JPH07100444A - 洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法および洗浄装置Info
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- JPH07100444A JPH07100444A JP5250537A JP25053793A JPH07100444A JP H07100444 A JPH07100444 A JP H07100444A JP 5250537 A JP5250537 A JP 5250537A JP 25053793 A JP25053793 A JP 25053793A JP H07100444 A JPH07100444 A JP H07100444A
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- water
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 洗浄すべきワークをまず第１槽に浸漬して、
下方からのバブリングにより粗洗浄した後、ワーク引上
げ時に上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、第１
槽から来たワークを、必要に応じて、第２槽に浸漬し
て、超音波により前洗浄した後、ワーク引上げ時に上方
から純水のシャワーを浴びせる工程と、第１槽または第
２槽から来たワークをついで第３槽に浸漬して、超音波
と水中ジェットにより本洗浄し、ワーク引上げ時に上方
から純水のシャワーを浴びせる工程と、第３槽から来た
ワークを最後に第４槽に浸漬して、水中ジェットにより
仕上げ洗浄した後、引上げる工程とからなる洗浄方法で
ある。 【効果】 洗浄液は人体、環境に対して無害で、フロ
ン、トリクロロエタン洗浄と同等の清浄度が得られる。
下方からのバブリングにより粗洗浄した後、ワーク引上
げ時に上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、第１
槽から来たワークを、必要に応じて、第２槽に浸漬し
て、超音波により前洗浄した後、ワーク引上げ時に上方
から純水のシャワーを浴びせる工程と、第１槽または第
２槽から来たワークをついで第３槽に浸漬して、超音波
と水中ジェットにより本洗浄し、ワーク引上げ時に上方
から純水のシャワーを浴びせる工程と、第３槽から来た
ワークを最後に第４槽に浸漬して、水中ジェットにより
仕上げ洗浄した後、引上げる工程とからなる洗浄方法で
ある。 【効果】 洗浄液は人体、環境に対して無害で、フロ
ン、トリクロロエタン洗浄と同等の清浄度が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＶＴＲヘッド等のア
ルミニウム製精密製品の組立て前の部品を、脱脂を主目
的として洗浄する方法に関し、さらにこの方法に使用さ
れる洗浄装置に関する。
ルミニウム製精密製品の組立て前の部品を、脱脂を主目
的として洗浄する方法に関し、さらにこの方法に使用さ
れる洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来技術および解決すべき課題】従来、ＶＴＲヘッド
等のアルミニウム製精密部品は、洗浄液としてフロンま
たはトリクロロエタンを使用して浸漬・超音波洗浄およ
び蒸気洗浄により洗浄されていた。しかし、フロンやト
リクロロエタンはオゾン層を破壊する物質あるためその
使用が規制され、これらに代わって塩化メチレン（メチ
レンクロライド）等の有機溶剤が使用されるようになっ
た。また、アルカリまたは界面活性剤等の水系洗浄剤を
使用する洗浄方法も開発されている。
等のアルミニウム製精密部品は、洗浄液としてフロンま
たはトリクロロエタンを使用して浸漬・超音波洗浄およ
び蒸気洗浄により洗浄されていた。しかし、フロンやト
リクロロエタンはオゾン層を破壊する物質あるためその
使用が規制され、これらに代わって塩化メチレン（メチ
レンクロライド）等の有機溶剤が使用されるようになっ
た。また、アルカリまたは界面活性剤等の水系洗浄剤を
使用する洗浄方法も開発されている。
【０００３】フロンやトリクロロエタンは上述の如く使
用規制され、塩化メチレン等の有機溶剤は人体に対する
安全上問題がある。また、水系洗浄剤は、ワーク表面の
変色等の副作用を招き、洗浄後の完全なすすぎ（洗浄剤
の除去）が困難である上に、廃水処理が面倒である、と
いった問題を有する。
用規制され、塩化メチレン等の有機溶剤は人体に対する
安全上問題がある。また、水系洗浄剤は、ワーク表面の
変色等の副作用を招き、洗浄後の完全なすすぎ（洗浄剤
の除去）が困難である上に、廃水処理が面倒である、と
