JPH08269755A - アルミニウム製部品等の脱脂洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 人体および環境に対して無害であり、またア
ルカリや界面活性剤等の水系洗浄剤を市水や純水ですす
ぐ工程、或いは純水のみを洗浄液として使用する洗浄工
程において、ワーク表面に白いくもり等が発生するのを
防止する。 【構成】 ワークを第１槽に浸漬して、下方からバブリ
ングまたは水中ジェットにより粗洗浄した後、上方から
純水のシャワーを浴びせる工程と、第１槽から来たワー
クを、第２槽に浸漬して、超音波または超音波と水中ジ
ェットにより前洗浄した後、上方から純水のシャワーを
浴びせる工程と、第３槽に供給される水または純水にケ
イ酸ソーダをＳｉＯ₂ として５０〜２００ppm となるよ
うに添加する工程と、第１槽または第２槽から来たワー
クを第３槽に浸漬して、超音波と水中ジェットにより本
洗浄し、上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、第
３槽から来たワークを最後に第４槽に浸漬して、水中ジ
ェットにより仕上げ洗浄した後、引上げる工程とからな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ用ドラム等のア
ルミニウム製精密部品を、その組込み前に脱脂を主目的
として洗浄する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＶＴＲ用ヘッド等のアルミニウム
製精密部品は、洗浄液としてフロンまたはトリクロロエ
タンを使用して浸漬・超音波洗浄および蒸気洗浄により
洗浄されていた。しかし、フロンやトリクロロエタンは
オゾン層を破壊する物質であるためその使用が規制さ
れ、これらに代わって塩化メチレン（メチレンクロライ
ド）等の有機溶剤が使用されるようになった。また、ア
ルカリまたは界面活性剤等の水系洗浄剤を使用する洗浄
方法も開発されている。

【０００３】更に、洗浄液として純水のみを使用する洗
浄方法も提案されている（特願平５−２５０５３７
号）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塩化メ
チレン等の有機溶剤を使用する洗浄方法では、有機溶剤
の人体に対する有害性の問題があり、更に爆発危険性な
どの作業安全上の問題もある。

【０００５】また、アルカリまたは界面活性剤等の水系
洗浄剤や純水だけの洗浄液を使用する洗浄方法の場合、
アルミニウム製部品の表面に電気腐食等に起因する白い
くもりが発生するという問題がある。

【０００６】この白いくもり部分における表面粗さの変
化は、所謂、加工のバイト目の粗さよりも極めて小さい
が、この白いくもりが発生する電気腐食のメカニズム
は、図３〜図７に示すようなものと推測される。

【０００７】すなわち、例えばアルミニウム製のＶＴＲ
用ドラムをワークとした場合、洗浄開始時では、図３に
示すように、ＲＯ水中において、Cu／Ni粒状物(51)を含
有するワーク(52)表面に油膜(53)が存在する。そして、
洗浄が進むにつれて油膜(53)があちこちで部分的に剥離
し、ＲＯ水とワーク(52)の接触面（ワーク洗浄面）にお
いて、Cu／Ni粒状物(51)とAl母材(52a) との間でAlから
Cu／Ni粒状物へ電子が移動する局部電池作用が起こる
（図４参照）。そして、この局部電池作用の発生と共に
ＲＯ水中にAlイオンが溶出し（電気腐食の開始）、洗浄
が進むにつれて、ワーク(52)洗浄面が拡大すると共に上
述した電気腐食が進行する（図５参照）。

【０００８】更に、洗浄が進むと、ワーク(52)洗浄面の
拡大に伴って付着油が膜状から滴状に変化し、また電気
腐食の進行によりAl母材(52a) からCu／Ni粒状物(51)が
脱落する（図６参照）。そして、最後の油滴がワーク(5
2)表面から離れた時点で洗浄は完了し、洗浄したワーク
(52)は水切りして乾燥される。

