JPH08271219A - 被測定体の物理特性を決定する装置及び方法 - Google Patents

被測定体の物理特性を決定する装置及び方法

Info

Publication number
JPH08271219A
JPH08271219A JP6444796A JP6444796A JPH08271219A JP H08271219 A JPH08271219 A JP H08271219A JP 6444796 A JP6444796 A JP 6444796A JP 6444796 A JP6444796 A JP 6444796A JP H08271219 A JPH08271219 A JP H08271219A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
optical
coherent light
optical path
coherent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6444796A
Other languages
English (en)
Inventor
Michael A Marcus
アラン マーカス マイケル
Stanley Gross
グロス スタンレー
David C Wideman
カーター ワイドマン デビッド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/408,871 external-priority patent/US5659392A/en
Priority claimed from US08/408,770 external-priority patent/US5596409A/en
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of JPH08271219A publication Critical patent/JPH08271219A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02015Interferometers characterised by the beam path configuration
    • G01B9/02027Two or more interferometric channels or interferometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02001Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02007Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02015Interferometers characterised by the beam path configuration
    • G01B9/02027Two or more interferometric channels or interferometers
    • G01B9/02028Two or more reference or object arms in one interferometer
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/0207Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
    • G01B9/02071Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by measuring path difference independently from interferometer
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/0209Low-coherence interferometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/60Reference interferometer, i.e. additional interferometer not interacting with object

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被測定体の厚さ、群屈折率、表面までの距離
等、被測定体の物理特性を高速で測定する。 【解決手段】 この装置は、可変光路遅延要素(54)
を共有するように組み合わされたノンコヒーレント光学
干渉計(53)と、コヒーレント光学干渉計(55)を
含んでいる。厚さ測定については、例えば個体又は液
体、水平面に沿って移動する液体、平面を流下する液体
等の厚みを測定することが出来る。また、多重層の厚さ
測定も可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非接触光学干渉分
光法 (interferometry) による被測定体の物理特性を決
定する装置及び方法に関する。更に詳しくは、被測定体
の物理特性、例えば厚さ、群屈折率、及び表面までの距
離等を測定する装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ウエブや被覆の製造過程では、ウエブや
被覆層の厚さをその製造工程ライン上で正確に測定する
装置が必要である。この種の装置は速やかな応答時間
と、横方向の高解像度を備えていなければならないと同
時に、持ち運び可能で軽量、小型、且つ容易に設置可能
なものでなければならない。更に、装置は環境温度に高
低が在ったり、また溶剤が存在していたり、可成り空気
の流れが有る所とか、種々のレベルの相対湿度が有るよ
うな環境であっても容易に設置できるものであることが
必要である。更に、装置は再較正せずに生産機械に設置
出来るように、自己較正型であるか、長時間にわたって
初期較正状態を維持できるものでなければならない。
【0003】本発明を推進させた力は、最小の時間で製
造工程が改善されたかどうかを知りたいと言う要求、及
び最小の時間で製造工程ラインの能力を評価したいと言
う要求に基づいている。装置の可搬性を高めることは、
製品の品質問題処理活動に要する時間を短縮させるのに
必要である。本発明は、光学干渉分光法 (interferomet
ry) によって被測定体の物理特性を測定することに関す
る。従って、ノンコヒーレント(非干渉性)及びコヒー
レント(干渉性)光学干渉計について、その背景を簡単
に述べることにする。
【0004】光源の可干渉距離とは、光源を発した光ビ
ームの位相の関係が相互に関係を示す距離を言う。ヘリ
ウム・ネオンレーザのような長い可干渉距離を持つコヒ
ーレント光を発する光源では、この距離は数キロメート
ルにもなる。これとは対照的に、ノンコヒーレントで広
帯域な白色光源では、この距離は僅か数マイクロメータ
(ミクロン)である。例えば、典型的広帯域発光ダイオ
ード(LED) は8μmから15μmオーダの可干渉距離を
有している。
【0005】図1は従来のマイケルソン型のノンコヒー
レント光学干渉計10を光ファイバーで構成した一例を
示すブロック図である。このノンコヒーレント光学干渉
計は、ノンコヒーレント光信号を放射するノンコヒーレ
ント光源14を備えている。このノンコヒーレント光源
14から送られるノンコヒーレント光信号は、シングル
モード光ファイバー16に結合される。このシングルモ
ード光ファイバー16は分割手段として用いられる2x
2の光カプラ18を含んでいる。光カプラ18はシング
ルモード光ファイバー16に沿って送られてくるノンコ
ヒーレント光信号を、それぞれシングルモード光ファイ
バー20、22に沿って伝搬する実質的に同じ強度の第
1及び第2光信号に分割する。シングルモード光ファイ
バー20に沿って伝搬する第1光信号は、光信号印加・
収集手段(applying and collecting means) 24に入射
する。第1光信号は、光信号印加・収集手段24を介し
て被測定体25に結合する。この第1光信号の一部は被
測定体25で反射し、光信号印加・収集手段を介してシ
ングルモード光ファイバー20に戻される。他方、シン
グルモード光ファイバー22に沿って伝搬する第2光信
号はコリメーティング光信号印加・収集手段26に入射
する。この第2光信号はコリメーティング光信号印加・
収集手段26によってコリメート(平行光化)され、こ
のコリメートされた光信号は、再帰反射器、鏡、又はそ
れらの組み合わせ等の光学要素28に送られる。第2光
信号をコリメートした光の一部は光学要素28によって
反射され、コリメーティング光信号印加・収集手段26
によってシングルモード光ファイバー22に結合され
る。光学要素28は、図示の矢印Aの方向に正確な運動
を起こさせる駆動手段、例えばモータ駆動の平行移動
台、駆動ねじ機構、或いはボイス−コイル駆動装置等の
駆動手段30(以下、モータ30と呼称する)に取り付
けられる。モータ30のスピードは、光学要素28が往
復運動をする際、測定が行われる時間間隔(即ち、測定
サイクル)の間、光学要素28の速度が一定になるよう
に制御される。
【0006】動作中、シングルモード光ファイバーに沿
ってそれぞれ伝搬する第1及び第2光信号は反射して光
カプラ18に戻され、そこで再結合して再結合光信号を
形成すると共に、この再結合光信号の一部はシングルモ
ード光ファイバー34によって光検出器32に向けられ
る。光検出器32は光学要素28の変位の関数として再
結合光信号の強度を測定する。
【0007】ノンコヒーレント光学干渉計10は4つの
ブランチ(支系)、即ちノンコヒーレント光源ブラン
チ、被測定体ブランチ、リファレンスブランチ、及び検
出ブランチを含んで構成されている。光源ブランチはノ
ンコヒーレント光源14から光カプラ18までの光路を
含んで構成される。光カプラ18から被測定体25に至
り、さらに光カプラ18に戻るまでの光路の全長をノン
コヒーレント光学干渉計10の被測定体ブランチの光路
長と定義する。同様に、光カプラ18から光学要素28
に至り、さらに光カプラ18に戻るまでの光路の全長を
ノンコヒーレント光学干渉計10のリファレンスブラン
チの光路長と定義する。同様にして、光カプラ18から
光検出器32までの光路をノンコヒーレント光学干渉計
10の検出ブランチと定義する。被測定体ブランチ及び
リファレンスブランチをノンコヒーレント光学干渉計1
0の干渉ブランチと呼ぶ。
【0008】ノンコヒーレント光学干渉計10の動作
中、モータ30は光学的要素28を駆動して、それをコ
リメーティング光信号印加・収集手段26に対し近づけ
たり、遠ざけたりする。光学的要素28がこの遠近動作
を起こすと、リファレンスブランチの光路の長さは変化
する。この走査により、光学的要素28が何れかの方向
に移動したとき、被測定体の異なる深さが識別される。
【0009】ノンコヒーレント光源14の可干渉距離は
短いので、再結合信号の強め合う干渉は、光学干渉計1
0の被測定体ブランチとリファレンスブランチの光信号
が互いに干渉性である時にだけ発生する。相互干渉性
は、被測定体ブランチとリファレンスブランチの光路長
がほぼ同じ時に起こる。強め合う干渉信号が最大となる
のは、被測定体ブランチとリファレンスブランチの光路
長が等しくなるときである。光学的要素28が相互干渉
性領域を通して走査されるとき、一連の干渉縞が観測さ
れる。これらの干渉縞の強度は光源の可干渉距離の僅か
な違いでゼロから最大値まで変化する。
【0010】強め合う干渉が発生するためには、シング
ルモード光ファイバー20に結合し直される被測定体2
5から来る反射光信号が必要である。与えられた探査深
さに於いて被測定体25から来る反射光信号を得るに
は、群屈折率を異にする被測定体25の隣接する光学媒
体の間に光学的インターフェイスがなければならない。
これは、例えば光ファイバーコネクタと空気とのインタ
ーフェイス、空気と被測定体前面とのインターフェイ
ス、及び被測定体の第2面と隣接媒体(もし在れば)と
のインターフェイスで発生する。従って、互いに強め合
う干渉は、群屈折率を異にする被測定体の光学的媒体の
各々に対して、僅かな可干渉距離内でリファレンスブラ
ンチの光路長が被測定体ブランチのそれに等しくなる光
学的要素28の位置で観察される。
【0011】更に図1に於いて、光学的要素28はモー
タ30によって矢印A方向に正確な動きをするように取
り付けられている。正確な測定を行うために、モータ3
0の定速制御が利用される。モータを一定速度で駆動す
ることによって計測時間間隔からのモータの移動距離を
計算することが可能になる。モータの一定速度は、典型
的にはアクティブサーボ制御ループによって得られ、こ
の制御ループは光学的要素28(即ち、モータ30)に
対し、図2に示すような時間に関する速度のグラフを発
生する。測定サイクルの各端部で生ずる加速及び減速状
態は可変速度領域となり、この領域では正確な測定は出
来ない。加速状態は図の点aとbの間で起こり、定速状
態は点bとcの間に示されており、減速状態は点cとd
の間で起こる。実際には、点bとcの間で所望の程度に
速度変化を最小にするのは難しい。この難しさが装置の
精度に限界を与えることになる。また、ヒステリシス及
びバックラシュが累積する可能性もあるから、測定は一
方向に移動しているときだけに行われる。典型的測定サ
イクルは次の通りである。即ち、測定は光学的要素28
(図1に図示)が、点bからcへの定速状態を左から右
に移動する間に行われる。実際には、点bとcの区間が
定速状態に達していることを確実にするために、基準点
e(図2に図示)を検出する。図2にはモータ30が基
準点eを横切る時間を点eを付して示している。点eの
この位置はモータ30のヒステリシス及びバックラシュ
によって走査毎に変化する。測定サイクルはモータが左
から右へ移動し、基準点eを通過したときに開始する。
【0012】図3は、コヒーレント光学干渉計40に基
づいて構成された典型的なマイケルソン光学干渉計のブ
ロック図を示す。この光学干渉計40はコリメートされ
たコヒーレント光信号を放射するレーザ等のコヒーレン
ト光源42を含んで構成される。このコヒーレント光源
42から放射されるコヒーレント光信号は、例えばビー
ムスプリッタ等のビーム分割手段44の点Bに於いて、
ほぼ同じ強度の第1及び第2光信号に分割される。第1
光信号は固定して取り付けた再帰反射器46に入射す
る。第2光信号は、矢印A方向に正確な動きを示すよう
に取り付けた光学的要素48、例えば再帰反射器(以
下、再帰反射器48と称する)等、に入射する。第1及
び第2光信号は再帰反射されてビーム分割手段44に戻
り、そこで点cに於いて再結合し、相互に干渉し合う。
この際、結合した光の干渉信号は検出器50によって検
出される。
【0013】コヒーレント光学干渉計40は4つのブラ
ンチ、即ちコヒーレント光源ブランチ、固定ブランチ、
リファレンスブランチ、及び検出ブランチを含んで構成
される。ビームス分割手段44の点Bから再帰反射器4
6に至り、さらにビームスプリッタの点Cに戻るまでの
光路の全長をコヒーレント光学干渉計40の固定ブラン
チの光路長と定義する。同様に、ビームス分割手段44
の点Bから再帰反射器48に至り、さらにビームスプリ
ッタの点Cに戻るまでの光路の全長をコヒーレント光学
干渉計40のリファレンスブランチの光路長と定義す
る。コヒーレント光学干渉計のコヒーレント光源ブラン
チ及び検出ブランチは、それぞれノンコヒーレント光学
干渉計10の光源ブランチ及び検出ブランチの定義に従
う。
【0014】コヒーレント光源42は長い可干渉距離を
有しているので、干渉信号を光検出器50で検出するた
めに、コヒーレント光学干渉計40の固定ブランチ及び
リファレンスブランチが同じ光路長を有している必要は
ない。このため、振幅の等しい干渉縞が再帰反射器の運
動の全範囲にわたって観測される。図3に示す光学干渉
計の構成は、コヒーレント光源をノンコヒーレント光源
に換え、ノンコヒーレント光源の僅かな可干渉距離内で
固定ブランチとリファレンスブランチの光路長を等しく
することによって、大型のノンコヒーレント光学干渉計
として使用することが出来る。図3の固定再帰反射器、
即ち再帰反射器46を被測定体25(図1に図示)によ
って置き換え、更に固定ブランチとリファレンスブラン
チの光路長をほぼ等しくすれば、図1に示した光ファイ
バー構成のノンコヒーレント光学干渉計10の実施例と
機能的に等価な構成となる。
【0015】ノンコヒーレント光学干渉計が、移動して
いるウェブの所定の物理特性、例えばその厚さ決めるの
に利用できる光学的縞模様を発生することについては、
これまでにも示されている。例えば、米国特許 US-A-3,
319,515 は、光学干渉計による光学的状態の識別を基に
した物質の物理特性の決定について述べている。しか
し、米国特許 US-A-4,958,930 に述べられているよう
に、その測定装置は、生産のオンライン状態、即ち生産
ラインからウェブ又は被覆層を除去しない状態で移動中
のウェブや被覆物の僅かな厚さ変化(1%以下の範囲)
を正確に測定する機構を備えていない。更に、米国特許
US-A-3,319,515 が述べている装置は大型であり、その
装置を設置するのは困難であるし、多くの空間的制約を
受ける処理環境で容易に利用できるものではない。
【0016】米国特許 US-A-3,319,515 が述べている測
定手法は、以下の文献、即ち(1)Optics Letters, Vo
l. 12, No. 3, March 1987, pp.158-160に掲載の Rober
t C.Youngquist, Sally Carr 及び D.E.N. Daviesによ
る "Optical Coherence-Domain Reflectometry: a New
Optical Evaluation Technique" ;(2)Applied Opti
cs, Vol. 26, No. 14, July 15, 1987, pp. 2836-2842
に掲載の B.L. Danielson 及び C.D. Whittenberによる
"Guided-wave Reflectometry with Micrometer Resolu
tion" ;(3)Journal of Lightwave Technology, Vo
l. 9, No. 5, Msy 1991, pages 623-628 に掲載の Masa
ru Kobayashi, Hiroaki Hanafusa, Kazumasa Takad 及
び Juichi Nodaによる "Polarization-Independent Int
erferometric Optical-Time Domain Reflectometer" ;
(4)Hewlett-Packard Journal, Vol. 44, No. 1, Feb
ruary 1993, pages 39-43 に掲載の D.H. Booster, H.
