvadnak meg. Ezeket az anyagokat nehéz elpárologtatni. és a kapott rétegek rétegvastagság-ingadozásokat mutatnak.
A tárgyalt okok miatt alkalmas adalékok útján az alapanyagok olvadáspontjának csökkentésére törekedtek. Adalékok szolgálnak ezenkívül arra is, hogy a kapott rétegben a törésmutatót bizonyos határok között változtassák és irányított módon beállítsák.
Az ilyen célú alkalmas adalékok kiválasztását korlátozza az elnyelésmentesség követelménye. Megfelelő adalékokként ezért csak olyan fém-oxidok jönnek tekintetbe, amelyek a közeli infravörös és a látható tartománytól a közeli UV hullámhossztartományig (200 nm-ig) terjedő spektrális tartományban nem mutatnak elnyelést.
A vákuumgőzöléses eljárásokban tulajdonképpen nem előnyös anyagkeverékek használata. Ennek az az oka, hogy az elegyek általában inkongruens módon párolognak el, azaz az elpárolgási folyamat során megváltoztatják összetételüket, és ennek megfelelően a levált rétegek összetétele és ezáltal azok törésmutatója is változik. Jellegzetes példaként említhetők erre a tantáloxid/alumínium-oxid, illetve a hafriium-oxid/alumíniumoxid keverékrendszerek.
A találmány feladata közepes törésmutatójú optikai rétegek vákuumgőzöléses előállításához gőzölőanyagok kidolgozása, amelyek az ismert anyagok hátrányait nem mutatják, és amelyekkel különösen egyenletes, homogén összetételű, és a látható tartományban elnyelésmentes rétegek állíthatók elő.
Meglepő módon azt állapítottuk meg, hogy (I) általános képletű
YA1XOZ (I)
- amely képletben x értéke 0,5-től 5-ig terjedő szám, és z értéke 3/2 (1+x) kémiai összetételű gőzölőanyagok kiválóan alkalmazhatók közepes, 1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú optikai rétegek előállítására optikai szubsztrátumok vákuumgőzölése útján. Igazoltuk, hogy ezek az anyagok nehézségek nélkül és a vákuumban bekövetkező fröccsenések nélkül elpárologtathatok, és a vákuumgőzölésben szokásos üzemeltetési viszonyok között homogén, elnyelésmentes, kívánt törésmutatójú, stabil rétegeket eredményeznek.
A fentiek alapján a találmány (I) általános képletű YA1XOZ (I)
HU 218 466 Β
- amely képletben x értéke 0,5-től 5-ig terjedő szám, és z értéke 3/2 (1-ι-x) kémiai összetételű gőzölőanyagok alkalmazása közepes, 1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú optikai rétegek előállítására optikai szubsztrátumokon a szubsztrátumok vákuumban történő gőzölése útján.
A találmány továbbá eljárás közepes, 1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú optikai rétegek előállítására optikai szubsztrátumok vákuumban történő gőzölése útján, ahol a szubsztrátumokat az 1. igénypont szerinti (I) általános képletű kémiai összetételű gőzölőanyagokkal gőzöljük.
A találmány szerinti gőzölőanyagok nem a két oxid elegyei, hanem diszkrét, sztöchiometriailag meghatározott összetételű keverékoxid-vegyületek. Ezekben a vegyületekben az ittrium-oxid és az alumínium-oxid 2:1-1:5 mólarányban van jelen. Az oxigéntartalom mindenkor sztöchiometrikus.
A találmány szerinti anyagoknál a vákuumgőzölés során nem lép fel oxigénleadás. A vákuumgőzölési eljárások szokásos munkakörülményei között minden további nélkül elnyelésmentes rétegek képződnek. Ezenkívül azt tapasztaltuk, hogy a kapott rétegek optikai tulajdonságait az oxigénmaradék-nyomás vákuumgőzölés során fellépő ingadozásai alig befolyásolják.
