JPH08269572A - 超高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 変圧器等に用いられる高磁束密度一方向性電
磁鋼板の磁束密度を極限まで高め、極低鉄損の製品を安
定的に製造することを目的とする。 【構成】 ＡｌＮを主インヒビターとし強圧下率を特徴
とする一方向性電磁鋼板の製造にあたり、Ｂｉを０．０
００５〜０．０５％含有し、２次再結晶仕上げ焼鈍時に
１次再結晶領域と２次再結晶領域との境界部位の鋼板に
０．５℃／cm以上の従来より低温度勾配を与えながら２
次再結晶焼鈍を施す。 【効果】 鋼板素材中にＢｉを添加含有させた一方向性
電磁鋼板の製造にあたり、磁束密度Ｂ₈ が１．９６Ｔ以
上の極めて高い磁束密度の製品が従来より安定的に得ら
れ、従来の温度勾配焼鈍法より極めて安価に製造でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は主にトランス鉄心に用い
られる、｛１１０｝＜００１＞方位すなわちゴス方位を
高度に発達させた高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一方向性電磁鋼板は、軟磁性材料として
主にトランスその他の電気機器の鉄心材料に使用されて
いるもので、磁気特性としては励磁特性と鉄損特性が良
好でなくてはならない。この励磁特性を表す指標とし
て、通常は磁束密度Ｂ₈ （磁場の強さ８００ A/mにおけ
る磁束密度）が用いられ、鉄損特性を表す指標として、
Ｗ_17/50 （５０Hzで１．７Ｔまで磁化させたときの単位
重量あたりの鉄損）が用いられる。

【０００３】一方向性電磁鋼板は、製造工程の最終段階
の９００℃以上の温度での仕上焼鈍工程で２次再結晶を
起こさせ、鋼板面に｛１１０｝面、圧延方向に＜００１
＞軸をもったいわゆるゴス組織を発達させることによっ
て得られている。そのなかでも、磁束密度Ｂ₈ が１．８
８Ｔ以上の優れた励磁特性をもつものは高磁束密度一方
向性電磁鋼板とよばれている。高磁束密度電磁鋼板の代
表的製造方法としては、特公昭４０−１５６４４号公
報、特公昭５１−１３４６９号公報等があげられる。

【０００４】現在世界的規模で生産されている高磁束密
度一方向性電磁鋼板は、上記２特許を基本として生産さ
れていると言える。しかし上記特許に基づく製品の磁束
密度Ｂ₈ は１．８８Ｔから高々１．９５Ｔ程度であり、
３％Ｓｉ鋼の飽和磁束密度２．０３Ｔの９５％程度の値
を示しているに過ぎない。そして、近年省エネルギー、
省資源への社会的要求は益々厳しくなり、一方向性電磁
鋼板の鉄損低減、磁化特性改善への要求も熾烈になって
きている。

【０００５】一方、一般的には、磁束密度Ｂ₈ が高くな
るとともに製品の結晶粒が大きくなる傾向があり、Ｂ₈
をある程度大きくしても１８０°磁区巾が大きくなるた
めに渦電流損が増大し、冶金学的にはこれ以上の鉄損改
善の期待が望まれない。この観点から技術的な鉄損低減
化の手法としてレーザー照射等の磁区制御技術が特公昭
５８−５９６８号公報、特公昭５７−２２５２号公報等
により確立され、これに伴い更なる高磁束密度を有する
素材が鉄損低減への条件として期待されてきている。

【０００６】これに対して、本出願人は特公昭５７−５
０２９５号公報等で温度勾配焼鈍法を、また特公昭６２
−００７２５２号公報等でその焼鈍装置を提案した。こ
の方法で、初めて安定して磁束密度Ｂ₈ が１．９５Ｔ以
上の製品が得られるようになったが、この方法で工場サ
イズのコイルフォームで実施する場合、コイル一端から
加熱し、反対端部は温度勾配をつけるため冷却するとい
う、非常に大きな熱エネルギー的損失を伴うため、工業
生産としては大きな問題をはらんでいた。