Chou, M.G. Hart, S.J. Mifsud及び R.F. Rawsonによる
"Design of a Precision Optical Low-Coherence Refl
ectometer";(5)Hewlett-Packard Journal, Vol.44,
No. 1, February 1993, pages 52-59 に掲載の H. Cho
u及びW.V. Sorinによる "High-Resolution and High-Se
nsitivity Interferometry"等が例示しているように"
光学的コヒーレント領域の反射測定法(Optical Cohere
nce-Domain Reflectometry(OCDR))" として知られるよ
うになった。また、米国特許 US-A-5,202,745 もまた、
このOCDR技術に基づいた測定装置を開示している。上記
各文献とも、測定中一定速度で走査されるマイケルソン
光学干渉計の一つのアームにある基準鏡について述べて
いる。数マイクロオーダーの測定解像度が報告されてい
る。このクラスの測定装置によって得られる究極の測定
解像度は、光学干渉計の基準アームの光路長を変化させ
る間に、如何に正確に走査速度の変化を最小にすること
が出来るかに掛かっている。また、この究極の測定解像
度は光検出器32のデータ処理方法にも依存する。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】上記参考文献に報告さ
れているものは、その用例の中でそれなりに一定の成功
を収めている。しかし、高速生産にあって被測定体、例
えば走行するウエブそして/又は被覆の物理特性を測定
する高精度、小型、可搬、且つ堅牢な装置の需要は依然
として存在している。特に、液層及びウエブ材の厚さを
高速で測定するオンラインで使用可能な装置に対する需
要がある。
【0018】本発明の目的は、ノンコヒーレント光を用
いた干渉分光法 (interferometry)に基づく装置に於い
て、定速制御の必要性を除くことである。本発明の他の
目的は、そうした装置に於いて、モータの復帰基準位置
の必要性を除くことである。本発明の更に他の目的は、
装置の双方向測定能力を可能にすることである。
【0019】本発明の更に他の目的は、装置が生産現場
に設置されている間、長時間にわたって装置の較正の必
要性を無くすることである。本発明の更に他の目的は、
被測定体の物理特性を測定する装置及び方法を提供する
ことである。本発明の更に他の目的は、被測定体、例え
ば液層、自由落下する液層、固定した傾斜面を流下する
液層、又は移動する支持部材に被覆される液層等の厚さ
を測定する装置及び方法を提供することである。
【0020】本発明の更に他の目的は、生産工程に於い
て静止及び移動するウエブ、及び静止又は移動するシー
ト材の厚さの均一性を測定する装置及び方法を提供する
ことである。本発明の更に他の目的は、静止又は移動す
る基盤の被覆層の厚さを測定する装置及び方法を提供す
ることである。
【0021】本発明の更に他の目的は、液層の厚さ及び
液体の群屈折率を同時測定する装置及び方法を提供する
ことである。本発明の更に他の目的は、プローブの基準
表面から被測定体の表面までの距離を正確に測定するこ
とである。本発明の更に他の目的は、被測定体の延在部
にわたる表面のプロフィールを正確に測定することであ
る。
【0022】これ等の目的は、例示のみによって与えら
れているものであり、従って、ここに開示の発明によっ
て本質的に達成されるその他の望ましい目的及び利点
は、当業者にとって明らかであろう。本発明は特許請求
の範囲の記載によって規定されるものである。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明の一態様によれ
ば、被測定体の物理特性を決める装置が提供される。こ
の装置は第1及び第2光学干渉計を含んで構成される。
この第1光学干渉計はコヒーレント光を発する光源を備
え、変位を示すコヒーレント光の干渉信号形成に適応さ
れ、第2光学干渉計はノンコヒーレント光を発する光源
を備え、被測定体の物理特性を示すノンコヒーレント光
の干渉信号形成に適応される。第1及び第2光学干渉計
は共通可変光路遅延要素を共有するように機械的に組み
合わされる。この可変光路遅延要素は、被測定体の物理
特性を決定するのに十分な距離を変位することが出来
る。この装置は更に、前記可変光路遅延要素の変位の関
数としてコヒーレント光の干渉信号を測定する手段;前
記コヒーレント光の干渉信号利用して、前記可変光路遅
延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号を発
生する手段;前記ノンコヒーレント光の干渉信号の振幅
を測定する手段;前記ノンコヒーレント光の干渉信号を
サンプリングするために前記データ採取用トリガ信号を
利用する手段;及びサンプリングされたノンコヒーレン
ト光の干渉信号から被測定体の物理特性を決定する手段
を含んで構成される。
【0024】本発明の他の一態様によれば、この装置は
コヒーレント光信号を発するコヒーレント光源;このコ
ヒーレント光信号を第1及び第2光信号に分割する第1
分割手段;前記第1光信号を固定基準装置に印加し、こ
の第1光信号の一部が固定基準装置によって反射されて
基準信号を形成する第1光信号印加手段;前記第2光信
号を可変光路遅延要素に印加する第2光信号印加手段;
前記基準信号を収集する第1信号収集手段;ノンコヒー
レント光信号を発するノンコヒーレント光源;このノン
コヒーレント光信号を第3及び第4の光信号に分割する
第2分割手段;前記第3光信号の一部を被測定体に印加
し、この第3光信号の一部が被測定体によって反射され
て被測定体信号を形成する第3光信号印加手段;前記被
測定体信号を収集する第2信号収集手段;前記第4光信
号を可変光路遅延要素に印加し、前記第2光信号とこの
第4光信号の可変光路遅延要素への印加によって、それ
ぞれ第1及び第2遅延信号を形成する第4光信号印加手
段;前記第1遅延信号を収集する第3信号収集手段;前
記第2遅延信号を収集する第4信号収集手段;被測定体
の物理特性を決定するのに十分な距離を移動出来る前記
可変光路遅延要素と機械的に組み合わされ、この可変光
路遅延要素の変位の関数として前記第2光信号と前記第
4光信号の光路長を変化させるように可変光路遅延要素
を変位させる作動手段;前記第1遅延信号と基準信号と
を結合して、コヒーレント光の干渉信号を形成する第1
加算手段;前記被測定体信号と第2遅延信号とを結合し
て、ノンコヒーレント光の干渉信号を形成する第2加算
手段;前記可変光路遅延手段の変位の関数として、前記
コヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する第1検出手
段;前記コヒーレント光の干渉信号の周期性に基づいて
可変光路遅延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリ
ガ信号を発生する手段;前記ノンコヒーレント光の干渉
信号の振幅を測定する第2検出手段;前記データ採取用
トリガ信号を用いて前記第2検出手段をサンプリングす
る手段;及び前記第2検出手段のサンプリング結果から
被測定体の物理特性を決定する手段を含んで構成されて
いる。
【0025】本発明のさらに他の一態様によれば、この
装置はコヒーレント光信号を発するコヒーレント光源;
このコヒーレント光信号を第1及び第2光信号に分割す
る第1分割手段;前記第1光信号を第1固定基準装置に
印加し、この第1光信号の一部がこの第1固定基準装置
によって反射されて第1基準信号を形成する第1光信号
印加手段;前記第1基準信号を収集する第1信号収集手
段;ノンコヒーレント光信号を発するノンコヒーレント
光源;このノンコヒーレント光信号の一部を被測定体に
印加し、そこから反射された信号によって被測定体信号
を形成する第2光信号印加手段;この被測定体信号を収
集する第2信号収集手段;この被測定体信号を第3及び
第4の光信号に分割する第2分割手段;前記第3光信号
を第2固定基準装置に印加し、この第3光信号の一部が
第2固定基準装置によって反射されて第2基準信号を形
成する第3光信号印加手段;前記第2基準信号を収集す
る第3信号収集手段;前記第2光信号を可変光路遅延要
素に印加する第4光信号印加手段;前記第2及び第4光
信号の可変光路遅延要素への印加が、それぞれ第1及び
第2遅延信号を形成するように第2及び第4光信号の光
路長を変化させる可変光路遅延要素に対し第4信号を印
加する第5光信号印加手段;前記第1遅延信号を収集す
る第4信号収集手段;前記第2遅延信号を収集する第5
信号収集手段;被測定体の物理特性を決定するのに十分
な距離を移動出来る前記可変光路遅延要素と機械的に組
み合わされ、可変光路遅延要素の変位の関数として前記
第2光信号と前記第4光信号の光路長を変化させるよう
に可変光路遅延要素を変位させる作動手段;前記第1遅
延信号と基準信号とを結合して、コヒーレント光の干渉
信号を形成する第1加算手段;前記第2遅延信号と前記
第2基準信号を結合して、ノンコヒーレント光の干渉信
号を形成する第2加算手段;前記可変光路遅延手段の変
位の関数として前記コヒーレント光の干渉信号の振幅を
測定する第1検出手段;前記ノンコヒーレント光の干渉
信号の振幅を測定する第2検出手段;前記コヒーレント
光の干渉信号の周期性に基づいて可変光路遅延要素の一
定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号を発生する手
段;前記データ採取用トリガ信号を用いて前記第2検出
手段をサンプリングする手段;及び前記第2検出手段の
サンプリング結果から被測定体の物理特性を決定する手
段を含んで構成されている。
【0026】本発明の更に他の態様によれば、被測定体
の物理特性を決定する方法が提供される。この方法は、
コヒーレント光を発するコヒーレント光源を備え、コヒ
ーレント光の干渉信号を形成する第1光学干渉計と、ノ
ンコヒーレント光を発するノンコヒーレント光源を備
え、被測定体の物理特性を示すノンコヒーレント光の干
渉信号を形成する第2光学干渉計とを、共通可変光路遅
延要素を共有するように機械的に組み合わせる過程;前
記可変光路遅延要素を被測定体の物理特性を決定するの
に十分な距離を変位させ、第1の光学干渉計がコヒーレ
ント光源を有しコヒーレント光干渉信号を形成する過
程;前記可変光路遅延要素の変位の関数として前記コヒ
ーレント光の干渉信号の振幅を測定する過程;前記コヒ
ーレント光の干渉信号の周期性を利用して、前記可変光
路遅延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号
を発生させ、第2の光学干渉計がノンコヒーレント光源
を有し被測定体の物理特性を表わすノンコヒーレント光
干渉信号を形成する過程;前記ノンコヒーレント光の干
渉信号の振幅を測定する過程;前記発生されたデータ採
取用トリガ信号を用いて、ノンコヒーレント光の振幅を
サンプリングする過程;及びこのノンコヒーレント光の
干渉信号のサンプリング結果から被測定体の物理特性を
決定する過程を含んでいる。
【0027】本発明の更に他の態様によれば、被測定体
の物理特性を決定する方法が提供される。この方法は、
コヒーレント光を発するコヒーレント光源を用意する過
程;前記コヒーレント光信号を第1及び第2光信号に分
割する過程;前記第1光信号を固定基準装置に印加し、
この第1光信号の一部が固定基準装置によって反射され
て基準信号を形成する過程;前記第2光信号を可変光路
遅延要素に印加して、第1遅延信号を形成する過程;前
記基準信号を収集する過程;ノンコヒーレント光を発す
るノンコヒーレント光源を用意する過程;このノンコヒ
ーレント光信号を第3及び第4の光信号に分割する過
程;前記第3光信号の一部を被測定体に印加し、この第
3光信号の一部が被測定体によって反射されて被測定体
信号を形成する過程;前記被測定体信号を収集する過
程;前記第4光信号を可変光路遅延要素に印加し、第2
遅延信号を形成する過程;前記第1遅延信号を収集する
過程;前記第2遅延信号を収集する過程;被測定体の物
理特性を決定するのに十分な距離を移動出来る可変光路
遅延要素を変位させ、この変位の関数として前記第2光
信号と前記第4光信号の光路長を変化させる過程;前記
第1遅延信号と基準信号とを結合して、コヒーレント光
の干渉信号を形成する過程;前記被測定体信号と第2遅
延信号とを結合して、ノンコヒーレント光の干渉信号を
形成する過程;前記可変光路遅延手段の変位の関数とし
て、前記コヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する過
程;前記コヒーレント光の干渉信号の周期性に基づいて
可変光路遅延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリ
ガ信号を発生する過程;前記ノンコヒーレント光の干渉
信号の振幅を測定する過程;前記データ採取用トリガ信
号を用いて前記第2検出手段をサンプリングする過程;
及び前記第2検出手段のサンプリング結果から被測定体
の物理特性を決定する過程を含んでいる。
【0028】本発明の更に他の態様によれば、被測定体
の物理特性を決定する方法が提供される。この方法は、
コヒーレント光を発するコヒーレント光源を用意する過
程;前記コヒーレント光信号を第1及び第2光信号に分
割する過程;前記第1光信号を第1固定基準装置に印加
し、この第1光信号の一部が第1固定基準装置によって
反射されて第1基準信号を形成する過程;前記第1基準
信号を収集する過程;被測定体の物理特性を示すノンコ
ヒーレント光信号を発生するノンコヒーレント光源を用
意する過程;このノンコヒーレント信号の一部を被測定
体に印加し、ノンコヒーレント信号の一部が被測定体か
ら反射されて被測定体信号を形成する過程;この被測定
体信号を収集する過程;この被測定体信号を第3及び第
4の光信号に分割する過程;前記第3光信号を第2固定
基準装置に印加し、この第3光信号の一部が第2固定基
準装置によって反射されて第2基準信号を形成する過
程;前記第2基準信号を収集する過程;前記第2光信号
を可変光路遅延要素に印加し、第1遅延信号を形成する
過程;前記第4光信号を、第2及び第4光信号の光路長
を変化させる可変光路遅延要素に印加し、第2遅延信号
