JPH08268993A

JPH08268993A - セミカルバゾン誘導体及び有害生物防除剤

Info

Publication number: JPH08268993A
Application number: JP7627995A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Yagi; 和生八木; Osamu Otsu; 督大津; Akira Numata; 昭沼田; Shigeru Ishii; 茂石井; Tomoyuki Ogura; 友幸小倉; Toshiro Miyake; 敏郎三宅; Akihiko Fujita; 明彦藤田; Norihiko Mimori; 紀彦三森; Shinji Takii; 新自瀧井
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 1995-03-31
Filing date: 1995-03-31
Publication date: 1996-10-15

Abstract

(57)【要約】【構成】式（Ｉ）【化１】〔式中、Ｗは酸素原子又はイオウ原子を示し、Ｘ、Ｙ及
びＺは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6アル
キル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6
ハロアルコキシ基又はC_2-6アルコキシカルボニル基等を
示し、R¹、R²及びR³は、各々独立して水素原子、C_1-6ア
ルキル基等を示し、ｌは０〜５の整数を示し、ｍは０〜
５の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示す。〕で表わさ
れるセミカルバゾン誘導体及びそれを含有する有害生物
防除剤。【効果】この化合物は多くの農業害虫、ハダニ類に対
して優れた殺虫・殺ダニ活性を有し、かつホ乳類、魚類
及び益虫に対してはほとんど悪影響を及ぼさない。従っ
て、本発明化合物は、有用な有害生物防除剤を提供する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なセミカルバゾン誘
導体ならびに該誘導体を有効成分として含有する有害生
物防除剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ベンズアミドのセミカルバゾン誘
導体に関してはヨーロピアン・ジャーナル・オブ・メデ
ィシナル・ケミストリー〔Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅ
ｍ．，２６，２７３（１９９１）〕に４−ＲＣ₆Ｈ₄Ｃ＝
（ＮＨＣ₆Ｈ₄Ｒ′−４）ＮＮＨＣＷＮＨＲ″（ただしＲ
＝Ｈ，ＭｅＯ，Ｍｅ，Ｃｌ，ＮＯ₂ ；Ｒ′＝Ｈ，Ｍｅ
Ｏ，Ｍｅ，Ｃｌ；Ｒ″＝Ｐｈ；Ｗ＝Ｏ，Ｓ）である化合
物が知られているが、Ｒ″は無置換のフェニルのみで、
置換フェニルは新規である。また、この文献には医薬と
しての活性は示されているが、有害生物に対する活性は
何ら開示されていない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】殺虫剤の長年にわたる
使用により、近年、害虫が抵抗性を獲得し、従来の殺虫
剤による防除が困難になっている。また殺虫剤の一部は
毒性が高く、あるものは残留性により生態系を乱しつつ
ある。よって低毒性かつ低残留性の新規な殺虫剤の開発
が常に期待されている。

【０００４】本発明者らはセミカルバゾン誘導体につい
て鋭意研究を重ねた結果、新規なベンズアニリドのセミ
カルバゾン誘導体が低薬量で優れた殺虫活性を示し、か
つホ乳動物、魚類および益虫に対してはほとんど悪影響
がない極めて有用な化合物であることを見出し本発明を
完成した。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は一般式（Ｉ）

【０００６】

【化２】

【０００７】〔式中、Ｗは酸素原子又はイオウ原子を示
し、Ｘ、Ｙ、Ｚは各々独立してハロゲン原子、水酸基、
シアノ基、ニトロ基、SCN基、トリメチルシリル基、
R⁸、OR⁸、S(O)_pR⁸基、OS(O)₂R⁸基、OC(O)R⁸基、C(O)R ⁸
基、CO₂R⁸基、C(O)N(R⁸)R⁹基、SO₂N(R⁸)R⁹基、NHC(O)R⁸
基、N(R⁸)R⁹基又は隣あった炭素原子間で形成する-CH=C
H-CH=CH-基、-OCH₂O-基、-OCH₂CH₂O-基、-OCF₂O-基、-O
CF₂CF₂O-基若しくは-OCF₂CF₂-基を示し、R¹、R²、R³は
各々独立して水素原子、C_1-6アルキル基、C_2-6アルケニ
ル基、C₂ _-6アルキニル基、C_1-6ハロアルキル基、C_2-6ア
ルコキシアルキル基、C_2-6アルキルカルボニル基、C_2-6
アルコキシカルボニル基、C_2-6ハロアルキルカルボニル
基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、R⁵
OC(O)N(R⁶)S-基、R⁶(R⁷)NS-基又は(R⁴)_qによって置換さ
れていてもよいベンジル基を示し、R⁴はハロゲン原子、
水酸基、シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハ
ロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキシ
基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C
_1-6アルキルスルホニル基、C_1-6ハロアルキルスルホニ
ル基、C_2-6アルコキシカルボニル基、アミノ基又はジC
_1-6アルキルアミノ基を示し、R⁵、R⁶及びR⁷は各々独立
してC_1-6アルキル基、(R⁴)_qによって置換されていても
よいフェニル基又は(R⁴)_qによって置換されていてもよ
いベンジル基を示し、R⁸はC_1-6アルキル基、C_1-6ハロア
ルキル基、C_2-6アルケニル基、C_2-6ハロアルケニル基、
C_2-6アルキニル基、C_2-6ハロアルキニル基、C_3-6シクロ
アルキル基、C_3-6ハロシクロアルキル基、C_4-7シクロア
ルキルアルキル基、C_2-6アルコキシアルキル基、C_2-6ア
ルキルチオアルキル基、C_2-6アルコキシカルボニルアル
キル基、C_2-6シアノアルキル基、(R⁴)_qによって置換さ
れていてもよいフェニル基、(R⁴)_qによって置換されて
いてもよいベンジル基又は(R⁴)_rによって置換されてい
てもよいピリジル基を示し、R⁹は水素原子又はC_1-6アル
キル基を示し、ｌは０〜５の整数（ただし、ｌが２〜５
の場合Ｘは同一であっても異なっていてもよい）を示
し、ｍは０〜５の整数（ただし、ｍが２〜５の場合Ｙは
同一であっても異なっていてもよい）を示し、ｎは１〜
５の整数（ただし、ｎが２〜５の場合Ｚは同一であって
も異なっていてもよい）を示し、ｐは０〜２の整数を示
し、ｑは０〜５の整数（ただし、ｑが２〜５の場合R⁴は
同一であっても異なっていてもよい）を示し、ｒは０〜
４の整数（ただし、ｒが２〜４の場合R⁴は同一であって
も異なっていてもよい）を示す。〕で表わされるセミカ
ルバゾン誘導体及び該誘導体の１種又は２種以上を有効
成分として含有する有害生物防除剤に関するものであ
る。

【０００８】本明細書において示した各置換基の例を以
下に示す。なお、各置換基のうち炭素鎖は、直鎖、分岐
鎖又は環状の何れでもよい。以下、ｎ−はノルマル、ｉ
−はイソ、ｓｅｃ−はセカンダリー、ｔ−はターシャリ
ー、ｃ−はシクロを意味する。

【０００９】C_1-6アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｃ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｃ−ペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｃ−ヘキシル基等が挙げら
れる。

【００１０】C_2-6アルケニル基としては、エテニル基、
２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２
−ブテニル基等が挙げられる。

【００１１】C_2-6アルキニル基としては、エチニル基、
２−プロピニル基、２−ブチニル基等が挙げられる。

【００１２】C_2-6アルコキシアルキル基としては、メト
キシメチル基、エトキシメチル基、１−メトキシエチル
基等が挙げられる。

【００１３】C_2-6アルキルカルボニル基としては、メチ
ルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカ
ルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｃ−プロピル
カルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカ
ルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチル
カルボニル基、ｃ−ブチルカルボニル基等が挙げられ
る。

【００１４】C_2-6アルコキシカルボニル基としては、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロ
ポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｃ
−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル
基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカル
ボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｃ−ブトキシカ
ルボニル基等が挙げられる。