【０００９】乾燥後のワーク(52)は、図７に示すよう
に、洗浄の終盤まで油滴が付着していた(A) 箇所では電
気腐食時間が短かったために鏡面状態となり、洗浄の初
期に油膜が剥離して電気腐食時間が長かった(B) 範囲で
はCu／Ni粒状物(51)が脱落して光反射率が低く、白いく
もり状態となる。そして、このワーク(52)を全体として
見た場合、上記鏡面状態と白いくもり状態の部分とによ
ってまだら模様となる。

【００１０】本発明の目的は、人体および環境に対して
無害であり、またアルカリや界面活性剤等の水系洗浄剤
を市水や純水ですすぐ工程、或いは純水のみを洗浄液と
して使用する洗浄工程において、ワーク表面に白いくも
りが発生しない脱脂洗浄方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の脱脂洗浄方法
は、上記目的を達成すべく工夫されたものであり、洗浄
すべきワークをまず第１槽に浸漬して、下方からのバブ
リングまたは水中ジェットにより粗洗浄した後、ワーク
引上げ時に上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、
第１槽から来たワークを、必要に応じて、第２槽に浸漬
して、超音波または超音波と水中ジェットにより前洗浄
した後、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワーを浴
びせる工程と、第３槽に供給される水または純水にケイ
酸ソーダをＳｉＯ₂ として５０〜２００ppm となるよう
に添加する工程と、第１槽または第２槽から来たワーク
を第３槽に浸漬して、超音波と水中ジェットにより本洗
浄し、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワーを浴び
せる工程と、第３槽から来たワークを最後に第４槽に浸
漬して、水中ジェットにより仕上げ洗浄した後、引上げ
る工程とからなるものである。

【００１２】この洗浄方法において、前洗浄および本洗
浄のための超音波処理は、好ましくは、洗浄中連続的に
行われる。また、本洗浄および仕上げ洗浄のための水中
ジェット処理は、好ましくは、断続的に行われる。

【００１３】この発明の好ましい実施形態においては、
抵抗率１．０ＭΩ・ｃｍ以下の低グレード純水を洗浄水
として第３槽に供給すると共に、第１槽、必要に応じて
第２槽、および第３槽のシャワー水として使用し、抵抗
率１．０〜１５ＭΩ・ｃｍの高グレード純水を洗浄水と
して第４槽に供給し、第３槽の洗浄水を同槽から、必要
に応じて第２槽へ、および第１槽へ順次オーバーフロー
させる。

【００１４】低グレード純水は、好ましくは、原水を逆
浸透膜装置で処理した水であり、高グレード純水は、好
ましくは、低グレード純水を蒸発法高温純水製造装置で
処理した水である また、第３槽に供給される洗浄液にケイ酸ソーダをＳｉ
Ｏ₂ として５０〜２００ppm となるように添加するの
は、ＳｉＯ₂ として５０ppm 未満の場合には、ケイ酸ソ
ーダの添加による効果が十分に得られず、また２００pp
m を超えて添加した場合には、洗浄後の部品表面にケイ
酸ソーダの残渣と考えられる細かい白色粒子が汚れとな
って見られるからである。

【００１５】第３槽および第４槽における水温は好まし
くは４５〜６０℃であり、第１槽における水温は好まし
くは４０℃以上である。

【００１６】第１槽に浸漬する前のワークに圧縮空気を
噴射して、ワーク表面の付着物を吹飛ばすことも好まし
い。

【００１７】また、洗浄剤としてアルカリや界面活性剤
等の水系洗浄剤を使用する場合、洗浄槽および仕上げ槽
以外の工程で、市水や純水に上記ケイ酸ソーダを所定量
添加することもある。

