JPH08253337A - 光ファイバ線引き装置 - Google Patents

光ファイバ線引き装置

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JPH08253337A
JPH08253337A JP5463195A JP5463195A JPH08253337A JP H08253337 A JPH08253337 A JP H08253337A JP 5463195 A JP5463195 A JP 5463195A JP 5463195 A JP5463195 A JP 5463195A JP H08253337 A JPH08253337 A JP H08253337A
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JP
Japan
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optical fiber
shutter
fiber preform
peripheral surface
opening
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Application number
JP5463195A
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English (en)
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Hisashi Koaizawa
久 小相澤
Shigeo Inaba
茂男 稲葉
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Publication date
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/02Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
    • C03B37/025Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
    • C03B37/029Furnaces therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B2205/60Optical fibre draw furnaces
    • C03B2205/62Heating means for drawing
    • C03B2205/63Ohmic resistance heaters, e.g. carbon or graphite resistance heaters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2205/00Fibre drawing or extruding details
    • C03B2205/60Optical fibre draw furnaces
    • C03B2205/80Means for sealing the preform entry or upper end of the furnace
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2205/00Fibre drawing or extruding details
    • C03B2205/60Optical fibre draw furnaces
    • C03B2205/82Means for sealing the fibre exit or lower end of the furnace

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 各シャッター片と光ファイバ母材との間隔が
目標間隔になるように制御できる上部シャッター装置を
備えた光ファイバ線引き装置を提供する。 【構成】 線引き炉本体6の上部開口部6aに上部シャ
ッター装置9を設ける。上部シャッター装置9は、上部
開口部6aを開閉する複数枚のシャッター片とこれらシ
ャッター片を開閉方向に個々に駆動する複数のシャッタ
ー片個別駆動手段とを有する。上部シャッター装置9の
上部には、この上部シャッター装置9に入る光ファイバ
母材1の周方向の各位置における光ファイバ母材1の周
面の位置の変化を検出して得られた各位置における周面
位置信号をその位置に対応するシャッター片を駆動する