【００１５】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

【００１６】Ｗとしては酸素原子とイオウ原子が挙げら
れるが、好ましくは酸素原子が挙げられる。

【００１７】Ｘ、Ｙ、Ｚとしては各々独立してハロゲン
原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ＳＣＮ基、トリメ
チルシリル基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、
C_2-6アルケニル基、C_2-6ハロアルケニル基、C_2-6アルキ
ニル基、C_2-6ハロアルキニル基、C_3-6シクロアルキル
基、C_3-6ハロシクロアルキル基、C_4-7シクロアルキルア
ルキル基、C_2-6アルコキシアルキル基、C_2-6アルキルチ
オアルキル基、C_2-6アルコキシカルボニルアルキル基、
C_2-6シアノアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロア
ルコキシ基、C_2-6アルケニルオキシ基、C_2-6ハロアルケ
ニルオキシ基、C₂ _-6アルキニルオキシ基、C_2-6ハロアル
キニルオキシ基、C_3-6シクロアルキルオキシ基、C_3-6ハ
ロシクロアルキルオキシ基、C_4-7シクロアルキルアルキ
ルオキシ基、C_2-6アルコキシアルキルオキシ基、C_2-6ア
ルキルチオアルキルオキシ基、C_3-6アルコキシカルボニ
ルアルキルオキシ基、C_2-6シアノアルキルオキシ基、C
_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_2-6ア
ルケニルチオ基、C_2-6ハロアルケニルチオ基、C_2-6アル
キニルチオ基、C_2-6ハロアルキニルチオ基、C_3-6シクロ
アルキルチオ基、C_3-6ハロシクロアルキルチオ基、C_4-7
シクロアルキルアルキルチオ基、C_2-6アルコキシアルキ
ルチオ基、C_2-6アルキルチオアルキルチオ基、C₂ _-6アル
コキシカルボニルアルキルチオ基、C_2-6シアノアルキル
チオ基、C_1-6アルキルスルフィニル基、C_1-6ハロアルキ
ルスルフィニル基、C_2-6アルケニルスルフィニル基、C
_2-6ハロアルケニルスルフィニル基、C_2-6アルキニルス
ルフィニル基、C_2-6ハロアルキニルスルフィニル基、C
_3-6シクロアルキルスルフィニル基、C₃ _-6ハロシクロア
ルキルスルフィニル基、C_4-7シクロアルキルアルキルス
ルフィニル基、C_2-6アルコキシアルキルスルフィニル
基、C_2-6アルキルチオアルキルスルフィニル基、C_1-6ア
ルキルスルホニル基、C_1-6ハロアルキルスルホニル基、
C_2-6アルケニルスルホニル基、C_2-6ハロアルケニルスル
ホニル基、C_2-6アルキニルスルホニル基、C_2-6ハロアル
キニルスルホニル基、C_3-6シクロアルキルスルホニル
基、C_3-6ハロシクロアルキルスルホニル基、C_4-7シクロ
アルキルアルキルスルホニル基、C_2-6アルコキシアルキ
ルスルホニル基、C_2-6アルキルチオアルキルスルホニル
基、C_2-6アルコキシカルボニルアルキルスルホニル基、
C_2-6シアノアルキルスルホニル基、C_1-6アルキルスルホ
ニルオキシ基、C_1-6ハロアルキルスルホニルオキシ基、
C_3-6シクロアルキルスルホニルオキシ基、C_3-6ハロシク
ロアルキルスルホニルオキシ基、C_2-6シアノアルキルス
ルホニルオキシ基、C_2-7アルキルカルボニルオキシ基、
C_2-7ハロアルキルカルボニルオキシ基、C_4-7シクロアル
キルカルボニルオキシ基、C_4-7ハロシクロアルキルカル
ボニルオキシ基、C_3-7シアノアルキルカルボニルオキシ
基、C_2-7アルキルカルボニル基、C_2-7ハロアルキルカル
ボニル基、C_4-7シクロアルキルカルボニル基、C_4-7ハロ
シクロアルキルカルボニル基、C_3-7シアノアルキルカル
ボニル基、C_2-7アルコキシカルボニル基、C_2-7ハロアル
コキシカルボニル基、C_4-7シクロアルキルオキシカルボ
ニル基、C_4-7ハロシクロアルキルオキシカルボニル基、
C_3-7シアノアルキルオキシカルボニル基、モノC_1-6アル
キルアミノカルボニル基、モノC_1-6ハロアルキルアミノ
カルボニル基、ジC_1-6アルキルアミノカルボニル基、ジ
C_1-6ハロアルキルアミノカルボニル基、モノC_1-6アルキ
ルアミノスルホニル基、モノC_1-6ハロアルキルアミノス
ルホニル基、ジC_1-6アルキルアミノスルホニル基、ジC
_1-6ハロアルキルアミノスルホニル基、アミノカルボニ
ル基、アミノスルホニル基、ホルミルアミノ基、C_2-7ア
ルキルカルボニルアミノ基、C_2-7ハロアルキルカルボニ
ルアミノ基、アミノ基、モノC_1-6アルキルアミノ基、モ
ノC_1-6ハロアルキルアミノ基、ジC_1-6アルキルアミノ
基、ジC_1-6ハロアルキルアミノ基、隣あった炭素原子間
で形成する-CH=CH-CH=CH-基、-OCH₂O-基、-OCH₂CH₂O-
基、-OCF₂O-基、-OCF₂CF₂O-基若しくは-OCF₂CF₂-基、置
換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい
フェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、
置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換さ
れていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていて
もよいフェニルスルホニルオキシ基、置換されていても
よいフェニルカルボニルオキシ基、置換されていてもよ
いフェニルカルボニル基、置換されていてもよいフェノ
キシカルボニル基、置換されていてもよいフェニルアミ
ノカルボニル基、置換されていてもよいフェニルスルホ
ニルアミノ基、置換されていてもよいフェニルカルボニ
ルアミノ基、置換されていてもよいフェニルアミノ基、
置換されていてもよいベンジル基、置換されていてもよ
いベンジルオキシ基、置換されていてもよいベンジルチ
オ基、置換されていてもよいベンジルスルフィニル基、
置換されていてもよいベンジルスルホニル基、置換され
ていてもよいベンジルスルホニルオキシ基、置換されて
いてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されてい
てもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよい
ベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいベ
ンジルアミノカルボニル基、置換されていてもよいベン
ジルスルホニルアミノ基、置換されていてもよいベンジ
ルカルボニルアミノ基、置換されていてもよいベンジル
アミノ基、置換されていてもよいピリジル基、置換され
ていてもよいピリジルオキシ基、置換されていてもよい
ピリジルチオ基、置換されていてもよいピリジルスルフ
ィニル基、置換されていてもよいピリジルスルホニル
基、置換されていてもよいピリジルスルホニルオキシ
基、置換されていてもよいピリジルカルボニルオキシ
基、置換されていてもよいピリジルカルボニル基、置換
されていてもよいピリジルオキシカルボニル基、置換さ
れていてもよいピリジルアミノカルボニル基、置換され
ていてもよいピリジルスルホニルアミノ基、置換されて
いてもよいピリジルカルボニルアミノ基又は置換されて
いてもよいピリジルアミノ基（ただし置換されていても
よい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、シアノ
基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、
C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_1-6ア
ルキルスルホニル基、C_1-6ハロアルキルスルホニル基、
C_1-6アルコキシカルボニル基、アミノ基又はジC_1-6アル
キルアミノ基が挙げられる。）が挙げられる。

【００１８】Ｘとして好ましくは、ハロゲン原子、C_1-6
アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロアルコキシ
基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルスルホ
ニルオキシ基が挙げられる。

【００１９】Ｙとして好ましくは、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル
基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6ア
ルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_1-6アルキル
スルホニル基、C_1-6ハロアルキルスルホニル基、C_1-6ハ
ロアルキルスルホニルオキシ基又は隣あった炭素原子間
で形成する-OCF₂O-基若しくは-OCF₂CF₂O-基が挙げられ
る。

【００２０】Ｚとして好ましくは、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロアルコ
キシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ
基、C₁ _-6アルキルスルフィニル基、C_1-6ハロアルキルス
ルフィニル基、C_1-6アルキルスルホニル基、C_1-6ハロア
ルキルスルホニル基、C_1-6アルキルスルホニルオキシ
基、C_1-6ハロアルキルスルホニルオキシ基又は隣あった
炭素原子間で形成する-OCF ₂O-基、-OCF₂CF₂O-基若しく
は-OCF₂CF₂-基が挙げられる。

【００２１】R¹、R²及びR³としては、水素原子、C_1-6ア
ルキル基、C_2-6アルケニル基、C_2-6アルキニル基、C_1-6
ハロアルキル基、C_2-6アルコキシアルキル基、C_2-6アル
キルカルボニル基、C_2-6アルコキシカルボニル基、C_2-6
ハロアルキルカルボニル基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6
ハロアルキルチオ基、C_2-12ジアルキルアミノチオ基、C
_3-12（アルキル）アルコキシカルボニルアミノチオ基又
は置換されていてもよいベンジル基（ただし、置換され
ていてもよい置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、
シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキ
ル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6
アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_1-6アルキ
ルスルホニル基、C_2-6アルコキシカルボニル基、アミノ
基又はジC_1-6アルキルアミノ基が挙げられる）が挙げら
れる。

