JPH08254719A - 光スイッチ - Google Patents
光スイッチInfo
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- JPH08254719A JPH08254719A JP7055828A JP5582895A JPH08254719A JP H08254719 A JPH08254719 A JP H08254719A JP 7055828 A JP7055828 A JP 7055828A JP 5582895 A JP5582895 A JP 5582895A JP H08254719 A JPH08254719 A JP H08254719A
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- Japan
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- light
- glass substrate
- alignment film
- liquid crystal
- optical switch
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小形で、作製が容易でありながら、シール材
の影響による特性劣化のない光スイッチを提供すること
を目的とする。 【構成】 ガラス基板層11とガラス基板層12aとの
間、及びガラス基板層11とガラス基板層12bとの間
には、それぞれ液晶がシール材13により封入されてい
る。ガラス基板層11の入射側及び出射側では、ガラス
基板15の表面、透明電極16a,16bの表面、配向
膜18a,18bの表面の内のいずれかの上に全反射膜
17a,17bが形成されている。ガラス基板15に入
射した光Lは全反射膜で反射し、シール材の影響を受け
ることなくスイッチング領域22へと伝播する。また、
スイッチング領域から出射面へと伝播する光も同様にシ
ール材の影響を受けない。
の影響による特性劣化のない光スイッチを提供すること
を目的とする。 【構成】 ガラス基板層11とガラス基板層12aとの
間、及びガラス基板層11とガラス基板層12bとの間
には、それぞれ液晶がシール材13により封入されてい
る。ガラス基板層11の入射側及び出射側では、ガラス
基板15の表面、透明電極16a,16bの表面、配向
膜18a,18bの表面の内のいずれかの上に全反射膜
17a,17bが形成されている。ガラス基板15に入
射した光Lは全反射膜で反射し、シール材の影響を受け
ることなくスイッチング領域22へと伝播する。また、
スイッチング領域から出射面へと伝播する光も同様にシ
ール材の影響を受けない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信、光情報処理分
野において利用される光スイッチに関し、特に、液晶を
用い、光の進行方向を切り替える光スイッチに関するも
のである。
野において利用される光スイッチに関し、特に、液晶を
用い、光の進行方向を切り替える光スイッチに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】光スイッチは、光通信、光情報処理分野
において、欠かせない光制御素子である。従来、このよ
うな光スイッチとして、液晶の屈折率異方性を利用する
液晶光スイッチがあり、その一種として、2次元光マト
リックススイッチが知られている。
において、欠かせない光制御素子である。従来、このよ
うな光スイッチとして、液晶の屈折率異方性を利用する
液晶光スイッチがあり、その一種として、2次元光マト
リックススイッチが知られている。
【0003】従来の2次元光マトリックススイッチは、
図5に示すように3つのガラス基板層51、52a、及
び52bと、これらガラス基板層の間に封入された液晶
53a,53bを有している。
図5に示すように3つのガラス基板層51、52a、及
び52bと、これらガラス基板層の間に封入された液晶
53a,53bを有している。
【0004】ガラス基板層51は、ガラス基板54を有
し、その上下両面には、透明電極膜55aと配向膜56
a及び透明電極膜55bと配向膜56bが、それぞれ形
成されている。また、ガラス基板層52a、52bは、
それぞれガラス基板57a,57bを有し、それぞれ上
下面の一方(ガラス基板層51に対向する面)には、透
明電極膜58a、58bと配向膜59a,59bとが形
成されている。
し、その上下両面には、透明電極膜55aと配向膜56
a及び透明電極膜55bと配向膜56bが、それぞれ形
成されている。また、ガラス基板層52a、52bは、
それぞれガラス基板57a,57bを有し、それぞれ上
下面の一方(ガラス基板層51に対向する面)には、透
明電極膜58a、58bと配向膜59a,59bとが形
成されている。
【0005】この2次元マトリックススイッチは、ガラ
ス基板54に入射した光L(電気ベクトルEは紙面内で
Lの進行方向に垂直)を、図5に示すように、ガラス基
板層51と液晶53aまたは液晶53bとの境界面で全
反射させて、ガラス基板層51内を伝播させるか、ガラ
ス基板層51と液晶53aまたは53bとの境界面で屈
折させて、液晶53a(または53b)及びガラス基板
層52a(または52b)を通して外部へ出射させるこ
とにより、スイッチングを行う。
ス基板54に入射した光L(電気ベクトルEは紙面内で
Lの進行方向に垂直)を、図5に示すように、ガラス基
板層51と液晶53aまたは液晶53bとの境界面で全
反射させて、ガラス基板層51内を伝播させるか、ガラ
ス基板層51と液晶53aまたは53bとの境界面で屈
折させて、液晶53a(または53b)及びガラス基板