シャッター片個別駆動手段に、シャッター片と光ファイ
バ母材との間隔が目標間隔になるように与える母材周面
位置検出手段26を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ母材の下部
を光ファイバ線引き炉内で加熱溶融させて光ファイバを
線引きする光ファイバ線引き装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の光ファイバ線引き装置の
光ファイバ線引き炉は、上部に光ファイバ母材を挿入す
るための上部開口部を有し且つ下部に該光ファイバ母材
から線引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を
有して該光ファイバ母材の下部を加熱する線引き炉本体
と、該線引き炉本体の上部開口部を開閉する上部シャッ
ター装置と、該線引き炉本体の下部開口部を開閉する下
部シャッター装置とを備えた構造であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しなしながら、このよ
うな従来の光ファイバ線引き装置の光ファイバ線引き炉
に設けられている上部シャッター装置は、単に光ファイ
バ母材の外径に応じてシャッター孔の開口度を変えるだ
けであったので、該光ファイバ母材の表面にゆるやかな
凹凸部があったり、該光ファイバ母材のゆるやかな曲り
があったりすると、上部シャッター装置を構成する各シ
ャッター片と光ファイバ母材との間隔が所定の目標間隔
にならず、間隔が大きい所と小さい所ができる問題点が
あった。このように各シャッター片と光ファイバ母材と
に間隔の変化があると、これらシャッター片を持つ上部
シャッター装置と光ファイバ母材との間の隙間を通るガ
ス流が光ファイバ母材の周方向で変化し、このガス流の
変化により光ファイバの線径変動を招く問題点があっ
た。
【0004】本発明の目的は、各シャッター片と光ファ
イバ母材との間隔が目標間隔になるように制御できる光
ファイバ線引き装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上部に光ファ
イバ母材を挿入するための上部開口部を有し且つ下部に
前記光ファイバ母材から線引きされた光ファイバを導出
させる下部開口部を有して前記上部開口部から挿入され
た前記光ファイバ母材の下部を加熱する線引き炉本体
と、前記線引き炉本体の前記上部開口部を開閉する上部
シャッター装置とを備えた光ファイバ線引き炉を持つ光
ファイバ線引き装置を改良の対象としている。
【0006】請求項1に記載の光ファイバ線引き装置に
おいては、前記上部シャッター装置は前記上部開口部を
開閉する複数枚のシャッター片とこれらシャッター片を
開閉方向に個々に駆動する複数のシャッター片個別駆動
手段とを備え、前記上部シャッター装置の上部には前記
上部シャッター装置に入る前記光ファイバ母材の周方向
の各位置における該光ファイバ母材の周面の位置の変化
を検出して得られた各位置における周面位置信号を、そ
の位置に対応する前記シャッター片を駆動する前記シャ
ッター片個別駆動手段に前記シャッター片と前記光ファ
イバ母材との間隔が目標間隔になるように与える母材周
面位置検出手段が設けられていることを特徴とする。
【0007】また、請求項2に記載の光ファイバ線引き
装置においては、前記上部シャッター装置は前記上部開
口部を開閉する複数枚のシャッター片とこれらシャッタ
ー片を開閉方向に一括して駆動する共通のシャッター片
一括駆動手段とを備え、前記光ファイバ母材はその軸心
位置を水平方向に変えるように移動する母材水平移動機
構で支持され、前記上部シャッター装置の上部には該上
部シャッター装置に入る前記光ファイバ母材の周方向の
各位置における該光ファイバ母材の周面の位置の変化を
検出して得られた各位置における周面位置信号を、前記
母材水平移動機構に前記光ファイバ母材と前記各シャッ
ター片との間隔が目標間隔になるように与える母材周面
位置検出手段が設けられていることを特徴とする。
【0008】また、請求項3に記載の光ファイバ線引き
装置においては、前記上部シャッター装置は前記上部開
口部を開閉する複数枚のシャッター片とこれらシャッタ
ー片を開閉方向に一括して駆動する共通のシャッター片
一括駆動手段とを備え、前記上部シャッター装置にはそ
のシャッター孔の中心位置を水平方向に変えるように該
上部シャッター装置を移動する上部シャッター装置移動
機構が設けられ、前記上部シャッター装置の上部には前
記上部シャッター装置に入る前記光ファイバ母材の周方