Ezek a felismerések különösen meglepőek és váratlanok.
A találmány szerinti gőzölőanyagokat úgy állítjuk elő, hogy ittrium-oxidot (Y2O3) és alumínium-oxidot (A12O3) 2:1-1:5 mólarányban keverünk, és a kapott elegyet az olvadáspontnál alacsonyabb hőmérsékleten levegőn szintereljük. A találmány szerinti gőzölőanyagok ilyen előállítási eljárása szintén a találmány tárgyát képezi. A színtereit termékek kemény, szürke-fehér szemcsék alakjában vannak, 1600-1700 °C hőmérséklettől kezdve teljesen megolvadnak, és IO-4 mbar vákuumban 1800 és 1900 °C közötti hőmérsékleteken elpárologtathatok.
A találmány szerinti jellegzetes gőzölőanyagok kémiai összetétele Y4A12O9 (az Y2O3:A12O3 mólarány 2:1), Y3A15O12 (3:5), Y2A14O9 (1:2) és YA15O9 (1:5).
A találmány szerinti gőzölőanyagokat a vonatkozó szakterületen szokásos vákuumgőzölő berendezésekben ismert módon és a szokásos feldolgozási körülmények között használhatjuk. A vákuumgőzöléshez nemcsak termikus elpárologtatást, hanem elektronsugaras elpárologtatást is alkalmazhatunk.
A találmány szerinti anyagokkal tetszés szerinti alkalmas optikai szubsztrátumokon kialakíthatunk homogén, vékony, egyenletes vastagságú rétegeket, amelyek jól tapadnak, és mechanikai, továbbá kémiai hatásokkal szemben különösen ellenállók. A rétegek törésmutatója közepes nagyságú; a törésmutató értéke
- a méréshez alkalmazott hullámhosszúság függvényében - 1,6 és 1,9 között van. A rétegek nagy áteresztőképességet mutatnak a közeli UV (mintegy 200 nm értéktől számított) tartománytól kezdve a látható tartományon keresztül a közeli IR (mintegy 7000 nm értékig terjedő) tartományig, és különösen a látható hullámhosszúság tartományában elnyelésmentesek.
A találmányt a következőkben példákkal szemléltetjük.
1. példa
42,9 tömeg% ittrium(III)-oxid és 57,1 tömeg% alumínium(III)-oxid (1:3 mólarányú) elegyéből porkeveréket állítunk elő, amelyet granulálunk. Az összetétel úgy van megválasztva, hogy a porelegyből YA13O6 képletű vegyület keletkezik.
A granulátumot levegőn 1645 °C hőmérsékleten 5 órán át szintereljük. A kapott termék olvadáspontja 1700 °C.
2. példa
57,1 tömeg% ittrium(III)-oxid és 42,9 tömeg% alumínium(III)-oxid (3:5 mólarányú) elegyéből porkeveréket állítunk elő, amelyet granulálunk. Az összetétel úgy van megválasztva, hogy a porelegyből Y3A15O12 képletű vegyület keletkezik.
A granulátumot levegőn, 1645 °C hőmérsékleten 5 órán át szintereljük. A kapott termék olvadáspontja 1700 °C.
3. példa
Ebben a példában a találmány szerinti gőzölőanyagok alkalmazását mutatjuk be.
Az 1. példa szerinti granulátumot rézanyagú elpárologtatótégelybe töltjük, és elektronsugaras elpárologtatóssal működő, kereskedelmi forgalomban kapható vákuumgőzölő berendezésbe helyezzük.
A gőzölendő szubsztrátum anyaga kvarc vagy üveg.
A bevonást 1800-1900 °C hőmérsékleten 1,4 nm/s leválási sebességgel folytatjuk le 360 nm rétegvastagság-elérésig, ennek során a szubsztrátum hőmérséklete 150 °C, és az oxigénmaradék-nyomás 2 χ 10~4 mbar.