層52a(または52b)を通して外部へ出射させるこ
とにより、スイッチングを行う。
【0006】ガラス基板54に入射した光Lが、ガラス
基板層51と液晶53a(53b)との境界面で、全反
射するか屈折するかは、光Lの入射角度、ガラス基板層
51の屈折率、及び液晶53a(53b)の屈折率に依
存する。ここで、液晶53a(53b)は、光学的異方
性を有しているため、見る方向によって屈折率が異な
る。しかも、液晶53a(53b)は、電場を印加する
ことにより分子配向を変えることができる。このため、
特定方向から見た液晶53a(53b)の屈折率は、電
場を印加することにより制御することができる。つま
り、この2次元マトリックススイッチでは、透明電極5
5a(55b)と透明電極58a(58b)とに電圧を
印加してこれら電極間に電場を発生させることにより、
液晶53a(53b)の屈折率を変化させることができ
る。しかも、この液晶53a(53b)の屈折率の変化
は、マトリックスに配置した透明電極58a(58b)
に対して選択的に電圧を印加することにより、部分的に
発生させることができる。よって、この2次元マトリッ
クススイッチでは、透明電極55a,55bと透明電極
58a,58bとに印加する電圧を制御することによっ
て、適当な入射角で入射する複数の光に対して、それぞ
れ独立してスイッチングを行うことができる。
基板層51と液晶53a(53b)との境界面で、全反
射するか屈折するかは、光Lの入射角度、ガラス基板層
51の屈折率、及び液晶53a(53b)の屈折率に依
存する。ここで、液晶53a(53b)は、光学的異方
性を有しているため、見る方向によって屈折率が異な
る。しかも、液晶53a(53b)は、電場を印加する
ことにより分子配向を変えることができる。このため、
特定方向から見た液晶53a(53b)の屈折率は、電
場を印加することにより制御することができる。つま
り、この2次元マトリックススイッチでは、透明電極5
5a(55b)と透明電極58a(58b)とに電圧を
印加してこれら電極間に電場を発生させることにより、
液晶53a(53b)の屈折率を変化させることができ
る。しかも、この液晶53a(53b)の屈折率の変化
は、マトリックスに配置した透明電極58a(58b)
に対して選択的に電圧を印加することにより、部分的に
発生させることができる。よって、この2次元マトリッ
クススイッチでは、透明電極55a,55bと透明電極
58a,58bとに印加する電圧を制御することによっ
て、適当な入射角で入射する複数の光に対して、それぞ
れ独立してスイッチングを行うことができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】液晶を用いる光スイッ
チでは、液晶を封止するためにシール材が必要不可欠で
ある。従来の光スイッチでは、このシール材が、液晶5
3と同様にガラス基板層51、52間に配置されてお
り、ガラス基板層51を伝播する光Lが、ガラス基板層
51とシール材との界面に当たることがある。シール材
の屈折率と液晶の屈折率とは異なるので、ガラス基板層
51とシール材との界面では全反射条件が崩れる。ま
た、シール材による光吸収や、シール材の接着面の凹凸
による散乱などにより、反射光の偏光特性の劣化、強度
減少が見られる。このように、従来の光スイッチでは、
シール材が光スイッチ素子の透過光強度特性、消光比特
性等に悪影響を与えるという問題点がある。
チでは、液晶を封止するためにシール材が必要不可欠で
ある。従来の光スイッチでは、このシール材が、液晶5
3と同様にガラス基板層51、52間に配置されてお
り、ガラス基板層51を伝播する光Lが、ガラス基板層
51とシール材との界面に当たることがある。シール材
の屈折率と液晶の屈折率とは異なるので、ガラス基板層
51とシール材との界面では全反射条件が崩れる。ま
た、シール材による光吸収や、シール材の接着面の凹凸
による散乱などにより、反射光の偏光特性の劣化、強度
減少が見られる。このように、従来の光スイッチでは、
シール材が光スイッチ素子の透過光強度特性、消光比特
性等に悪影響を与えるという問題点がある。
【0008】このような問題点を解決するために、シー
ル材をガラス基板間ではなく、ガラス基板の外周に沿っ
て設けることが考えられるが、そのためには、ガラス基
板の厚さをある程度以上にする必要があり、光スイッチ
が大型化するという新たな問題を引き起こす。また、シ
ール材の位置及び幅を精密にコントロールして、光の反
射点からシール材を離すことも考えられるが、作製が困
難で手間がかかるようになり、実用的でない。
ル材をガラス基板間ではなく、ガラス基板の外周に沿っ
て設けることが考えられるが、そのためには、ガラス基
板の厚さをある程度以上にする必要があり、光スイッチ
が大型化するという新たな問題を引き起こす。また、シ
ール材の位置及び幅を精密にコントロールして、光の反
射点からシール材を離すことも考えられるが、作製が困
難で手間がかかるようになり、実用的でない。
【0009】本発明は、小形で、作製が容易でありなが
ら、シール材の影響による特性劣化のない光スイッチを
提供することを目的とする。
ら、シール材の影響による特性劣化のない光スイッチを
提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、互いに
対向する一対の主表面と、該一対の主平面に連続する入
射面及び出射面とを有する第1の光透過性板と、前記一
対の主表面の少なくとも一方に形成された第1の透明電
極と、該第1の透明電極の表面上に形成された第1の配
向膜とを有する導光部材と、主平面を有する第2の光透
過性板と、前記主平面の所定領域に形成された第2の透