向の各位置における該光ファイバ母材の周面の位置の変
化を検出して得られた各位置における周面位置信号を、
前記上部シャッター装置移動機構に前記各シャッター片
と前記光ファイバ母材との間隔が目標間隔になるように
与える母材周面位置検出手段が設けられていることを特
徴とする。
【0009】
【作用】請求項1に記載の光ファイバ線引き装置におい
ては、線引き炉本体にその上部開口部を複数のシャッタ
ー片で開閉する上部シャッター装置を設け、該上部シャ
ッター装置には各シャッター片を開閉方向に個々に駆動
する複数のシャッター片個別駆動手段を設け、該上部シ
ャッター装置の上部には母材周面位置検出手段を設け、
該母材周面位置検出手段により該上部シャッター装置に
入る光ファイバ母材の周方向の各位置における該光ファ
イバ母材の周面の位置の変化を検出し、得られた各位置
における周面位置信号をその位置に対応するシャッター
片を駆動するシャッター片個別駆動手段に該シャッター
片と光ファイバ母材との間隔が目標間隔になるように与
えるので、各シャッター片と光ファイバ母材との間隔に
変化が生じた場合にその間隔が目標間隔に戻るように各
シャッター片を個々に制御することができる。
【0010】このため本発明によれば、光ファイバ母材
にその外径の変化や線引き炉本体の上部開口部に対する
母材中心位置の変化が生じても、各シャッター片と光フ
ァイバ母材との間隔を目標間隔になるように制御するこ
とができる。それ故、本発明によれば、各シャッター片
と光ファイバ母材との間隔の変化に基づく、これらシャ
ッター片と光ファイバ母材との間の隙間を通るガス流の
変化による光ファイバの線径変動を防止することができ
る。
【0011】また、請求項2に記載の光ファイバ線引き
装置においては、線引き炉本体にその上部開口部を複数
枚のシャッター片で開閉する上部シャッター装置を設
け、該上部シャッター装置には各シャッター片を開閉方
向に一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手段
を設け、光ファイバ母材はその軸心位置を水平方向に変
えるように移動する母材水平移動機構で支持させ、該上
部シャッター装置の上部には母材周面位置検出手段を設
け、該母材周面位置検出手段により該上部シャッター装
置に入る光ファイバ母材の周方向の各位置における該光
ファイバ母材の周面の位置の変化を検出し、得られた各
位置における周面位置信号を母材水平移動機構に光ファ
イバ母材と各シャッター片との間隔が目標間隔になるよ
うに与えるので、各シャッター片と光ファイバ母材との
間隔に変化が生じた場合にその間隔が目標間隔に戻るよ
うに上部シャッター装置を制御することができる。
【0012】このため本発明によれば、請求項1に記載
の発明と同様の効果を得ることができる。
【0013】また、請求項3に記載の光ファイバ線引き
装置においては、線引き炉本体にその上部開口部を複数
のシャッター片で開閉する上部シャッター装置を設け、
該上部シャッター装置には各シャッター片を開閉方向に
一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手段を設
け、該上部シャッター装置の上部には母材周面位置検出
手段を設け、また該上部シャッター装置にはそのシャッ
ター孔の中心位置を水平方向に変えるように該上部シャ
ッター装置を移動する上部シャッター装置移動機構を設
け、該母材周面位置検出手段により該上部シャッター装
置に入る光ファイバ母材の周方向の各位置における該光
ファイバ母材の周面の位置の変化を検出し、得られた各
位置における周面位置信号を上部シャッター装置移動機
構に各シャッター片と光ファイバ母材との間隔が目標間
隔になるように与えるので、各シャッター片と光ファイ
バ母材との間隔に変化が生じた場合にその間隔が目標間
隔に戻るように上部シャッター装置移動機構で制御を行
うことができる。
【0014】このため本発明においても、請求項1に記
載の発明と同様の効果を得ることができる。
【0015】
【実施例】図1〜図4は、本発明に係る光ファイバ線引
き装置の第1実施例を示したものである。
【0016】図1は、本実施例の光ファイバ線引き装置
の構成を示したものである。この光ファイバ線引き装置
は、線引きすべき光ファイバ母材1を垂直向きで昇降さ
せる母材昇降機構2を有する。該母材昇降機構2は、光
ファイバ母材1の上端側を一端側で把持する水平向きの
母材ホルダー3と、該母材ホルダー3の他端側にネジ結
合で垂直に貫通されているネジ軸4と、該ネジ軸4を回
転する図示しないモータとを備えた構造になっている。
【0017】光ファイバ母材1に下部には、該光ファイ