【０００７】そこで本発明者らは、一方向性電磁鋼板の
溶鋼中にＢｉを含有させることにより、工業的手段によ
り磁束密度を従来の高磁束密度一方向性電磁鋼板レベル
から超高磁束密度一方向性電磁鋼板レベルまで高める方
法を特開平６−８８１４号公報、特開平６−８８１７３
号公報等で提案した。この方法により初めて磁束密度Ｂ
₈ が１．９６Ｔを超える超高磁束密度一方向性電磁鋼板
が工場規模で比較的安定に生産できるようになった。

【０００８】この方法により初めて超高磁束密度電磁鋼
板が工場規模で比較的安定に生産できるようになった
が、その後本発明者らがコイル内の磁化特性と製造条件
を精査したところ、場合によっては問題点があることが
判明した。すなわち、２次再結晶焼鈍の昇温に温度分布
が比較的均一な部分、例えばコイル内部では安定して超
高磁束密度が得られにくいことが判明した。そこで、こ
の超高磁束密度一方向性電磁鋼板をより安定に低コスト
で製造する方法の確立が求められていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点を回避し、極めて磁束密度の高い超高磁束密度一方向
性電磁鋼板を極めて安定に製造することを可能にするこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の特徴とする処
は、以下のとおりである。重量比で、Ｓｉ：２．５〜
４．０％、酸可溶性Ａｌ：０．０１５〜０．０４５％、
Ｎ：０．００３０〜０．０１５０％、を基本成分とし、
残部はＦｅおよび不可避的不純物からなる溶鋼を鋳造
し、熱間圧延し、６５〜９５％の最終強冷延を含む１回
あるいは中間焼鈍を介入する２回以上の冷間圧延を行い
最終板厚とし、次いで１次再結晶・脱炭焼鈍および２次
再結晶仕上焼鈍を行う工程からなる一方向性電磁鋼板の
製造方法において、Ｂｉ：０．０００５〜０．０５％を
含有し、１次再結晶領域と２次再結晶領域との境界部位
の鋼板に０．５℃／cm以上の温度勾配を与えながら２次
再結晶仕上焼鈍することを特徴とする超高磁束密度一方
向性電磁鋼板の製造方法。

【００１１】

【作用】以下、本発明を詳細に説明する。本発明者ら
は、特開平６−８８１４号公報、特開平６−８８１７３
公報等に示しているとおり、実験室での実験により、窒
化アルミニウムを主インヒビターとする一方向性電磁鋼
板用の素材に、Ｂｉを添加含有せしめることにより、現
在市販されている高磁束密度電磁鋼板のＢ₈ ＝１．９３
Ｔ程度をはるかに超える１．９５Ｔ以上、２Ｔにおよぶ
超高磁束密度一方向性電磁鋼板を得た。その後、鋼板の
磁束密度Ｂ₈ が１．９５Ｔ以上のいわゆる超高磁束密度
一方向性電磁鋼板を工業規模で安定に製造すべくコイル
フォームでの工場試験を実施したが、コイル位置別に磁
化特性のバラツキが認められた。

【００１２】そこでこの問題点を解決すべく、ボックス
タイプの仕上焼鈍中におけるコイル位置別温度履歴と磁
化特性の関係を詳細に調査した結果、昇温中に温度勾配
がある例えばコイル端部等の部分では、Ｂｉ添加珪素鋼
特有の巨大結晶粒が観察され磁束密度Ｂ₈ も２Ｔにおよ
ぶものがあるが、昇温中に比較的温度勾配が無く温度分
布が均一なコイル内部の部分では、結晶粒が小さく磁束
密度Ｂ₈ もバラツキが大きく１．９５Ｔ以下のものも多
く認められた。

【００１３】この原因を仕上焼鈍中の温度勾配の影響で
あると推定し、実験室で種々の検討を重ねた、その結
果、Ｂｉを添加した超高磁束密度一方向性電磁鋼板は従
来の窒化アルミニウムを主インヒビターとする高磁束密
度一方向性電磁鋼板に比較して極めて温度勾配の影響を
受けやすいことが判明した。すなわち、Ｂｉ添加により
超高磁束密度一方向性電磁鋼板を工業規模で安定して製
造する方法として、仕上焼鈍中の温度勾配を０．５℃／
cm以上に規制する必要があることを見いだした。以下に
本発明に至った実験結果について説明する。