【００１８】なお、本明細書において、「アルミニウ
ム」という語には純アルミニウムの他、アルミニウム合
金を含むものとする。

【００１９】

【作用】本発明の脱脂洗浄方法によれば、まず第１槽に
おけるバブリングまたは水中ジェットによりワークに付
着している油脂や切削屑が洗浄される。第２槽では、超
音波によるキャビテーションにより更にワークの洗浄が
行われ、また、水中ジェットを併用した場合、この超音
波洗浄で取れた油脂等は、ワークの近傍に滞留せずに、
水中ジェットの水流により槽内に拡散されるため、当該
ワークに再付着することがない。更に、第３槽でも上記
第２槽と同様に超音波と水中ジェットによる洗浄が行わ
れてワークに付着していた油脂や切削屑が略完全に除去
される。しかも、洗浄水にケイ酸ソーダを上記所定量だ
け添加することにより、ワーク表面に水和によるバリヤ
ライトの成長がほとんど起こらず、そのため当該ワーク
表面における電気腐食に起因するアルミニウムイオンの
溶出が有効に防止され、そのため白いくもりが発生せ
ず、またケイ酸ソーダの余剰残渣による汚れも生じな
い。そして、第４槽における水中ジェットにより最終的
に洗浄後のワークの濯ぎが行われる。

【００２０】

【実施例】次に、本発明方法によりアルミニウム製精密
部品の脱脂洗浄を行う場合の実施例について添付図面に
従って説明する。

【００２１】実施例１ 図１に示す洗浄フローは、洗浄装置(1) と、同装置(1)
の第３槽(11c) に低グレード純水を供給するための逆浸
透膜装置(2) と、洗浄装置(1) の第４槽(11d)に高グレ
ード純水を供給するための蒸発法高温純水製造装置(3)
と、第３槽(11c) にケイ酸ソーダを供給するためのケイ
酸ソーダ溶液タンク(17a) および注入ポンプ(17b) を有
する薬液注入装置(17)と、第１槽(11a) に圧縮空気を供
給するための圧縮空気供給装置(4) とを含む。

【００２２】洗浄装置(1) は、第１槽(11a) 、第２槽(1
1b) 、第３槽(11c) および第４槽(11d) からなる洗浄槽
(11)と、第１槽(11a) の槽底内部に配置された気泡発生
装置(12)と、第２槽(11b) および第３槽(11c) の槽底外
面にそれぞれ設けられた超音波発生装置(13a)(13b)と、
第３槽(11c) および第４槽(11d) の槽底内部にそれぞれ
配置された水中ジェット発生装置(14a)(14b)と、第１槽
(11a) 、第２槽(11b)および第３槽(11c) の上方にそれ
ぞれ配置されたシャワー用スプレイヘッダ(15a)(15b)(1
5c) と、乾燥装置(16)とを備えている。

【００２３】気泡発生装置(12)は、気泡を噴出するため
のノズルヘッダ(18)、開閉弁(19)および流量（または圧
力）調節器(20)からなる。超音波発生装置(13a)(13b)
は、発信器および振動子を有する。水中ジェット発生装
置(14a)(14b)は、水を噴出するためのノズルヘッダ(14
c) と、当該洗浄槽内の水を吸い込み３〜１０ｋｇ／ｃ
ｍ² の圧力でノズルヘッダ(14c) に供給する循環ポンプ
(5) とからなる。

【００２４】上記構成において、原水として市水または
工業用水が逆浸透膜装置(2) で処理され、温度５０〜５
５℃、比抵抗率０．１〜１．０ＭΩ・ｃｍ程度の低グレ
ード純水が生産される。この低グレード純水は第３槽(1
1c) の底部に連続的に供給されるが、その途中で、薬液
注入装置(17)からケイ酸ソーダがＳｉＯ₂ として約５０
ppm となるように添加される。

【００２５】また、上記逆浸透膜装置(2) で生産された
低グレード純水の一部は蒸留法高温純水製造装置(3) で
処理され、温度５０〜５５℃、比抵抗率１０〜１５ＭΩ
・ｃｍ程度の高グレード純水が生産される。なお、上記
蒸留法高温純水製造装置(3)へ供給される低グレード純
水には、ケイ酸ソーダは添加されない。