バ母材1の下部を加熱する光ファイバ線引き炉5が配置
されている。該光ファイバ線引き炉5は、線引き炉本体
6と、該線引き炉本体6の上部開口部6aをガスシール
する上部ガス供給部7と、該線引き炉本体6の下部開口
部6bをガスシールする下部ガス供給部8と、該上部ガ
ス供給部7の上で線引き炉本体6の上部開口部6aを開
閉する上部シャッター装置9と、該下部ガス供給部8の
下で下部開口部6bを開閉する下部シャッター装置10
とを有する構造になっている。
【0018】線引き炉本体6は、光ファイバ母材1が挿
入される炉心管11と、該炉心管11の外周に配置され
たヒータ12と、これら炉心管11とヒータ12とを収
容する炉体13と、該炉体13の内壁に沿って配置され
た断熱材14とを有する構造になっている。
【0019】上部ガス供給部7は、上部開口部6aを包
囲して炉体13の上部に配置された環体15と、該環体
15内に環状に形成されている均圧室16と、該均圧室
16にガスを供給するガス供給孔部17と、該均圧室1
6内のガスを該環体15の内周に沿って吹出すノズル孔
18とを有する構造になっている。
【0020】下部ガス供給部8は、下部開口部6bを包
囲して炉体13の下部に配置された環体19と、該環体
19内に環状に形成されている均圧室20と、該均圧室
20にガスを供給するガス供給孔部21と、該均圧室2
0内のガスを該環体19の内周に沿って吹出すノズル孔
22とを有する構造になっている。
【0021】上部ガス供給部7のガス供給孔部17と、
下部ガス供給部8のガス供給孔部21とには、共通の不
活性ガス供給源23から個々のマスフローコントローラ
24,25を経て不活性ガスが供給されるようになって
いる。不活性ガスとしては、Ar,N2 ,He等が使用
される。
【0022】本実施例の上部シャッター装置9の構成に
ついては、後で図2〜図4にて説明する。
【0023】下部シャッター装置10は、その詳細を図
示してないが、例えば従来と同様に複数のシャッター片
を備えて、これらシャッター片を動かすことによりシャ
ッター孔の大きさを変えられるようになっている。
【0024】上部シャッター装置9の上部には、該上部
シャッター装置9に入る光ファイバ母材1の周方向の各
位置における該光ファイバ母材1の周面の径方向の位置
の変化を検出して各位置における径方向の周面位置信号
を出力する母材周面位置検出手段26が設置されてい
る。該母材周面位置検出手段26は、ガスレーザ,発光
ダイオード,レーザダイオード等の光源26aと、ホト
センサ等の検出器26bとを検出すべき光ファイバ母材
1を挟んでX方向とY方向にそれぞれ対向配置し、これ
ら対向する光源26aと検出器26bとを同期させて一
組はY方向に、他の一組はX方向に移動させて、光ファ
イバ母材1の位置を検出することにより、該光ファイバ
母材1の中心と外径を測定し、これらのデータを制御装
置27に入力して該光ファイバ母材1のX方向の両端の
各周面位置を示す各周面位置信号とY方向の両端の各周
面位置を示す各周面位置信号とを求める。これら周面位
置信号は、上部シャッター装置9に入力されるようにな
っている。
【0025】図2〜図4は、本実施例の上部シャッター
装置9の構成を示したものである。本実施例の上部シャ
ッター装置9は、シャッター孔28の中心を通ってY方
向の分割面29で分割されてX方向に移動可能に併設さ
れている1対の上部シャッター片30a,30bと、シ
ャッター孔28の中心を通ってX方向の分割面31で分
割されてY方向に移動可能に併設されている1対の下部
シャッター片32a,32bとを備えている。これらシ
ャッター片30a,30b,32a,32bは石英ガラ
ス等で形成されている。上部シャッター片30a,30
bの分割面29の中央には、シャッター孔28を形成す
るための円弧凹部33a,33bが設けられている。下
部シャッター片32a,32bの分割面31の中央に
は、シャッター孔28を形成するための円弧凹部34
a,34bが設けられている。また、上部シャッター片
30a,30bの分割面29には、円弧凹部33a,3
3bの範囲を延ばすために該円弧凹部33a,33bの
周方向の片側に山型の円弧凹部延長突起35a,35b
が設けられ、反対側には対向する上部シャッター片30
b,30aの円弧凹部延長突起35b,35aを嵌め合
わせるV型の延長突起嵌合凹部36a,36bが設けら
れている。同様に、下部シャッター片32a,32bの
分割面31には、円弧凹部34a,34bの範囲を延ば
すために該円弧凹部34a,34bの周方向の片側に山
型の円弧凹部延長突起37a,37bが設けられ、反対