いった問題を有する。
【０００４】本発明の目的は、人体および環境に対して
無害である純水のみを洗浄液として使用し、従来のフロ
ン洗浄やトリクロロエタン洗浄と同等の清浄度を得ると
共に、ワーク表面の変色等の副作用または超音波洗浄時
のキャビテーションによるエロージョンが発生する恐れ
のない洗浄方法を提供すること、ならびにこの方法に使
用する洗浄装置を提供することにある。
無害である純水のみを洗浄液として使用し、従来のフロ
ン洗浄やトリクロロエタン洗浄と同等の清浄度を得ると
共に、ワーク表面の変色等の副作用または超音波洗浄時
のキャビテーションによるエロージョンが発生する恐れ
のない洗浄方法を提供すること、ならびにこの方法に使
用する洗浄装置を提供することにある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明洗浄方法は、
上記目的を達成すべく工夫されたものであり、洗浄すべ
きワークをまず第１槽に浸漬して、下方からのバブリン
グにより粗洗浄した後、ワーク引上げ時に上方から純水
のシャワーを浴びせる工程と、第１槽から来たワーク
を、必要に応じて、第２槽に浸漬して、超音波により前
洗浄した後、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワー
を浴びせる工程と、第１槽または第２槽から来たワーク
をついで第３槽に浸漬して、超音波と水中ジェットによ
り本洗浄し、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワー
を浴びせる工程と、第３槽から来たワークを最後に第４
槽に浸漬して、水中ジェットにより仕上げ洗浄した後、
引上げる工程とからなるものである。
上記目的を達成すべく工夫されたものであり、洗浄すべ
きワークをまず第１槽に浸漬して、下方からのバブリン
グにより粗洗浄した後、ワーク引上げ時に上方から純水
のシャワーを浴びせる工程と、第１槽から来たワーク
を、必要に応じて、第２槽に浸漬して、超音波により前
洗浄した後、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワー
を浴びせる工程と、第１槽または第２槽から来たワーク
をついで第３槽に浸漬して、超音波と水中ジェットによ
り本洗浄し、ワーク引上げ時に上方から純水のシャワー
を浴びせる工程と、第３槽から来たワークを最後に第４
槽に浸漬して、水中ジェットにより仕上げ洗浄した後、
引上げる工程とからなるものである。
【０００６】この洗浄方法において、前洗浄および本洗
浄のための超音波処理は、好ましくは、洗浄中連続的に
行われる。また、本洗浄および仕上げ洗浄のための水中
ジェット処理は、好ましくは、断続的に行われる。
浄のための超音波処理は、好ましくは、洗浄中連続的に
行われる。また、本洗浄および仕上げ洗浄のための水中
ジェット処理は、好ましくは、断続的に行われる。
【０００７】この発明の好ましい実施形態においては、
抵抗率１．０ＭΩ・ｃｍ以下の低グレード純水を洗浄水
として第３槽に供給すると共に、第１槽、必要に応じて
第２槽、および第３槽のシャワー水として使用し、抵抗
率１．０〜１５ＭΩ・ｃｍの高グレード純水を洗浄水と
して第４槽に供給し、第３槽の洗浄水を同槽から、必要
に応じて第２槽へ、および第１槽へ順次オーバーフロー
させる。
抵抗率１．０ＭΩ・ｃｍ以下の低グレード純水を洗浄水
として第３槽に供給すると共に、第１槽、必要に応じて
第２槽、および第３槽のシャワー水として使用し、抵抗
率１．０〜１５ＭΩ・ｃｍの高グレード純水を洗浄水と
して第４槽に供給し、第３槽の洗浄水を同槽から、必要
に応じて第２槽へ、および第１槽へ順次オーバーフロー
させる。
【０００８】低グレード純水は、好ましくは、原水を逆
浸透膜装置で処理した水であり、高グレード純水は、好
ましくは、低グレード純水を蒸発法高温純水製造装置で
処理した水である第３槽および第４槽における水温は好
ましくは４５〜６０℃であり、第１槽における水温は好
ましくは４０℃以上である。
浸透膜装置で処理した水であり、高グレード純水は、好
ましくは、低グレード純水を蒸発法高温純水製造装置で
処理した水である第３槽および第４槽における水温は好
ましくは４５〜６０℃であり、第１槽における水温は好
ましくは４０℃以上である。
【０００９】第１槽においてバブリングの代わりに水中
ジェットによりワークを粗洗浄することもできる。
ジェットによりワークを粗洗浄することもできる。
【００１０】第１槽に浸漬する前のワークに圧縮空気を
噴射して、ワーク表面の付着物を吹飛ばすことも好まし
い。
噴射して、ワーク表面の付着物を吹飛ばすことも好まし
い。
【００１１】第１槽および第４槽から排出される洗浄廃
水をそれぞれ第１および第２の限外濾過式排水処理装置