を形成する過程;前記第1遅延信号を収集する過程;前
記第2遅延信号を収集する過程;被測定体の物理特性を
決定するのに十分な距離を移動出来る可変光路遅延要素
を変位させ、この変位の関数として前記第2光信号と前
記第4光信号の光路長を変化させる過程;前記第1遅延
信号と第1基準信号とを結合して、コヒーレント光の干
渉信号を形成する過程;前記第2遅延信号と第2基準信
号とを結合して、ノンコヒーレント光の干渉信号を形成
する過程;前記可変光路遅延手段の変位の関数として、
前記コヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する過程;
前記ノンコヒーレント光信号の振幅を測定する過程;前
記コヒーレント光の干渉信号の周期性に基づいて可変光
路遅延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号
を発生する過程;前記データ採取用トリガ信号を用いて
前記第2検出手段をサンプリングする過程;及び前記第
2検出手段のサンプリング結果から被測定体の物理特性
を決定する過程を含んでいる。
【0029】本発明の更に他の態様によれば、被測定体
の物理特性を決定する方法が提供される。この方法は、
コヒーレント光源を備え、コヒーレント光の干渉信号形
成に適応する第1光学干渉計を用意する過程;ノンコヒ
ーレント光源を備え、被測定体の物理特性を示すノンコ
ヒーレント光の干渉信号形成に適応し、共通可変光路遅
延要素を共有するように前記第1光学干渉計と組み合わ
される第2光学干渉計を用意する過程;コヒーレント光
の干渉信号及びノンコヒーレント光の干渉信号を連続的
に監視する過程;共通可変光路遅延要素を第1方向に変
位させる過程;前記コヒーレント光の干渉信号に基づい
て、データ採取用トリガ信号を発生させる過程;前記デ
ータ採取用トリガ信号を用いて前記ノンコヒーレント光
の干渉信号をサンプリングする過程;このサンプリング
したノンコヒーレント光の干渉信号をディジタル化する
過程;このサンプリングされ、ディジタル化されたノン
コヒーレント光の干渉信号をデータアレイに記憶する過
程;前記共通可変光路遅延要素を前記第1方向とは異な
る第2方向に変位させる過程;前記コヒーレント光の干
渉信号に基づいて、データ採取用トリガ信号を発生させ
る過程;前記データ採取用トリガ信号を用いて前記ノン
コヒーレント光の干渉信号をサンプリングする過程;こ
のサンプリングしたノンコヒーレント光の干渉信号をデ
ィジタル化する過程;このサンプリングされ、ディジタ
ル化されたノンコヒーレント光の干渉信号をデータアレ
イに記憶する過程;及びこの記憶したデータアレイを分
析して被測定体の物理特性を決定する過程を含んでい
る。
【0030】本発明の更に他の態様によれば、被測定体
の物理特性を決定する方法が提供される。この方法は、
コヒーレント光源を備え、コヒーレント光の干渉信号形
成に適応する第1光学干渉計を用意する過程;ノンコヒ
ーレント光源を備え、被測定体の物理特性を示すノンコ
ヒーレント光の干渉信号形成に適応し、共通可変光路遅
延要素を共有するように、前記第1光学干渉計と組み合
わされる第2光学干渉計を用意する過程;測定時間を決
定する過程;コヒーレント光の干渉信号及びノンコヒー
レント光の干渉信号を連続的に監視する過程;共通可変
光路遅延要素を変位させる過程;前記コヒーレント光の
干渉信号に基づいて、データ採取用トリガ信号を発生さ
せる過程;前記データ採取用トリガ信号を用いて前記ノ
ンコヒーレント光の干渉信号をサンプリングする過程;
このサンプリングしたノンコヒーレント光の干渉信号を
ディジタル化する過程;このサンプリングされ、ディジ
タル化されたノンコヒーレント光の干渉信号をデータア
レイに記憶する過程;及びこの記憶したデータアレイを
分析する過程を含んでいる。
【0031】本発明は複式光学干渉分光技術をその基礎
としている。本発明は、例えば製造過程にあるウエブ
や、被覆層の厚さを測定するための堅牢で高精度な非接
触測定装置に関する。この装置は小型、軽量、持ち運び
可能、且つ設置が容易な装置である。また、装置は速や
かな応答時間と、横方向の高解像度を備えている。更
に、装置は環境温度の高低に依らず、また溶剤、空気の
流れ、種々のレベルの相対湿度が存在する環境にあって
も容易に設置することが可能である。装置は最小時間で
製造工程の流れの中でその能力評価を行う能力を提供す
るので、製造工程が改善されたか否かを短時間の内に理
解出来る。事実、光学プローブを取り付けるブラッケト
を生産機械の適当な位置を選択して設けさえすれば、製
造現場で短時間にセットすることが可能である。装置を
製造現場に適切にセットし、配列しさえすれば、装置は
その後再調整を要せずに、長期間に渡って精度の高い測
定を行うことが出来る。装置は自己較正型であり、この
較正はコヒーレント光を発する光源の波長の安定性に基
礎を置いている。装置の可搬性が高いことによって、製
造品質上の問題に対処する処理活動を短時間に行うこと
が可能になる。
【0032】本発明によれば、被測定体の厚さ、群屈折
率、基準面までの距離を連続的に測定することが可能で
ある。半透明、或いは感光性液体の液層の厚み測定を製
造過程に影響を与えることなくリアルタイムで実施する
ことが可能である。この場合、液体は静止していても、
又は流動していてもよく、例えば自由落下している液
体、水平面を流れる液体、曲面に沿って流れる液体、斜
面を流下する液体であってもよい。静止又は移動する半
透明材料(例えば、シート状又はウエブ状材料)の厚み
をノンコヒーレント光源の波長に於いて、測定すること
が出来る。更に、基板に塗布した液層に関しても、その
厚さ測定が可能である。更にまた、多層構造のウエブ又
は被覆したウエブの各層の厚さ測定も可能である。
【0033】
【発明の実施の形態】先に述べた、本発明の目的、特
徴、及び利点、並びにその他の目的、特供、及び利点
は、添付図面に示す本発明の好適実施例に関する以下の
より詳細な説明から明らかになるだろう。以下、図面を
参照して本発明の好適実施例について述べるが、幾つか
の図では同一参照番号を同一構成要素を示すのに使用し
ている。
【0034】本発明は、共通可変光路遅延要素を共有す
るように組み合わせたノンコヒーレント光学干渉計と、
コヒーレント光学干渉計とから構成された装置に関する
ものであり、また、本発明は被測定体の物理特性を測定
する方法に関するものである。図4は本発明による一実
施例を示し、この例では複式光学干渉計装置52は、ノ
ンコヒーレント光学干渉計53と、コヒーレント光学干
渉計55とから構成されている。コヒーレント光学干渉
計55はコヒーレント光源42を含み、この光源はHeNe
レーザ光源、又は長い可干渉距離を持つその他の光源で
あることが好ましい(以下、コヒーレント光源42はレ
ーザ42と呼称し、コヒーレント光学干渉計55をレー
ザ光学干渉計55と呼称する)。また、このレーザ光学
干渉計55はビームスプリッター44、再帰反射器4
6、48、及び光検出器50を含んでいる。同様に、ノ
ンコヒーレント光学干渉計53は、ノンコヒーレント光
源14、光ファイバー16、光カプラ18、光ファイバ
ー20、22、光信号印加・収集手段24、コリメイテ
ィング光信号印加・収集手段26、光検出器32、及び
光ファイバー34を含んでいる。
【0035】複式光学干渉計装置52に於いて、二つの
光学干渉計53、55は、それぞれのリファレンスブラ
ンチで共通可変光路遅延要素54を共有している。この
可変光路遅延要素54は再帰反射器48と、この再帰反
射器48の一部分に取り付けられた鏡56の様な光学要
素を含んで構成されている。モータ30は可変光路遅延
要素54の光路長を変化させるのに使用される。モータ
30の運動は、従来型コーンスピーカーに使用されてい
るものと同じボイスコイル・マグネット構造を含む電気
モータによって行われ、鏡及びコイル用に適当にしなや
かな懸垂部材 (compliant suspension) が設けられてい
る。再帰反射器48と鏡56は一緒に取り付けられ、矢
印Aで示す方向に正確な動きを示すようにモータ30に
より制御される。鏡56は再帰反射器48の一部に固定
されるから、可変光路遅延要素54が移動すると、両者
は同じ距離を移動する。従って、レーザ光学干渉計55
とノンコヒーレント光学干渉計53の光路遅延は、可変
光路遅延要素54(鏡は再帰反射器48に載置)が図4
に図示の矢印A方向に動く大きさと同じ大きさで同時に
変化する。
【0036】図4に図示の複式光学干渉計装置52を、
以後標準モード装置52と呼ぶことにする。標準モード
装置52に於いて、レーザ光学干渉計55はノンコヒー
レント光学干渉計53と組み合わせて使用される。レー
ザ光学干渉計55の目的は、可変光路遅延要素54の移
動距離を正確に測定すること、及び特定の一定距離間隔
でノンコヒーレント光学干渉計53から検出された信号
振幅をサンプリングするための一定距離間隔毎にデータ
採取用トリガ信号を用意することにある。ノンコヒーレ
ント光の信号振幅は一定距離間隔でサンプリングされ、
次いでコンピュータ解析を受ける。レーザ光学干渉計5
5を用いて可変光路遅延要素54の位置を測定すること
によって、モータ30(従って、可変光路遅延要素5
4)の速度を正確に制御する必要がなくなる。こうし
て、モータ速度に関する情報は、本発明の動作にとって
重要なものとはならなくなる。モータ30の駆動には、
普通のモータ駆動信号(正弦波、鋸歯状波、又は任意の
波形等)を使用することが出来る。更に、標準モード装
置52はモータ移動の加速及び減速領域(図2の速度対
時間のグラフ参照)にある間も作動可能だから、これま
でモータの一定速度制御に用いた原点基準位置eのよう
な既知の外部モータ基準位置の必要がなくなる。
【0037】標準モード装置52は被測定体52の物理
特性を決定するために使用される。標準モード装置52
に於いて、レーザ42は平行コヒーレント光信号を放射
する。この放射信号はビームスプリッタ44によってほ
ぼ同じ強度の第1及び第2光信号に分離される。第1信
号は固定的に取り付けた再帰反射器46に入射する。第
2光信号は共通可変光路遅延要素54の再帰反射器48
に入射する。第1及び第2の光信号は再帰反射されてビ
ームスプリッタ44に戻され、そこで集光、再結合、そ
して相互に干渉する。この干渉信号は検出器50によっ
て検出される。ここで、第1光信号の再帰反射された部
分を基準信号と称し、第2光信号の再帰反射された部分
は第1遅延信号と呼ぶことにする。
【0038】更に図4に於いて、ノンコヒーレント光源
14は、光カプラ18の一つのアームを含むシングルモ
ード光ファイバー16に結合するノンコヒーレント光信
号を放射する。この光源14は、発光ダイオード(LED)
、広帯域タングステンハロゲンランプ、赤外線グロー
バー、或いはその他の非単色光源であってもよい。好ま
しい光源14としては発光ダイオードであるから、以
後、光源14をLED 14と言うことにする。当業者のよ
く知るように、 LEDのシングルモード光ファイバーへの
結合は、 LED−ファイバーピグテール、又はレンズ−コ
ネクターアセンブリ(図示せず)の何れかによって行わ
れる。光カプラ18は、シングルモード光ファイバー1
6に沿って伝搬して来るLED 14からのノンコヒーレン
ト光信号を、それぞれシングルモード光ファイバー20
及び22を伝搬する第3及び第4の光信号に実質的に等
しく分ける。シングルモード光ファイバー20に沿って
伝搬する第3の光信号は、光信号印加・収集手段24に
入射する。この光信号印加・収集手段24は光ファイバ
ーコネクタ、或いはコネクタ−レンズアセンブリの何れ
かであればよい。第3の光信号は光信号印加・収集手段
24によって被測定体25に向けられる。第3光信号の
一部は被測定体25で反射し、光信号印加・収集手段2
4に戻されシングルモード光ファイバー20に結合され
る。この信号を被測定体信号と呼ぶことにする。シング
ルモード光ファイバー22に沿って伝搬する第4の光信
号は、この信号を平行光にするコリメーティング光信号
印加・収集手段26に入射する。このコリメーティング
光信号印加・収集手段26は光ファイバーコネクタ、或
いはコネクタ−レンズアセンブリの何れかであればよ
い。コリメーティング光信号印加・収集手段26は、共
通可変光路遅延要素54の再帰反射器48に取り付けた
鏡56に第4の光信号を与える。この第4光信号の一部
は、鏡56に反射して、コリメーティング光信号印加・
収集手段26に戻され、シングルモード光ファイバー2
2に戻って結合される。この信号を第2遅延信号と呼ぶ
ことにする。
【0039】動作時には、それぞれシングルモード光フ
ァイバー20及び22に沿って伝搬する第3及び第4の
光信号は、反射されて光カプラ18に(それぞれ被測定
体信号及び第2遅延信号として)戻され、そこで再結合
し、相互に干渉する。再結合した被測定体信号と第2遅
延信号の一部はシングルモード光ファイバー34によっ
て光検出器32に向けられる。当業者のよく知るよう
に、光ファイバー−光検出器の結合は、光ファイバーピ
グテール、或いはコネクタ−レンズアセンブリ(図示せ
ず)の何れかによって行われる。光検出器32に向けら
れたこの光信号をノンコヒーレント光学干渉計検出器信
号Jと呼ぶことにする。
【0040】標準モード装置52のノンコヒーレント光
学干渉計53は4つのブランチ、即ちノンコヒーレント
光源ブランチ、被測定体ブランチ、リファレンスブラン
チ、並びに検出ブランチを含んで構成されている。これ
らのブランチは、先のノンコヒーレント光学干渉計10
に関する記載の中で定義したものである。検出器32に
於いて互いに強め合う干渉が起こるようにするために
は、ノンコヒーレント光学干渉計53の被測定体ブラン
チとリファレンスブランチの光路長が、LED 14の僅か
な可干渉距離内で等しくなければならない。
【0041】以上述べたように、標準モード装置52で
は、コヒーレント光学干渉計55とノンコヒーレント光
学干渉計53は共通可変光路遅延要素54を共有するこ
とによって協働する。モータ30が再帰反射器40及び
鏡56を矢印A方向に移動させると、二つの光学干渉計
53及び55のそれぞれのリファレンスブランチの光路
長は同じ大きさで変化する。図4に示すように、可変光
路遅延要素54の変位(又は、振動)は直線的である。
再帰反射器48及び鏡56にそれぞれ第2光信号及び第
4光信号を与えることによって、第1及び第2遅延信号
がそれぞれ発生する。これらの遅延信号はビームスプリ