側には対向する下部シャッター片32b,32aの円弧
凹部延長突起37b,37aを嵌め合わせるV型の延長
突起嵌合凹部38a,38bが設けられている。この場
合、上部シャッター片30a,30bと下部シャッター
片32a,32bとの円弧凹部延長突起35a,35
b,37a,37bと延長突起嵌合凹部36a,36
b,38a,38bとは、図4に示すように上下で突起
と凹部とが重なるように設けられている。
【0026】また、上部シャッター装置9は、各シャッ
ター片30a,30bと各シャッター片32a,32b
とを開閉方向に個々に駆動するシャッター片個別駆動手
段39a,39bと、シャッター片個別駆動手段40
a,40bとを備えている。
【0027】シャッター片個別駆動手段39a,39b
は、上部シャッター片30a,30bの上面にX方向に
併設された各1対のラック41a,41bと、これらラ
ック41a,41bに噛み合う各1対のピニオン42
a,42bと、対になっているピニオン42a,42b
を対毎に連結支持している各1本の回転軸43a,43
bと、これら回転軸43a,43bを固定系に回転自在
に支持している軸受44a,44bと、各回転軸43
a,43bの一端に取付けられた傘歯車45a,45b
と、これら傘歯車45a,45bに噛み合う傘歯車46
a,46bを介して各回転軸43a,43bに回転力を
与えるモータ47a,47bとを備えて構成されてい
る。
【0028】同様に、シャッター片個別駆動手段40
a,40bは、下部シャッター片32a,32bの下面
にY方向に併設された各1対のラック48a,48b
と、これらラック48a,48bに噛み合う各1対のピ
ニオン49a,49bと、対になっているピニオン49
a,49bを対毎に連結支持している各1本の回転軸5
0a,50bと、これら回転軸50a,50bを固定系
に回転自在に支持している軸受51a,51bと、各回
転軸50a,50bの一端に取付けられた傘歯車52
a,52bと、これら傘歯車52a,52bに噛み合う
傘歯車53a,53bを介して各回転軸50a,50b
に回転力を与えるモータ54a,54bとを備えて構成
されている。
【0029】上部シャッター片30a,30bをX方向
に駆動するシャッター片個別駆動手段39a,39bに
は、制御装置27から光ファイバ母材1のX方向の両端
の各周面位置を示す各周面位置信号が与えられるように
なっている。下部シャッター片32a,32bをY方向
に駆動するシャッター片個別駆動手段40a,40bに
は、制御装置27から光ファイバ母材1のY方向の両端
の各周面位置を示す各周面位置信号が与えられるように
なっている。
【0030】上部シャッター片30a,30bと下部シ
ャッター片32a,32bとは、相互間でガスシールが
可能なようにして相互に移動可能に重ね合されている。
【0031】また、上部シャッター片30a,30bに
は、図示しないが、これらがX方向に正しく移動するよ
うにガイドするガイド手段が設けられている。同様に、
下部シャッター片32a,32bには、図示しないが、
これらがY方向に正しく移動するようにガイドするガイ
ド手段が設けられている。
【0032】次に、このような光ファイバ線引き装置の
動作について説明する。光ファイバ母材1を通せるよう
に上部シャッター装置9のシャッター孔28をあけて、
該光ファイバ母材1の下部を線引き炉本体6の炉心管1
1内に挿入し、上部ガス供給部7と下部ガス供給部8と
から不活性ガスを噴出させて炉心管11の両端をガスシ
ールした状態でヒータ12により光ファイバ母材1の下
部を加熱溶融させる。かかる状態で、光ファイバ母材1
の下部を加熱溶融部から光ファイバ55を紡糸し、得ら
れた光ファイバ55を下部シャッター装置10を経て光
ファイバ線引き炉5の外に出し、次にいづれも図示しな
いが冷却装置で冷却した後、樹脂被覆器に通して該光フ
ァイバの表面に樹脂を被覆して光ファイバ心線とし、次
に該光ファイバ心線を樹脂硬化装置に通して被覆樹脂を
硬化させ、かくして得られた光ファイバ心線を巻取り機
で巻き取る。
【0033】このような作業の途中で、光ファイバ母材
1の下部の加熱溶融部から光ファイバ55が紡糸されて
該加熱溶融部が減少するにつれて該光ファイバ母材1が
下降される。このような過程で、上部シャッター装置9
のシャッター孔28に入る前の光ファイバ母材1が母材
周面位置検出手段26に通されて、X方向とY方向にそ
れぞれ対向配置された光源26aと検出器26bとを同
期させて一組はX方向に、他の一組はY方向に移動させ
て、光ファイバ母材1の位置を検出することにより、該
光ファイバ母材1の中心と外径を測定し、これらのデー