【００２６】上記高グレード純水は第４槽(11d) の底部
に間欠的に供給される。一方、ケイ酸ソーダを所定濃度
含む低グレード純水は、第１〜３槽の各スプレイヘッダ
(15a)(15b)(15c) に連続的に供給される。第３槽(11c)
に供給された低グレード純水は、この槽が満水になると
ここからオーバーフローして第２槽(11b) に流れ込み、
さらに同様にして第２槽(11b) から第１槽(11a) に流れ
込む。第１槽(11a) が満水になりここからオーバーフロ
ーした水は、排水される。第４槽(11d) に供給された高
グレード純水は、この槽が満水になるとここからオーバ
ーフローし、オーバーフロー水はやはり洗浄廃水として
排水される。

【００２７】洗浄が開始され、ワークを入れた洗浄かご
が第１槽(11a) 上方の所定位置に搬送されて来ると、第
１槽(11a) の内底部に設けられた気泡発生装置(12)に圧
縮空気供給装置(4) から圧縮空気が供給され、これによ
り多数の細かい気泡が発生して第１槽(11a) 内全体に広
がり、水面上で沸き立つようになる。これに伴い、洗浄
かごは下降を始め第１槽(11a) の洗浄液中に没する。浸
漬中、洗浄かごは水面に出ない範囲で上下に揺動され、
所定時間経過後この槽から引き上げられ、気泡発生装置
(12)への圧縮空気の供給も止まる。ついで、第１槽(11
a) 上方のスプレイヘッダ(15a) からシャワー水の噴射
が開始され、ワークは洗浄かごとともにシャワーを浴び
る。所定時間のシャワー水の噴射の後シャワーは止ま
り、洗浄かごは第２槽(11b) の上方へ移動される。

【００２８】洗浄かごが第２槽(11b) 上方の所定位置に
来ると、第２槽(11b) の内底部外面に設けられた超音波
発生装置(13a) が作動し、第２槽(11b) 内全体に超音波
振動波が広がる。これに伴い、洗浄かごは下降を始め第
２槽(11b) の洗浄液中に没する。浸漬中、洗浄かごは、
水面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過後こ
の槽から引き上げられ、超音波発生装置(13a) も停止す
る。ついで、第２槽(11b) 上方のスプレイヘッダ(15b)
からシャワー水の噴射が開始され、ワークは洗浄かごと
ともにシャワーを浴びる。所定時間のシャワー水の噴射
の後シャワーは止まり、洗浄かごは第３槽(11c) に移動
される。

【００２９】洗浄かごが第３槽(11c) 上方の所定位置に
来ると、第３槽(11c) 内底部外面に設けられた超音波発
生装置(13b) が作動し、第３槽(11c) 内全体に超音波振
動波が広がる。これに伴い、洗浄かごは下降を開始し、
薬液注入装置(17)によりケイ酸ソーダが添加された第３
槽(11c) の洗浄液中に没する。浸漬中、洗浄かごは、水
面に出ない範囲で上下に揺動される。所定時間経過後、
第３槽(11c) 内底部に設けられた水中ジェット発生装置
(14a) が作動し、第３槽(11c) 内全体に超音波による振
動波と同時に水中ジェットによる噴射水流が広がる。こ
の間も洗浄かごの揺動は続けられ、所定時間経過後この
槽から引き上げられ、超音波発生装置(13b) および水中
ジェット発生装置(14a) は停止する。ついで、第３槽(1
1c) 上方のスプレイヘッダ(15c) からシャワー水が噴射
され、ワークは洗浄かごとともにシャワーを浴びる。所
定時間のシャワー水の噴射の後シャワーは止まり、洗浄
かごは第４槽(11d) に移動される。

【００３０】上述した第１槽(11a) 〜第３槽(11c) にお
ける処理において、薬液注入装置(17)により低グレード
純水に添加されたケイ酸ソーダは、各槽のシャワー用ス
プレイヘッダ(15a)(15b)(15c) から噴射される噴射液お
よび第３槽(11c) から第１槽(11a) へ順次オーバーフロ
ーする洗浄液にそれぞれ含有されている。