【００２２】R¹、R²及びR³として好ましくは、水素原子
又はC_1-6アルキル基が挙げられる。

【００２３】ｌは０〜２の整数が好ましく、１がより好
ましい。

【００２４】ｍは０〜２の整数が好ましく、１がより好
ましい。

【００２５】ｎは１〜３の整数が好ましく、１がより好
ましい。

【００２６】好ましい本発明化合物としては、以下に挙
げる化合物が挙げられる。

【００２７】（１）Ｘが、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ア
ルコキシ基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6ハロアルキル
チオ基、C₁ _-6ハロアルキルスルホニルオキシ基又はC_2-6
アルコキシカルボニル基を示し、Ｙが、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキ
ル基、C_1-6アルコキシ基、C_2-6アルコキシカルボニル
基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6
ハロアルキルチオ基、C_1-6アルキルスルホニル基、C_1-6
ハロアルキルスルホニル基、C_1-6アルキルスルホニルオ
キシ基、C_1-6ハロアルキルスルホニルオキシ基又は隣あ
った炭素原子間で形成する-OCF₂O-基若しくは-OCF₂CF₂O
-基を示し、Ｚが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロア
ルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチ
オ基、C_1-6アルキルスルフィニル基、C_1-6ハロアルキル
スルフィニル基、C_1-6アルキルスルホニル基、C_1-6ハロ
アルキルスルホニル基、C_1-6アルキルスルホニルオキシ
基、C_1-6ハロアルキルスルホニルオキシ基又は隣あった
炭素原子間で形成する-OCF₂O-基、-OCF₂CF₂O-基若しく
は-OCF₂CF₂-基を示し、R¹が水素原子、C_1-6アルキル
基、C_2-6アルケニル基、C_2-6アルキニル基、C_1-6ハロア
ルキル基、C_2-6アルコキシアルキル基、C_2-6アルキルカ
ルボニル基、C_2-6アルコキシカルボニル基、C_2-6ハロア
ルキルカルボニル基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロア
ルキルチオ基、R⁵OC(O)N(R⁶)S-基、R⁶(R⁷)NS-基又は
(R⁴)_qによって置換されていてもよいベンジル基を示
し、R²及びR³が各々独立して水素原子又はC_1-6アルキル
基を示し、ｌ及びｍが各々独立して０〜２の整数を示
し、ｎが１〜３の整数を示すセミカルバゾン誘導体。（２）Ｘが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6
アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、
C_1-6ハロアルコキシ基又はC_2-6アルコキシカルボニル基
であり、かつその置換位置は、３位、４位、３位と４位
又は３位と５位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、
C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6アルキ
ルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_2-6アルコキシカ
ルボニル基又はC_1-6アルキルスルホニルオキシ基であ
り、かつその置換位置は、３位、４位又は、３位と４位
を示し、Ｚが、ハロゲン原子、シアノ基、C_1-6アルキル
基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロ
アルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキル
チオ基又はC_1-6アルキルスルホニルオキシ基であり、か
つその置換位置は３位、４位又は３位と４位を示し、R¹
は水素原子を示し、R²、R³が各々独立して水素原子又は
C_1-6アルキル基を示し、ｌおよびｍが各々独立して０〜
２の整数を示し、ｎが１を示す上記（１）記載のセミカ
ルバゾン誘導体。（３）Ｘが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6
アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、
C_1-6ハロアルコキシ基又はC_2-6アルコキシカルボニル基
であり、かつその置換位置は、３位、４位、３位と４位
又は３位と５位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、
C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6アルキ
ルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_2-6アルコキシカ
ルボニル基又はC_1-6アルキルスルホニルオキシ基であ
り、かつその置換位置は、３位、４位又は、３位と４位
を示し、Ｚが、ハロゲン原子、シアノ基、C_1-6アルキル
基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロ
アルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキル
チオ基又はC_1-6アルキルスルホニルオキシ基であり、か
つその置換位置は３位、４位又は３位と４位を示し、R¹
が、C_1-6アルキル基、C_2-6アルケニル基、C_2-6アルキニ
ル基、C_1-6ハロアルキル基、C_2-6アルコキシアルキル
基、C_2-6アルキルカルボニル基、C_2-6アルコキシカルボ
ニル基、C_2-6ハロアルキルカルボニル基、C_1-6アルキル
チオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、R⁵OC(O)N(R⁶)S-基、
R⁶(R⁷)NS-基又は(R⁴)_qによって置換されていてもよいベ
ンジル基を示し、R²、R³が各々独立して水素原子又はC
_1-6アルキル基を示し、ｌおよびｍが各々独立して０〜
２の整数を示し、ｎが１を示す上記（１）記載のセミカ
ルバゾン誘導体。（４）Ｗが酸素原子を示し、Ｘが、ハロゲン原子、C_1-6
アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基又
はC_1-6ハロアルコキシ基であり、かつその置換位置は、
３位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロアルコキシ基又はC
_1-6ハロアルキルチオ基であり、かつその置換位置は４
位を示し、Ｚが、ハロゲン原子、C_1-6ハロアルキル基、
C_1-6ハロアルコキシ基又はC_1-6ハロアルキルチオ基であ
り、かつその置換位置は４位を示し、R²、R³が水素原子
を示し、ｌ、ｍ及びｎが１を示す上記（２）記載のセミ
カルバゾン誘導体。（５）Ｗが酸素原子を示し、Ｘが、ハロゲン原子、C_1-6
アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基又
はC_1-6ハロアルコキシ基であり、かつその置換位置は、
３位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、C_1-6ハロアルキル基又はC_1-6ハロアルコキシ基であ
り、かつその置換位置は４位を示し、Ｚが、ハロゲン原
子、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロアルコキシ基又はC
_1-6ハロアルキルチオ基であり、かつその置換位置は４
位を示し、R²、R³が水素原子を示し、ｌ、ｍ及びｎが１
を示す上記（３）記載のセミカルバゾン誘導体。

【００２８】尚、本発明に包含される化合物の中で不斉
炭素原子を有する化合物の場合には、光学活性な化合物
（＋）体及び（−）体が含まれる。更に、立体配置異性
体が存在する場合には、シス体及びトランス体が含まれ
る。又、本発明化合物はR²が水素原子の時、下記に示す
互変異性体の存在が考えられるが、それらの構造も包含
する。

【００２９】

【化３】

【００３０】本発明において有害生物防除剤とは、特に
害虫防除剤を意味する。本発明化合物は極めて低い薬剤
濃度で各種の有害な害虫に対して効力を示す。その害虫
としては、例えば、ツマグロヨコバイ、トビイロウン
カ、モモアカアブラムシ、ニジュウヤホシテントウ、ハ
スモンヨトウ、コブノメイガ、コナガ、ヨトウガ、モン
シロチョウ、カブラヤガ、チャノコカクモンハマキ、チ
ャハマキ、タバコバットワーム、ヨーロピアンコーンボ
ーラー、フォールアーミーワーム、コーンイヤーワー
ム、サザンコーンルートワーム、ノーザンコーンルート
ワーム、ウェスタンコーンルートワーム等の農業害虫、
ナミハダニ、ミカンハダニ、カンザワハダニ等のハダニ
類、アカイエカ、イエバエ、チャバネゴキブリ、アリ、
ノミ、シラミ等の衛生害虫、コクゾウムシ、コクヌスト
モドキ、スジマダラメイガ等の貯穀害虫、シロアリのよ
うな家屋害虫、ダニ、ノミ、シラミ等の家畜害虫、コナ
ダニ、ヒョウヒダニ、ツメダニ等の屋内塵性ダニ、ナメ
クジ、カタツムリ等の軟体動物等が挙げられる。すなわ
ち、本発明化合物は直翅目、半翅目、鱗翅目、鞘翅目、
膜翅目、双翅目、シロアリ目およびダニ・シラミ類の害
虫を低濃度で有効に防除できる。一方、本発明化合物は
ホ乳類、魚類、甲殻類および益虫に対してはほとんど悪
影響がない極めて有用な化合物であることを見出し、本
発明を完成した。

【００３１】次に、本発明化合物の製造法について説明
する。本発明化合物は新規なセミカルバゾン誘導体であ
り、代表的な製造法を以下に具体的に説明する。

【００３２】各方法（Ａ法〜Ｆ法）において、Ｗ、Ｘ、
Ｙ、Ｚ、R¹、R²、R³、R⁴、ｋ、ｌ、ｍ及びｎは前記と同
じ意味を示し、L¹、L²及びL³は、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子、アルキルスルホネート基又はアリールスル
ホネート基のような良好な脱離基を示す。

【００３３】Ａ法

【００３４】

【化４】

【００３５】化合物（II）と五塩化リンとを不活性な溶
媒中又は溶媒なしで反応させるか、又は化合物（II）を
不活性な溶媒中又は溶媒なしで塩化チオニルと反応させ
ることにより化合物（III）が得られる。塩化チオニル
と反応させる場合は、ジメチルホルムアミドを加えると
反応は、より良好に進行する。つづいて化合物（III）
と化合物（IV）を塩基の存在下又は不存在下、不活性な
溶媒中で反応させることにより本発明化合物（Ｖ）（化
合物（Ｉ）においてR¹が水素原子）が得られる。さらに
本発明化合物（Ｖ）と化合物（VI）を塩基の存在下、不
活性な溶媒中で反応させることにより本発明化合物
（Ｉ）を得ることができる。

【００３６】工程１において用いられる溶媒としてはベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、四塩化炭素、
１，１，２−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類が挙げられる。トルエン中で少し過剰の五塩化リンを
用いるのが好ましい。反応温度は０℃から反応混合物の
還流温度までの任意の温度を設定できるが、６０℃から
還流温度で行うのが好ましい。

【００３７】工程２で用いられる塩基としては、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ
金属炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のア
ルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ピリジン等の
有機塩基等が挙げられる。用いられる溶媒としては、反
応の進行を阻害しないものであれば良く、例えばメタノ
ール、エタノール等の低級アルコール類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、１，
２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキシドおよび水等が挙げら
れる。これらの不活性溶媒は単独で使用してもよく、ま
た、混合して使用することもできる。一般的には塩基と
して、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を用
い、溶媒としてベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類又はテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエー
テル類を用いるのが好ましい。反応温度は−６０℃から
反応混合物の還流温度までの任意の温度を設定すること
ができるが、０℃から還流温度までで行うのが好まし
い。

【００３８】工程３で用いられる塩基としては、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ
金属炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のア
ルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ピリジン等の
有機塩基等が挙げられる。用いられる溶媒としては、反
応の進行を阻害しないものであれば良く、例えばメタノ
ール、エタノール等の低級アルコール類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、１，
２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキシドおよび水等が挙げら
れる。これらの不活性溶媒は単独で使用してもよく、ま
た、混合して使用することもできる。一般的にはテトラ
ヒドロフランやジメチルホルムアミド等の極性溶媒中
で、塩基として水素化ナトリウム、水素化カリウム、カ
リウムターシャリーブトキシド又は水酸化カリウムを用
いるのが好ましい。反応温度は−６０℃から反応混合物
の還流温度までの任意の温度を設定することができる
が、０℃から９０℃までで行うのが好ましい。

【００３９】Ｂ法

【００４０】

【化５】

【００４１】化合物（II）と五硫化二リンを不活性な溶
媒中又は溶媒なしで反応させるか、又は化合物（II）を
ローソン試薬と不活性な溶媒中又は溶媒なしで反応させ
ることにより、化合物（VII）が得られる。つづいて化
合物（VII）とヒドラジンを塩基の存在下又は不存在
下、不活性な溶媒中又は溶媒なしで反応させることによ
り化合物（VIII）を得ることができる。さらに、化合物
（VIII）と化合物（IX）を不活性な溶媒中塩基の存在下
又は不存在下反応させることにより、本発明化合物
（Ｉ）（Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈである化合物）を得ることができ
る。化合物（VIII）については、Ａ法の工程１で得られ
た化合物（III）にヒドラジンを反応させても得ること
ができる。

【００４２】工程１において用いられる溶媒としては、
反応の進行を阻害しないものであれば良く、例えばベン
ゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、
１，４−ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、アセトニトリル、ピリジン、ジメチルスルホキシド
および水等が挙げられる。これらの不活性溶媒は単独で
使用してもよく、また、混合して使用することもでき
る。一般的には、ピリジン中、少し過剰の五硫化二リン
を用いるのがよい。反応温度は０℃から反応混合物の還
流温度までの任意の温度を設定することができるが、６
０℃から還流温度までで行うのが好ましい。

【００４３】工程３で用いられる塩基としては、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ
金属炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のア
ルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ピリジン等の
有機塩基等が挙げられる。用いられる溶媒としては、反
応の進行を阻害しないものであれば良く、例えばメタノ
ール、エタノール等の低級アルコール類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、１，
２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキシドおよび水等が挙げら
れる。これらの不活性溶媒は単独で使用してもよく、ま
た、混合して使用することもできる。一般的には塩基と
してトリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を用い、
溶媒としてジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類を
用いるのが好ましい。反応温度は０℃から反応混合物の
還流温度までの任意の温度を設定することができるが、
０℃から５０℃までで行うのが好ましい。