【００１４】本発明者らは、Ｂｉ添加による２次再結晶
仕上焼鈍中の温度勾配の影響を定量的に把握するため次
の実験を行った。Ｃ：０．０５％、Ｓｉ：３．２５％、
Ｍｎ：０．１０％、Ｓ：０．００７％、Ｐ：０．０２５
％、酸可溶性Ａｌ：０．０２９％、Ｎ：０．００７％、
Ｃｒ：０．１２％を含有する珪素鋼を溶製し，Ｂｉ含有
量を０、０．００１１、０．０３４５、０．０５３４％
とし、それぞれ鋳片に分注鋳造後、１１５０℃に加熱
し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱延し、熱延後水冷
し５５０℃で保定した。その後熱延板を１１２０℃の温
度で３０秒引き続き９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃
まで空冷後８０℃の水中に急冷した。

【００１５】次いで酸洗し０．２３mmまで途中で２５０
℃での時効処理を５回はさんで冷延した。引き続き１次
再結晶平均粒径が２１〜２５μｍになるように脱炭・１
次再結晶焼鈍を行い、引き続いてＮＨ₃ 雰囲気でＮ含有
量が２００ppm になるよう窒化焼鈍を行った。ＭｇＯを
主成分とする焼鈍分離剤を塗布後、２次再結晶仕上焼鈍
を行った。

【００１６】圧延直角方向に０〜６℃／cmの温度勾配を
０．５℃／cm間隔で付与しながら１２００℃まで１５℃
／hrで昇温し、引き続いて１２００℃で２０時間の純化
焼鈍を行った。２次再結晶仕上焼鈍の温度勾配量と得ら
れた鋼板の磁束密度Ｂ₈ との関係を図１に示す。

【００１７】図１で明らかなように、Ｂｉを添加してい
ないものについては、温度勾配が２℃／cmから磁束密度
向上の効果が現れ、４℃／cm以上でＢ₈ で１．９９Ｔ程
度の超高磁束密度が得られた。これに対し、Ｂｉ添加材
は温度勾配が５℃／cmから効果が現れ、２℃／cm以上で
磁束密度Ｂ₈ が２．０Ｔの超高磁束密度電磁鋼板が得ら
れる。

【００１８】本発明者らはこの原因のメカニズムを説明
するに至っていないが、Ｂｉ添加により仕上焼鈍中にお
けるＡｌＮを含むインヒビター挙動に影響を与え、温度
勾配の影響が受けやすくなったものと推定している。一
方、このように僅かな温度勾配を与えることで超高磁束
密度が得られることは、上述の特公昭５７−５０２９５
号公報で記載される温度勾配焼鈍法のコスト上の欠点を
補う意味でも重要である。

【００１９】さらに本発明者らは、鋼中のＡｌ含有量の
必要量を把握するため次の実験を行った。Ｃ：０．０２
％、Ｓｉ：３．０％、Ｍｎ：０．０７％、Ｓ：０．０３
％、Ｎ：０．００４％、Ｂｉ：０．０１％を基本成分と
し酸可溶性Ａｌを０．００３〜０．０６５％まで変化さ
せた珪素鋼を溶製し、それぞれ鋳片に分注鋳造後、１２
５０℃に加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱延
し、熱延後水冷し５５０℃で保定した。その後熱延板を
９５０℃の温度で２分間焼鈍し、１００℃の水中に急冷
した。次いで酸洗後０．２３mmまで冷延した。引き続き
１次再結晶平均粒径が２１〜２５μｍになるように脱炭
・１次再結晶焼鈍を行い、引き続いてＮＨ₃ 雰囲気でＮ
含有量が５０〜１５０ppm になるよう窒化焼鈍を行っ
た。

【００２０】そしてＡｌ₂ Ｏ₃ を主成分とする焼鈍分離
剤を塗布後、２次再結晶仕上焼鈍を行った。圧延方向に
温度勾配を０、０．５、２．０℃／cmで付与しながら１
２００℃まで１５℃／hrで昇温し、引き続いて１２００
℃で２０時間の純化焼鈍を行った。各温度勾配における
鋼中Ａｌ含有量と得られた鋼板の磁束密度Ｂ₈ との関係
を図２に示す。