【００３１】洗浄かごが第４槽(11d) 上方の所定位置に
来ると、第４槽(11d) 内底部に設けられた水中ジェット
発生装置(14b) が作動し、第４槽(11d) 内全体に水中ジ
ェットによる噴射水流が広がる。これに伴い、洗浄かご
は下降を始め第４槽(11d) に没する。浸漬中、洗浄かご
は、水面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過
後この槽から引き上げられ、水中ジェット発生装置も停
止する。

【００３２】ワークを入れた洗浄かごは第４槽(11d) か
ら引き上げ後、乾燥装置(16)により水切り、乾燥され、
洗浄が完了する。水切りおよび乾燥方法としては、エア
ブロー、熱風乾燥等が一般的であるが、真空乾燥その他
の方法も実施可能である。

【００３３】本実施例の方法により洗浄されたワーク表
面を観察したところ、電気腐食に起因する白いくもりや
ケイ酸ソーダの余剰残渣による白色粒子の汚れは認めら
れず、ワーク全面が鏡面状態であった。

【００３４】一方、ケイ酸ソーダを添加せずに、本実施
例と同様の洗浄を行った場合、ワーク表面に白いくもり
が見られた。

【００３５】実施例２ 図２に示す洗浄フローは、洗浄装置(21)と、同装置(21)
の第３槽(21c) に低グレード純水を供給するための逆浸
透膜装置(22)と、洗浄装置(21)の第４槽(21d)に高グレ
ード純水を供給するための蒸発法高温純水製造装置(31)
と、第３槽(21c) にケイ酸ソーダを供給するためのケイ
酸ソーダ溶液タンク(27a) および注入ポンプ(27b) を有
する薬液注入装置(27)と、第５槽(21e) に圧縮空気を供
給するための圧縮空気供給装置(33)と、第１槽(21a) か
ら流出する廃水の油分を除去する油水分離器(30)とを含
む。

【００３６】洗浄装置(21)は、第１槽(21a) 、第２槽(2
1b) 、第３槽(21c) および第４槽(21d) からなる洗浄槽
(21A) と、水切り槽となる第５槽(21e) と、乾燥装置(2
6)とを備えている。

【００３７】第２槽(21b) および第３槽(21c) の槽底外
面には超音波発生装置(23a)(23b)がそれぞれ設けられ、
第１槽(21a) 〜第４槽(21d) の槽底内部には水中ジェッ
ト発生装置(24a)(24b)(24c)(24d)がそれぞれ配置され、
同じく第１槽(21a) 〜第４槽(21d) の上方にはシャワー
用スプレイヘッダ(25a)(25b)(25c)(25d)がそれぞれ配置
されている。そして、第１槽(21a) 〜第３槽(21c) にお
ける各水中ジェット発生装置(24a)(24b)(24c) と各シャ
ワー用スプレイヘッダ(25a)(25b)(25c) への洗浄液の供
給は、各循環ポンプ(28a)(28b)(28c) の吐出側に設けら
れた切換え用電磁弁(29a)(29b)(29c) によって選択的に
行われる。また、第４槽(21d) の水中ジェット発生装置
(24d) には、循環ポンプ(29d) により洗浄液が供給さ
れ、第４槽(21d) のシャワー用スプレイヘッダ(25d) に
は、蒸発法高温純水製造装置(31)から高グレード純水が
供給される。

【００３８】上記構成において、原水として市水または
工業用水が逆浸透膜装置(22)で処理され、温度５０〜５
５℃、比抵抗率０．１〜１．０ＭΩ・ｃｍ程度の低グレ
ード純水が生産される。この低グレード純水は第３槽(2
1c) の底部に連続的に供給されるが、その途中で、薬液
注入装置(27)からケイ酸ソーダがＳｉＯ₂ として約５０
ppm となるように添加される。