【００４４】Ｃ法

【００４５】

【化６】

【００４６】本法は、本発明化合物（Ｉ）において、R²
＝R³＝水素原子である場合に、R²、R³を導入する方法で
ある。本発明化合物（Ｘ）と化合物（XI）を塩基の存在
下、不活性な溶媒中で反応させることにより本発明化合
物（XII）を得ることができる。つづいて、本発明化合
物（XII）と化合物（XIII）を塩基の存在下、不活性な
溶媒中で反応させることにより本発明化合物（Ｉ）が得
られる。本反応において、用いられる塩基としてはナト
リウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシドの
ようなアルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアル
カリ金属炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム等
のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミン、ピリジン
等の有機塩基等が挙げられる。用いられる溶媒として
は、反応の進行を阻害しないものであれば良く、例えば
メタノール、エタノール等の低級アルコール類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、
１，４−ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドおよび水等
が挙げられる。これらの不活性溶媒は単独で使用しても
よく、また、混合して使用することもできる。一般的に
はテトラヒドロフランやジメチルホルムアミド等の極性
溶媒中で、塩基として水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、カリウムターシャリーブトキシドまたは水酸化カリ
ウムを用いるのが好ましい。反応温度は−６０℃から反
応混合物の還流温度までの任意の温度を設定することが
できるが、０℃から９０℃までで行うのが好ましい。本
反応においてR²＝R³の場合は２当量の化合物（XI）と２
当量の塩基を用いることにより、化合物（XII）を単離
することなく、本発明化合物（Ｉ）を得ることができ
る。

【００４７】Ｄ法

【００４８】

【化７】

【００４９】出発原料の化合物（II）は化合物（XIV）
と化合物（XV）を塩基の存在下、不活性な溶媒中で反応
させることにより得られる。本法で用いられる塩基とし
ては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化
カリウム等のアルカリ金属水素化物、トリエチルアミ
ン、ピリジン等の有機塩基等が挙げられる。用いられる
溶媒としては、反応の進行を阻害しないものであれば良
く、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラ
ヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ジ
クロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド等のアミド類、アセトニトリル、ジメチルスルホキ
シドおよび水等が挙げられる。これらの不活性溶媒は単
独で使用してもよく、また、混合して使用することもで
きる。一般的には塩基として、トリエチルアミン、ピリ
ジン等の有機塩基を用い、溶媒としてベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類又はテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル類を用いるのが好ましい。反
応温度は−６０℃から反応混合物の還流温度までの任意
の温度を設定することができるが、０℃から１２０℃ま
でで行うのが好ましい。

【００５０】化合物（II）において、R¹＝Ｈの場合、さ
らに化合物（VI）を塩基の存在下、不活性な溶媒中にお
いて反応させることにより、化合物（II）（R¹≠Ｈ）を
得ることができる。

【００５１】Ｅ法

【００５２】

【化８】

【００５３】本法は、R²＝R³＝水素原子である場合の出
発原料（化合物（IV）のR²＝R³＝水素原子）の合成法で
ある。化合物（IX）とヒドラジンを触媒の存在下又は不
存在下、不活性な溶媒中で反応させることにより化合物
（XVI）が得られる。本反応において用いられる触媒と
しては、トリエチレンジアミン、ジアザビシクロウンデ
セン等の有機塩基等が挙げられる。触媒の使用量は化合
物（IX）に対して０．００１重量％から１０重量％まで
の任意の量を設定できるが、０．１重量％から１重量％
が好ましい。溶媒としては反応の進行を阻害しないもの
であれば良く、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等のアミド類、アセトニトリル、ジメチルス
ルホキシドおよび水等が挙げられる。これらの不活性溶
媒は単独で使用してもよく、また、混合して使用するこ
ともできる。反応温度は−６０℃から反応混合物の還流
温度までの任意の温度を設定することができるが、０℃
から５０℃で行うのが好ましい。この反応において反応
物質のモル比には特に制限はないが化合物（XVI）を収
率よく得るためには、化合物（IX）に対してヒドラジン
を少し過剰に用いるのが好ましい。

【００５４】Ｆ法

【００５５】

【化９】

【００５６】本法は、Ｅ法の別法で、R²＝R³＝水素原子
である場合の出発原料（化合物（IV）のR²＝R³＝水素原
子）の合成法である。化合物（XVII）と化合物（IX）を
触媒の存在下又は不存在下、不活性な溶媒中で反応させ
ることにより化合物（XVIII）が得られる。本反応にお
いて用いられる触媒、溶媒及び温度等の反応条件はＥ法
に準ずる。本法においては、当モルの化合物（XVII）と
化合物（IX）を用いて収率よく化合物（XVIII）を得る
ことができるのが特徴である。工程２において、化合物
（XVIII）を酸の存在下、不活性な溶媒中で反応させる
ことにより、化合物（XVI）を得ることができる。用い
られる酸としては、塩酸、硫酸等の無機酸、パラトルエ
ンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等が挙げら
れる。溶媒としては、反応の進行を阻害しないものであ
れば良く、例えば、メタノール、エタノール等の低級ア
ルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等のアミド類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシ
ド、酢酸および水等が挙げられる。これらの不活性溶媒
は単独で使用してもよく、また、混合して使用すること
もできる。一般的には、メタノール、エタノール等の低
級アルコール中で過剰量の塩酸を用いるのが好ましい。
反応温度は−６０℃から反応混合物の還流温度までの任
意の温度を設定することができるが、０℃から反応混合
物の還流温度で行うのが好ましい。

【００５７】各方法において、各反応物質のモル比には
特に制限はないが、等モル又はそれに近い比率で反応を
行うのが有利である。

【００５８】本発明化合物を精製する必要が生じた場合
は、再結晶、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマト
グラフィー等の任意の精製方法によって分離、精製する
ことができる。

【００５９】本発明化合物を有害生物防除剤として施用
するにあたっては、一般には適当な担体、例えばクレ
ー、タルク、ベントナイト、珪藻土、ホワイトカーボン
等の固体担体あるいは水、アルコール類（イソプロパノ
ール、ブタノール、ベンジルアルコール、フルフリルア
ルコール等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン
等）、エーテル類（アニソール等）、ケトン類（シクロ
ヘキサノン、イソホロン等）、エステル類（酢酸ブチル
等）、酸アミド類（Ｎ−メチルピロリドン等）又はハロ
ゲン化炭化水素類（クロルベンゼン等）などの液体担体
と混用して適用することができ、所望により界面活性
剤、乳化剤、分散剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防
止剤、固結防止剤、安定剤などを添加し、液剤、乳剤、
水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、粉剤、粒
剤等任意の剤型にて実用に供することができる。

【００６０】また、本発明化合物は必要に応じて製剤時
又は散布時に他種の除草剤、各種殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌
改良剤などと混合施用しても良い。

【００６１】特に他の農薬あるいは植物ホルモンと混合
施用することにより、施用薬量の減少による低コスト
化、混合薬剤の相乗作用による殺虫スペクトラムの拡大
や、より高い有害生物防除効果が期待できる。この際、
同時に複数の公知農薬との組み合わせも可能である。本
発明化合物と混合使用する農薬の種類としては、例え
ば、ファーム・ケミカルズ・ハンドブック（Farm Chemi
cals Handbook）１９９４年版に記載されている化合物
などがある。

【００６２】本発明化合物の施用薬量は適用場面、施用
時期、施用方法、栽培作物等により差異はあるが一般に
は有効成分量としてヘクタール（ha) 当たり０．００５
〜５０ｋｇ程度が適当である。

【００６３】次に具体的に本発明化合物を用いる場合の
製剤の配合例を示す。但し本発明の配合例は、これらの
みに限定されるものではない。なお、以下の配合例にお
いて「部」は重量部を意味する。

【００６４】〔水和剤〕本発明化合物・・・・・・・５〜８０部固体担体・・・・・・・１０〜８５部界面活性剤・・・・・・・１〜１０部その他・・・・・・・１〜５部その他として、例えば固結防止剤などがあげられる。

【００６５】〔乳剤〕本発明化合物・・・・・・・１〜３０部液体担体・・・・・・・３０〜９５部界面活性剤・・・・・・・５〜１５部

【００６６】〔フロアブル剤〕本発明化合物・・・・・・・５〜７０部液体担体・・・・・・・１５〜６５部界面活性剤・・・・・・・５〜１２部その他・・・・・・・５〜３０部その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等があげられ
る。

【００６７】〔粒状水和剤（ドライフロアブル剤）〕本発明化合物・・・・・・・２０〜９０部固体担体・・・・・・・１０〜６０部界面活性剤・・・・・・・１〜２０部

【００６８】〔粒剤〕本発明化合物・・・・・・・0.1 〜１０部固体担体・・・・・・・90〜99.99 部その他・・・・・・・１〜５部

【００６９】〔粉剤〕本発明化合物・・・・・・・0.01〜３０部固体担体・・・・・・・67〜99.5 部その他・・・・・・・０〜３部

【００７０】

【実施例】

実施例（合成例、製剤例、試験例）以下、本発明について実施例（合成例、製剤例、試験
例）を挙げて具体的に詳述する。

【００７１】

【実施例】

【００７２】〔合成例〕本発明に包含される化合物は、
以下に示した合成例に基づき製造したまたは製造するこ
とができるが、本発明はこれらの化合物にのみ限定され
るものではない。

【００７３】合成例１Ｎ−（４−クロロフェニル）−４−クロロベンズアミド
４−トリフルオロメトキシフェニルセミカルバゾン
（本発明化合物Ｎｏ．１）Ｎ−（４−クロロフェニル）−４−クロロベンズアミド
１．０ｇ及び五塩化リン１．２ｇを徐々に加熱溶解し、
還流下で３時間撹拌した後、副生したオキシ塩化リンを
減圧下で留去した。残留物及びＮ−（４−トリフルオロ
メトキシフェニル）ヒドラジンカルボキサミド１．００
ｇをベンゼン２０ｍｌとテトラヒドロフラン２０ｍｌの
混合溶媒に溶解し、室温で撹拌下、トリエチルアミン
０．５０ｇを滴下し、さらに室温で３時間撹拌した。反
応混合物を氷水２００ｍｌ中に加えた後、酢酸エチル１
００ｍｌを加えて抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して粗生成物
を２．０５ｇ得た。これを分取薄層クロマトグラフィー
で精製後、さらにイソプロピルエーテルから再結晶化し
て目的物を０．３８ｇ得た。融点：２０６．５−２０８．０℃¹ H-NMR(CDCl₃+DMSO-d₆)δ ppm:6.50-7.65(12H, m), 8.0
8(1H,s), 8.41(1H,s),9.51(1H, s).