明電極と、該第2の透明電極と前記主平面の露出部分と
に形成された第2の配向膜とを有する側面部材と、前記
第1の配向膜と前記第2の配向膜とが所定の距離をおい
て対向するように前記導光部材と前記側面部材とを配置
したとき前記第1の配向膜と前記第2の配向膜との間に
注入される液晶と、前記第1の配向膜と前記第2の配向
膜との間に配され前記液晶を封止するシール材とを有
し、前記入射面に入射した光を前記導光部材と前記液晶
との界面で反射させて前記導光部材の内部を伝播させ前
記出射面から出射させる第1の動作モードと、前記入射
面に入射した光を前記液晶及び前記側面部材を通して外
部へ出射する第2の動作モードとを、前記第1及び第2
の透明電極に印加する電圧を制御して選択する光スイッ
チにおいて、前記主表面、前記第1の透明電極の表面、
及び前記第1の配向膜の表面の内のいずれかの上であっ
て、前記入射面に接する第1の所定領域に光を全反射す
る反射膜を形成したことを特徴とする光スイッチが得ら
れる。
対向する一対の主表面と、該一対の主平面に連続する入
射面及び出射面とを有する第1の光透過性板と、前記一
対の主表面の少なくとも一方に形成された第1の透明電
極と、該第1の透明電極の表面上に形成された第1の配
向膜とを有する導光部材と、主平面を有する第2の光透
過性板と、前記主平面の所定領域に形成された第2の透
明電極と、該第2の透明電極と前記主平面の露出部分と
に形成された第2の配向膜とを有する側面部材と、前記
第1の配向膜と前記第2の配向膜とが所定の距離をおい
て対向するように前記導光部材と前記側面部材とを配置
したとき前記第1の配向膜と前記第2の配向膜との間に
注入される液晶と、前記第1の配向膜と前記第2の配向
膜との間に配され前記液晶を封止するシール材とを有
し、前記入射面に入射した光を前記導光部材と前記液晶
との界面で反射させて前記導光部材の内部を伝播させ前
記出射面から出射させる第1の動作モードと、前記入射
面に入射した光を前記液晶及び前記側面部材を通して外
部へ出射する第2の動作モードとを、前記第1及び第2
の透明電極に印加する電圧を制御して選択する光スイッ
チにおいて、前記主表面、前記第1の透明電極の表面、
及び前記第1の配向膜の表面の内のいずれかの上であっ
て、前記入射面に接する第1の所定領域に光を全反射す
る反射膜を形成したことを特徴とする光スイッチが得ら
れる。
【0011】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。図1は本発明の第1の実施例の光スイッチの
縦断面図である。
説明する。図1は本発明の第1の実施例の光スイッチの
縦断面図である。
【0012】図1に示すように、本実施例の光スイッチ
は、3つのガラス基板層11、12a、及び12bと、
これらの間にシール材13で封入された液晶14a、1
4bとを有している。そして、ガラス基板層11及び1
2aと液晶14aとで、液晶セルLC1を、ガラス基板
層11及び12bと液晶14bとで、液晶セルLC2を
構成している。
は、3つのガラス基板層11、12a、及び12bと、
これらの間にシール材13で封入された液晶14a、1
4bとを有している。そして、ガラス基板層11及び1
2aと液晶14aとで、液晶セルLC1を、ガラス基板
層11及び12bと液晶14bとで、液晶セルLC2を
構成している。
【0013】ガラス基板層11は、平行平板ガラス基板
15を有し、その上下両面には、透明電極膜16aと全
反射膜17aと配向膜18a、及び透明電極膜16bと
全反射膜17bと配向膜18bが、それぞれ形成されて
いる。また、ガラス基板層12a、12bは、それぞれ
ガラス基板19a,19bを有し、各々のガラス基板層
11に対向する面には、透明電極膜20a、20bと配
向膜21a,21bとが形成されている。ここで、ガラ
ス基板19a,19bの透明電極を配する面は平坦とし
ている。
15を有し、その上下両面には、透明電極膜16aと全
反射膜17aと配向膜18a、及び透明電極膜16bと
全反射膜17bと配向膜18bが、それぞれ形成されて
いる。また、ガラス基板層12a、12bは、それぞれ
ガラス基板19a,19bを有し、各々のガラス基板層
11に対向する面には、透明電極膜20a、20bと配
向膜21a,21bとが形成されている。ここで、ガラ
ス基板19a,19bの透明電極を配する面は平坦とし
ている。
【0014】以下、本実施例の光スイッチの作製工程を
説明する。まず、ガラス基板19aの一表面上に、マト
リックスを形成するように、選択的に透明電極20aを
設ける。そして、透明電極20a上と露出したガラス基
板19aの表面上とに配向膜21aを塗布した上で、ラ
ビングする。ガラス基板19bについても同様に、透明
電極20a及び配向膜21a形成して、ラビングを行
う。こうして、ガラス基板層12a及び12bが得られ
る。
説明する。まず、ガラス基板19aの一表面上に、マト
リックスを形成するように、選択的に透明電極20aを
設ける。そして、透明電極20a上と露出したガラス基
板19aの表面上とに配向膜21aを塗布した上で、ラ
ビングする。ガラス基板19bについても同様に、透明
電極20a及び配向膜21a形成して、ラビングを行
う。こうして、ガラス基板層12a及び12bが得られ
る。
【0015】一方、ガラス基板15の互いに対向する主
面(上下面)には、部分的に(周辺部に)全反射膜17
a、17bを形成し、残りの部分に透明電極16a及び
16bを形成する。そして、透明電極16a及び全反射
膜17aの表面上に配向膜18aを、透明電極16b及
び全反射膜17bの表面上に配向膜18bを形成し、ラ
ビングする。こうしてガラス基板層11が得られる。
面(上下面)には、部分的に(周辺部に)全反射膜17