【００３９】また、上記逆浸透膜装置(22)で生産された
低グレード純水の一部は蒸留法高温純水製造装置(31)で
処理され、温度５０〜５５℃、比抵抗率１０〜１５ＭΩ
・ｃｍ程度の高グレード純水が生産される。なお、上記
蒸留法高温純水製造装置(31)へ供給される低グレード純
水には、ケイ酸ソーダは添加されない。

【００４０】上記高グレード純水は第４槽(21d) のシャ
ワー用スプレイヘッダ(25d) に間欠的に供給される。第
３槽(21c) に供給されたケイ酸ソーダを所定濃度含む低
グレード純水は、この第３槽(21c) が満水になるとここ
からオーバーフローして第２槽(21b) に流れ込み、さら
に同様にして第２槽(21b) から第１槽(21a) に流れ込
む。第１槽(21a) が満水になりここからオーバーフロー
した水は、洗浄廃液として油水分離器(30)で油分を除去
した後排水される。第４槽(21d) に供給された高グレー
ド純水は、この第４槽(21d) が満水になるとオーバーフ
ローし、このオーバーフロー水は低グレード純水と混合
されて蒸留法高温純水製造装置(31)へ供給される。

【００４１】洗浄が開始されると、第１槽(21a) 〜第４
槽(21d) における各循環ポンプ(28a)(28b)(28c)(28d)が
作動して各水中ジェット発生装置(24a)(24b)(24c)(24d)
から洗浄水が噴射される。

【００４２】ワークを入れた洗浄かごが第１槽(21a) 上
方の所定位置に搬送され、次に、該洗浄かごは下降して
第１槽(21a) の洗浄液中に没する。浸漬中の洗浄かご
は、水面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過
後この槽から引き上げられ、第１槽(21a) 上方のスプレ
イヘッダ(25a) の下方位置へ搬送される。そして、洗浄
かごが所定位置で停止した時点で電磁弁(29a) が作動し
て水中ジェット発生装置(24a) による洗浄水の噴射から
スプレイヘッダ(25a) によるシャワー水の噴射へと切換
わり、洗浄かご内のワークがシャワーを浴びる。所定時
間のシャワー水の噴射の後上記電磁弁(29a) の切換えに
よりシャワーは止まり、水中ジェット発生装置(24a) が
再び作動する。その後、洗浄かごは第２槽(21b) の上方
へ移動される。

【００４３】洗浄かごが第２槽(21b) 上方の所定位置に
来ると、第２槽(21b) の内底部外面に設けられた超音波
発生装置(23a) が作動し、第２槽(21b) 内全体に超音波
振動波が広がる。また、同槽(21b) 内の水中ジェット発
生装置 (24b)も引続き作動している。この状態で、洗浄
かごは下降して同槽(21b) の洗浄液中に没する。浸漬中
の洗浄かごは、水面に出ない範囲で上下に揺動され、所
定時間経過後この槽から引き上げられ、超音波発生装置
(23a) が停止する。ついで、洗浄かごは第２槽(21b) 上
方のスプレイヘッダ(25b) の下方位置へ搬送される。そ
して、洗浄かごが所定位置で停止した時点で電磁弁(29
b) が作動して水中ジェット発生装置(24b) による洗浄
水の噴射からスプレイヘッダ(25b) によるシャワー水の
噴射へと切換わり、洗浄かご内のワークがシャワーを浴
びる。所定時間のシャワー水の噴射の後上記電磁弁(29
b) の切換えによりシャワーは止まり、水中ジェット発
生装置(24b) が再び作動する。その後、洗浄かごは第３
槽(21c) の上方へ移動される。