ッター44及びコリメーティング光信号印加・収集手段
26によってそれぞれ収集される。ビームスプリッタ4
4は第1遅延信号とリファレンス信号を結合してコヒー
レント光学干渉計信号を形成する。動作中、移動可能な
共通可変光路遅延要素54が移動し得る距離は、そのと
きの被測定体の適用状態及び特性に依存するが、この距
離は被測定体25の物理特性を決定するのに十分なもの
でなければならない。
【0042】被測定体25は液体、或いは個体であって
もよく、またそれが単層、或いは複数の層からなってい
てもよい。測定に適した被測定体は、被測定体に入射す
る光信号に対しほぼ直角に対向する少なくとも一つの表
面を備えていることが必要である。厚さ測定に供される
被測定体は、ノンコヒーレント光源の中心波長におい
て、好ましくは4.0以下(更に好ましくは、2.0以
下)の光学濃度を有し、且つ各層間にほぼ並行(好まし
くは数度以内)な光学的界面を備えているのがよい。説
明を簡単にするために、ここでは被測定体25が単層の
個体又は液体とする。従って、被測定体は二つの表面、
即ち第1表面(又は前面)及び第2表面(又は背面)を
有する。
【0043】図5、図6、及び図7は、標準モード装置
52に代わる幾つかの構成を示している。図5は、共通
可変光路遅延要素54に代わる共通可変光路遅延要素5
4'を備えた標準モード装置52' を示している。この
共通可変光路遅延要素54'は、コリメーティング光信
号印加・収集手段26が再帰反射器48及びビームスプ
リッタ44が形成する軸に沿う位置には存在しないよう
に再帰反射器48から延びる鏡56' を含んでいる。再
帰反射器48と鏡56' は、モータ30によって一緒に
移動するように設置される。鏡56' に対するこの代わ
りの位置決めによって、コリメーティング光信号印加・
収集手段26の設置に際し選択性が生まれ、設置が容易
になる。
【0044】図6は、共通可変光路遅延要素54に代わ
る共通可変光路遅延要素54''を備えた標準モード装置
52''を示している。この実施例では、共通可変光路遅
延要素54''は再帰反射器48、鏡56''、及び取付手
段58を含んでいる。再帰反射器48はレーザ光学干渉
計55の光路長を変化させ、一方、鏡56''はノンコヒ
ーレント光学干渉計53の光路長を変化させる。再帰反
射器48と鏡56''は取付手段58によって互いに対向
するようにして一緒に取付けられる。この実施例では、
レーザ光学干渉計55のリファレンスブランチの光路長
が増すと、ノンコヒーレント光学干渉計53のリファレ
ンスブランチの光路長は同じ量だけ減少する。逆に、レ
ーザ光学干渉計55のリファレンスブランチの光路長が
減少すると、ノンコヒーレント光学干渉計53のリファ
レンスブランチの光路長は同じ量だけ増加する。
【0045】図7は、共通可変光路遅延要素54に代わ
る共通可変光路遅延要素54''' を備えた標準モード装
置52''' を示している。この実施例では、第4の光信
号は、再帰反射器48に入射され、鏡56''' によって
再帰反射器48に戻されるように、光ファイバー22に
よってコリメーティング光信号印加・収集手段26に結
合される。鏡56''' はその反射面が再帰反射器48に
対向するうように再帰反射器48の一部に取り付けられ
る。この実施例は、コリメーティング光信号印加・収集
手段26の取り付け方にもう一つの選択性を与える。当
業者には、再帰反射器48及び鏡56の取り付け形態に
関し、更に他の形態が可能だということは分かるだろ
う。
【0046】測定原理 動作中、コヒーレント光学干渉計55から来るコヒーレ
ント光干渉信号の周期性を利用して、一定距離間隔毎に
ノンコヒーレント光学干渉計から来るノンコヒーレント
光信号をサンプリングするためのデータ採取用トリガ信
号を用意する。光検出器50によって検出されたコヒー
レント光干渉信号は次の関係式によって与えられる。
【0047】
【数1】
【0048】ここで、 x :基準位置x0 に対する再帰反射器48の位置 I(x):位置xに於ける検出器信号 I S :コヒーレント光学干渉計55の固定ブランチの信
号強度 I R :コヒーレント光学干渉計55のリファレンスブラ
ンチの信号強度 λ :レーザ42の波長 である。
【0049】図8は、波長632.991nmの HeNe シ
ングルモードレーザを使用したときの、基準位置x0
対する再帰反射器48の位置xの関数として正規化され
た光検出器50の信号I(x)を示すグラフである。検出器
50の信号Iは電子処理装置にAC(容量)結合され
る。この電子処理装置はレーザコヒーレント容量結合信
号の各サイクル毎に、各ゼロ点又は幾つか(即ち、1以
上)のその他の再生可能位置と交差する度に負になるデ
ータ採取用トリガパルスを発生する。このデータ採取用
トリガパルスは一定距離間隔毎にノンコヒーレント光学
干渉計信号Jをサンプリングするのに利用される。デー
タ採取用トリガパルスすべてを利用したときのサンプリ
ング距離間隔はλC / 4となる。より小さなサンプリン
グ間隔が望ましい場合には、検出器50を一対の検出器
に分割し(図示せず)、その一方を90°位相を遅らせ
て光路の一つに挿入することが可能である。その場合、
一対の検出器から来る信号は、上述のものと同じもう一
つの電子処理装置に送られる。二つの信号がORゲート
を使って結合すれば、サンプリング間隔λC / 8のデー
タ採取用トリガパルスの利用が可能になる。データ採取
用トリガパルスの数を或る倍数nλC / 4(ここでnは
小さい整数)に減少させるためにn−分割回路を含むこ
とも可能である。図9は、AC結合信号の例を、各ゼロ
点交差毎に発生されるデータ採取用トリガパルスと共に
示した図である。ヒステリシス性の比較器を利用して、
コヒーレント光信号の各サイクル毎にゼロ点交差以外の
幾つかの点でデータ採取用トリガパルスを得ることが出
来る。
【0050】部分コヒーレント光の干渉については、
B.E.A Saleh, M.C. Teich共著の "Fundamentals of Pho
tonics" John Wiley & Sons, INc., NY, 1991, pages 3
60-366 で論ぜられている。ここでは、ノンコヒーレン
ト光学干渉計53の LED14は、部分コヒーレント光源
と考えられている。部分コヒーレント光ビームが干渉す
るとき、光検出器によって検出されるノンコヒーレント
光学干渉計検出信号Jは、次の関係式によって与えられ
る。
【0051】
【数2】
【0052】ここで、 x :基準位置x0 に対する再帰反射器48の位置 J(x) :位置xの関数としてのノンコヒーレント光学干
渉計検出器信号 JO :ノンコヒーレント光学干渉計53の被測定体ブ
ランチの信号強度 JR :ノンコヒーレント光学干渉計53のリファレン
スブランチの信号強度 gSr(x) :正規化相互干渉関数 ψ(x) :二つの信号強度、即ちJS 、JR 間の位相差 である。
【0053】LED 光源に対し、干渉関数gSR(x) はxの
ガウス関数である。各インタフェースに対する相互干渉
の位置は、ノンコヒーレント光の干渉信号に於ける中央
最大値の位置として定義される。被測定体ブランチ及び
リファレンスブランチからの光信号が相互に位置xP
干渉する場合、上記式(2)の第3項(干渉信号と呼
ぶ)は次のように書くことが出来る。
【0054】
【数3】
【0055】 S(x) :式(2)からの干渉信号 JS :検出器32に於けるノンコヒーレント光学干渉
計53の最大検出信号強度; k :光源の可干渉距離に関する常数 xP :最大の強め合う干渉が起こる位置を示し、ノン
コヒーレント光学干渉計53の被測定体ブランチ及びリ
ファレンスブランチの光路長が等しくなる被測定体25
の光学的インタフェースに対応する再帰反射器48の位
置として定義される x :再帰反射器48のx座標 λN :ノンコヒーレント光源である LED14の中心波
長 である。
【0056】ノンコヒーレント光源である LED14の光
源可干渉距離は次の関係式によって与えられる。
【0057】
【数4】
【0058】ここで、 LC :LED 光源の可干渉距離 ΔλN :ノンコヒーレント光源である LED14の帯域幅 である。可干渉距離は、式(3)に於けるガウス関数の
最大値の半分に於ける全幅を定義する。x−xP =LC
/ 2の時、正規化されたガウス関数は1/2に等しい。
この関係を満たすkの値は:
【0059】
【数5】
【0060】である。例えば、波長1300nm、帯域幅
60nmの LED光源に対する可干渉距離は12.429μ
m 、k=1.794747x1010/ m2 と計算され
る。信号処理及びデータ整理 データサンプリングに関する上記の議論を被測定体25
の物理特性の決定に結び付けるためにサンプリングされ
たデータセットの処理及びデータ整理について検討す
る。この検討に当たって、データは連続的に採取され、
モータ30の位置変化は単調に行われるものとする。ま
た、位置xP は被測定体中で光学的インタフェースが存
在する位置と定義する。データは一定の距離間隔毎にサ
ンプリングされるから、この光学的インタフェースの真
の位置は、一般にデータ採取点のどの位置に於いても存
在するわけではない。生産環境、又は産業的環境では、
各種の機械的、或いは電気的ノイズ源が存在しており、
これらのノイズ源は測定の精度を下げる可能性を有して
いる。そこで、本発明の特質の一つは、ノイズの存在す
る中でサンプリングされたデータを使って高精度に光学
的インタフェースの中心位置xP を定めることにある。
【0061】本発明では、多くの技法によってデータ解
析が可能なサンプリングが一定距離間隔毎に行われる。
信号処理及びデータ解析の主目的は、ノイズの存在下に
あって被測定体25の光学的インタフェースの真の位置
を定めることにある。従って、このことは、前述の式
(3)の干渉項S(x) の真の位置xP を数学的に定める
ことに帰する。
【0062】
【数6】
【0063】ここで、 S(xi ) :ノンコヒーレント光学干渉計53のサンプル
された振幅 xi :サンプルされたデータの位置 JS :検出器32に検出されたノンコヒーレント光
学干渉計の最大信号強度 λN :ノンコヒーレント光源であるLED 14の中心
波長 φO :位相角 NOISE :ノイズ項 である。
【0064】サンプリングが中心最大値xP の正確な位
置の周りで対称的に行われることは滅多にはないため、
位相角φO が含まれる。図10は、帯域幅60nm、波長
1300nmの LED光源を用いて、サンプリング間隔を6
32.91nm HeNe レーザのλC / 4としたとき、 NOI
SE=0、xP =0、φO =0ラジアンとして、式(6)
から計算したxの関数としてのS(xi ) を示している。
これとは対照的に、図11は同じ光源、同じサンプリン
グ間隔を用い、 NOISE=0、xP =0、φO =0.5ラ
ジアンとしたときの、式(6)から計算したxの関数と
してのS(xi )を示している。図10と図11を比較す
るとき、データ解析の特性は、最大値を中心として対称
的にはサンプルされず、典型的にはノイズの存在下でサ
ンプルされるデータセットからガウス包絡線の真の中心
位置を決めることにある。
【0065】ランダムノイズ NOISERは次のように定義
される。
【0066】
【数7】
【0067】ここで、 noise :ノイズレベル常数 RANDOM:0と1との間のランダム数 である。例えば、図12は、レベル1のノイズの存在す
るところで、HeNeレーザ及び波長1300nm、帯域幅6
0nmの LED光源を有する装置を用いて、光学的インタフ
ェースをサンプリング間隔λC /4でサンプリングして
採取したデータを示している。
【0068】この様なインターフェログラム解析の一手
法を説明する。先ず、S(xi ) の絶対値を計算する。次
いで、以下の関係式によって与えられるm点のガウス加
重平均を求める。
【0069】
【数8】
【0070】ここで、 m :−q/2から+q/2の範囲にある係数 q+1:合計する点の数 Δx :サンプリング間隔 z :ガウスフィルター常数 である。
【0071】図13は、z=0.06、q=39点とし
たときの図12に示したデータセットに対するV(xi )
のプロットを示す。データセットの真の中心を見いだす
ために、V(xi ) の最大値の位置を見出し、回帰分析を
利用して次式にピークの周りのデータセットを適合させ
る。
【0072】
【数9】
【0073】ここで、 A :振幅常数 xP :計算によるインターフェログラムのピーク位置 である。この式(9)を用いて、xP の最適合値を決定
することが出来る。この技法によって、±0.3μm よ
り良い測定の反復性が得られた。例えば、図14は60
μm 厚の被測定体の測定で得られた典型的なインターフ
ェログラムであり、図15は式(8)を用いて得た対応
するガウスウィンドウ包絡線の計算結果である。
【0074】測定装置 図16は本発明による完全な測定装置の好適実施例を示
す。この装置は標準モード装置52(図4に図示)、制
御電子装置、及びコンピュータ化したデータ採取装置を
含んでいる。図16に示す測定装置は、一定のサンプリ
ング距離間隔nλC / 4で、被測定体の物理パラメータ
の測定を行う。ここで、nは小さい整数、λC はコヒー
レント光源であるレーザ42の波長を示す。
【0075】先に、標準モード装置52について述べた
ように、本発明による測定装置は共通可変光路遅延要素
54を共有するコヒーレント光学干渉計55及びノンコ
ヒーレント光学干渉計53を含んでいる。好適な実施例
では、LED 14は、ピグテールによってシングルモード
光ファイバーに結合された帯域幅60nm、波長1300
nm、光学的パワーレベルが0.1−10μw の LEDであ
る。シングルモード光ファイバーは、Corning 社の SMF
-28 クラスの光ファイバーであることが好ましい。LED
14からの光信号は、2x2光カプラ、例えば GOULD 5
0/50シングルモード光カプラによって第3及び第4の信
号に分割される。第3の光信号は被測定体25に入射す
る。光検出器32は GaAs 半導体ホトダイオードである
のが好ましい。レーザ42はシングルモードの HeNe レ
ーザ、又は温度的に安定なシングルモードのダイオード
レーザ、例えば Laser Max MDL-200 675nmレーザダイオ
ードであるのが好ましい。ビームスプリッタ44は1.