a、17bを形成し、残りの部分に透明電極16a及び
16bを形成する。そして、透明電極16a及び全反射
膜17aの表面上に配向膜18aを、透明電極16b及
び全反射膜17bの表面上に配向膜18bを形成し、ラ
ビングする。こうしてガラス基板層11が得られる。
【0016】次に、得られたガラス基板層11、12
a、及び12bを図1のように配置する。即ち、配向膜
18aと配向膜21aとが互いに対向し、配向膜18b
と配向膜21bとが互いに対向するよう、所定幅のギャ
ップを設けてガラス基板層12aと12bとでガラス基
板層11を挟みこむ。そして、ガラス基板層11と12
aとの間のギャップと、ガラス基板層11と12bとの
間のギャップとに、それぞれ液晶14aと14bとを注
入する。この後、ギャップの周辺部にシール材13を塗
布し、液晶14a、14bを封止する。このとき、ガラ
ス基板層11側のシール材の塗布位置は、全反射膜17
a、17bが形成されている範囲上とする。
a、及び12bを図1のように配置する。即ち、配向膜
18aと配向膜21aとが互いに対向し、配向膜18b
と配向膜21bとが互いに対向するよう、所定幅のギャ
ップを設けてガラス基板層12aと12bとでガラス基
板層11を挟みこむ。そして、ガラス基板層11と12
aとの間のギャップと、ガラス基板層11と12bとの
間のギャップとに、それぞれ液晶14aと14bとを注
入する。この後、ギャップの周辺部にシール材13を塗
布し、液晶14a、14bを封止する。このとき、ガラ
ス基板層11側のシール材の塗布位置は、全反射膜17
a、17bが形成されている範囲上とする。
【0017】なお、液晶14a、14bの液晶分子の初
期配向は、配向膜18a、18b、21a、及び21b
の作用により、ガラス基板層11、12a、及び12b
の延在方向と平行になるようにしており、電場を印加す
るとその配向がガラス基板層11、12a、及び12b
に垂直となるようにしている。
期配向は、配向膜18a、18b、21a、及び21b
の作用により、ガラス基板層11、12a、及び12b
の延在方向と平行になるようにしており、電場を印加す
るとその配向がガラス基板層11、12a、及び12b
に垂直となるようにしている。
【0018】実際に光スイッチを作製する場合、ガラス
基板15は、その屈折率nD が、液晶14a、14bの
異常光線屈折率ne 及び常光線屈折率no のうち小さい
方より大きい必要がある。また、多チャンネル化を実現
するためには、ガラス基板15の厚さを薄くして(例え
ば、厚さ0.2mm)、ガラス基板15(ガラス基板層
11)内部を伝播する光の反射回数(反射地点の数)を
増やす必要がある。
基板15は、その屈折率nD が、液晶14a、14bの
異常光線屈折率ne 及び常光線屈折率no のうち小さい
方より大きい必要がある。また、多チャンネル化を実現
するためには、ガラス基板15の厚さを薄くして(例え
ば、厚さ0.2mm)、ガラス基板15(ガラス基板層
11)内部を伝播する光の反射回数(反射地点の数)を
増やす必要がある。
【0019】ガラス基板15としては、例えば、TaF
D30(屈折率nD =1.87853)が使用できる。
また、透明で、屈折率が液晶14a、14bの異常光線
屈折率ne 及び常光線屈折率no のうち小さい方より大
きければ、プラスチック等であってもよい。
D30(屈折率nD =1.87853)が使用できる。
また、透明で、屈折率が液晶14a、14bの異常光線
屈折率ne 及び常光線屈折率no のうち小さい方より大
きければ、プラスチック等であってもよい。
【0020】全反射膜17a、17bとしては、例え
ば、アルミ薄膜を用いることができ、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、CVD法、銀鏡反応法等により形成する
ことができる。また、そのサイズは、例えば、幅6m
m、厚さ300nmとする。
ば、アルミ薄膜を用いることができ、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、CVD法、銀鏡反応法等により形成する
ことができる。また、そのサイズは、例えば、幅6m
m、厚さ300nmとする。
【0021】また、透明電極16a、16b、20a、
及び20bとしては、例えば、In2 O3 :Sn(IT
O)膜、SnO2 :Sb膜(NESA膜)、In2 O3
−SnO2 等が使用できる。透明電極膜も全反射膜と同
様、スパッタリング法等で形成できる。
及び20bとしては、例えば、In2 O3 :Sn(IT
O)膜、SnO2 :Sb膜(NESA膜)、In2 O3
−SnO2 等が使用できる。透明電極膜も全反射膜と同
様、スパッタリング法等で形成できる。
【0022】透明電極16a、16bは、例えば、厚さ
0.2mmのガラス基板15の表面に形成しなければな
らないので、フォトリソグラフィによるパターニングが
困難となる。そこで、透明電極16a、16bは、ガラ
ス基板15の上下両面に全面的に形成することとし、透
明電極20a、20bを、例えば、2×2mmの島状電
極を2mm間隔でマトリックスに配置することにより、
複数ある光道を通過する光をそれぞれ独立してスイッチ
ング制御できるようにする。ガラス基板15が厚い場合
は、透明電極20a、20bと同様のマトリックスに配
置された電極とすることもできる。また、電極のサイズ
及び間隔は、光道等に応じて変更する。
0.2mmのガラス基板15の表面に形成しなければな
らないので、フォトリソグラフィによるパターニングが
困難となる。そこで、透明電極16a、16bは、ガラ
ス基板15の上下両面に全面的に形成することとし、透