で油水分離処理し、第１限外濾過式排水処理装置から出
た透過水を逆浸透膜装置へ、第２限外濾過式排水処理装
置から出た透過水を蒸発法高温純水製造装置へそれぞれ
送って原水として再利用することもある。
水をそれぞれ第１および第２の限外濾過式排水処理装置
で油水分離処理し、第１限外濾過式排水処理装置から出
た透過水を逆浸透膜装置へ、第２限外濾過式排水処理装
置から出た透過水を蒸発法高温純水製造装置へそれぞれ
送って原水として再利用することもある。
【００１２】この発明による洗浄装置は、底部にパブリ
ング装置が配設され、かつ上方にスプレイノズルが配置
されている第１槽と、底面または側面に超音波発生装置
が配設され、かつ上方にスプレイノズルが配置されてい
る、必要に応じて設けられる第２槽と、底面または側面
に超音波発生装置が、底部に水中ジェット発生装置がそ
れぞれ配設され、かつ上方にスプレイノズルが配置され
ている第３槽と、底部に水中ジェット発生装置が配設さ
れている第４槽とを具備したものである。
ング装置が配設され、かつ上方にスプレイノズルが配置
されている第１槽と、底面または側面に超音波発生装置
が配設され、かつ上方にスプレイノズルが配置されてい
る、必要に応じて設けられる第２槽と、底面または側面
に超音波発生装置が、底部に水中ジェット発生装置がそ
れぞれ配設され、かつ上方にスプレイノズルが配置され
ている第３槽と、底部に水中ジェット発生装置が配設さ
れている第４槽とを具備したものである。
【００１３】この洗浄装置において、洗浄水として第１
槽、必要に応じて第２槽、および第３槽に供給されると
共に、第１槽、必要に応じて第２槽、および第３槽のシ
ャワー水として使用される低グレード純水を生産する逆
浸透膜装置と、第４槽に供給される高グレード純水を生
産する蒸発法高温純水製造装置を設けることもある。
槽、必要に応じて第２槽、および第３槽に供給されると
共に、第１槽、必要に応じて第２槽、および第３槽のシ
ャワー水として使用される低グレード純水を生産する逆
浸透膜装置と、第４槽に供給される高グレード純水を生
産する蒸発法高温純水製造装置を設けることもある。
【００１４】
【実施例】添付図面を基にこの発明の実施例について説
明する。
明する。
【００１５】実施例１ 図１に示す洗浄フローは、洗浄装置(1) および同装置
(1) の第１槽に純水を供給するための逆浸透膜装置(2)
、洗浄装置(1) の第４槽に純水を供給するための蒸発
法高温純水製造装置(3) 、ならびに洗浄装置(1) の第１
槽に圧縮空気を供給するための圧縮空気供給装置(4) を
含む。
(1) の第１槽に純水を供給するための逆浸透膜装置(2)
、洗浄装置(1) の第４槽に純水を供給するための蒸発
法高温純水製造装置(3) 、ならびに洗浄装置(1) の第１
槽に圧縮空気を供給するための圧縮空気供給装置(4) を
含む。
【００１６】洗浄装置(1) は、第１槽(11a) 、第２槽(1
1b) 、第３槽(11c) および第４槽(11d) からなる洗浄槽
(11)と、第１槽(11a) の槽底内部に配置された気泡発生
装置(12)と、第２槽(11b) および第３槽(11c) の槽底外
面にそれぞれ設けられた超音波発生装置(13a)(13b)と、
第３槽(11c) および第４槽(11d) の槽底内部にそれぞれ
配置された水中ジェット発生装置(14a)(14b)と、第１槽
(11a) 、第２槽(11b)および第３槽(11c) の上方にそれ
ぞれ配置されたシャワー用スプレイヘッダ(15a)(15b)(1
5c) と、乾燥装置(16)とからなる。気泡発生装置(12)
は、気泡を噴出するためのノズルヘッダ(18)、開閉弁(1
9)および流量（または圧力）調節器(20)からなる。超音
波発生装置(13a)(13b)は、発信器および振動子からな
り、振動子は当該洗浄槽内の底面または側面に取り付け
られている。水中ジェット発生装置(14a)(14b)は、水を
噴出するためのノズルヘッダと、当該洗浄槽内の水を吸
い込み３〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の圧力でノズルヘッダに供
給する循環ポンプとからなる。
1b) 、第３槽(11c) および第４槽(11d) からなる洗浄槽
(11)と、第１槽(11a) の槽底内部に配置された気泡発生
装置(12)と、第２槽(11b) および第３槽(11c) の槽底外
面にそれぞれ設けられた超音波発生装置(13a)(13b)と、
第３槽(11c) および第４槽(11d) の槽底内部にそれぞれ
配置された水中ジェット発生装置(14a)(14b)と、第１槽
(11a) 、第２槽(11b)および第３槽(11c) の上方にそれ
ぞれ配置されたシャワー用スプレイヘッダ(15a)(15b)(1