【００７４】参考例１Ｎ−（４−クロロフェニル）−４−クロロベンズアミド４−クロロアニリン３．３ｇとトリエチルアミン３．３
ｇをベンゼン５０ｍｌに溶解し、氷冷下で撹拌下、４−
クロロベンゾイルクロライド５．３ｇのベンゼン溶液２
０ｍｌを滴下した後、さらに室温で１時間撹拌した。反
応混合物を氷水２００ｍｌに加えた後、酢酸エチル２０
０ｍｌで抽出した。有機層を１規定塩酸、ついで飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で
溶媒を留去して、Ｎ−（４−クロロフェニル）−４−ク
ロロベンズアミドを６．３３ｇ得た。

【００７５】合成例２Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル−３−フルオ
ロベンズアミド４−トリフルオロメトキシフェニルセ
ミカルバゾン（本発明化合物Ｎｏ．１７３）Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル−３−フルオ
ロベンズアミドラゾン０．５４ｇ、４−トリフロオロメ
トキシフェニルイソシアネート０．４１ｇ及びトリエチ
ルアミン２滴をジクロロメタン１０ｍｌに加え、室温で
３日間撹拌した。その後、酢酸エチル１００ｍｌを加
え、水で２回洗浄した後、減圧下で溶媒を留去した。残
留物をイソプロピルエーテルで洗浄して、目的化合物
０．５７ｇを得た。融点：２１０．０−２１３．０℃

【００７６】参考例２Ｎ−（４−シアノフェニル）−３−フルオロベンズアミ
ド４−アミノベンゾニトリル３１．０１ｇ及びトリエチル
アミン３０．３６ｇをベンゼン９５０ｍｌに加え、氷冷
下で撹拌しながら、３−フルオロベンゾイルクロリド３
９．６４ｇのベンゼン溶液５０ｍｌを滴下した。滴下終
了後、室温で一晩撹拌し、減圧下で溶媒を留去した。残
留物を酢酸エチル５００ｍｌに溶解し、水で２回洗浄し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留
去した。残留物をジイソプロピルエーテルで洗浄して、
目的化合物５５．９２ｇを得た。融点：１４８．６−１５０．３℃

【００７７】Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル
−３−フルオロベンズアミド水素化ナトリウム（純度５５％）０．５２ｇをジメチル
ホルムアミド１０ｍｌに加え、氷冷下撹拌しながらＮ−
（４−シアノフェニル）−３−フルオロベンズアミド
２．４０ｇを加えた。室温で１時間撹拌後、ヨウ化メチ
ル２．１３ｇを加え、さらに室温で一晩撹拌した。その
後、ジエチルエーテル１５０ｍｌを加え、飽和食塩水で
２回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去した。残留物をジイソプロピルエーテルか
ら再結晶して、目的化合物１．８７ｇを得た。融点：１０３．２−１０６．１℃

【００７８】Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル
−３−フルオロベンゼンカルボチオアミドＮ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル−３−フルオ
ロベンズアミド１．８７ｇ及び五硫化二リン１．８０ｇ
をピリジン１０ｍｌに加え、加熱還流下２時間撹拌後、
氷水１００ｍに加えた。水酸化カリウム水溶液でアルカ
リ性にした後、酢酸エチル１５０ｍｌを加え抽出した。
有機層を希塩酸で２回洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：クロロホル
ム）で分離精製し、油状の目的化合物１．９９ｇを得
た。¹ H-NMR(CDCl₃):δppm 3.9(s, 3H), 6.8-7.6(m, 8H).

【００７９】Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル
−３−フルオロベンズアミドラゾンＮ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル−３−フルオ
ロベンゼンカルボチオアミド１．９９ｇ及びヒドラジン
一水和物１．８５ｇをエタノール４０ｍｌに加え、加熱
還流下３時間撹拌後、水１００ｍｌを加え、減圧下でエ
タノールを留去した。残留物に酢酸エチル１５０ｍｌを
加え抽出し、有機層を水で２回洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキ
サン−酢酸エチル＝１：１）で分離精製し、目的化合物
１．２７ｇを得た。融点：１２９．５−１３１．０℃

【００８０】合成例３

【００８１】Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチル
−３−フルオロベンズアミド４−（４−トリフルオロ
メトキシフェニル）−２−メチルセミカルバゾン（本発明化合物Ｎｏ．２１６）水素化ナトリウム（純度
５５％）０．２ｇをジメチルホルムアミド５ｍｌに加
え、氷冷下撹拌しながらＮ−（４−シアノフェニル）−
Ｎ−メチル−３−フルオロベンズアミド４−トリフル
オロメトキシフェニルセミカルバゾン１．０ｇ及びジメ
チルホルムアミド１０ｍｌの溶液を滴下した。室温で３
０分撹拌後、ヨウ化メチル０．３６ｇ及びジメチルホル
ムアミド３ｍｌの溶液を加え、更に室温で３時間撹拌し
た。反応混合物を氷水中に注ぎ、生成した結晶をろ過
し、水及びヘキサンで洗浄後乾燥した。更に酢酸エチル
−ヘキサンで再結晶を行い、目的化合物０．１４ｇを得
た。融点：２０９．０−２１０．０℃

【００８２】参考例３

【００８３】Ｎ−（４−シアノフェニル）−３−フルオ
ロベンゼンカルボチオアミドＮ−（４−シアノフェニル）−３−フルオロベンズアミ
ド９．６１ｇ及び五硫化二リン９．３４ｇをピリジン４
０ｍｌに加え、加熱還流下２時間撹拌後、氷水４００ｍ
に加えた。水酸化カリウム水溶液でアルカリ性にし、析
出した固体を濾別して乾燥後、ジイソプロピルエーテル
で洗浄して、目的化合物８．１７ｇを得た。

【００８４】Ｎ−（４−シアノフェニル）−３−フルオ
ロベンズアミドラゾンＮ−（４−シアノフェニル）−３−フルオロベンゼンカ
ルボチオアミド７．６９ｇ及びヒドラジン一水和物７．
５１ｇをエタノール１５０ｍｌに加え、加熱還流下２時
間撹拌後、水１５０ｍｌを加え、減圧下でエタノールを
留去した。残留物に酢酸エチル３００ｍｌを加え抽出
し、有機層を水で２回洗浄した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残留物をジイソプ
ロピルエーテルで洗浄して、目的化合物５．３３ｇを得
た。融点：１０４．０−１０５．０℃

【００８５】Ｎ−（４−シアノフェニル）−３−フルオ
ロベンズアミドラゾンＮ−（４−シアノフェニル）−３−フルオロベンズアミ
ド９．６１ｇ及び五塩化リン９．１６ｇをトルエン４０
ｍｌに加え、加熱還流下２時間撹拌後、減圧下で溶媒を
留去した。残留物をベンゼン５０ｍｌに溶解し、室温で
撹拌しながら、ヒドラジン一水和物６．０１ｇのベンゼ
ン溶液５０ｍｌに滴下した。室温で一晩撹拌後、水１０
０ｍｌを加え、減圧下でベンゼンを留去した。残留物に
酢酸エチル４００ｍｌを加え抽出し、有機層を水で２回
洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶
媒を留去した。残留物をジイソプロピルエーテルで洗浄
して、目的化合物４．８８ｇを得た。

【００８６】本発明化合物は、上記製造法及び実施例に
準じて合成することができる。このような化合物の例を
第１表に表す。但し、本発明は、これらのみに限定され
るわけではない。なお、表中の略号はそれぞれ以下の意
味を表す。 Me：メチル基、Et：エチル基、Pr：プロピル基、Bu：ブ
チル基、Ph：フェニル基、Bn：ベンジル基

【００８７】第１表

【００８８】

【化１０】

【００８９】

【表１】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 1 H H H O H H 4-OCF₃ 160.0-163.0 2 H H H O 3-F H 4-OCF₃ 243.0-246.0 3 H H H O 3-Cl H 4-OCF₃ 186.0-187.0 4 H H H O 3-Br H 4-OCF₃ 180.0-183.0 5 H H H O 3-CF₃ H 4-OCF₃ 157.0-160.0 6 H H H O 3-OMe H 4-OCF₃ 7 H H H O 3-OCF₂H H 4-OCF₃ 147.0-149.0 8 H H H O 3-SCF₂H H 4-OCF₃ 9 H H H O 3-SCF₃ H 4-OCF₃ 10 H H H O 3-CN H 4-OCF₃ 187.0-188.9 11 H H H O 3-NO₂ H 4-OCF₃ 185.8-186.9 12 H H H O 3-CO₂Et H 4-OCF₃ 13 H H H O 3-CH₃ H 4-OCF₃ 176.0-177.3 14 H H H O H 4-F 4-OCF₃ 177.0-178.0 15 H H H O H 4-Cl 4-OCF₃ 173.0-175.0 16 H H H O H 4-Br 4-OCF₃ 153.0-155.0 17 H H H O H 4-I 4-OCF₃ 172.0-175.0 18 H H H O H 4-Me 4-OCF₃ 19 H H H O H 4-t-Bu 4-OCF₃ 200.0-203.0 20 H H H O H 4-CF₃ 4-OCF₃ 195.0-197.0 21 H H H O H 4-CH₂CF₃ 4-OCF₃ 22 H H H O H 4-OCF₂H 4-OCF₃ 173.0-174.0 23 H H H O H 4-OCF₃ 4-OCF₃ 189.0-190.0 ───────────────────────────────────