明電極20a、20bを、例えば、2×2mmの島状電
極を2mm間隔でマトリックスに配置することにより、
複数ある光道を通過する光をそれぞれ独立してスイッチ
ング制御できるようにする。ガラス基板15が厚い場合
は、透明電極20a、20bと同様のマトリックスに配
置された電極とすることもできる。また、電極のサイズ
及び間隔は、光道等に応じて変更する。
【0023】配向膜18a、18b、21a、21bと
しては、ポリイミドが使用でき、回転塗布法を用いて塗
布したあと硬化させる。その後、液晶分子の初期配向
が、図1に示すようなホモジニアス(図の表裏方向)と
なるようにラビング法による配向処理を行う。また、ポ
リアミド等の有機配向膜や、SiO2 等の無機配向膜も
使用できる。
しては、ポリイミドが使用でき、回転塗布法を用いて塗
布したあと硬化させる。その後、液晶分子の初期配向
が、図1に示すようなホモジニアス(図の表裏方向)と
なるようにラビング法による配向処理を行う。また、ポ
リアミド等の有機配向膜や、SiO2 等の無機配向膜も
使用できる。
【0024】液晶材料としては、速いスイッチング速度
を得るために、粘性の小さい液晶材料を選定することが
望ましい。また、液晶14a、14bの厚みはできるだ
け、薄いほうが良い。因みに、メルク社のネマチック液
晶ZL−5049−100(異常光線屈折率ne =1.
709、常光線屈折率no =1.5065)を用いた場
合は、10ms以下の応答速度を得ることができた。ま
た、液晶材料として強誘電性液晶を使用することもでき
る。強誘電性液晶は、電界の方向に応じた配向方向を示
し、電界消滅後もその配向方向を維持する。即ち、強誘
電性液晶は、メモリ性を有している。したがって、強誘
電性液晶を用いる場合は、極性の異なるパルス(+電位
のパルス、及び−電位のパルス)を印加することによ
り、液晶分子の配向方向を変化させて、自己保持型スイ
ッチとして、光スイッチングを行うことができる。
を得るために、粘性の小さい液晶材料を選定することが
望ましい。また、液晶14a、14bの厚みはできるだ
け、薄いほうが良い。因みに、メルク社のネマチック液
晶ZL−5049−100(異常光線屈折率ne =1.
709、常光線屈折率no =1.5065)を用いた場
合は、10ms以下の応答速度を得ることができた。ま
た、液晶材料として強誘電性液晶を使用することもでき
る。強誘電性液晶は、電界の方向に応じた配向方向を示
し、電界消滅後もその配向方向を維持する。即ち、強誘
電性液晶は、メモリ性を有している。したがって、強誘
電性液晶を用いる場合は、極性の異なるパルス(+電位
のパルス、及び−電位のパルス)を印加することによ
り、液晶分子の配向方向を変化させて、自己保持型スイ
ッチとして、光スイッチングを行うことができる。
【0025】次に、図2及び図3を参照して、本実施例
の光スイッチの動作を説明する。ガラス基板15に入射
面より入射した光Lは、全反射膜17a及び17bで全
反射されてガラス基板内15を伝播し、スイッチング領
域22に入る。光Lは、可視光でも赤外光でもよい。ま
た、光Lの電気ベクトルEは、図2に示すように紙面内
で入射方向に垂直な方向である。
の光スイッチの動作を説明する。ガラス基板15に入射
面より入射した光Lは、全反射膜17a及び17bで全
反射されてガラス基板内15を伝播し、スイッチング領
域22に入る。光Lは、可視光でも赤外光でもよい。ま
た、光Lの電気ベクトルEは、図2に示すように紙面内
で入射方向に垂直な方向である。
【0026】スイッチング領域22において、ガラス基
板15(正確には、配向膜18aまたは18b)と液晶
14a(14b)との界面で光が全反射される条件は、
良く知られているように、ガラス基板の絶対屈折率nD
が、液晶の絶対屈折率nLCよりも大きく、かつ、界面へ
の光の入射角度が、界面での全反射臨界角度θc =arcs
in(nLC/nD )よりも大きいことである。この条件を
満たす場合、光Lは、図2に示すように、スイッチング
領域22において界面で全反射され、ガラス基板層11
を伝播していく。
板15(正確には、配向膜18aまたは18b)と液晶
14a(14b)との界面で光が全反射される条件は、
良く知られているように、ガラス基板の絶対屈折率nD
が、液晶の絶対屈折率nLCよりも大きく、かつ、界面へ
の光の入射角度が、界面での全反射臨界角度θc =arcs
in(nLC/nD )よりも大きいことである。この条件を
満たす場合、光Lは、図2に示すように、スイッチング
領域22において界面で全反射され、ガラス基板層11
を伝播していく。
【0027】例えば、ガラス基板15としてTaFD3
0(屈折率nD =1.87853)を、液晶14a(1
4b)としてネマチック液晶ZL−5049−100を
使用した光スイッチに、光Lが入射する場合、その入射
角が、ガラス基板15と液晶14a(14b)との界面
に対して57°の場合を考える。このとき、液晶14a
(14b)には、電圧が印加されておらず、液晶分子の
配向方向が図2に示すように図の表裏方向であるとすれ
ば、その屈折率は、nLC(off )=1.5065、とな
り、界面での全反射臨界角度θc (off )は、約53°
となる。したがって、光Lの入射角が、全反射臨界角度
θc より大きいので、光Lは、界面で全反射され、ガラ
ス基板層11内を伝播する。
0(屈折率nD =1.87853)を、液晶14a(1
4b)としてネマチック液晶ZL−5049−100を
使用した光スイッチに、光Lが入射する場合、その入射
角が、ガラス基板15と液晶14a(14b)との界面
に対して57°の場合を考える。このとき、液晶14a
(14b)には、電圧が印加されておらず、液晶分子の
配向方向が図2に示すように図の表裏方向であるとすれ