5c) と、乾燥装置(16)とからなる。気泡発生装置(12)
は、気泡を噴出するためのノズルヘッダ(18)、開閉弁(1
9)および流量（または圧力）調節器(20)からなる。超音
波発生装置(13a)(13b)は、発信器および振動子からな
り、振動子は当該洗浄槽内の底面または側面に取り付け
られている。水中ジェット発生装置(14a)(14b)は、水を
噴出するためのノズルヘッダと、当該洗浄槽内の水を吸
い込み３〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の圧力でノズルヘッダに供
給する循環ポンプとからなる。
【００１７】上記構成において、原水として市水または
工業用水が逆浸透膜装置(2) で処理され、温度５０〜５
５℃、比抵抗率０．１〜１．０ＭΩ・ｃｍ程度の低グレ
ード純水が生産される。この低グレード純水は第３槽(1
1c) の底部に連続的に供給され、また、その一部は蒸留
法高温純水製造装置(3) で処理され、温度５０〜５５
℃、比抵抗率１０〜１５ＭΩ・ｃｍ程度の高グレード純
水が生産される。この高グレード純水は第４槽(11d) の
底部に連続的に供給される。低グレード純水はまた第１
〜３槽の各スプレイヘッダ(15a)(15b)(15c) にも連続的
に供給される。第３槽(11c) に供給された低グレード純
水は、この槽が満水になるとここからオーバーフローし
て第２槽(11b) に流れ込み、さらに同様にして第２槽(1
1b) から第１槽(11a) に流れ込む。第１槽(11a) が満水
になりここからオーバーフローした水は、洗浄廃水とし
て排水される。第４槽(11d) に供給された高グレード純
水は、この槽が満水になるとここからオーバーフロー
し、オーバーフロー水はやはり洗浄廃水として排水され
る。
工業用水が逆浸透膜装置(2) で処理され、温度５０〜５
５℃、比抵抗率０．１〜１．０ＭΩ・ｃｍ程度の低グレ
ード純水が生産される。この低グレード純水は第３槽(1
1c) の底部に連続的に供給され、また、その一部は蒸留
法高温純水製造装置(3) で処理され、温度５０〜５５
℃、比抵抗率１０〜１５ＭΩ・ｃｍ程度の高グレード純
水が生産される。この高グレード純水は第４槽(11d) の
底部に連続的に供給される。低グレード純水はまた第１
〜３槽の各スプレイヘッダ(15a)(15b)(15c) にも連続的
に供給される。第３槽(11c) に供給された低グレード純
水は、この槽が満水になるとここからオーバーフローし
て第２槽(11b) に流れ込み、さらに同様にして第２槽(1
1b) から第１槽(11a) に流れ込む。第１槽(11a) が満水
になりここからオーバーフローした水は、洗浄廃水とし
て排水される。第４槽(11d) に供給された高グレード純
水は、この槽が満水になるとここからオーバーフロー
し、オーバーフロー水はやはり洗浄廃水として排水され
る。
【００１８】洗浄が開始され、ワークを入れた洗浄かご
が第１槽(11a) 上方の所定位置に搬送されて来ると、第
１槽(11a) 内底部に設けられた気泡発生装置(12)に圧縮
空気供給装置(4) から圧縮空気が供給され、これにより
多数の細かい気泡が発生して第１槽(11a) 内全体に広が
り、水面上で沸き立つようになる。これに伴い、洗浄か
ごは下降を始め第１槽(11a) の洗浄液中に没する。浸漬
中、洗浄かごは水面に出ない範囲で上下に揺動され、所
定時間経過後この槽から引き上げられ、気泡発生装置(1
2)への圧縮空気の供給も止まる。ついで、第１槽(11a)
上方のスプレイヘッダ(15a) からシャワー水の噴射が開
始され、ワークは洗浄かごとともにシャワーを浴びる。
所定時間のシャワー水の噴射の後シャワーは止まり、洗
浄かごは第２槽(11b) の上方へ移動される。
が第１槽(11a) 上方の所定位置に搬送されて来ると、第
１槽(11a) 内底部に設けられた気泡発生装置(12)に圧縮
空気供給装置(4) から圧縮空気が供給され、これにより
多数の細かい気泡が発生して第１槽(11a) 内全体に広が
り、水面上で沸き立つようになる。これに伴い、洗浄か
ごは下降を始め第１槽(11a) の洗浄液中に没する。浸漬
中、洗浄かごは水面に出ない範囲で上下に揺動され、所
定時間経過後この槽から引き上げられ、気泡発生装置(1
2)への圧縮空気の供給も止まる。ついで、第１槽(11a)
上方のスプレイヘッダ(15a) からシャワー水の噴射が開
始され、ワークは洗浄かごとともにシャワーを浴びる。
所定時間のシャワー水の噴射の後シャワーは止まり、洗
浄かごは第２槽(11b) の上方へ移動される。
【００１９】洗浄かごが第２槽(11b) 上方の所定位置に
来ると、第２槽(11b) 内底部外面に設けられた超音波発
生装置(13a) が作動し、第２槽(11b) 内全体に超音波振