A réteg törésmutatója 500 nm hullámhosszúságnál n=l,58. A réteg a látható tartományban és egészen 200 nm hullámhosszúságig elnyelésmentes.
A 2. példa szerinti granulátumot analóg módon feldolgozva 500 nm hullámhosszúságnál n= 1,62 törésmutatójú réteget kapunk.
Claims (4)
1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú optikai rétegek jellemeznek, amelyek az 1. igénypont szerinti (I) általános 5 képletü kémiai összetételű gőzölőanyagok vákuumban történő gőzölése útján vannak előállítva.
1. (I) általános képletű
YA1XOZ (I)
- amely képletben x értéke 0,5-től 5-ig terjedő szám, és z értéke 3/2 (1 +x) kémiai összetételű gőzölőanyagok alkalmazása közepes, 1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú optikai rétegek előállítására optikai szubsztrátumokon a szubsztrátumok vákuumban történő gőzölése útján.
2. Eljárás közepes, 1,6 és 1,9 közötti törésmutatójú optikai rétegek előállítására optikai szubsztrátumok vákuumban történő gőzölése útján, azzal jellemezve, hogy a szubsztrátumokat az 1. igénypont szerinti (I) ál3
HU 218 466 Β talános képletü kémiai összetételű gőzölőanyagokkal gőzöljük.
3. Optikai szubsztrátumok, amelyeket közepes,
4. Eljárás az 1. igénypont szerinti (I) általános képleté kémiai összetételű gőzölőanyagok előállítására, azzal jellemezve, hogy Y2O3 és A12O3 2:1-1:5 mólarányú keverékét állítjuk elő, és a kapott keveréket olvadáspontjánál alacsonyabb hőmérsékleten levegőn szintereljük.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19511663A DE19511663A1 (de) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Mittelbrechende optische Schichten |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HU9600820D0 HU9600820D0 (en) | 1996-05-28 |
| HUP9600820A2 HUP9600820A2 (en) | 1996-12-30 |
| HUP9600820A3 HUP9600820A3 (en) | 1997-10-28 |
| HU218466B true HU218466B (hu) | 2000-09-28 |
Family
ID=7758148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HU9600820A HU218466B (hu) | 1995-03-30 | 1996-03-29 | Közepes törésmutatójú optikai rétegek, eljárás ilyen rétegek, valamint gőzölőanyagok előállítására, továbbá e gőzölőanyagok alkalmazása |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6087014A (hu) |
| EP (1) | EP0735386B1 (hu) |
| JP (1) | JPH08277462A (hu) |
| KR (1) | KR960034115A (hu) |
| CN (1) | CN1103054C (hu) |
| DE (2) | DE19511663A1 (hu) |
| HU (1) | HU218466B (hu) |
| TW (1) | TW502006B (hu) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19825100A1 (de) * | 1998-06-05 | 1999-12-16 | Merck Patent Gmbh | Mittel zur Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten |
| WO2002001622A2 (en) * | 2000-06-26 | 2002-01-03 | North Carolina State University | Novel non-crystalline oxides for use in microelectronic, optical, and other applications |
| US20050040478A1 (en) * | 2001-06-25 | 2005-02-24 | Gerald Lucovsky | Novel non-crystalline oxides for use in microelectronic, optical, and other applications |
| US6678082B2 (en) | 2001-09-12 | 2004-01-13 | Harris Corporation | Electro-optical component including a fluorinated poly(phenylene ether ketone) protective coating and related methods |
| US6789498B2 (en) | 2002-02-27 | 2004-09-14 | Applied Materials, Inc. | Elements having erosion resistance |
| US6984592B2 (en) * | 2002-08-28 | 2006-01-10 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming metal-doped alumina |
| US7087481B2 (en) * | 2002-08-28 | 2006-08-08 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming metal oxides using metal compounds containing aminosilane ligands |