ば、その屈折率は、nLC(off )=1.5065、とな
り、界面での全反射臨界角度θc (off )は、約53°
となる。したがって、光Lの入射角が、全反射臨界角度
θc より大きいので、光Lは、界面で全反射され、ガラ
ス基板層11内を伝播する。
【0028】ガラス基板層11を伝播し、出射側に到達
した光Lは、ここでも入射側と同様に、全反射膜17a
及び17bで全反射され、ガラス基板15内を伝播して
出射面より外部へ出射する。このように本実施例では、
入射側及び出射側に全反射膜を設けたことで、シール材
による光の減衰等の悪影響を除去でき、光スイッチ素子
としての透過性、消光比を改善することができる。
した光Lは、ここでも入射側と同様に、全反射膜17a
及び17bで全反射され、ガラス基板15内を伝播して
出射面より外部へ出射する。このように本実施例では、
入射側及び出射側に全反射膜を設けたことで、シール材
による光の減衰等の悪影響を除去でき、光スイッチ素子
としての透過性、消光比を改善することができる。
【0029】一方、スイッチング領域22において、全
反射条件が満たされないときは、図3に示すように、光
Lはガラス基板15と液晶14a(14b)との界面で
屈折し、液晶14a(14b)内を通過して、ガラス基
板19aの上面(ガラス基板19bの下面)から外部へ
光L1(L2)として出射する。
反射条件が満たされないときは、図3に示すように、光
Lはガラス基板15と液晶14a(14b)との界面で
屈折し、液晶14a(14b)内を通過して、ガラス基
板19aの上面(ガラス基板19bの下面)から外部へ
光L1(L2)として出射する。
【0030】例えば、透明電極16a(16b)と透明
電極20a(20b)との間に電圧を印加し、液晶14
a(14b)に電場を印加すると、その液晶分子の配向
方向は、図3のガラス基板層11、12a、12bに垂
直方向(図の上下方向)となる。このとき、上記した光
スイッチでは、液晶14a(14b)の屈折率は、nLC
(on)=1.6407、となり、界面での全反射臨界角
度θc (on)は、約60°となる。したがって、界面に
対して57°で入射した光Lは、界面で全反射されるこ
と無く屈折し、光L1(L2)として外部へ出射する。
本実施例では、透明電極17a(17b)をマトリック
スに配置し、図3に示すように部分的に液晶14a(1
4b)の屈折率を変化させるようにしたので、電圧の印
加方法によりマトリックススイッチを実現できる。
電極20a(20b)との間に電圧を印加し、液晶14
a(14b)に電場を印加すると、その液晶分子の配向
方向は、図3のガラス基板層11、12a、12bに垂
直方向(図の上下方向)となる。このとき、上記した光
スイッチでは、液晶14a(14b)の屈折率は、nLC
(on)=1.6407、となり、界面での全反射臨界角
度θc (on)は、約60°となる。したがって、界面に
対して57°で入射した光Lは、界面で全反射されるこ
と無く屈折し、光L1(L2)として外部へ出射する。
本実施例では、透明電極17a(17b)をマトリック
スに配置し、図3に示すように部分的に液晶14a(1
4b)の屈折率を変化させるようにしたので、電圧の印
加方法によりマトリックススイッチを実現できる。
【0031】なお、ガラス基板15の両端(入射面及び
出射面)を、光Lがブリュースター角度で入射(出射)
するように、或いは垂直に入射(出射)するようにカッ
ト及び研磨すれば、入出力面での反射損失を小さくする
ことができる。また、ガラス基板19a、19bについ
ても同様に、出射光L1、L2がブリュースター角度で
出射するように、或いは垂直に出射するようにカット及
び研磨すれば反射損失を小さくすることができる。さら
にまた、ガラス基板19a、19bとして、液晶の屈折
率nLC(on)に等しいか近い屈折率のガラスを使用する
か、ガラス基板19aの上面及びガラス基板19bの下
面とに、反射防止膜を形成しておくと、外部へ出射する
光L1、L2の反射損失を減少させることができる。た
だし、ガラス基板19a、19bの屈折率によって、光
L1、L2の出射角度が変わる点に注意しなければなら
ない。
出射面)を、光Lがブリュースター角度で入射(出射)
するように、或いは垂直に入射(出射)するようにカッ
ト及び研磨すれば、入出力面での反射損失を小さくする
ことができる。また、ガラス基板19a、19bについ
ても同様に、出射光L1、L2がブリュースター角度で
出射するように、或いは垂直に出射するようにカット及
び研磨すれば反射損失を小さくすることができる。さら
にまた、ガラス基板19a、19bとして、液晶の屈折
率nLC(on)に等しいか近い屈折率のガラスを使用する
か、ガラス基板19aの上面及びガラス基板19bの下
面とに、反射防止膜を形成しておくと、外部へ出射する
光L1、L2の反射損失を減少させることができる。た
だし、ガラス基板19a、19bの屈折率によって、光
L1、L2の出射角度が変わる点に注意しなければなら
ない。
【0032】こうして、本実施例の光スイッチでは、液
晶14a,14bに印加する電場を制御することで、ガ
ラス基板15に入射する光のスイッチングを行うことが
できる。なお、本実施例の光スイッチでは、5Vで液晶
セルの駆動ができる。すなわち、TTLレベルの低電圧
駆動ができる。
晶14a,14bに印加する電場を制御することで、ガ
ラス基板15に入射する光のスイッチングを行うことが
できる。なお、本実施例の光スイッチでは、5Vで液晶
セルの駆動ができる。すなわち、TTLレベルの低電圧
駆動ができる。
【0033】次に、第2の実施例について図4を参照し
て説明する。なお、第1の実施例と同一のものには、同