動波が広がる。これに伴い、洗浄かごは下降を始め第２
槽(11b) の洗浄液中に没する。浸漬中、洗浄かごは、水
面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過後この
槽から引き上げられ、超音波発生装置(13a) も停止す
る。ついで、第２槽(11b) 上方のスプレイヘッダ(15b)
からシャワー水の噴射が開始され、ワークは洗浄かごと
ともにシャワーを浴びる。所定時間のシャワー水の噴射
の後シャワーは止まり、洗浄かごは第３槽(11c) に移動
される。
来ると、第２槽(11b) 内底部外面に設けられた超音波発
生装置(13a) が作動し、第２槽(11b) 内全体に超音波振
動波が広がる。これに伴い、洗浄かごは下降を始め第２
槽(11b) の洗浄液中に没する。浸漬中、洗浄かごは、水
面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過後この
槽から引き上げられ、超音波発生装置(13a) も停止す
る。ついで、第２槽(11b) 上方のスプレイヘッダ(15b)
からシャワー水の噴射が開始され、ワークは洗浄かごと
ともにシャワーを浴びる。所定時間のシャワー水の噴射
の後シャワーは止まり、洗浄かごは第３槽(11c) に移動
される。
【００２０】洗浄かごが第３槽(11c) 上方の所定位置に
来ると、第３槽(11c) 内底部外面に設けられた超音波発
生装置(13b) が作動し、第３槽(11c) 内全体に超音波振
動波が広がる。これに伴い、洗浄かごは下降を始め第３
槽(11c) の洗浄液中に没する。浸漬中、洗浄かごは、水
面に出ない範囲で上下に揺動される。所定時間経過後、
第３槽(11c) 内底部に設けられた水中ジェット発生装置
(14a) が作動し、第３槽(11c) 内全体に超音波による振
動波と同時に水中ジェットによる噴射水流が広がる。こ
の間も洗浄かごの揺動は続けられ、所定時間経過後この
槽から引き上げられ、超音波発生装置(13b) および水中
ジェット発生装置(14a) は停止する。ついで、第３槽(1
1c) 上方のスプレイヘッダ(15c) からシャワー水が噴射
され、ワークは洗浄かごとともにシャワーを浴びる。所
定時間のシャワー水の噴射の後シャワーは止まり、洗浄
かごは第４槽(11d) に移動される。
来ると、第３槽(11c) 内底部外面に設けられた超音波発
生装置(13b) が作動し、第３槽(11c) 内全体に超音波振
動波が広がる。これに伴い、洗浄かごは下降を始め第３
槽(11c) の洗浄液中に没する。浸漬中、洗浄かごは、水
面に出ない範囲で上下に揺動される。所定時間経過後、
第３槽(11c) 内底部に設けられた水中ジェット発生装置
(14a) が作動し、第３槽(11c) 内全体に超音波による振
動波と同時に水中ジェットによる噴射水流が広がる。こ
の間も洗浄かごの揺動は続けられ、所定時間経過後この
槽から引き上げられ、超音波発生装置(13b) および水中
ジェット発生装置(14a) は停止する。ついで、第３槽(1
1c) 上方のスプレイヘッダ(15c) からシャワー水が噴射
され、ワークは洗浄かごとともにシャワーを浴びる。所
定時間のシャワー水の噴射の後シャワーは止まり、洗浄
かごは第４槽(11d) に移動される。
【００２１】洗浄かごが第４槽(11d) 上方の所定位置に
来ると、第４槽(11d) 内底部に設けられた水中ジェット
発生装置(14b) が作動し、第４槽(11d) 内全体に水中ジ
ェットによる噴射水流が広がる。これに伴い、洗浄かご
は下降を始め第４槽(11d) に没する。浸漬中、洗浄かご
は、水面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過
後この槽から引き上げられ、水中ジェット発生装置も停
止する。
来ると、第４槽(11d) 内底部に設けられた水中ジェット
発生装置(14b) が作動し、第４槽(11d) 内全体に水中ジ
ェットによる噴射水流が広がる。これに伴い、洗浄かご
は下降を始め第４槽(11d) に没する。浸漬中、洗浄かご
は、水面に出ない範囲で上下に揺動され、所定時間経過
後この槽から引き上げられ、水中ジェット発生装置も停
止する。
【００２２】ワークを入れた洗浄かごは第４槽(11d) か
ら引き上げ後、乾燥装置(16)により水切り、乾燥され、
洗浄が完了する。水切りおよび乾燥方法としては、エア
ブロー、熱風乾燥等が一般的であるが、真空乾燥その他
の方法も実施可能である。
ら引き上げ後、乾燥装置(16)により水切り、乾燥され、
洗浄が完了する。水切りおよび乾燥方法としては、エア
ブロー、熱風乾燥等が一般的であるが、真空乾燥その他
の方法も実施可能である。
【００２３】実施例２ この実施例では、図２に示すように、図１の実施例１に