【００９０】

【表２】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 24 H H H O H 4-OCF₂CF₂H 4-OCF₃ 179.5-181.7 25 H H H O H 4-OMe 4-OCF₃ 182.0-183.0 26 H H H O H 4-SMe 4-OCF₃ 27 H H H O H 4-SCF₃ 4-OCF₃ 28 H H H O H 4-OSO₂CH₃ 4-OCF₃ 234.5-238.5 29 H H H O H 4-CO₂Et 4-OCF₃ 202.0-204.0 30 H H H O H 4-CONH₂ 4-OCF₃ 31 H H H O H 4-CONHMe 4-OCF₃ 32 H H H O H 4-CN 4-OCF₃ 175.5-177.5 33 H H H O H 4-NO₂ 4-OCF₃ 178.0-180.5 34 H H H O H 4-CHO 4-OCF₃ 35 H H H O H 4-COMe 4-OCF₃ 36 H H H O H 3-Cl 4-OCF₃ 37 H H H O H 3-CF₃ 4-OCF₃ 38 H H H O H 3-CN 4-OCF₃ 250.0-251.0 39 H H H O H 4-NO₂ 4-OCF₃ 40 H H H O 3-F 4-F 4-OCF₃ 41 H H H O 3-F 4-Cl 4-OCF₃ 205.0-206.8 42 H H H O 3-F 4-Me 4-OCF₃ 43 H H H O 3-F 4-t-Bu 4-OCF₃ 182.0-185.0 44 H H H O 3-F 4-CF₃ 4-OCF₃ 181.7-183.9 45 H H H O 3-F 4-OMe 4-OCF₃ 46 H H H O 3-F 4-OCF₂H 4-OCF₃ 171.0-172.0 ───────────────────────────────────

【００９１】

【表３】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 47 H H H O 3-F 4-OCF₃ 4-OCF₃ 175.0-176.0 48 H H H O 3-F 4-OCF₂CF₂H 4-OCF₃ 167.9-170.0 49 H H H O 3-F 4-SMe 4-OCF₃ 50 H H H O 3-F 4-SCF₃ 4-OCF₃ 180.0-181.0 51 H H H O 3-F 4-SOCF₃ 4-OCF₃ 52 H H H O 3-F 4-SO₂CF₃ 4-OCF₃ 53 H H H O 3-F 4-CO₂Et 4-OCF₃ 186.5-188.0 54 H H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 200.2-202.4 55 H H H O 4-F 4-CN 4-OCF₃ 250.0-251.0 56 H H H O 4-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 181.0-185.0 57 H H H O 3-F 3-F-4-CN 4-OCF₃ 58 H H H O 3-F 3-Cl-4-CN 4-OCF₃ 193.7-195.9 59 H H H O 3-F 3-Cl-4-CF₃ 4-OCF₃ 60 H H H O 3-F 3-F-4-NO₂ 4-OCF₃ 61 H H H O 3-F 3-Cl-4-OCF₃ 4-OCF₃ 62 H H H O 3-Cl 4-CF₃ 4-OCF₃ 175.0-178.0 63 H H H O 3-Cl 4-OCF₂H 4-OCF₃ 161.0-163.0 64 H H H O 3-Cl 4-OCF₃ 4-OCF₃ 165.0-167.0 65 H H H O 3-Cl 4-OCF₂CF₂H 4-OCF₃ 175.9-177.1 66 H H H O 3-Cl 4-CO₂CH₂CH₃ 4-OCF₃ 179.0-181.0 67 H H H O 3-Cl 4-NO₂ 4-OCF₃ 198.0-199.0 68 H H H O 4-Cl 4-CN 4-OCF₃ 193.0-197.0 69 H H H O 4-Cl 4-NO₂ 4-OCF₃ ───────────────────────────────────

【００９２】

【表４】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 70 H H H O 4-Cl 4-CF₃ 4-OCF₃ 71 H H H O 3-Br 4-CF₃ 4-OCF₃ 184.0-185.0 72 H H H O 3-Br 4-OCF₃ 4-OCF₃ 73 H H H O 3-Br 4-CN 4-OCF₃ 233.8-236.8 74 H H H O 3-Br 4-NO₂ 4-OCF₃ 75 H H H O 3-CF₃ 4-F 4-OCF₃ 76 H H H O 3-CF₃ 4-Cl 4-OCF₃ 174.0-175.0 77 H H H O 3-CF₃ 4-Br 4-OCF₃ 78 H H H O 3-CF₃ 4-Me 4-OCF₃ 79 H H H O 3-CF₃ 4-Et 4-OCF₃ 80 H H H O 3-CF₃ 4-OMe 4-OCF₃ 81 H H H O 3-CF₃ 4-OCF₂H 4-OCF₃ 82 H H H O 3-CF₃ 4-OCF₃ 4-OCF₃ 83 H H H O 3-CF₃ 4-OCF₂CF₂H 4-OCF₃ 84 H H H O 3-CF₃ 4-SCF₂H 4-OCF₃ 85 H H H O 3-CF₃ 4-NO₂ 4-OCF₃ 188.0-191.0 86 H H H O 3-OCF₂H 4-F 4-OCF₃ 87 H H H O 3-OCF₂H 4-Cl 4-OCF₃ 88 H H H O 3-OCF₂H 4-Br 4-OCF₃ 89 H H H O 3-OCF₂H 4-Me 4-OCF₃ 90 H H H O 3-OCF₂H 4-t-Bu 4-OCF₃ 91 H H H O 3-OCF₂H 4-CF₃ 4-OCF₃ 155.9-158.0 92 H H H O 3-OCF₂H 4-OMe 4-OCF₃ ───────────────────────────────────

【００９３】

【表５】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 93 H H H O 3-OCF₂H 4-OCF₃ 4-OCF₃ 94 H H H O 3-OCF₂H 4-SMe 4-OCF₃ 95 H H H O 3-OCF₂H 4-SOMe 4-OCF₃ 96 H H H O 3-OCF₂H 4-SO₂Me 4-OCF₃ 97 H H H O 3-OCF₂H 4-SCF₃ 4-OCF₃ 98 H H H O 3-OCF₂H 4-SOCF₃ 4-OCF₃ 99 H H H O 3-OCF₂H 4-SO₂CF₃ 4-OCF₃ 100 H H H O 3-OCF₂H 4-CO₂Et 4-OCF₃ 101 H H H O 3-OCF₂H 4-CN 4-OCF₃ 169.1-170.4 102 H H H O 3-OCF₂H 4-NO₂ 4-OCF₃ 170.6-173.2 103 H H H O 3-OCF₃ 4-Cl 4-OCF₃ 104 H H H O 3-OCF₃ 4-CF₃ 4-OCF₃ 158.2-159.1 105 H H H O 3-OCF₃ 4-OCF₃ 4-OCF₃ 106 H H H O 3-OCF₃ 4-NO₂ 4-OCF₃ 107 H H H O 3-SCF₂H 4-Cl 4-OCF₃ 108 H H H O 3-SCF₂H 4-Me 4-OCF₃ 109 H H H O 3-SCF₂H 4-CF₃ 4-OCF₃ 110 H H H O 3-SCF₂H 4-OMe 4-OCF₃ 111 H H H O 3-SCF₂H 4-OCF₃ 4-OCF₃ 112 H H H O 3-SCF₂H 4-SMe 4-OCF₃ 113 H H H O 3-SCF₂H 4-SCF₃ 4-OCF₃ 114 H H H O 3-SCF₂H 4-CO₂Et 4-OCF₃ 115 H H H O 3-SCF₂H 4-NO₂ 4-OCF₃ ───────────────────────────────────

【００９４】

【表６】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 116 H H H O 3-SCF₂H 4-Cl 4-OCF₃ 117 H H H O 3-SCF₃ 4-Cl 4-OCF₃ 118 H H H O 3-SCF₃ 4-Me 4-OCF₃ 119 H H H O 3-SCF₃ 4-CF₃ 4-OCF₃ 120 H H H O 3-SCF₃ 4-OMe 4-OCF₃ 121 H H H O 3-SCF₃ 4-OCF₃ 4-OCF₃ 122 H H H O 3-SCF₃ 4-SMe 4-OCF₃ 123 H H H O 3-SCF₃ 4-SCF₃ 4-OCF₃ 124 H H H O 3-SCF₃ 4-CO₂Et 4-OCF₃ 125 H H H O 3-SCF₃ 4-CN 4-OCF₃ 126 H H H O 3-SCF₃ 4-NO₂ 4-OCF₃ 127 H H H O 3-CH₃ 4-Cl 4-OCF₃ 128 H H H O 3-CH₃ 4-CF₃ 4-OCF₃ 169.5-172.0 129 H H H O 3-CH₃ 4-CN 4-OCF₃ 193.9-195.2 130 H H H O 3-CO₂CH₃ 4-Cl 4-OCF₃ 131 H H H O 3-CO₂CH₃ 4-CF₃ 4-OCF₃ 184.2-185.5 132 H H H O 3-CO₂CH₃ 4-CN 4-OCF₃ 197.0-201.0 133 H H H O 3-CO₂CH₃ 4-NO₂ 4-OCF₃ 134 H H H O 3-CN H 4-OCF₃ 187.0-188.9 135 H H H O 3-CN 4-Cl 4-OCF₃ 136 H H H O 3-CN 4-CF₃ 4-OCF₃ 196.6-198.3 137 H H H O 3-CN 4-CN 4-OCF₃ 245.7-248.8 138 H H H O 3-CN 4-NO₂ 4-OCF₃ ───────────────────────────────────

【００９５】

【表７】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 139 H H H O 3-NO₂ 4-Cl 4-OCF₃ 140 H H H O 3-NO₂ 4-CF₃ 4-OCF₃ 203.0-204.0 141 H H H O 3-NO₂ 4-CN 4-OCF₃ 213.9-216.4 142 H H H O 3-NO₂ 4-NO₂ 4-OCF₃ 143 H H H O 2,4-F₂ 4-CN 4-OCF₃ 144 H H H O 3,4-F₂ 4-CN 4-OCF₃ 199.0-199.5 145 H H H O 3,5-F₂ 4-CN 4-OCF₃ 198.0-199.0 146 H H H O 2,3-F₂ 4-CN 4-OCF₃ 194.0-195.5 147 H H H O 2,5-F₂ 4-CN 4-OCF₃ 200.0-202.0 148 H H H O 3-F-5-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 149 H H H O 3,5-(CF₃)₂ 4-CN 4-OCF₃ 150 H H H O 3,5-Cl₂ 4-CN 4-OCF₃ 151 H H H O 3-F 4-CN 4-Cl 200.0-202.0 152 H H H O 3-F 4-CN 4-Br 198.0-199.5 153 H H H O 3-F 4-CN 4-I 212.0-213.0 154 H H H O 3-F 4-CN 4-CF₃ 200.0-201.0 155 H H H O 3-F 4-CN 4-OCF₂H 194.0-195.0 156 H H H O 3-F 4-CN 4-OCF₂CF₂H 178.0-179.0 157 H H H O 3-F 4-CN 4-OCF₂CFHCF₃192.5-195.0 158 H H H O 3-F 4-CN 4-SCF₃ 200.0-201.0 159 H H H O 3-F 4-CN 4-OSO₂CH₃ 193.0-198.0 160 H H H O 3-F 4-CN 4-CN 200.0-203.0 161 H H H O 3-F 4-CN 4-CO₂CH₂CH₃ 204.0-205.5 ───────────────────────────────────