一番号を付し、その説明を省略する。本実施例の光スイ
ッチでは、薄い板状の鏡である薄板鏡41a、41b
が、透明電極17a、17bの表面上に貼り付けられて
いる。動作についてはガラス基板15に入射した光が、
透明電極を通り、薄板反射板で反射され、スイッチング
領域22へと伝播する点を除いて、第1の実施例と同じ
である。
て説明する。なお、第1の実施例と同一のものには、同
一番号を付し、その説明を省略する。本実施例の光スイ
ッチでは、薄い板状の鏡である薄板鏡41a、41b
が、透明電極17a、17bの表面上に貼り付けられて
いる。動作についてはガラス基板15に入射した光が、
透明電極を通り、薄板反射板で反射され、スイッチング
領域22へと伝播する点を除いて、第1の実施例と同じ
である。
【0034】なお、薄板鏡41a、41bの代わりに、
第1の実施例の全反射鏡膜を用いてもよい。また、配向
膜の表面に、全反射鏡膜、或いは、薄板鏡41a、41
bを設けてもよい。
第1の実施例の全反射鏡膜を用いてもよい。また、配向
膜の表面に、全反射鏡膜、或いは、薄板鏡41a、41
bを設けてもよい。
【0035】さらにまた、第1及び第2の実施例とも
に、2つの液晶セルを有する光スイッチについて説明し
たが、ガラス基板の上下面の一方に液晶セルを形成し、
他方の面は、光を全反射するようにしてもよい。また、
第1の及び第2の実施例では、平行平板のガラス基板1
5を使用する場合について説明したが、円柱状等他の形
状のものでもよい。
に、2つの液晶セルを有する光スイッチについて説明し
たが、ガラス基板の上下面の一方に液晶セルを形成し、
他方の面は、光を全反射するようにしてもよい。また、
第1の及び第2の実施例では、平行平板のガラス基板1
5を使用する場合について説明したが、円柱状等他の形
状のものでもよい。
【0036】
【発明の効果】本発明によれば、液晶を利用して光の光
路を切り替える光スイッチにおいて、導光部材の入射面
側及び出射面側に光を全反射する全反射膜を形成し、シ
ール材と導光部材との界面に光が入射することを防ぐよ
うにしたことで、シール材と導光部材との界面における
光の偏光性や透過性などに対する悪影響を排除でき、光
スイッチの透過光強度特性及び消光比特性などの劣化を
防ぐことができる。
路を切り替える光スイッチにおいて、導光部材の入射面
側及び出射面側に光を全反射する全反射膜を形成し、シ
ール材と導光部材との界面に光が入射することを防ぐよ
うにしたことで、シール材と導光部材との界面における
光の偏光性や透過性などに対する悪影響を排除でき、光
スイッチの透過光強度特性及び消光比特性などの劣化を
防ぐことができる。
【図1】本発明の第1の実施例の縦断面図。
【図2】図1の光スイッチの動作を説明するための縦断
面図。
面図。
【図3】図1の光スイッチのもう一つ動作を説明するた
めの縦断面図。
めの縦断面図。
【図4】本発明の第2の実施例の縦断面図。
【図5】従来の光スイッチの縦断面図。
11 ガラス基板層 12a,12b ガラス基板層 13 シール材 14a、14b 液晶 15 平行平板ガラス基板 16a,16b 透明電極膜 17a,17b 全反射膜 18a,18b 配向膜 19a,19b 平行平板ガラス基板 20a、20b 透明電極膜 21a,21b 配向膜 22 スイッチング領域 41a,41b 薄板鏡 51 ガラス基板層 52a,52b ガラス基板層 53a,53b 液晶 54 ガラス基板 55a,55b 透明電極膜 56a,56b 配向膜 57a,57b ガラス基板 58a,58b 透明電極膜 59a,59b 配向膜
Claims (5)
- 【請求項1】 互いに対向する一対の主表面と、該一対
の主平面に連続する入射面及び出射面とを有する第1の
光透過性板と、前記一対の主表面の少なくとも一方に形
成された第1の透明電極と、該第1の透明電極の表面上
に形成された第1の配向膜とを有する導光部材と、主平
面を有する第2の光透過性板と、前記主平面の所定領域
に形成された第2の透明電極と、該第2の透明電極と前
記主平面の露出部分とに形成された第2の配向膜とを有
する側面部材と、前記第1の配向膜と前記第2の配向膜
とが所定の距離をおいて対向するように前記導光部材と
前記側面部材とを配置したとき前記第1の配向膜と前記
第2の配向膜との間に注入される液晶と、前記第1の配
向膜と前記第2の配向膜との間に配され前記液晶を封止
するシール材とを有し、前記入射面に入射した光を前記
導光部材と前記液晶との界面で反射させて前記導光部材
の内部を伝播させ前記出射面から出射させる第1の動作
モードと、前記入射面に入射した光を前記液晶及び前記
側面部材を通して外部へ出射する第2の動作モードと
を、前記第1及び第2の透明電極に印加する電圧を制御
して選択する光スイッチにおいて、前記主表面、前記第
1の透明電極の表面、及び前記第1の配向膜の表面の内
のいずれかの上であって、前記入射面に接する第1の所
定領域に光を全反射する反射膜を形成したことを特徴と
する光スイッチ。 - 【請求項2】 前記第1の所定領域が、前記シール材の
位置よりも、前記第1の動作モードのおける前記導光部
材の内部を伝播する光の進行方向前方にまで伸びている
ことを特徴とする請求項1の光スイッチ。 - 【請求項3】 前記主表面、前記第1の透明電極の表
面、及び前記第1の配向膜の表面の内のいずれかの上で
あって、前記出射面に接する第2の所定領域に光を全反
射する反射膜を形成したことを特徴とする請求項1の光
スイッチ。 - 【請求項4】 前記第2の所定領域が、前記シール材の
位置よりも、前記第1の動作モードのおける前記導光部
材の内部を伝播する光の進行方向後方にまで伸びている
ことを特徴とする請求項3の光スイッチ。 - 【請求項5】 前記反射膜に代えて、薄板状の反射板を