おける第２槽を省略し、洗浄槽(11)を３槽式とした。そ
の以外の構成は実施例１のものと同じである。
おける第２槽を省略し、洗浄槽(11)を３槽式とした。そ
の以外の構成は実施例１のものと同じである。
【００２４】ワーク表面の初期付着油分量が少ない場合
には、第１槽(11a) のみで大部分の油分が除去される。
第１槽(11a) から第２槽をスキップして第３槽(11c) へ
搬送されてきたワークが、超音波によるキャビテーショ
ンによるエロージョンの発生を防止するように、第３槽
(11c) で超音波振動に水中ジェットを併用する。
には、第１槽(11a) のみで大部分の油分が除去される。
第１槽(11a) から第２槽をスキップして第３槽(11c) へ
搬送されてきたワークが、超音波によるキャビテーショ
ンによるエロージョンの発生を防止するように、第３槽
(11c) で超音波振動に水中ジェットを併用する。
【００２５】実施例３ この実施例では、図３に示すように、図１の実施例にお
ける第１槽および第４槽から排出される洗浄廃水をそれ
ぞれ第１および第２の限外濾過式排水処理装置(5a)(5b)
で油水分離処理し、第１限外濾過式排水処理装置(5a)で
から出た透過水を逆浸透膜装置(2) へ、第２限外濾過式
排水処理装置(5b)でから出た透過水を蒸発法高温純水製
造装置(3) へそれぞれ送って原水として再利用する。図
３において、(51a)(51b)は排水タンク、(52a)(52b)は排
水ポンプ、(53a)(53b)は限外濾過膜装置である。その以
外の構成は実施例１のものと同じである。
ける第１槽および第４槽から排出される洗浄廃水をそれ
ぞれ第１および第２の限外濾過式排水処理装置(5a)(5b)
で油水分離処理し、第１限外濾過式排水処理装置(5a)で
から出た透過水を逆浸透膜装置(2) へ、第２限外濾過式
排水処理装置(5b)でから出た透過水を蒸発法高温純水製
造装置(3) へそれぞれ送って原水として再利用する。図
３において、(51a)(51b)は排水タンク、(52a)(52b)は排
水ポンプ、(53a)(53b)は限外濾過膜装置である。その以
外の構成は実施例１のものと同じである。
【００２６】実施例４ この実施例では、図４に示すように、図１の実施例にお
ける第１槽の気泡発生装置(12)を水中ジェット発生装置
(14c) に置き換えた。その以外の構成は実施例１のもの
と同じである。
ける第１槽の気泡発生装置(12)を水中ジェット発生装置
(14c) に置き換えた。その以外の構成は実施例１のもの
と同じである。
【００２７】実施例５ この実施例では、図５に示すように、図１の実施例にお
いてワークを入れた洗浄かごを第１槽に浸漬する前に、
ワークにエアーブローノズル(17)で圧縮空気を噴射し、
ワークの表面に付着した油脂、切り粉等を吹飛ばし、第
１槽に持込まれる汚れ成分を低減する。この方法は、ワ
ーク表面の初期付着油分量が特に多い場合に適してい
る。その以外の構成は実施例１のものと同じである。
いてワークを入れた洗浄かごを第１槽に浸漬する前に、
ワークにエアーブローノズル(17)で圧縮空気を噴射し、
ワークの表面に付着した油脂、切り粉等を吹飛ばし、第
１槽に持込まれる汚れ成分を低減する。この方法は、ワ
ーク表面の初期付着油分量が特に多い場合に適してい
る。その以外の構成は実施例１のものと同じである。
【００２８】
【発明の効果】本発明により、例えば、ＶＴＲヘッド等
のアルミニウム製精密部品の洗浄において、洗浄液とし
て純水を使用するので、以下に詳述するように、洗浄液
は人体および環境に対して無害であり、従来のフロン、
トリクロロエタン洗浄と同等の清浄度が得られると同時
に、ワーク表面の変色等の副作用または超音波洗浄時の
キャビテーションエロージョンを生じることなく洗浄を
効果的に行うことができる。
のアルミニウム製精密部品の洗浄において、洗浄液とし
て純水を使用するので、以下に詳述するように、洗浄液
は人体および環境に対して無害であり、従来のフロン、
トリクロロエタン洗浄と同等の清浄度が得られると同時
に、ワーク表面の変色等の副作用または超音波洗浄時の
キャビテーションエロージョンを生じることなく洗浄を
効果的に行うことができる。
【００２９】(1) 人体および環境に対し無害 洗浄液として２種類の水質グレードの純水のみを使用す
るため、洗浄工程中に作業環境に放出されるものは水蒸
気のみであり、人体に対し安全無害である。また、洗浄
廃水に含まれるものはワークに付着していた油脂類のみ
であり、通常の排水処理法により容易に油分のみを分離
除去し、排水することができる。
るため、洗浄工程中に作業環境に放出されるものは水蒸
気のみであり、人体に対し安全無害である。また、洗浄
廃水に含まれるものはワークに付着していた油脂類のみ