【００９６】

【表８】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 162 H H H O 3-F 4-CN 3-Cl 204.0-205.4 163 H H H O 3-F 4-CN 3,4-Cl₂ 211.3-212.3 164 Me H H O H H 4-OCF₃ 163.0-165.0 165 Me H H O H 4-CN 4-OCF₃ 207.0-209.0 166 Me H H O 3-F 4-CN 4-F 167 Me H H O 3-F 4-CN 4-Cl 265.0-267.0 168 Me H H O 3-F 4-CN 4-Br 169 Me H H O 3-F 4-CN 4-I 170 Me H H O 3-F 4-CN 4-CF₃ 221.5-222.5 171 Me H H O 3-F 4-CN 4-CO₂Et 172 Me H H O 3-F 4-CN 4-CN 173 Me H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 210.0-213.0 174 Me H H O 3-F 4-CN 4-OCF₂CF₂H 175 Me H H O 3-F 4-CN 4-SCF₃ 176 Me H H O 3-F 4-CN 4-SOCF₃ 177 Me H H O 3-F 4-CN 4-SO₂CF₃ 178 Me H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 214.5-215.5 179 Me H H O 3-F 4-NO₂ 4-CF₃ 180 Me H H O 3-F 4-NO₂ 4-Cl 181 Me H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 101.0-103.0 182 Me H H O 3-CF₃ 4-CN 4-Cl 154.0-156.0 183 Me H H O 3-CF₃ 4-CN 4-CF₃ 184 Me H H O 3-CF₃ 4-CN 4-SCF₃ 123.0-124.0 ───────────────────────────────────

【００９７】

【表９】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 185 Me H H O 3-CF₃ 4-CN 4-SOCF₃ 186 Me H H O 3-CF₃ 4-CN 4-SO₂CF₃ 187 Me H H O 3-NO₂ 4-CN 4-OCF₃ 188 Me H H O 3-NO₂ 4-CN 4-CF₃ 189 Me H H O 3-NO₂ 4-CN 4-Cl 190 Et H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 175.0-176.0 191 Et H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 198.0-200.0 (No.190の異性体) 192 CF₂H H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 193 CF₂H H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 194 CF₂H H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 195 CF₃ H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 196 CF₃ H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 197 CF₃ H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 198 CH₂CF₃ H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 199 CH₂CF₃ H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 200 CH₂CF₃ H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 201 CH₂CN H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 202 CH₂CN H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 203 CH₂CN H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 204 n-Pr H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 139.6-142.3 205 n-Pr H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 206 n-Pr H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ ───────────────────────────────────

【００９８】

【表１０】 ─────────────────────────────────── No. R¹ R² R³ W X_l Y_m Z_n 融点（℃） ─────────────────────────────────── 207 i-Pr H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 208 i-Pr H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 209 i-Pr H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 210 CH=CH₂ H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 211 CH₂CH=CH₂ H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 212 CH₂C≡CH H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 213 Bn H H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 139.8-142.1 214 Bn H H O 3-F 4-NO₂ 4-OCF₃ 215 Bn H H O 3-CF₃ 4-CN 4-OCF₃ 216 Me Me H O 3-F 4-CN 4-OCF₃ 209.0-210.0 217 H H H S 3-F 4-CN 4-OCF₃ 172.0-174.0 218 H H H O 3-F 4-CN 4-i-Pr 208.0-209.0 219 H H H O 3-F 4-CN ^*１ 165.0-167.0 220 H H H O 3-F ^*１ 4-OCF₃ 205.0-207.0 221 H H H O 3-F 4-CN 3-F-4-CF₃209.8-212.1 222 H H H O 3-F 4-CN 4-i-Pr 208.0-209.0 ───────────────────────────────────^* １：３，５−ジクロロ−４−（３−クロロ−５−トリフルオロメチル−２ピリジルオキシ）

【００９９】〔製剤例〕次に、本発明化合物を有効成分
とする有害生物防除剤の製剤例を示すが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。尚、以下の製剤例におい
て、「部」は重量部を意味する。

【０１００】〔製剤例１〕水和剤本発明化合物・・・・・・・・・５０部ジークライトＰＦＰ・・・・・・・・・４３部（カ
オリン系クレー：ジークライト工業（株）商品名）ソルポール 5050 ・・・・・・・・・２部（ア
ニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名）ルノックス 1000 Ｃ・・・・・・・・・３部（ア
ニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名）カープレックス＃８０（固結防止剤）・・・２部（ホ
ワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名）以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。

【０１０１】〔製剤例２〕乳剤本発明化合物・・・・・・・・・３部キシレン・・・・・・・・・７６部イソホロン・・・・・・・・・１５部ソルポール3005Ｘ・・・・・・・・・６部（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学工業（株）商品名）以上を均一に混合して乳剤とする。

【０１０２】〔製剤例３〕フロアブル剤本発明化合物・・・・・・・・・３５部アグリゾールＳ−711 ・・・・・・・・・８部（非
イオン性界面活性剤：花王（株）商品名）ルノックス 1000 Ｃ・・・・・・・・・ 0.5部（ア
ニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名）１％ロドポール水・・・・・・・・・２０部
（増粘剤：ローン・プーラン社商品名）エチレングリコール（凍結防止剤）・・・・８部水・・・・・・・・・28.5部以上を均一に混合して、フロアブル剤とする。

【０１０３】〔製剤例４〕粒状水和剤（ドライフロアブ
ル剤）本発明化合物・・・・・・・・・７５部イソバンNo.1 ・・・・・・・・・１０部（ア
ニオン性界面活性剤：クラレイソプレンケミカル（株）
商品名）バニレックスＮ・・・・・・・・・５部（ア
ニオン性界面活性剤：山陽国策パルプ（株）商品名）カープレックス＃８０・・・・・・・・・１０部（ホ
ワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名）以上を均一に混合微粉砕してドライフロアブル剤とす
る。

【０１０４】〔製剤例５〕粒剤本発明化合物・・・・・・・・０．１部ベントナイト・・・・・・・５５．０部タルク・・・・・・・４４．９部以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混
合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤にす
る。

【０１０５】〔製剤例６〕粉剤本発明化合物・・・・・・・・３．０部カープレックス＃８０・・・・・・・・０．５部（ホ
ワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名）クレー・・・・・・・・９５部リン酸ジイソプロピル・・・・・・・・１．５部以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。

【０１０６】使用に際しては上記水和剤、乳剤、フロア
ブル剤、粒状水和剤は水で５０〜２００００倍に希釈し
て有効成分が１ヘクタール（ha) 当たり０．００５〜５
０ｋｇになるように散布する。

【０１０７】〔試験例〕次に、本発明化合物の有害生物
防除剤としての有用性について、以下の試験例において
具体的に説明する。

【０１０８】試験例１ハスモンヨトウに対する殺虫試
験明細書に記載された本発明化合物の５％乳剤（化合物に
よっては25％水和剤を供試）を展着剤の入った水で希釈
して、1000ppm濃度の薬液に調製し、この薬液中にカン
ランの葉を約10秒間浸漬し、風乾後シャーレに入れ、こ
の中にハスモンヨトウ２令幼虫をシャーレ当たり10頭を
放虫し、孔のあいた蓋をして25℃恒温室に収容し、６日
間経過後の死虫率を下記の計算式から求めた。尚、試験
は２区制で行なった。

【０１０９】死虫率（％）＝ (死虫数／放虫数）×１００

【０１１０】その結果、以下の化合物が１００％の死虫
率を示した。本発明化合物：Ｎｏ．１，２，３，４，５，７，１１，
１３，１４，１５，１６，１７，２０，２２，２３，２
４，２９，３２，３３，３８，４１，４３，４４，４
６，４７，４８，５０，５３，５４，５５，５６，５
８，６２，６３，６４，６５，６６，６７，６８，７
１，７３，７６，８５，９１，１０１，１０２，１０
４，１２８，１２９，１３６，１４０，１４４，１４
５，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５
６，１５７，１５８，１６０，１６１，１６３，１６
４，１６５，１６７，１７０，１７３，１８１，１８
２，１８４，１９０，１９１，２０４，２１３，２１
７，２２１．

【０１１１】試験例２ニジュウヤホシテントウに対す
る殺虫試験明細書に記載された本発明化合物の５％乳剤（化合物に
よっては25％水和剤を供試）を展着剤の入った水で希釈
して、1000ppm濃度の薬液に調製し、この薬液中にトマ
トの葉を約10秒間浸漬し、風乾後シャーレに入れ、この
中にニジュウヤホシテントウ２令幼虫をシャーレ当たり
10頭を放虫し、蓋をして25℃恒温室に収容し、６日間経
過後の死虫率を下記の計算式から求めた。尚、試験は２
区制で行なった。

【０１１２】死虫率（％）＝ (死虫数／放虫数）×１００

【０１１３】その結果、以下の化合物が１００％の死虫
率を示した。本発明化合物：Ｎｏ．１，２，３，４，５，７，１０，
１１，１３，１４，１５，１６，１７，２０，２２，２
３，２４，２９，３２，３３，３８，４１，４４，４
６，４７，４８，５０，５３，５４，５５，５６，５
８，６２，６３，６４，６５，６６，６７，６８，７
１，７３，７６，８５，９１，１０１，１０２，１０
４，１２８，１２９，１３６，１３７，１４０，１４
１，１４４，１４５，１４６，１５１，１５２，１５
３，１５４，１５５，１５６，１５７，１５８，１６
０，１６１，１６３，１６４，１６５，１６７，１７
０，１７３，１８１，１８２，１８４，１９０，１９
１，２０４，２１３，２１６，２１７，２２１．