25cm(1/2インチ)又は2.5cm(1.0インチ)
直径の立方形ビームスプリッタであるのが好ましい。ま
た再帰反射器46及び48はコーナーキューブ再帰反射
器、又は中空再帰反射器であるのが好ましい。光検出器
50はシリコンホトダイオードであるのが好ましい。
【0076】被測定体の前面から1−15mmの距離内に
光ファイバープローブを位置させることが出来る場合に
は、被測定体25に対し別の光カプラ(例えば、光信号
印加・収集手段24)を必要としない。光の伝搬方向に
直角に切断したシングルモード光ファイバーの端面は、
ファイバー・空気インタフェースからの基準反射光を与
える光カプラとして使用することが出来る。反射光は同
じシングルモード光ファイバー20によって、ノンコヒ
ーレント光学干渉計53に戻されて結合する。プローブ
・空気インタフェースからの反射光を有することは、表
面輪郭調査への装置の適用時、また表面までの距離測定
が重要な場合への装置の適用時に特に有用である。
【0077】結合光学系を利用する好適実施例の場合、
この結合光学系は日本板硝子社(NSG)製の SLW、直径3
mm、ピッチ0.11、勾配係数 (GRIN) NA .46(軸
上)のレンズからオフセットして一緒の光学台に設けた
或る角度で切断したシングルモード光ファイバーからな
っている。この実施例では、光ファイバー・空気インタ
フェースに於ける基準反射を観測することはない。焦点
距離、焦点深度、及び視野角度は、上記角度切断した光
ファイバーとレンズの間の距離を変えることによって調
節される。オフセットを4.9mmとしたとき、焦点距離
は25.5mm、焦点深度は2.2mm、視野角度は0.9
5度全幅半値(FWHM) となる。被測定体25から反射さ
れた光は、同じ結合光学系によって戻されてノンコヒー
レント光学干渉計に結合する。
【0078】可変光路遅延要素54は、可動コイルスピ
ーカのダイアフラムコーンに取り付けたプリズム構造の
再帰反射器及びこの再帰反射器の一部に取り付けた鏡を
含んでいるのが好ましい。可動コイルスピーカの例とし
ては、 REALISTICの最大ピーク−ピークイクスカーショ
ン(peak-to-peak excursion) 約20mmの8インチ(2
0cm)サブウーファがある。可動コイルスピーカの動き
はモータ30、即ちスピーカのマグネット−コイルアセ
ンブリの動きによって制御される。スピーカのコーンが
動くと、コヒーレント光学干渉計及びノンコヒーレント
光学干渉計のリファレンスブランチの光路長は同じ量で
変化する。共通可変光路遅延要素54の光路長は、関数
発生器及び電力増幅器を含み、スピーカコイルに対する
電流を制御するモータ駆動制御電子モジュール60を用
いて変化させるのが好ましい。
【0079】2x2光カプラ18を発して、シングルモ
ード光ファイバーを伝搬する第4の光信号は、コリメー
ティングレンズを使用することを除けば、上記した被測
定体と光学的に結合する手段と同様な、図6にコリメー
ティング光信号印加・収集手段として示したコリメーテ
ィングレンズによって平行光にされる。第2光信号(レ
ーザ42から)が再帰反射器48に入射する一方、第4
の光信号(LED 14から)は再帰反射器48に取り付け
た鏡56に入射する。反射されたノンコヒーレント光信
号はコリメーティング光信号印加・収集手段26によっ
て収集される。シングルモード光ファイバー22を通り
2x2光カプラ18に戻った後、結合されたノンコヒー
レント光信号は、シングルモード光ファイバー34をと
って光検出器32に結合する。光検出器32のアナログ
出力は電子モジュール62によって増幅及び濾過され、
コヒーレント光の干渉データ採取用トリガパルスを(後
述する)用いて一定距離間隔毎にディジタル化され、La
bWindows (National Insuturement 商標)環境で動作す
る National Instruments AT-MIO-16X, 16-bit,100KHz
データ採取ボード、又は EISA A-2000, 12-bit, 1MHzデ
ータ採取ボードを含むパーソナルコンピュータ等のコン
ピュータ装置によって解析される。次いで、ノンコヒー
レント光の干渉データは一定距離間隔毎にディジタル化
される。
【0080】上述のように、光検出器50の信号Iは信
号処理電子装置66に入力され、そこで処理されてデー
タ採取用トリガパルスを発生する。光検出器信号IはA
C結合されて、レーザのコヒーレントAC結合信号の各
サイクル毎にゼロ電圧交差又は幾つか(1以上)のその
他の再生可能な位置を検出する比較器に供給される。こ
の比較器の出力は一定の距離間隔毎に、負になるデータ
採取用トリガパルスを形成するのに使用される。この様
にして、レーザ光学干渉計55は光検出器32からの増
幅された信号のアナログ−ディジタル変換をトリガし、
上記のように一定距離間隔nλC / 4毎にディジタルデ
ータを用意するのに利用される。波長632.991nm
の HeNe のレーザーで、n=1とすれば0.15825
μm の間隔でデータが得られる。
【0081】典型的な動作に於いては、モータ30は被
測定体25の解析に必要な全振幅及び測定頻度に応じて
1〜100Hzの正弦波によって駆動される。可動コイル
スピーカを組み入れた好適実施例では、可動コイルは光
学干渉計53及び55のリファレンスブランチに於ける
共通可変光路遅延要素54の光路長を、被測定体25の
物理特性を決定するのに十分な距離だけ、交互に単調増
加及び単調減少させる。興味ある物理特性が光学的厚さ
である場合には、可変光路遅延要素54の移動距離は被
測定体25の光学的厚さより大きくなければならない。
測定は可変光路遅延要素54が何れかの方向に移動して
いる間可能である。従って、被測定体25の厚さ測定は
可動コイルスピーカの各サイクル毎に2回行うことが出
来る。繰り返し波形によって可動コイルスピーカのコイ
ルを駆動すれば、多重測定サイクルが実施できる。この
解析では、モータの絶対位置を利用しないから、被測定
体の物理特性を定めるのに可動コイルスピーカ(即ちモ
ータ30)の原点基準位置を必要としない。
【0082】ノンコヒーレント光学干渉計53の被測定
体ブランチとリファレンスブランチとの二つの光路長が
等しくなる位置は走査中心の近くにあるのが好ましい。
この様にするためには、光カプラ18から被測定体25
の第1表面(即ち、光信号印加・収集手段24に最も近
い表面)までの光路長が、走査サイクルの間リファレン
スブランチ(ノンコヒーレント光学干渉計の)の最も短
い光路長より長くなければならない。更に、光カプラ1
8から被測定体25の第2表面(即ち、光信号印加・収
集手段24に最も遠い表面)までの光路長が、走査サイ
クルの間リファレンスブランチの最も長い光路長より短
くなければならない。
【0083】図17はピーク−ピーク振幅が約1.35
mmの10Hz正弦波モータ駆動周波数を使って得たデータ
を示している。この図17に示すデータは、データ採取
測定サイクル(データ採取間の単位距離間隔毎に正規化
されている)の間に走査された全走査距離の関数として
のインターフェログラムの包絡線の絶対値(y軸)であ
る。ここに示す被測定体25は群屈折率1.4609、
厚さ613μm の光学的平坦ガラス板である。ピークは
相互干渉位置に於けるインターフェログラムのガウス包
絡線の最大値として定義される。最初の二つのピーク
(ガラス板の前後面からの反射による)は、可変光路遅
延要素54が光路長を増加する間に得られる。第2及び
第3ピークの間の位置で、モータ30は可変光路遅延要
素54の運動方向を変える。被測定体25の第2及び第
1表面それぞれから起こる第3及び第4ピークは、光学
干渉計53及び55のリファレンスブランチの光路長が
減少する間に得られる。走査サイクルは更に継続し、第
4及び第5の間の位置で、再びモータ30はその方向を
変える。被測定体25の厚さは最初の二つのピークの計
算された中心位置の差から決められ、そして再度、第3
及び第4ピークの計算された中心位置の差から決められ
る。第2と第3ピークの間の距離は計算に利用されない
から、モータ30がその方向を変える正確な位置は重要
ではなく、また被測定体25の物理特性を測定する上で
知る必要もない。
【0084】表1は群屈折率1.4609、厚さ613
μm の光学的平坦ガラス板である被測定体25を使って
得た繰り返し測定データの要約である。表1のデータの
第1行は図17に示すデータに対応する。表中、厚さは
全てμm 単位で示し、mは各データセットのサンプル数
を示し、そしてデータは20Hzの割合で得られたもので
ある。個々のデータセットは数ヶ月にわたって得られた
ものであり、表1の最終行は各データセットの平均値を
示している。本発明による厚さ測定の解像度が±0.3
μm であることが示された。これらのデータは、本発明
による装置が外部較正を必要とせずに、長期にわたって
再現性を維持することを示している。厚さ613μm の
光学的平坦ガラス板の群屈折率の計算値も表1に示して
ある。
【0085】
【表1】
【0086】図18に示す配置は被測定体25の群屈折
率(n)の測定時に採った配置である。直角に切断した
光ファイバープローブ68を被測定体25に対する結合
光学系として用いた。被測定体25は光ファイバープロ
ーブ68と鏡70との間に位置させた。距離の関数とし
ての信号振幅の絶対値に対応するプロットを上記配置図
の下に図19として示す。もし、測定走査中に被測定体
25がなければ、図19のトレース(a)にXP 及びX
M として示すように、二つの反射だけしか観測されな
い。鏡70と光ファイバープローブ68の間の距離xPM
は次の関係式によって与えられる。
【0087】XPM=XP −XM 被測定体25が存在する場合(即ち、被測定体25が光
ファイバープローブ68と鏡70の間の光路に挿入され
ている場合)でも、距離XPMは一定に保たれている。図
19のトレース(b)に示すように、被測定体25が在
る時には、以下の位置に4つの反射が観測される。即
ち、光プローブと空気とのインタフェース(XP ) から
の反射、空気と被測定体25前面Fとのインタフェース
(XF ) からの反射、被測定体25後面Bと空気とのイ
ンタフェース(XB ) からの反射、及び空気と鏡70と
のインタフェース(XM') からの反射である。これらの
位置の間には次の関係がある。
【0088】nt=XB −XF (n−1)t=XPM' −XPM t=XB −XF −(XPM' −XPM) ここで、tは被測定体25の厚さであり、XPM' は光路
に被測定体が挿入されたときの光プローブ68と鏡70
の間の距離である。被測定体25の群屈折率(n)と厚
さ(t)は上記の関係式から計算することが可能であ
る。
【0089】自己相関装置 図20は本発明による他の実施例を示し、以後これを光
学的自己相関モード装置72と言う。この自己相関モー
ド装置72と、これまで述べてきた標準モード装置52
とは、被測定体25を置く位置によって区別される。自
己相関モード装置72では、被測定体25は干渉ブラン
チの一つに位置するよりはむしろノンコヒーレント光学
干渉計53の光源ブランチ(即ち入力部)に位置する。
図20に示すように、LED 14からの光信号は、光ファ
イバー73、2x1シングルモード光カプラ74、光フ
ァイバー16及び光信号印加・収集装置24によって被
測定体25に結合される。標準モード装置24で用いた
光信号印加・収集手段24は、被測定体を照射し、そこ
から反射される光を収集するのに使用される。被測定体
25からの反射光は光ファイバ16を通って2x1シン
グルモード光カプラ74に戻り、更にシングルモード光
ファイバー75に入る。光ファイバー75を通るこの信
号(ここでは被測定体信号と呼ぶ)は2x2光カプラ1
8に於いて第3の光信号と第4の光信号に分割される。
第3の光信号はコリメーティング光信号印加・収集手段
78を通って第2固定基準反射体76に向かう。コリメ
ーティング光信号印加・収集手段78及び第2固定基準
反射体76の代わりに、直角な鏡面をその端部に備えた
シングルモード光ファイバー20(図示せず)で終端部
を構成することも可能である。第3光信号の一部は第2
固定基準反射体76で反射されコリメーティング光信号
印加・収集手段78に戻され、シングルモード光ファイ
バー20に結合される。この信号を第2基準信号と呼
ぶ。シングルモード光ファイバー22を伝搬してきた第
4光信号は、この信号を平行光とするコリメーティング
光信号印加・収集手段26に入射する。コリメーティン
グ光信号印加・収集手段26は、共通可変光路遅延要素
54に取り付けた鏡56に第4光信号を加える。第4光
信号の一部は鏡56で反射し、コリメーティング光信号
印加・収集手段26に戻され、シングルモード光ファイ
バー22に戻されて結合する。この信号を第2遅延信号
と呼ぶ。光カプラ18から固定基準反射体76へ、そし
て再び光カプラ18に戻る光路は、ノンコヒーレント光
学干渉計53の第2個定基準ブランチの光路長として定
義される。標準モード装置52についてこれまでに示し
た可変光路遅延要素54に対する代わりの構成は、この
自己相関モード装置72についても適用が可能である。
【0090】動作中、それぞれシングルモード光ファイ
バー20及び22に沿って伝搬する第3及び第4光信号
は、反射されて光カプラ18に(それぞれ第2基準信号
及び第2遅延信号として)戻され、そこで互いに結合、
干渉する。結合した第2基準信号及び第2遅延信号の一
部は、シングルモード光ファイバー34によって光検出
器32に向けられる。
【0091】自己相関モード装置72では、ノンコヒー
レント光学干渉計53の可動基準ブランチの光路長と、
同光学干渉計53の固定基準ブランチの光路長とが等し
くなったとき、ノンコヒーレント光信号の強め合う干渉
が発生する。また、ノンコヒーレント光信号の強め合う
干渉は、これら二つの光路長が被測定体25の物理特性
の光路長、例えば被測定体の厚さと群屈折率との積だけ
異なっているときにも生じる。
【0092】図20に示す自己相関モード装置72は、
一連の光反射を原点・ピーク間の距離に変換する。原点
は相関関数であって、原点からの第1ピークは二つの最
も近いピーク間の距離である。相関信号A(d)は次の
ようにモデル化できる。即ち、
【0093】
【数10】
【0094】ここで、 xi :サンプリングデータポイントの位置 S(xi ) :各データポイントの位置に於ける信号 n :完全走査に於けるサンプル間隔の数 d :ノンコヒーレント光学干渉計の二つのブラ
ンチ(即ち、第2固定基準ブランチと可動基準ブラン
チ)間の光学的遅延を示し、二つの光路長が等しいとき
ゼロとなる。
【0095】自己相関モード装置は、被測定体のインタ
フェースで生ずる一連のノンコヒーレント光の強め合う
ピークを中央自己相関ピークからの距離に変換する。自
己相関モード装置による走査の間、最も大きい強度のピ
ーク(即ち、中央自己相関ピーク)は、第2固定基準ブ
ランチと可動基準ブランチの光路長が等しいときに発生
する。
【0096】図21は、図20の自己相関モード装置7
2を用いて得た図22に図示のインターフェログラムを
説明するための図である。サンプルは、図18に示した
二つの表面、即ち前面Fと後面Bとを有する被測定体2
5からなっている。従って、光反射は前面の位置と、後
面の位置で観測される。更に、光ファイバーと空気のイ
ンタフェースの位置で観察される反射もある。図21の
トレース(a)は、自己相関モード装置72の固定ブラ
ンチに於ける光学パルス列の包絡線の絶対値を示す図で
ある。三つの光反射が観測される。即ち、光学プローブ
(XP ) からの反射、被測定体25の前面Fからの反射
(XF ) 、及び被測定体25の後面Bからの反射
(XB ) が観測される。図21のトレース(b)から
(h)までは、可変光路遅延要素54の位置の関数とし
ての可動基準ブランチにおける光学パルス列の包絡線の
絶対値を示す。距離dはプローブ端(XP ) と被測定体
25の前面との間の距離である。光学的距離ntは次の