であり、通常の排水処理法により容易に油分のみを分離
除去し、排水することができる。
【００３０】(2) フロン、トリクロロエタン洗浄と同等
の清浄度 洗浄、すすぎを４ないし３工程で行い、ワークへの付着
油分量が多い前段の洗浄工程では、バブリング、超音波
という強力な洗浄方法により大部分の油分を除去し、か
つ最終槽では高グレードの純水ですすぎを行うことによ
り、フロン、トリクロロエタン洗浄と同程度まで清浄度
を高めることができる。
の清浄度 洗浄、すすぎを４ないし３工程で行い、ワークへの付着
油分量が多い前段の洗浄工程では、バブリング、超音波
という強力な洗浄方法により大部分の油分を除去し、か
つ最終槽では高グレードの純水ですすぎを行うことによ
り、フロン、トリクロロエタン洗浄と同程度まで清浄度
を高めることができる。
【００３１】(3) ワーク表面の変色、エロージョンの防
止 洗浄水の温度を４０〜５５℃の範囲内に保つことによ
り、洗浄効果を上げると同時に酸化反応によるワーク表
面の変色を防止することができる。また、ワーク表面の
油分が大部分除去され、超音波によるキャビテーション
の影響を受けやすくなっている第３槽で、超音波振動に
水中ジェットを併用することによりキャビテーションの
衝撃力を弱め、キャビテーションによるエロージョンの
発生を防止することができる。
止 洗浄水の温度を４０〜５５℃の範囲内に保つことによ
り、洗浄効果を上げると同時に酸化反応によるワーク表
面の変色を防止することができる。また、ワーク表面の
油分が大部分除去され、超音波によるキャビテーション
の影響を受けやすくなっている第３槽で、超音波振動に
水中ジェットを併用することによりキャビテーションの
衝撃力を弱め、キャビテーションによるエロージョンの
発生を防止することができる。
【図１】実施例１の洗浄方法を示すフローシートであ
る。
る。
【図２】実施例２の洗浄方法を示すフローシートであ
る。
る。
【図３】実施例３の洗浄方法を示すフローシートであ
る。
る。
【図４】実施例４の洗浄方法を示すフローシートであ
る。
る。
【図５】実施例５の洗浄方法を示すフローシートであ
る。
る。
(1) ：洗浄装置 (2) ：逆浸透膜装置 (3) ：蒸発法高温純水製造装置 (4) ：圧縮空気供給装置 (5a)(5b)：限外濾過式排水処理装置 (11b):第２槽 (11c):第３槽 (11d):第４槽 (12)：気泡発生装置 (13a)(13b)：超音波発生装置 (14a)(14b)(14c) ：水中ジェット発生装置 (15a)(15b)(15c) ：シャワー用スプレイヘッダ (16)：乾燥装置 (17)：エアーブローノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 道工 健 大阪市此花区西九条５丁目３番28号 日立 造船株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 洗浄すべきワークをまず第１槽に浸漬し
て、下方からのバブリングにより粗洗浄した後、ワーク
引上げ時に上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、 第１槽から来たワークを、必要に応じて、第２槽に浸漬
して、超音波により前洗浄した後、ワーク引上げ時に上
方から純水のシャワーを浴びせる工程と、 第１槽または第２槽から来たワークをついで第３槽に浸
漬して、超音波と水中ジェットにより本洗浄し、ワーク
引上げ時に上方から純水のシャワーを浴びせる工程と、 第３槽から来たワークを最後に第４槽に浸漬して、水中
ジェットにより仕上げ洗浄した後、引上げる工程とから
なる洗浄方法。 - 【請求項２】 抵抗率１．０ＭΩ・ｃｍ以下の低グレー
ド純水を洗浄水として第３槽に供給すると共に、第１
槽、必要に応じて第２槽、および第３槽のシャワー水と
して使用し、抵抗率１．０〜１５ＭΩ・ｃｍの高グレー
ド純水を洗浄水として第４槽に供給し、第３槽の洗浄水
を同槽から、必要に応じて第２槽へ、および第１槽へ順
次オーバーフローさせる請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 低グレード純水が原水を逆浸透膜装置で
処理した水であり、高グレード純水が低グレード純水を
蒸発法高温純水製造装置で処理した水である請求項１ま
たは２記載の方法。 - 【請求項４】 第３槽および第４槽における水温が４５
〜６０℃であり、第１槽における水温が４０℃以上であ
る請求項１〜３のうち１記載の方法。 - 【請求項５】 第１槽においてバブリングの代わりに水
中ジェットによりワークを粗洗浄する請求項１〜４のう
ちの１記載の装置。 - 【請求項６】 第１槽に浸漬する前のワークに圧縮空気