| US7253122B2 (en) | 2002-08-28 | 2007-08-07 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for forming metal oxides using metal diketonates and/or ketoimines |
| DE10307096A1 (de) * | 2003-02-19 | 2004-09-02 | Merck Patent Gmbh | Aufdampfmaterial zur Herstellung mittelbrechender optischer Schichten |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5429380B1 (hu) * | 1970-04-15 | 1979-09-22 | ||
| DE2022117C3 (de) * | 1970-05-06 | 1980-12-11 | Scherico Ltd., Luzern (Schweiz) | Pulverförmige Ausgangsmischung für die unter Methacrylsäuremethylester-Zusatz erfolgende Herstellung von Knochenzement |
| US4166831A (en) * | 1977-07-11 | 1979-09-04 | Gte Laboratories Incorporated | Transparent yttria ceramics and method for producing same |
| DE3513938A1 (de) * | 1985-04-18 | 1986-10-23 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Cytostatikahaltiges pharmakadepot |
| US4743502A (en) * | 1985-07-10 | 1988-05-10 | Mitsubishi Chemical Industries Limited | Magneto-optical medium |
| CH680214A5 (hu) * | 1989-11-06 | 1992-07-15 | Balzers Hochvakuum | |
| US5484752A (en) * | 1993-11-12 | 1996-01-16 | Ube Industries, Ltd. | Ceramic composite material |
-
1995
- 1995-03-30 DE DE19511663A patent/DE19511663A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-02-27 TW TW085102265A patent/TW502006B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-03-19 DE DE59610756T patent/DE59610756D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-19 EP EP96104315A patent/EP0735386B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-27 JP JP8072244A patent/JPH08277462A/ja not_active Withdrawn
- 1996-03-29 KR KR1019960009171A patent/KR960034115A/ko active IP Right Grant
- 1996-03-29 HU HU9600820A patent/HU218466B/hu not_active IP Right Cessation
- 1996-03-29 US US08/623,780 patent/US6087014A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-29 CN CN96102807A patent/CN1103054C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1103054C (zh) | 2003-03-12 |
| DE19511663A1 (de) | 1996-10-02 |
| US6087014A (en) | 2000-07-11 |
| EP0735386A3 (de) | 1997-06-11 |
| KR960034115A (ko) | 1996-10-22 |
| EP0735386B1 (de) | 2003-10-08 |
| HUP9600820A2 (en) | 1996-12-30 |
| EP0735386A2 (de) | 1996-10-02 |
| TW502006B (en) | 2002-09-11 |
| HUP9600820A3 (en) | 1997-10-28 |
| CN1157927A (zh) | 1997-08-27 |
| HU9600820D0 (en) | 1996-05-28 |
| DE59610756D1 (de) | 2003-11-13 |
| JPH08277462A (ja) | 1996-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5464683A (en) | Coated transparent substrate | |
| US5340607A (en) | Vapor-deposition material for the production of high-refraction optical coatings | |
| JP2000515929A (ja) | スパッタリングターゲットとその製造方法 | |
| JP3723580B2 (ja) | 中程度の屈折率の光学コーテイング製造用の蒸気析出素材 | |
| HU218466B (hu) | Közepes törésmutatójú optikai rétegek, eljárás ilyen rétegek, valamint gőzölőanyagok előállítására, továbbá e gőzölőanyagok alkalmazása | |
| CN1150345C (zh) | 稳定的氧化钛基气相沉积材料 | |
| JP5008807B2 (ja) | 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法 | |
| JP4205912B2 (ja) | 透明な酸化イットリウム膜とその製造方法 | |
| Bradford et al. | The effect of the substrate temperature on the optical properties of reactively evaporated silicon oxide films | |
| US3900609A (en) | Method for manufacture of a refracting, light permeable oxide layer | |
| JPH083727A (ja) | 真空蒸着方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HMM4 | Cancellation of final prot. due to non-payment of fee |