関係式によって与えられる。
【0097】nt=XB −XF ここで、nは群屈折率、tは被測定体25の実際の厚さ
である。図21のトレース(b)に示されるように、可
動基準ブランチが -(d + nt)の位置に在る時、光学プロ
ーブと空気界とのインタフェース(XP ) に於ける固定
ブランチのピークは、被測定体25の後面Bに関連した
可動基準ブランチのピークと強め合うように干渉する。
このピークは図22の最左端のピーク(P1 ) に対応す
る。可動基準ブランチの光路が増加すると、強め合う干
渉の次の位置は、図21のトレース(c)に示すよう
に、可動基準ブランチが−dの位置にきたときである。
この−dの位置で、光学プローブ(XP ) から来る固定
ブランチのピークは、被測定体25の前面Fから来る可
動基準ブランチのピークと強め合うように干渉する。図
22の左から2番目のピーク(P2 ) がこの−dの位置
に対応する。可動基準ブランチの光路が更に増加する
と、図21のトレース(d)に示されるように、次の強
め合う干渉位置は−ntに達する。この−ntの位置に
於いて、被測定体25の前面F(XF ) から来る固定基
準ブランチのピークは、被測定体25の後面Bから来る
可動基準ブランチのピークと強め合うように干渉する。
この−ntの位置は図22のピークP3 に対応する。同
様に、可動基準ブランチの光路長が更に増加すると、強
め合う干渉の次の位置は、図21のトレース(e)に示
すように、X=0(即ち、固定基準ブランチと可動基準
ブランチの光路長が等しくなる)の位置である。この位
置で、最も大きい振幅のピークが図22のP4 で起こ
る。可動基準ブランチの光路を継続して増加して行く
と、図21のトレース(f)、(g)、(h)が得ら
れ、これらはそれぞれ図22のP5 、P6 、P7 に対応
する。
【0098】もし、被測定体25の光路長だけを測定し
たいときには、-(d+nt) から +(d+nt)までの距離全体に
わたって走査する必要はない。むしろ、二つのピークの
最小を含むようにntより大きい距離の走査が必要にな
るだけである。例えば、図22から次の2セットを選択
する。即ち、ピークP1 とP2 、P3 とP4 、又はP 6
とP7 を選択する。
【0099】2表面を備えた被測定体25の光路ntを
測定するのに、光学プローブからの反射を有する必要は
ない。この場合、一走査で三つのピークが観測され、そ
れらは図22の中央の3ピーク(即ち、P3 、P4 、P
5 ) に等価である。これらのピークはそれぞれ図21の
トレース(d)、(e)、(f)に示されている干渉同
時発生(interference coincidences) に対応する。
【0100】図23は、被測定体25の光路厚測定に適
用した光学自己相関モード装置72によって得られた繰
り返し走査データの例を示す。図23は、図20の装置
を用いて、613μm 厚のガラス板をモータ走査距離の
関数として測定して得た包絡線の絶対値を示している。
x軸はサンプリング距離間隔(1単位=λC / 4=0.
15825μm)を示す。x=0に於いて、ノンコヒー
レント光学干渉計の可動ブランチの光路長は固定リファ
レンスブランチより短かった。図23の左端から最初の
3ピークは、可動ブランチの光路長が増加している間に
得られたピークである。最初のピークは、被測定体25
の光路厚によって可動ブランチの光路長が固定リファレ
ンスブランチよりも短いときに生ずる。第2最大ピーク
は、これら光学干渉計の可動ブランチ及びリファレンス
ブランチの光路長が等しいときに生ずる。第3ピーク
は、被測定体25の光路厚によって可動ブランチの光路
長が固定リファレンスブランチよりも長いときに生ず
る。第1及び第2ピーク間の距離と、第2及び第3ピー
ク間の距離は同じである。即ち、これらは、被測定体2
5の光路厚(群屈折率x厚さ)に等しい。第3ピークを
越えた或る地点で、モータ30の移動方向は逆転され、
可動ブランチの光路が減少する間に、第4ピークから第
6ピークが得られる。ここで、第4ピークは第3ピーク
と同じ相対位置に対応し、第5ピークは第2ピークに、
そして第6ピークは第1ピークに対応する。第6ピーク
と第7ピークとの間で、モータ30は再びその移動方向
を逆転し、第7ピークは第1ピークと対応する。この様
にして、サイクルが反復される。
【0101】図23のデータは、正弦波の駆動信号によ
ってモータ30を駆動し、自己相関モード装置72の可
動リファレンスブランチに於ける可変光路遅延要素54
の光路長を変えて得たものである。結果に影響を与える
ことなしに、その他の波形の駆動信号を用いることが出
来る。標準モード装置52の場合と同様、定速モータを
備える必要はない。
【0102】モータ30を駆動するのに用いる正弦波信
号の1サイクル毎に、標準モード装置52では、2セッ
トの測定が得られるが、自己相関モード装置72では、
モータ30を駆動するのに用いる正弦波信号の1サイク
ル毎に、4セットの測定が得られる。DCオフセットは
走査の中心位置を変えるのに選択的に利用でき、正弦波
の振幅は走査の間モータ30が移動する距離の総計を変
えるために変化させることが出来る。自己相関モード装
置72では、図23に示す3ピークの対称パターンを得
るのに全距離を走査する必要はない。また、正弦波1サ
イクルの間に、3ピークの組の中央ピークと一方のピー
クだけが得られるようにして、DCオフセットと正弦波
振幅を調節することが出来る。その結果、得られるデー
タは図17に示したものと同じになる。
【0103】図24及び図25のフローチャートは、被
測定体25の物理特性を決定するための繰り返し測定デ
ータ(図17及び図25に図示)を得る一方法を要約し
たものである。図24に示すように、一連の繰り返し測
定が開始されると(80)、コヒーレント及びノンコヒ
ーレント光学干渉計は測定完了まで稼働される(8
1)。可変光路遅延要素54を相対的最小変位位置に置
くために、モータ30には最小駆動信号を与える(8
2)。次いで、このモータ駆動信号を最大値に向かって
単調増加させ(83)、可変光路遅延要素54を移動す
る。データ採取用トリガ信号をコヒーレント干渉信号に
基づいて発生させる(84)。データ採取用トリガ信号
(又は、サブセット)を使用してノンコヒーレント干渉
信号をサンプリングする(85)。抽出したアナログ信
号をAD変換によってディジタル化し(86)、データ
アレー(好ましくは、連続データアレー)に記憶する
(87)。モータ駆動信号が最大値に到達したかどうか
を判断する(88)。もし、否であれば、ステップ84
から88までを繰り返す。モータ駆動信号が最大値に達
したら、それ以上増加させない(89)。次いで、例え
ば、図25について述べたようにして、データアレーを
解析する(90)。次いで、モータ駆動信号を単調にそ
の最小値に向かって減少させる(91)。ステップ92
から95に示されるモータの移動方向に対してステップ
84から87までを繰り返す。モータ駆動信号がその最
小値に達したかどうかを判断する(96)。もし、否で
あれば、ステップ92から95を繰り返す。モータ駆動
信号がその最小値に達したら、モータ駆動信号の減少を
止める(97)。次いで、図25のようにして、記憶し
た抽出連続データアレーを解析する(98)。更に測定
をする場合にはステップ83から測定サイクルを繰り返
す。もし、否であれば、測定サイクルを終了する(10
0)。
【0104】図25は図24のステップ90から98ま
での詳細を示す図である。データ解析が開始されると
(110)、データアレー要素の絶対値が得られる(1
11)。次いで、これら絶対値のガウス加重平均値を式
(8)から求める(112)。ガウス加重平均の最大値
の位置を決定する(113)。最大値の位置の周りのサ
ブセットを使ってガウス加重平均データの回帰分析を行
い、式(9)の最適値即ちxP を求める(114)。適
当な計算によって、考慮中の物理特性値を決定する(1
15)。これらのデータを一つ又はそれ以上のアレーに
記憶して、更なる使用に供する(116)。
【0105】図26のフローチャートは、被測定体25
の物理特性を決めるための繰り返し測定データ(図17
及び図23に図示)を得る一方法を要約したものであ
る。この方法は操作に利用する上で有用である。図26
に示すように、一連の繰り返し測定を開始し(12
0)、最初に、測定割合(例えば、測定回数/秒)を決
定し(121)、次いで全測定時間(例えば、秒)を決
める(122)。コヒーレント及びノンコヒーレント光
学干渉計は測定完了まで稼働する(123)。繰り返し
波形の駆動信号(例えば、正弦波)をモータに与える
(124)。この繰り返し波形を、被測定体25の物理
特性を決めるのに十分なだけ交互に、単調増減させる。
この繰り返し波形は、二組又は三組のデータ(図17及
び図23のように)を得るかどうかによって、ステップ
121で決めた測定割合の1/2又は1/4の周波数を
有している。ステップ125から128は図24のステ
ップ84から87に示されている。ステップ122で決
めた測定時間に基づいて測定が完了したかどうかを判断
する。もし、「否」であれば、繰り返し波形の供給を続
ける。もし、「是」であれば、図25に示した手続きに
よって、記憶した抽出データアレーの解析を行い(13
0)、測定を終了する(131)。図17及び図23に
示したデータは、上記した方法で得られたものである。
上述の方法に加え、繰り返し測定データを得るための他
の方法は、当業者の知るところである。
【0106】応 用 例 本発明による装置は厚さ及び群屈折率の同時測定を提供
するものである。例えば、この同時測定は、個体、自由
落下する液体、水平面に沿って流れる液層、或いは固定
斜面を流下する液層に関して実施が可能である。斜面を
流下する液層の場合、動的粘性を測定することが可能で
ある。本発明の方法は光学的インタフェースまでの距離
を測定することによって機能し、光学的吸収の異なりに
は影響を受けないから、光学的に透明な流体、又は液体
の物理特性を測ることが出来る。
【0107】装置を被測定体であるウエブや、板状の材
料の幅方向に移動すれば、幅方向の厚みの均一性に関す
るプロフィールを得ることも可能である。更に、本発明
の装置を使って、感光性液層を測定することも可能であ
る。こうした感光性液層に対しては、光源は感光性液層
が最小の吸収を示すスペクトル範囲(例えば、波長中心
が1200から1600nm)にあることが必要である。
光通信で使用される標準的波長である1300nm又は1
550nmの近赤外線 LEDは、これらの用例に適してい
る。波長1300nmの LEDは有利である。と言うのは、
通信用のシングルモード光ファイバーはこの波長に於い
て最小の色分散を有しているからである。近赤外線に感
応する材料に関しては、光学スペクトルの異なった光源
が必要である。
【0108】以下、本発明による粘性の測定方法につい
て検討する。図27は、その上を矢印D方向に液体が流
れることのできる固定した斜面Pの概略図である。斜面
Pは水平軸xに関して角度βで傾斜している。光ファイ
バー132は斜面Pの表面に直角になるようにして斜面
Pの上方に配置されている。ニュートン流体の場合、斜
面Pを流下する液体の平均厚さは、流体の粘性η、密度
ρ、単位幅当たりの体積流量率Q、重力加速度g、及び
斜面の傾斜角βの関数である。平均厚さは次の関係式か
ら計算することが出来る。
【0109】
【数11】
【0110】従って、液体Lの粘性ηは式(11)のそ
の他のパラメータを知れば計算することが出来る。液体
Lの全体積流量率VFRは次式によって与えられる。 VFR=Qw (12) ここで、wは斜面Pの幅である。
【0111】図28は非傾斜面P上の液体Lの厚さを測
るための構成を幾何学的に示した図である。各値は光フ
ァイバー132の先端yP を基準に測った値である。こ
こで、 y1 =液層表面までの距離 yd =平面Pまでの実際の距離 yw =液層が在る時の平面Pまでの見かけの距離 n1 =液体の群屈折率 t1 =液層の厚さ OPD=光路差 を示す。
【0112】これらの値の間には次の対応関係がある。
即ち t1 =yd −y1 (13) OPD=n1 t 1 =yw −y1 (14) n1 =(yw −y1 ) /(yd −y1 ) (15) 図29は液層が存在しない(即ち、平面Pがドライ)の
時、及び液層が存在しているとき(即ち、平面Pがウェ
ット)の時に、光学プローブ132によって得られる模
式データのプロットを示している。測定された包絡線信
号の強度は、光学干渉計によって測った光路差の関数と
してプロットされている。下記のように、ピーク位置の
解析によって、液層の厚さ及び群屈折率の計算が可能に
なる。
【0113】測定サイクルの間、液層が存在していない
場合、モータ30の走査毎に二つのピークが観測され
る。二つのピークとは、(i )光学プローブ132の表
面からの反射(p)と、(ii)平面Pの表面からの反射
(d)である。液層が存在している場合には、三つのピ
ークが観測される。図29に示すように、最左端のピー
ク(p)は光学プローブ132の表面からの反射であ
り、中央のピーク(l)は空気と液層のインタフェース
からの反射であり、そして最右端のピーク(w)は液層
と平面Pのインタフェースからの反射である。液層が存
在するときには、平面Pからの反射の見掛けの位置
(w)が右側にシフトするのが認められる。このこと
は、測定器が光路差を測定し、液層の群屈折率が1.0
より大であって、そのため平面Pの表面までの有効光路
(w)を増加させるという事実からくる結果である。
【0114】図30は、矢印C方向に移動するウエブ材
134の概略図である。ウエブ材134には液層、又は
その他のコーティングが在っても良い。光ファイバープ
ローブ132はウエブ材134の表面に対し直角に向く
ように配置される。ウエブ材の幅方向に関する厚さの均
一性を決めるため、図31の矢印G方向に、ウエブ材の
幅を横切るように移動する搬送手段(又は横断フレー
ム)を設け、これに光ファイバープローブ132を取り
付けることは可能である。この搬送手段に取り付けたプ
ローブを使って延在する被測定体(例えば、ウエブ、シ
ート)の表面プロフィールを得ることも可能である。移
動するウエブの解析は、上述の斜面Pを流下する液に関
して述べた解析方法と同様である。但し、単位幅当たり
の体積流量率は適用しない。同様に、静止ウエブ材、又
は自由落下する液体に関しても測定が可能である。更に
同様にして、プローブ132を固定した状態にして、移
動するウエブ材をその長さ方向に測定することも可能で
ある。
【0115】多層系の解析は上記の単層系について述べ
た解析の延長によって行われる。多層系のインタフェー
スを観察するためには、層間の群屈折率に差がなければ
ならない。群屈折率がそれぞれn1 、n2 、厚さが
1 、t2 である2層系を考えて見る。光プローブから
の反射はないものとすると、最初の二つの反射の間で観
測される距離はn1 1 であり、第2と第3の反射の間
で観測される距離はn2 2 となる。同様に、3層系の
場合、次に観測される距離はn3 3 となる。共有押出
し成形のウエブは上述の解析が可能な多層系の一例であ
る。
【0116】斜面を流下する液体の解析は、空間的に同
時に起こる被測定体25の背面及び鏡による群屈折率に
関して上述した解析と同様である。6インチ幅の傾斜面
Pを流下する液体について解析を行った。粘性が9から
53センチポイズ(cp)の範囲にあるグリセリンと水
の混合物からなるニュートン液体について調べた。液体
の厚さは10乃至1000cc/minの範囲の流量の関数と
して測定した。溶液は高精度の歯車ポンプによって計量
した。透明な溶液と、染料を含む溶液を評価したが、こ
れら二種類の溶液の間に大きな違いは観測されなかっ
た。測定した液体の厚さと流量の関係はニュートンの流
体方程式を使って理論的に比較した。測定は標準モード
装置及び自己相関モード装置の両者を使用して行った。
測定した厚さは全て理論値の1%以内にあった。図32