を噴射して、ワーク表面の付着物を吹飛ばす請求項１〜
５のうち１記載の方法。 - 【請求項７】 第１槽および第４槽から排出される洗浄
廃水をそれぞれ第１および第２の限外濾過式排水処理装
置で油水分離処理し、第１限外濾過式排水処理装置から
出た透過水を逆浸透膜装置へ、第２限外濾過式排水処理
装置から出た透過水を蒸発法高温純水製造装置へそれぞ
れ送って原水として再利用する請求項１〜６のうち１記
載の方法。 - 【請求項８】 底部にパブリング装置が配設され、かつ
上方にスプレイノズルが配置されている第１槽と、 底面または側面に超音波発生装置が配設され、かつ上方
にスプレイノズルが配置されている、必要に応じて設け
られる第２槽と、 底面または側面に超音波発生装置が、底部に水中ジェッ
ト発生装置がそれぞれ配設され、かつ上方にスプレイノ
ズルが配置されている第３槽と、 底部に水中ジェット発生装置が配設されている第４槽と
を具備した洗浄装置。 - 【請求項９】 洗浄水として第１槽、必要に応じて第２
槽、および第３槽に供給されると共に、第１槽、必要に
応じて第２槽、および第３槽のシャワー水として使用さ
れる低グレード純水を生産する逆浸透膜装置と、第４槽
に供給される高グレード純水を生産する蒸発法高温純水
製造装置が設けられている請求項８記載の装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5250537A JPH07100444A (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 洗浄方法および洗浄装置 |
| TW086110651A TW371315B (en) | 1993-10-06 | 1994-09-17 | Wet scrubber |
| TW083108629A TW318190B (ja) | 1993-10-06 | 1994-09-17 | |
| DE69404414T DE69404414T2 (de) | 1993-10-06 | 1994-09-27 | Reinigungsverfahren und Reinigungsgerät |
| EP94115168A EP0648548B1 (en) | 1993-10-06 | 1994-09-27 | Cleaning method and cleaning apparatus |
| US08/316,441 US5501240A (en) | 1993-10-06 | 1994-10-03 | Cleaning method and cleaning apparatus |
| CN94117074.8A CN1104938A (zh) | 1993-10-06 | 1994-10-05 | 清洗方法和清洗装置 |
| KR1019940025527A KR0132525B1 (ko) | 1993-10-06 | 1994-10-06 | 세정 방법 및 세정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5250537A JPH07100444A (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07100444A true JPH07100444A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17209383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5250537A Pending JPH07100444A (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07100444A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11304038A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 圧力調整器 |
| JP2002332583A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Nippon Paint Co Ltd | リン酸塩皮膜化成処理の水洗水の処理方法及び処理装置 |
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-
1993
- 1993-10-06 JP JP5250537A patent/JPH07100444A/ja active Pending
Patent Citations (6)
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960903 |