【０１１４】

【発明の効果】本発明化合物は多くの農業害虫、ハダニ
類に対して優れた殺虫・殺ダニ活性を有し、かつホ乳
類、魚類及び益虫に対してはほとんど悪影響を及ぼさな
い。従って、本発明化合物は、有用な有害生物防除剤を
提供することができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｃ 323/62 7419−4ＨＣ０７Ｃ 323/62 337/08 7106−4Ｈ 337/08 (72)発明者石井茂千葉県船橋市坪井町722番地１日産化学工業株式会社中央研究所内 (72)発明者小倉友幸千葉県船橋市坪井町722番地１日産化学工業株式会社中央研究所内 (72)発明者三宅敏郎埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者藤田明彦埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者三森紀彦埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者瀧井新自埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日産化学工業株式会社生物科学研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）【化１】〔式中、Ｗは酸素原子又はイオウ原子を示し、Ｘ、Ｙ、Ｚは各々独立してハロゲン原子、水酸基、シア
ノ基、ニトロ基、SCN基、トリメチルシリル基、R⁸、O
R⁸、S(O)_pR⁸基、OS(O)₂R⁸基、OC(O)R⁸基、C(O)R ⁸基、CO
₂R⁸基、C(O)N(R⁸)R⁹基、SO₂N(R⁸)R⁹基、NHC(O)R⁸基、N
(R⁸)R⁹基又は隣あった炭素原子間で形成する-CH=CH-CH=
CH-基、-OCH₂O-基、-OCH₂CH₂O-基、-OCF₂O-基、-OCF₂CF
₂O-基若しくは-OCF₂CF₂-基を示し、 R¹、R²、R³は各々独立して水素原子、C_1-6アルキル基、
C_2-6アルケニル基、C₂ _-6アルキニル基、C_1-6ハロアルキ
ル基、C_2-6アルコキシアルキル基、C_2-6アルキルカルボ
ニル基、C_2-6アルコキシカルボニル基、C_2-6ハロアルキ
ルカルボニル基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキ
ルチオ基、R⁵OC(O)N(R⁶)S-基、R⁶(R⁷)NS-基又は(R⁴)_qに
よって置換されていてもよいベンジル基を示し、 R⁴はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、C_1-6
アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、
C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロ
アルキルチオ基、C_1-6アルキルスルホニル基、C_1-6ハロ
アルキルスルホニル基、C_2-6アルコキシカルボニル基、
アミノ基又はジC_1-6アルキルアミノ基を示し、 R⁵、R⁶及びR⁷は各々独立してC_1-6アルキル基、(R⁴)_qに
よって置換されていてもよいフェニル基又は(R⁴)_qによ
って置換されていてもよいベンジル基を示し、 R⁸はC_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_2-6アルケ
ニル基、C_2-6ハロアルケニル基、C_2-6アルキニル基、C
_2-6ハロアルキニル基、C_3-6シクロアルキル基、C_3-6ハ
ロシクロアルキル基、C_4-7シクロアルキルアルキル基、
C_2-6アルコキシアルキル基、C_2-6アルキルチオアルキル
基、C_2-6アルコキシカルボニルアルキル基、C_2-6シアノ
アルキル基、(R⁴)_qによって置換されていてもよいフェ
ニル基、(R⁴)_qによって置換されていてもよいベンジル
基又は(R⁴)_rによって置換されていてもよいピリジル基
を示し、 R⁹は水素原子又はC_1-6アルキル基を示し、ｌは０〜５の整数（ただし、ｌが２〜５の場合Ｘは同一
であっても異なっていてもよい）を示し、ｍは０〜５の整数（ただし、ｍが２〜５の場合Ｙは同一
であっても異なっていてもよい）を示し、ｎは１〜５の整数（ただし、ｎが２〜５の場合Ｚは同一
であっても異なっていてもよい）を示し、ｐは０〜２の整数を示し、ｑは０〜５の整数（ただし、ｑが２〜５の場合R⁴は同一
であっても異なっていてもよい）を示し、ｒは０〜４の整数（ただし、ｒが２〜４の場合R⁴は同一
であっても異なっていてもよい）を示す。〕で表わされ
るセミカルバゾン誘導体。
【請求項２】Ｘが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコ
キシ基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6ハロアルキルチオ
基、C_1-6ハロアルキルスルホニルオキシ基又はC_2-6アル
コキシカルボニル基を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキ
ル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_2-6ア
ルコキシカルボニル基、C_1-6ハロアルコキシ基、C_1-6ア
ルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_1-6アルキル
スルホニル基、C_1-6ハロアルキルスルホニル基、C_1-6ア
ルキルスルホニルオキシ基、C_1-6ハロアルキルスルホニ
ルオキシ基又は隣あった炭素原子間で形成する-OCF₂O-
基若しくは-OCF₂CF₂O-基を示し、Ｚが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキ
ル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロアルコキシ基、C
_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、C_1-6ア
ルキルスルフィニル基、C_1-6ハロアルキルスルフィニル
基、C_1-6アルキルスルホニル基、C_1-6ハロアルキルスル
ホニル基、C_1-6アルキルスルホニルオキシ基、C_1-6ハロ
アルキルスルホニルオキシ基又は隣あった炭素原子間で
形成する-OCF₂O-基、-OCF₂CF₂O-基若しくは-OCF₂CF₂-基
を示し、 R¹が水素原子、C_1-6アルキル基、C_2-6アルケニル基、C
_2-6アルキニル基、C_1-6ハロアルキル基、C_2-6アルコキ
シアルキル基、C_2-6アルキルカルボニル基、C_2-6アルコ
キシカルボニル基、C_2-6ハロアルキルカルボニル基、C
_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、R⁵OC(O)
N(R⁶)S-基、R⁶(R⁷)NS-基又は(R⁴)_qによって置換されて
いてもよいベンジル基を示し、 R²及びR³が各々独立して水素原子又はC_1-6アルキル基を
示し、ｌ及びｍが各々独立して０〜２の整数を示し、ｎが１〜
３の整数を示す請求項１記載のセミカルバゾン誘導体。
【請求項３】Ｘが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコ
キシ基、C_1-6ハロアルコキシ基又はC_2-6アルコキシカル
ボニル基であり、かつその置換位置は、３位、４位、３
位と４位又は３位と５位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキ
ル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハ
ロアルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキ
ルチオ基、C_2-6アルコキシカルボニル基又はC_1-6アルキ
ルスルホニルオキシ基であり、かつその置換位置は、３
位、４位又は、３位と４位を示し、Ｚが、ハロゲン原子、シアノ基、C_1-6アルキル基、C_1-6
ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキ
シ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基又
はC_1-6アルキルスルホニルオキシ基であり、かつその置
換位置は３位、４位又は３位と４位を示し、 R¹は水素原子を示し、 R²、R³が各々独立して水素原子又はC_1-6アルキル基を示
し、ｌおよびｍが各々独立して０〜２の整数を示し、ｎが１
を示す請求項２記載のセミカルバゾン誘導体。
【請求項４】Ｘが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコ
キシ基、C_1-6ハロアルコキシ基又はC_2-6アルコキシカル
ボニル基であり、かつその置換位置は、３位、４位、３
位と４位又は３位と５位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6アルキ
ル基、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハ
ロアルコキシ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキ
ルチオ基、C_2-6アルコキシカルボニル基又はC_1-6アルキ
ルスルホニルオキシ基であり、かつその置換位置は、３
位、４位又は、３位と４位を示し、Ｚが、ハロゲン原子、シアノ基、C_1-6アルキル基、C_1-6
ハロアルキル基、C_1-6アルコキシ基、C_1-6ハロアルコキ
シ基、C_1-6アルキルチオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基又
はC_1-6アルキルスルホニルオキシ基であり、かつその置
換位置は３位、４位又は３位と４位を示し、 R¹が、C_1-6アルキル基、C_2-6アルケニル基、C_2-6アルキ
ニル基、C_1-6ハロアルキル基、C_2-6アルコキシアルキル
基、C_2-6アルキルカルボニル基、C_2-6アルコキシカルボ
ニル基、C_2-6ハロアルキルカルボニル基、C_1-6アルキル
チオ基、C_1-6ハロアルキルチオ基、R⁵OC(O)N(R⁶)S-基、
R⁶(R⁷)NS-基又は(R⁴)_qによって置換されていてもよいベ
ンジル基を示し、 R²、R³が各々独立して水素原子又はC_1-6アルキル基を示
し、ｌおよびｍが各々独立して０〜２の整数を示し、ｎが１
を示す請求項２記載のセミカルバゾン誘導体。
【請求項５】Ｗが酸素原子を示し、Ｘが、ハロゲン原子、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキ
ル基、C_1-6アルコキシ基又はC_1-6ハロアルコキシ基であ
り、かつその置換位置は、３位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6ハロア
ルキル基、C_1-6ハロアルコキシ基又はC_1-6ハロアルキル
チオ基であり、かつその置換位置は４位を示し、Ｚが、ハロゲン原子、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロア
ルコキシ基又はC_1-6ハロアルキルチオ基であり、かつそ
の置換位置は４位を示し、 R²、R³が水素原子を示し、ｌ、ｍ及びｎが１を示す請求項３記載のセミカルバゾン
誘導体。
【請求項６】Ｗが酸素原子を示し、Ｘが、ハロゲン原子、C_1-6アルキル基、C_1-6ハロアルキ
ル基、C_1-6アルコキシ基又はC_1-6ハロアルコキシ基であ
り、かつその置換位置は、３位を示し、Ｙが、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1-6ハロア
ルキル基又はC_1-6ハロアルコキシ基であり、かつその置
換位置は４位を示し、Ｚが、ハロゲン原子、C_1-6ハロアルキル基、C_1-6ハロア
ルコキシ基又はC_1-6ハロアルキルチオ基であり、かつそ
の置換位置は４位を示し、 R²、R³が水素原子を示し、ｌ、ｍ及びｎが１を示す請求項４記載のセミカルバゾン
誘導体。
【請求項７】請求項１記載のセミカルバゾン誘導体の
１種又は２種以上を有効成分として含有する有害生物防
除剤。