【００２１】図２から次のことが判る。まず、２次再結
晶に必要な鋼中Ａｌ量は０．０１５〜０．０４５％の範
囲であり、それより低くても高くても２次再結晶は起こ
らなかった。また、Ｂｉ添加を行いこの範囲にＡｌ含有
量を調整すれば、０．５℃／cm以上の低温度勾配で磁束
密度Ｂ₈ が１．９６Ｔ以上の超高磁束密度一方向性電磁
鋼板が得られる。

【００２２】本発明は従来の温度勾配焼鈍法とＢｉ添加
法による超高磁束密度一方向性電磁鋼板製造方法の単な
る組み合わせでなく、前記のコスト上の欠点と後者の安
定性の欠点を極めて効果的に解決する方法を提供するも
のである。

【００２３】次に、本発明に必要な構成要素とその限定
理由について述べる。本発明において、素材が含有する
成分は、重量比でＳｉ：２．５〜４．０％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０１５〜０．０４５％、Ｎ：０．００３０〜
０．０１５０％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物であり、
これらを必須成分としてそれ以外は限定しない。Ｓｉ
は、２．５％未満では製品の渦電流損が増大し、また
４．０％超では常温での冷延が困難になり、いずれも好
ましくない。

【００２４】酸可溶性ＡｌはＡｌＮを形成し、高磁束密
度一方向性電磁鋼板製造のための主インヒビター構成元
素である。図２から明らかなように、０．０１５％未満
では量的に不足し、インヒビター強度が不足する。一
方、０．０４５％超ではＡｌＮが粗大化し、結果として
インヒビター強度を低下させるので２次再結晶が起こら
なくなる。

【００２５】素材に含有するＮはＳｉ、Ａｌ等の窒化物
を形成し、低温スラブを前提とする場合特に１次再結晶
のインヒビターとして影響する。Ｎ含有量は１次再結晶
粒径を制御する観点から工程の熱履歴や必要な１次焼鈍
温度から決定される。一方、高温スラブ加熱により前段
階でＡｌＮを微細分散させる場合は２次再結晶焼鈍の雰
囲気条件等を考慮する必要がある。０．００３０％未満
では脱窒のため溶製段階のコストアップとなり、０．０
１５０％超ではブリスターと呼ばれる欠陥が発生するの
で０．００３０〜０．０１５０％の範囲とした。

【００２６】その他のインヒビター構成元素として、Ｍ
ｎ、Ｓ、Ｓｅ、Ｖ、Ｂ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｎ等を複合して添加することができ
る。Ｂｉは低温度勾配２次再結晶焼鈍法で安定して超高
磁束密度を得るための必要元素であり、添加含有量は、
０．０００５〜０．０５％の範囲が有効である。０．０
００５％未満では効果がわずかであり、また０．０５％
超では磁束密度向上の効果が飽和するとともに熱延板の
端部に割れが発生するので上限を０．０５％に限定す
る。

【００２７】次に、製造プロセス条件について説明す
る。上記のごとく成分を調整した超高磁束密度一方向性
電磁鋼板用素材は通常の如何なる溶解法、造塊法を用い
た場合でも本発明の素材とすることが出来る。次いでこ
の電磁鋼板用素材は通常の熱間圧延により熱延コイルに
圧延される。

【００２８】引き続いて１ステージの冷間圧延または中
間焼鈍を含む複数ステージの冷間圧延によって最終板厚
とするが、磁束密度が高い一方向性電磁鋼板を得ること
から最終冷延の圧延率（１ステージの冷間圧延の場合は
その圧延率）は６５〜９５％の強圧下が好ましい。最終
圧延以外のステージの圧延率は特に規定しなくてもよ
い。また、ＡｌＮを強化するため、最終冷延前に焼鈍お
よび冷却を行ってもよい。

【００２９】最終製品厚に圧延した冷延板は、０．５℃
／cm以上の温度勾配を付与しながら１次再結晶焼鈍を兼
ねた脱炭焼鈍が施される。脱炭焼鈍の条件は特に規定し
ないが、好ましくは７００〜９００℃の温度範囲で３０
秒〜３０分間湿潤な水素または水素と窒素の混合雰囲気
で行うのが良い。脱炭焼鈍温度は主に最適な１次再結晶
粒径を得る観点から決定される。