設けたことを特徴とする請求項1、2、3、または4の
光スイッチ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7055828A JPH08254719A (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 光スイッチ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7055828A JPH08254719A (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 光スイッチ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08254719A true JPH08254719A (ja) | 1996-10-01 |
Family
ID=13009835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7055828A Withdrawn JPH08254719A (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 光スイッチ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08254719A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003009046A1 (fr) * | 2001-07-19 | 2003-01-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dispositif de modulation optique, unite d'affichage et dispositif d'exposition |
WO2006104160A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示装置 |
US8049840B2 (en) | 2004-08-17 | 2011-11-01 | Citizen Holdings Co., Ltd. | Double-sided display apparatus |
CN105974697A (zh) * | 2016-07-20 | 2016-09-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
-
1995
- 1995-03-15 JP JP7055828A patent/JPH08254719A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003009046A1 (fr) * | 2001-07-19 | 2003-01-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dispositif de modulation optique, unite d'affichage et dispositif d'exposition |
US7050219B2 (en) | 2001-07-19 | 2006-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-modulating element, display element, and exposure element |
CN100345025C (zh) * | 2001-07-19 | 2007-10-24 | 富士胶片株式会社 | 光调制元件、显示元件及曝光元件 |
KR100861059B1 (ko) * | 2001-07-19 | 2008-09-30 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광변조 소자, 표시 소자 및 노광 소자 |
US8049840B2 (en) | 2004-08-17 | 2011-11-01 | Citizen Holdings Co., Ltd. | Double-sided display apparatus |
WO2006104160A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示装置 |
JPWO2006104160A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2008-09-11 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
JP4633114B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2011-02-16 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
US8107025B2 (en) | 2005-03-29 | 2012-01-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display unit having illuminator and liquid crystal layer capable of forming intermediate layer |
CN105974697A (zh) * | 2016-07-20 | 2016-09-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020604 |