【００４４】洗浄かごが第３槽(21c) 上方の所定位置に
来ると、第３槽(21c) の内底部外面に設けられた超音波
発生装置(23b) が作動し、第３槽(21c) 内全体に超音波
振動波が広がる。また、同槽(21b) 内の水中ジェット発
生装置 (24c)も引続き作動している。この状態で、洗浄
かごは下降を開始し、薬液注入装置(27)によりケイ酸ソ
ーダが添加された第３槽(21c) の洗浄液中に没する。浸
漬中、洗浄かごは、水面に出ない範囲で上下に揺動され
る。洗浄かごは、所定時間経過後にこの槽から引き上げ
られ、超音波発生装置(23b) は停止する。ついで、洗浄
かごは第３槽(21c) 上方のスプレイヘッダ(25c) の下方
位置へ搬送される。そして、洗浄かごが所定位置で停止
した時点で電磁弁(29c) が作動して水中ジェット発生装
置(24c)による洗浄水の噴射からスプレイヘッダ(25c)
によるシャワー水の噴射へと切換わり、洗浄かご内のワ
ークがシャワーを浴びる。所定時間のシャワー水の噴射
の後上記電磁弁(29c) の切換えによりシャワーは止ま
り、水中ジェット発生装置(24c) が再び作動する。その
後、洗浄かごは第４槽(21d) の上方へ移動される。

【００４５】上述した第１槽(21a) 〜第３槽(21c) にお
ける処理において、薬液注入装置(27)により低グレード
純水に添加されたケイ酸ソーダは、各槽のシャワー用ス
プレイヘッダ(25a)(25b)(25c) から噴射される噴射液お
よび第３槽(21c) から第１槽(21a) へ順次オーバーフロ
ーする洗浄液にそれぞれ含有されている。

【００４６】洗浄かごが第４槽(21d) 上方の所定位置に
来ると、該洗浄かごは下降を始め第４槽(21d) に没す
る。浸漬中、洗浄かごは、水面に出ない範囲で上下に揺
動され、水中ジェット発生装置(24d) の水流により洗浄
かご内のワークが濯がれる。洗浄かごは、所定時間経過
後この槽から引き上げられ、第４槽(21d) 上方のスプレ
イヘッダ(25d) の下方位置へ搬送される。この間水中ジ
ェット発生装置(24d) は連続して作動している。

【００４７】そして、洗浄かごが所定位置で停止した時
点でスプレイヘッダ(25d) から高グレード純水が噴射さ
れ、洗浄かご内のワークが高グレード純水のシャワーを
浴びる。所定時間のシャワー水の噴射の後、該シャワー
は止まる。その後、洗浄かごは第５槽(21e) の上方へ搬
送される。

【００４８】洗浄かごが第５槽(21e) の上方の所定位置
に来ると、洗浄かごは下降して水切り用空気ノズルヘッ
ダ(32)の所定位置に搬送される。そして、洗浄かごが所
定位置で停止した時点で圧縮空気供給装置(33)が作動し
て圧縮空気が供給され、これが水切り用空気ノズルヘッ
ダ(32)から噴射され、これによりワークおよび洗浄かご
に付着した水が吹き飛ばされる。所定時間の圧縮空気の
噴射後、圧縮空気供給装置(33)が停止して圧縮空気の供
給が中断され、洗浄かごは第５槽(21e) の底部へ搬送さ
れる。

【００４９】第５槽(21e) の底部に搬送された洗浄かご
は、更に、乾燥装置(26)に搬送される。乾燥装置(26)内
では、自動温度調節機能付きの熱風発生機より熱風が供
給され、この熱風により洗浄かご内のワークが完全に乾
燥される。そして、乾燥されたワークが入った洗浄かご
は、乾燥装置(26)から外へ出される。

【００５０】本実施例の方法により洗浄されたワーク表
面を観察したところ、電気腐食に起因する白いくもりや
ケイ酸ソーダの余剰残渣による白色粒子の汚れは認めら
れず、ワーク全面が鏡面状態であった。