は二つの異なる粘性のグリセリン・水混合物の測定値及
び理論値のプロットである。
【0117】溶液の粘性計算には、ニュートン液体の厚
さ対流量のデータを利用した。表2はこれら計算結果の
要約である。また、表にはハーケ(Haake )粘度計によ
って測定した粘性も示されている。データの標準偏差は
この種の測定の高い精度を示し、Δ%の列はハーケ粘度
計による測定値と、標準モード装置による測定値との相
対的差を示している。計算結果はハーケ粘度計による測
定データと好対照を示している。グリセリンの粘性は温
度に強い依存性を持っているから、両測定値の差異は研
究室に於ける温度変化によると考えられる。
【0118】
【表2】
【0119】次に、延在する被測定体表面のプロフィー
ルを取る例について述べる。延在する傾斜面(被測定体
として)を用いて、その幅方向の弛みを決める解析を行
う。この解析のために、光学プローブ132を傾斜面の
上方約10mmに保持するようにして横断フレーム136
に取り付けた。光学プローブ136のプローブ端xP
被測定体に向かい合う固定反射面を備えている。横断フ
レーム136と傾斜面とは必ずしも平行ではなかった。
プローブ先端yP から傾斜面までの距離は10Hzの測定
間隔毎に連続測定すると共に、横断フレーム136は1
インチ/秒の速さで移動させた。これ等のデータは、こ
れ等データに対する線形回帰分析適合度と共に図33に
示す。線形適合度からの偏差(被測定体表面の平坦さか
らのずれを示す)は図の右軸に示す。移動台と傾斜面と
の間の相対角は線形回帰分析から0.135度と計算さ
れた。また、データは線形適合度からの偏差が示すよう
に傾斜面が中央で弛んでいることを示している。
【0120】以上、ノンコヒーレント光学干渉計データ
をサンプリングするために一定距離間隔毎にデータを採
取するためのトリガ信号を形成するのに、コヒーレント
光学干渉計を利用する装置について述べてきた。この装
置では、測定中、モータの定速制御をする必要はなく、
また、原点基準位置を設定する必要もない。更に、一度
装置をセットし、較正すれば、現場での較正は必要なく
なる。更に、ノンコヒーレント光学干渉計は異なる波長
で作動する複数のノンコヒーレント光源を含むことも可
能である。このことは、例えば群屈折率及び厚さと言っ
た一つ以上の被測定体の物理特性の同時測定を可能にす
る。
【0121】その他の実施例では、共通可変光路遅延要
素54を共有する複数のノンコヒーレント光学干渉計を
備えている。このような実施例は多重性を持たせた光学
的応用に有利であり、被測定体25の複数位置の同時監
視、単一装置による複数の被測定体の同時監視、被測定
体25の一つ以上の物理特性の同時監視を可能にする。
例えば、図34はこうした実施例を示し、この実施例で
は二つのノンコヒーレント光学干渉計53及び53aが
設けられている。ノンコヒーレント光学干渉計53aは
LED14a、光信号印加・収集手段24a、コリメーテ
ィング光信号印加・収集手段26a、光検出器32a、
光カプラ18a、及び光ファイバー16a、20a、2
2a、34aを含んで構成されている。図34に示すよ
うに、光信号印加・収集手段24、24aは、異なる位
置で被測定体25に光を照射し、集光する。また、光信
号印加・収集手段24、24aは異なる被測定体に光を
照射し、集光することも可能である。同様の方法で、ノ
ンコヒーレント光学干渉計を更に追加することも可能で
ある。光源14、14aは1x2の光学カブラ(図示せ
ず)を用いて一つ光源にする選択も可能である。こうし
た多重構成を図20に示した自己相関モード装置72に
適用することも可能である。標準モード装置52と、自
己相関モード装置72の組み合わせからなる複合構成も
可能である。
【0122】
【発明の効果】本発明によるノンコヒーレント光学干渉
計の干渉分光法に基づいた装置に於いては、定速度制御
の必要は無くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の光ファイバー構成によるノンコヒーレン
ト光学干渉計の一実施例を示すブロック図である。
【図2】図1に示す光学要素の速度対時間特性を示すグ
ラフである。
【図3】従来のコヒーレント光学干渉計のブロック図で
ある。
【図4】本発明による複式光学干渉計装置の第1実施例
を示す図である。
【図5】本発明による複式光学干渉計装置の第2実施例
を示す図である。
【図6】本発明による複式光学干渉計装置の第3実施例
を示す図である。
【図7】本発明による複式光学干渉計装置の第4実施例
を示す図である。
【図8】光学的遅延の関数として示した正規化したコヒ
ーレント光信号のグラフである。
【図9】AC結合信号から導かれた採取用トリガ信号と
一緒に図8のデータから得たAC結合信号を示す図であ
る。
【図10】ノンコヒーレント光のインターフェログラム
の一例を示す図である。
【図11】ノンコヒーレント光のインターフェログラム
の他の例を示す図である。
【図12】光学的インタフェースのノイズインターフェ
ログラムの一例を示す図である。
【図13】信号処理によって図12のノイズインターフ
ェログラムから導いた結果のガウス包絡線を示す図であ
る。
【図14】60μm 厚の光路被測定体の完全走査データ
を示す図である。
【図15】図14のデータから得た対応するガウスウイ
ンドウ包絡線の計算結果を示す図である。
【図16】本発明による完全な測定装置の好適実施例を
示す図である。
【図17】被測定体であるガラス板を繰り返し走査して
得られたデータを示す図である。
【図18】屈折率測定に用いた光学的プローブの配置を
示す図である。
【図19】図18に示す配置に関する対応動作モードを
示す図である。
【図20】光学的自己相関モード装置と称する本発明に
よる複式光学干渉計装置の第5実施例を示す図である。
【図21】図20に示す実施例の動作モードを示す図で
ある。
【図22】図20に図示の実施例で得たインターフェロ
グラムを示す図である。
【図23】図20に図示の実施例によって得た繰り返し
走査データを示す図である。
【図24】繰り返し測定データを得るための第1の方法
を要約したた流れ図である。
【図25】図24に図示の過程の詳細図である。
【図26】繰り返し測定データを得るための第の2方法
を要約したた流れ図である。
【図27】固定斜面を流下する液体を測定するための幾
何学的配置図である。
【図28】平面上の液体の厚さを測定するための幾何学
的配置図である。
【図29】平面上に液体が存在する場合と、存在しない
場合とを想定したときのデータのグラフである。
【図30】移動するウエブの厚さを測定するための幾何
学的配置図である。
【図31】移動するウエブの幅方向の厚さのプロフィー
ルを測定するための幾何学的配置図である。
【図32】グリセリンと水の混合物に関する厚さと流量
の関係を示す図である。
【図33】横方向の相対位置の関数として示した傾斜面
までの距離のデータを示す図である。
【図34】二つのノンコヒーレント光学干渉計を備えた
本発明による多重測定用装置を示す図である。
【符号の説明】
10…従来のノンコヒーレント光学干渉計の光ファイバ
ー構成による実施例 14…ノンコヒーレント光源 16、20、22、34、73…光ファイバー 24…光信号印加・収集手段 25…被測定体 26、78…コリメーティング光信号印加・収集手段 28…光学的要素;再帰反射器、鏡、又はその組み合わ
せ 30…駆動手段;モータ 32、50…光検出器 40…コヒーレント光学干渉計 42…コヒーレント光源;レーザ 44…ビームスプリッター 46…再帰反射器 48…光学的要素;再帰反射器 52…複式光学干渉計装置;標準モード 53…本発明のノンコヒーレント光学干渉計 54…共通可変光路遅延要素 55…本発明のコヒーレント光学干渉計;レーザ光学干
渉計 56…光学的要素;鏡 58…取付手段 60…モータ駆動制御用電子モジュール 62…電子モジュール 64…コンピュータ装置 66…信号処理用電子装置 68…軸に直角に切断した光ファイバープローブ 70…鏡 72…光学的自己相関モード装置 74…2x1シングルモード光カプラ 75…シングルモード光ファイバー 76…固定基準反射体 80−100…流れ図 110−116…流れ図 120−131…流れ図 132…光ファイバープローブ 134…ウエブ材 136…移動手段;横断フレーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デビッド カーター ワイドマン アメリカ合衆国,ニューヨーク 14450, フェアポート,バレー ブルック ドライ ブ 29

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コヒーレント光を発する光源を有し、コ
    ヒーレント光の干渉信号形成に適応する第1光学干渉計
    と、 ノンコヒーレント光を発する光源を備え、被測定体の物
    理特性を示すノンコヒーレント光の干渉信号形成に適応
    し、被測定体の物理特性を決定するのに十分な距離を変
    位するように設けられた共通可変光路遅延要素を前記第
    1光学干渉計と共有するように、第1光学干渉計と組み
    合わされる第2光学干渉計と、 前記可変光路遅延要素の変位の関数としてコヒーレント
    光の干渉信号を測定する手段と、 前記コヒーレント光の干渉信号に基づいて、前記可変光
    路遅延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号
    を発生する手段と、 前記ノンコヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する手
    段と、 前記データ採取用トリガ信号を利用して、前記ノンコヒ
    ーレント光の干渉信号をサンプリングする手段と、 サンプリングされたノンコヒーレント光の干渉信号から
    被測定体の物理特性を決定する手段とを備えた、被測定
    体の物理特性を決定する装置。
  2. 【請求項2】 コヒーレント光信号を発するコヒーレン
    ト光源と、 このコヒーレント光信号を第1及び第2光信号に分割す
    る第1分割手段と、 前記第1光信号を固定基準装置に印加し、この第1光信
    号の一部が固定基準装置によって反射されて基準信号を
    形成する第1光信号印加手段と、 前記第2光信号を可変光路遅延要素に印加する第2光信
    号印加手段と、 前記基準信号を収集する第1信号収集手段と、 ノンコヒーレント光信号を発する光源と、 このノンコヒーレント光信号を第3及び第4の光信号に
    分割する第2分割手段と、 前記第3光信号の一部を被測定体に印加し、この第3光
    信号の一部が被測定体によって反射されて被測定体信号
    を形成する第3光信号印加手段と、 前記被測定体信号を収集する第2信号収集手段と、 前記第4光信号を可変光路遅延要素に印加し、前記第2
    光信号とこの第4光信号の可変光路遅延要素への印加に
    よって、それぞれ第1及び第2遅延信号を形成する第4
    光信号印加手段と、 前記第1遅延信号を収集する第3信号収集手段と、 前記第2遅延信号を収集する第4信号収集手段と、 前記可変光路遅延要素と機械的に組み合わされ、前記第
    2光信号と、前記第4光信号の光路長を、被測定体の物
    理特性を決定するのに十分な距離を移動出来る可変光路
    遅延要素の変位の関数として変化させるように可変光路
    遅延要素を変位させる作動手段と、 前記第1遅延信号と基準信号とを結合して、コヒーレン
    ト光の干渉信号を形成する第1加算手段と、 前記被測定体信号と第2遅延信号とを結合して、ノンコ
    ヒーレント光の干渉信号を形成する第2加算手段と、 前記可変光路遅延手段の変位の関数として、前記コヒー
    レント光の干渉信号を測定する第1検出手段と、 前記コヒーレント光の干渉信号に基づいて可変光路遅延
    要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号を発生
    する手段と、 前記ノンコヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する第
    2検出手段と、 前記データ採取用トリガ信号を用いて前記第2検出手段
    をサンプリングする手段と、 前記第2検出手段のサンプリング結果から被測定体の物
    理特性を決定する手段とを備えた、被測定体の物理特性
    を決定する装置。
  3. 【請求項3】 コヒーレント光を発する光源を有し、コ
    ヒーレント光の干渉信号を形成する第1光学干渉計と、
    ノンコヒーレント光を発する光源を有し、被測定体の物
    理特性を示すノンコヒーレント光の干渉信号を形成する
    第2光学干渉計とを、共通可変光路遅延要素を共有する
    ように組み合わせる過程と、 可変光路遅延要素を変位させ、被測定体の物理特性を決
    定するのに十分な距離を変位する前記可変光路遅延要素
    の変位の関数として前記コヒーレント光の干渉信号を測
    定する過程と、 前記コヒーレント光の干渉信号を用いて、前記可変光路
    遅延要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号を
    発生させる過程と、 前記ノンコヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する過
    程と、 前記発生したデータ採取用トリガ信号を用いて前記ノン
    コヒーレント光の干渉信号の振幅をサンプリングする過
    程と、 このサンプリングされたノンコヒーレント光の干渉信号
    から被測定体の物理特性を決定する過程とを備えた、被
    測定体の物理特性を決定する方法。
  4. 【請求項4】 コヒーレント光信号を発する光源を用意
    する過程と、 前記コヒーレント光信号を第1及び第2光信号に分割す
    る過程と、 前記第1光信号を固定基準装置に印加し、この第1光信
    号の一部が固定基準装置によって反射されて基準信号を
    形成する過程と、 前記第2光信号を可変光路遅延要素に印加して、第1遅
    延信号を形成する過程と、 前記基準信号を収集する過程と、 ノンコヒーレント光信号を発生する光源を用意する過程
    と、 このノンコヒーレント光信号を第3及び第4の光信号に
    分割する過程と、 前記第3光信号の一部を被測定体に印加し、この第3光
    信号の一部が被測定体によって反射されて被測定体信号
    を形成する過程と、 前記被測定体信号を収集する過程と、 前記第4光信号を可変光路遅延要素に印加し、第2遅延
    信号を形成する過程と、 前記第1遅延信号を収集する過程と、 前記第2遅延信号を収集する過程と、 被測定体の物理特性を決定するのに十分な距離を移動出
    来る可変光路遅延要素を変位させ、この変位の関数とし
    て前記第2光信号と前記第4光信号の光路長を変化させ
    る過程と、 前記第1遅延信号と基準信号とを結合して、コヒーレン
    ト光の干渉信号を形成する過程と、 前記被測定体信号と第2遅延信号とを結合して、ノンコ
    ヒーレント光の干渉信号を形成する過程と、 前記可変光路遅延手段の変位の関数として、前記コヒー
    レント光の干渉信号を測定する過程と、 前記コヒーレント光の干渉信号に基づいて可変光路遅延
    要素の一定変位間隔毎にデータ採取用トリガ信号を発生
    する過程と、 前記ノンコヒーレント光の干渉信号の振幅を測定する過
    程と、 前記データ採取用トリガ信号を用いて前記第2検出手段
    をサンプリングする過程と、 前記第2検出手段のサンプリング結果から被測定体の物
    理特性を決定する過程とを備えた、被測定体の物理特性
    を決定する方法。