【００３０】また、２次再結晶に作用するＡｌＮインヒ
ビターを強化するため、１次再結晶から２次再結晶開始
の間のいずれかにＮＨ₃ 雰囲気中焼鈍等を用いて窒化し
てもよい。また、脱炭焼鈍後の鋼板表面には、２次再結
晶焼鈍における焼き付きを防止する一方、グラス皮膜生
成のため通常のＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤や、グ
ラス皮膜のない鏡面材製造のため特開平５−１５６３６
２号公報等に記載するＡｌ₂ Ｏ₃ 等を塗布してもよい。

【００３１】続いて、脱炭焼鈍板に対して１次再結晶領
域と２次再結晶領域との境界部位の鋼板に０．５℃／cm
以上の温度勾配を与えながら２次再結晶仕上げ焼鈍を施
すことを必須条件とする。図１から明らかなように、Ｂ
ｉを添加し、Ａｌ量を適正に制御することによって、磁
束密度Ｂ₈ が１．９６Ｔ以上の安定した超高磁束密度一
方向性電磁鋼板が得られる。温度勾配を付与する方向は
鋼板面内のどの方向でもよい。

【００３２】本発明者らが実験した結果では、圧延方向
が最も超高磁束密度が得られやすかった。温度勾配２次
再結晶仕上焼鈍法については特公昭６２−００７２５２
号公報等に記載する装置を用いることが好ましい。本発
明は従来より低温度勾配で効果を発揮するのでエネルギ
ー損失が少なく、コストダウンの効果が大きい。また、
従来の焼鈍設備でも、操業方法を工夫することにより、
０．５℃／cm以上の温度勾配を付与することは比較的可
能である。

【００３３】引き続き余分の焼鈍分離剤を除去後、コイ
ル巻きぐせ等を矯正するための連続張力焼鈍を行い、同
時に絶縁皮膜を塗布、焼き付けする。更に、必要に応じ
てレーザー照射等の磁区細分化処理を施す。本発明は２
次再結晶粒径を大きく制御するものであるため、鉄損特
性を改善する意味から磁区細分化処理は有効である。磁
区細分化の方法は特に限定する必要はない。

【００３４】

【実施例】

（実施例１）Ｃ：０．０４％、Ｓｉ：３．２％、Ｍｎ：
０．１１％、Ｓｅ：０．０１％、酸可溶性Ａｌ：０．０
２６％、Ｎ：０．００７％、を基本成分としＢｉを０％
と０．０３％の２水準の珪素鋼を溶製し、それぞれ鋳片
に分注鋳造後、１２００℃に加熱し、抽出後直ちに２．
３mm板厚まで熱延し、熱延後室温まで水冷した。その
後、酸洗し０．３０mmまで冷延した。引き続き８７０℃
で２分の脱炭・１次再結晶焼鈍を行い、引き続いてＮＨ
₃ 雰囲気でＮ含有量が１５０ppm になるように窒化焼鈍
を行った、そしてＡｌ₂ Ｏ₃ を主成分とする焼鈍分離剤
を塗布後、２次再結晶仕上焼鈍を行った。

【００３５】圧延方向に温度勾配を１．５℃／cmで付与
しながら１２００℃まで２５℃／hrで昇温し、引き続い
て１２００℃で１０時間の純化焼鈍を行った。得られた
鋼板の磁束密度Ｂ₈ の平均は、Ｂｉが０％の材料で１．
９０１Ｔ、Ｂｉが０．０３％の材料で１．９７６Ｔであ
った。

【００３６】（実施例２）Ｃ：０．０８％、Ｓｉ：３．
０％、Ｍｎ：０．０７％、Ｓ：０．０２５％、Ｎ：０．
００７％、Ｂｉ：０．０２％を基本成分とし酸可溶性Ａ
ｌを０．０１％、０．０３％、０．０５％の３水準の珪
素鋼を溶製し、それぞれ鋳片に分注鋳造後、１３５０℃
に加熱し、抽出後直ちに２．６mm板厚まで熱延し、熱延
後１００℃水冷し５５０℃で保定した。その後、１０５
０℃で２分間の焼鈍をし直ちに１００℃水冷を行った。
酸洗し０．３５mmまで途中で２５０℃での時効処理を５
回挟んで冷延した。