【００５１】一方、ケイ酸ソーダをＳｉＯ₂ として約１
０ppm となるように添加して、本実施例と同様の洗浄を
行った場合、ワーク表面に白いくもりが見られた。

【００５２】また、ケイ酸ソーダをＳｉＯ₂ として約３
００ppm となるように添加して、本実施例と同様の洗浄
を行った場合、ワーク表面に電気腐食に起因する白いく
もりは見られなかったが、ケイ酸ソーダの余剰残渣によ
る白色粒子の汚れが認められた。

【００５３】

【発明の効果】本発明の脱脂洗浄方法によれば、まず第
１槽におけるバブリングまたは水中ジェットによりワー
クに付着している油脂や切削屑が洗浄される。第２槽で
は、超音波によるキャビテーションにより更にワークの
洗浄が行われ、また、水中ジェットを併用した場合、こ
の超音波洗浄で取れた油脂等は、ワークの近傍に滞留せ
ずに、水中ジェットの水流により槽内に拡散されるた
め、当該ワークに再付着することがない。更に、第３槽
でも上記第２槽と同様に超音波と水中ジェットによる洗
浄が行われてワークに付着していた油脂や切削屑が略完
全に除去される。しかも、洗浄水にケイ酸ソーダを上記
所定量だけ添加することにより、ワーク表面に水和によ
るバリヤライトの成長がほとんど起こらず、そのため当
該ワーク表面における電気腐食に起因するアルミニウム
イオンの溶出が有効に防止され、そのため白いくもりが
発生せず、またケイ酸ソーダの余剰残渣による汚れも生
じない。そして、第４槽における水中ジェットにより最
終的に洗浄後のワークの濯ぎが行われる。

【００５４】従って、本発明の脱脂洗浄方法によって洗
浄されたアルミニウム製部品の表面は、常に鏡面状態と
なる。また、従来の有機溶剤による洗浄のような人体に
対する有害性や作業安全上の問題を生ずることもない。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の洗浄方法を示すフローシートであ
る。

【図２】実施例２の洗浄方法を示すフローシートであ
る。

【図３】従来の洗浄方法によるアルミニウム部品の洗浄
開始時の状態を示す断面図である。

【図４】同じく従来の洗浄方法における洗浄初期の段階
を示す断面図である。

【図５】同じく従来方法におけるアルミニウムイオンの
溶出状態を示す断面図である。

【図６】同じく従来方法におけるCu／Ni粒状物の脱落状
態を示す断面図である。

【図７】同じく従来方法による洗浄後の状態を示す断面
図である。

【符号の説明】

(1)(21) ：洗浄装置 (2)(22) ：逆浸透膜装置 (3) (32)：蒸発法高温純水製造装置 (4) ：圧縮空気供給装置 (12)：気泡発生装置 (13a)(13b)(23a)(23b)：超音波発生装置 (14a)(14b)(14c)(24a)(24b)(24c)(24d) ：水中ジェット
発生装置 (15a)(15b)(15c)(25a)(25b)(25c)(25d) ：シャワー用ス
プレイヘッダ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 一幸 大阪市此花区西九条５丁目３番28号 日立 造船株式会社内 (72)発明者 岸川 良一 大阪市此花区西九条５丁目３番28号 日立 造船株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄すべきワークをまず第１槽に浸漬し
   て、下方からバブリングまたは水中ジェットにより粗洗
   浄した後、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワーを
   浴びせる工程と、 第１槽から来たワークを、必要に応じて、第２槽に浸漬
   して、超音波または超音波と水中ジェットにより前洗浄
   した後、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワーを浴
   びせる工程と、 第３槽に供給される水または純水にケイ酸ソーダをＳｉ
   Ｏ₂ として５０〜２００ppm となるように添加する工程
   と、 第１槽または第２槽から来たワークを第３槽に浸漬し
   て、超音波と水中ジェットにより本洗浄し、ワーク引上
   げ時に上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、 第３槽から来たワークを最後に第４槽に浸漬して、水中
   ジェットにより仕上げ洗浄した後、引上げる工程とから
   なるアルミニウム製部品等の脱脂洗浄方法。