JP6444796A 1995-03-22 1996-03-21 被測定体の物理特性を決定する装置及び方法 Pending JPH08271219A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US408871 1995-03-22
US08/408,871 US5659392A (en) 1995-03-22 1995-03-22 Associated dual interferometric measurement apparatus for determining a physical property of an object
US08/408,770 US5596409A (en) 1995-03-22 1995-03-22 Associated dual interferometric measurement method for determining a physical property of an object
US408770 1995-03-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08271219A true JPH08271219A (ja) 1996-10-18

Family

ID=27020381

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6444796A Pending JPH08271219A (ja) 1995-03-22 1996-03-21 被測定体の物理特性を決定する装置及び方法

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0733877B1 (ja)
JP (1) JPH08271219A (ja)
CA (1) CA2169506A1 (ja)
DE (1) DE69632097T2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004286575A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光学材料の群屈折率精密計測方法及び装置
JP2005283387A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 厚さ測定装置ならびに厚さ測定方法
JP2006023626A (ja) * 2004-07-09 2006-01-26 Olympus Corp コリメーション調整機構、それを用いた光アンテナ装置およびコリメーション調整方法
JP2007114206A (ja) * 2006-11-30 2007-05-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光学材料の群屈折率精密計測方法
JP2009509150A (ja) * 2005-09-22 2009-03-05 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉測定装置
JP2009509149A (ja) * 2005-09-22 2009-03-05 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉計による層厚決定
JP2009510417A (ja) * 2005-09-29 2009-03-12 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉測定装置
JP2009222705A (ja) * 2008-02-20 2009-10-01 Osaka Univ 寸法測定装置
JP2016017750A (ja) * 2014-07-04 2016-02-01 株式会社Ihi 膜厚計測装置と方法
JP2019090840A (ja) * 2019-03-22 2019-06-13 株式会社東京精密 距離測定装置、および距離測定方法
CN112526156A (zh) * 2020-11-13 2021-03-19 成都大学 一种全光纤推挽式位移干涉测速系统及方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59806653D1 (de) * 1997-10-23 2003-01-23 Ecole Polytech Verfahren und vorrichtung zur messung von optischen eigenschaften transparenter und/oder diffusiver gegenstände
US6842254B2 (en) * 2002-10-16 2005-01-11 Fiso Technologies Inc. System and method for measuring an optical path difference in a sensing interferometer
US7609366B2 (en) * 2007-11-16 2009-10-27 Honeywell International Inc. Material measurement system for obtaining coincident properties and related method
RU2570381C1 (ru) * 2014-06-05 2015-12-10 Общество с ограниченной ответственностью "АНГИОСКАН-ИНТЕЛС" Устройство для реологического анализа крови
US9395465B2 (en) * 2014-07-31 2016-07-19 Baker Hughes Incorporated Gravity and/or acceleration measurements using dual interferometer configurations
WO2020061882A1 (zh) * 2018-09-27 2020-04-02 合刃科技(深圳)有限公司 检测透明/半透明材料缺陷的方法、装置及系统
CN112393692B (zh) * 2019-08-14 2023-04-28 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射模组、图像采集模组、深度相机及电子设备
CN111812215B (zh) * 2020-07-22 2021-06-29 南京航空航天大学 一种飞行器结构损伤的监测方法
CN112254658B (zh) * 2020-09-28 2022-02-11 广东工业大学 一种薄膜厚度的量值溯源方法
CN113405459B (zh) * 2021-07-16 2023-03-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于cmm系统的控制方法
CN114719764A (zh) * 2022-03-29 2022-07-08 交通运输部公路科学研究所 一种基于激光干涉系统的气泡液膜厚度测试装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3044183A1 (de) * 1980-11-24 1982-06-24 Reinhard Dipl.-Phys. Dr. 7250 Leonberg Ulrich Verfahren zur optischen messung von laengen und laengenaenderungen und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens
US4787745A (en) * 1983-08-24 1988-11-29 The Perkin-Elmer Corporation Conjugate interferometer

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004286575A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光学材料の群屈折率精密計測方法及び装置
JP2005283387A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 厚さ測定装置ならびに厚さ測定方法
JP2006023626A (ja) * 2004-07-09 2006-01-26 Olympus Corp コリメーション調整機構、それを用いた光アンテナ装置およびコリメーション調整方法
JP2009509150A (ja) * 2005-09-22 2009-03-05 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉測定装置
JP2009509149A (ja) * 2005-09-22 2009-03-05 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉計による層厚決定
JP2009510417A (ja) * 2005-09-29 2009-03-12 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉測定装置
US7889354B2 (en) 2005-09-29 2011-02-15 Robert Bosch Gmbh Interferometric measuring device
JP2007114206A (ja) * 2006-11-30 2007-05-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光学材料の群屈折率精密計測方法
JP2009222705A (ja) * 2008-02-20 2009-10-01 Osaka Univ 寸法測定装置
JP2016017750A (ja) * 2014-07-04 2016-02-01 株式会社Ihi 膜厚計測装置と方法
JP2019090840A (ja) * 2019-03-22 2019-06-13 株式会社東京精密 距離測定装置、および距離測定方法
CN112526156A (zh) * 2020-11-13 2021-03-19 成都大学 一种全光纤推挽式位移干涉测速系统及方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0733877A3 (en) 1997-04-16
EP0733877B1 (en) 2004-04-07
DE69632097D1 (de) 2004-05-13
EP0733877A2 (en) 1996-09-25
DE69632097T2 (de) 2005-03-10
CA2169506A1 (en) 1996-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5596409A (en) Associated dual interferometric measurement method for determining a physical property of an object
US5659392A (en) Associated dual interferometric measurement apparatus for determining a physical property of an object
JPH08271219A (ja) 被測定体の物理特性を決定する装置及び方法
Berkovic et al. Optical methods for distance and displacement measurements
US5341205A (en) Method for characterization of optical waveguide devices using partial coherence interferometry
US9025160B2 (en) Spectral phase analysis for precision ranging
JP3642996B2 (ja) 光干渉法による測定対象物の屈折率と厚さの同時測定方法及びそのための装置
JP4187354B2 (ja) 非コヒーレント光の干渉を用いた物質のリターデーションの測定方法
US20030030817A1 (en) Multifunctional opto-electronic biochip detection system
CN105121998A (zh) 干涉设备及使用这种设备的样品特征确定设备
US7515275B2 (en) Optical apparatus and method for distance measuring
EP1939581A1 (en) Apparatus for the contact-less, interferometric determination of surface height profiles and depth scattering profiles
US20110261347A1 (en) Method for interferometric detection of surfaces
CN115371587A (zh) 表面形貌测量装置及方法、物体表面高度计算方法
US10222197B2 (en) Interferometric distance measuring arrangement for measuring surfaces and corresponding method with at least two parallel measurement channels and wavelength ramp
Huang et al. Small-angle measurement by use of a single prism
GB2191855A (en) Method and apparatus for detecting reflection sites
US7116429B1 (en) Determining thickness of slabs of materials by inventors
US6614534B1 (en) Method and apparatus for combined measurement of surface non-uniformity index of refraction variation and thickness variation
CN1148575C (zh) 实时测量厚度与折射率的半导体激光干涉测量装置
US11226188B2 (en) Low-coherence reflectometry method and device employing time-frequency detection
CA2552465C (en) Optical apparatus and method for distance measuring
Marcus Fiber optic interferometry for industrial process monitoring and control applications
KR0173509B1 (ko) 광위상 간섭계 및 그를 이용한 표면측정방법
Postnikov Interferometric technique with a reference scale

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20050307

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060207

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20060704

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02