【００３７】引き続き８５０℃で３分の脱炭・１次再結
晶焼鈍を行い、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布
後、２次再結晶仕上焼鈍を行った。圧延方向に温度勾配
を２．０℃／cmで付与しながら１２００℃まで３５℃／
hrで昇温し、引き続いて１２００℃で２０時間の純化焼
鈍を行った。得られた鋼板の磁束密度Ｂ₈ の平均は、Ａ
ｌが０．０１％の材料で１．７５２Ｔ、Ａｌが０．０３
％の材料で１．９８２Ｔ、Ａｌが０．０５％の材料で
１．８２３Ｔであった。

【００３８】（実施例３）Ｃ：０．０５％、Ｓｉ：３．
２５％、Ｍｎ：０．１０％、Ｓ：０．００７％、Ｐ：
０．０２５％、酸可溶性Ａｌ：０．０２９％、Ｎ：０．
００７％、Ｂｉ：０．００７％、Ｃｒ：０．１２％を含
有する珪素鋼を溶製し，スラブに鋳造後、１１５０℃に
加熱し、抽出後直ちに２．３mm板厚まで熱延し、熱延後
水冷し５５０℃で巻き取った。その後熱延板を１１２０
℃の温度で３０秒９００℃で９０秒焼鈍し、７５０℃ま
で空冷後８０℃の水中に急冷した。次いで酸洗後０．２
３mmまで５パスの圧延をし２００℃以上で５分以上の時
効処理を行った。引き続き脱炭・１次再結晶焼鈍を８５
０℃で２分行い、引き続いてＮＨ₃ 雰囲気でＮ含有量が
２００ppm になるよう窒化焼鈍を行った。

【００３９】ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布後
の５Ｔコイルを、ボックスタイプで上部に加熱装置、下
部に冷却装置をもった焼鈍炉２次再結晶仕上焼鈍を行っ
た。圧延直角方向に１．０℃／cmの温度勾配を付与しな
がら１２００℃まで１５℃／hrで昇温し、引き続いて１
２００℃で７５時間の純化焼鈍を行った。得られたコイ
ルの５箇所でサンプリングし、測定したエプスタイン値
の磁束密度Ｂ₈ は１．９８７Ｔであった。

【００４０】

【発明の効果】本発明のＢｉ添加、低温度勾配法による
超高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造法は、極めて安定
的に超高磁束密度の製品が安価に得られるとともに磁区
細分化処理後の鉄損特性も極めて優れており、工業的に
非常に価値が高いものと言える。

【図面の簡単な説明】

【図１】各Ｂｉ含有量における温度勾配と磁束密度Ｂ₈
の関係を示す図表。

【図２】Ｂｉ添加したときの、各温度勾配付与条件にお
けるＡｌ含有量と磁束密度Ｂ₈の関係を示す図表。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高嶋 邦秀 富津市新富20−１ 新日本製鐵株式会社技 術開発本部内 (72)発明者 北河 久和 北九州市戸畑区飛幡町１−１ 新日本製鐵 株式会社八幡製鐵所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 重量比で、 Ｓｉ：２．５〜４．０％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１５〜０．０４５％、 Ｎ ：０．００３０〜０．０１５０％、を基本成分と
   し、残部はＦｅおよび不可避的不純物からなる溶鋼を鋳
   造し、熱間圧延し、６５〜９５％の最終強冷延を含む１
   回あるいは中間焼鈍を介入する２回以上の冷間圧延を行
   い最終板厚とし、次いで１次再結晶・脱炭焼鈍および２
   次再結晶仕上焼鈍を行う工程からなる一方向性電磁鋼板
   の製造方法において、Ｂｉ：０．０００５〜０．０５％
   を含有し、１次再結晶領域と２次再結晶領域との境界部
   位の鋼板に０．５℃／cm以上の温度勾配を与えながら２
   次再結晶仕上焼鈍をすることを特徴とする超高磁束密度
   一方向性電磁鋼板の製造方法。