タを制御装置27に入力して該光ファイバ母材1のX方
向の両端の各周面位置を示す各周面位置信号とY方向の
両端の各周面位置を示す各周面位置信号とを求める。こ
れら周面位置信号を、上部シャッター装置9に入力す
る。この場合、該上部シャッター装置9の上部シャッタ
ー片30a,30bをX方向に駆動するシャッター片個
別駆動手段39a,39bには、制御装置27から光フ
ァイバ母材1のX方向の両端の各周面位置を示す各周面
位置信号を与える。また、下部シャッター片32a,3
2bをY方向に駆動するシャッター片個別駆動手段40
a,40bには、制御装置27から光ファイバ母材1の
Y方向の両端の各周面位置を示す各周面位置信号を与え
る。
【0034】これら周面位置信号を受けた上部シャッタ
ー片30a,30bをX方向に駆動するシャッター片個
別駆動手段39a,39bは、シャッター孔28の一部
を構成する各上部シャッター片30a,30bの円弧凹
部33a,33bと光ファイバ母材1の周面との間隔が
所定の目標間隔になるように各モータ47a,47bを
個別に駆動して各上部シャッター片30a,30bを個
別にX方向に移動する。
【0035】同様に、これら周面位置信号を受けた下部
シャッター片32a,32bをY方向に駆動するシャッ
ター片個別駆動手段40a,40bは、シャッター孔2
8の一部を構成する各下部シャッター片32a,32b
の円弧凹部34a,34bと光ファイバ母材1の周面と
の間隔が所定の目標間隔になるように各モータ54a,
54bを個別に駆動して各下部シャッター片32a,3
2bを個別にY方向に移動する。
【0036】これらの操作により、光ファイバ母材1の
周面と、各上部シャッター片30a,30bの円弧凹部
33a,33b及び各下部シャッター片32a,32b
の円弧凹部34a,34bとの間隔が所定の目標間隔に
調整される。
【0037】このため本実施例によれば、光ファイバ母
材1にその外径の変化や線引き炉本体6の上部開口部6
aに対する母材中心位置の変化が生じても、各シャッタ
ー片30a,30b,32a,32bと光ファイバ母材
1との間隔が所定の目標間隔になるように制御される。
それ故、本実施例によれば、各シャッター片30a,3
0b,32a,32bと光ファイバ母材1との間隔の変
化に基づく、これらシャッター片30a,30b,32
a,32bと光ファイバ母材1との間の隙間を通るガス
流の変化による光ファイバ55の線径変動を防止するこ
とができる。
【0038】この場合、各シャッター片30a,30
b,32a,32bの分割面29,31における各円弧
凹部33a,33b,34a,34bの一方側には円弧
凹部延長突起35a,35b,37a,37bが設けら
れ、他方側には延長突起嵌合凹部36a,36b,38
a,38bが設けられているので、図4に示すように各
シャッター片30a,30b,32a,32bを開方向
に移動したときに形成される円形のシャッター孔28の
最大径を大きくとることができる。
【0039】これに対し、図5に示すように、各シャッ
ター片30a,30b,32a,32bの分割面29,
31に円弧凹部延長突起35a,35b,37a,37
bと延長突起嵌合凹部36a,36b,38a,38b
とを設けない場合には、図4と同じ内径のシャッター孔
28を形成しようとすると、隣り合う円弧凹部34aと
33b、33bと34b、34bと33a、33aと3
4aとの間に凹部56がそれぞれできて、ガスのシール
性能が低下されてしまい好ましくない。
【0040】図6は、母材周面位置検出手段26の具体
的な1例を示したものである。本実施例では、光ファイ
バ母材1を間にしてX方向にX方向ガイドレール57a
x,57bxが設けられ、光ファイバ母材1を間にして
Y方向にY方向ガイドレール57ay,57byが設け
られている。X方向ガイドレール57axには光ファイ
バ母材1のX方向の両端の位置を検出するためのX方向
位置検出光源26axが走行するようになっており、X
方向ガイドレール57bxには光ファイバ母材1のX方
向の両端の位置を検出するためのX方向位置検出検出器
26bxがX方向位置検出光源26axと同期して走行
するようになっている。Y方向ガイドレール57ayに
は光ファイバ母材1のY方向の両端の位置を検出するた
めのY方向位置検出光源26ayが走行するようになっ
ており、Y方向ガイドレール57byには光ファイバ母
材1のY方向の両端の位置を検出するためのY方向位置
検出検出器26byがY方向位置検出光源26ayと同
期して走行するようになっている。この例では、X方向
位置検出検出器26bx,Y方向位置検出検出器26b
yとしてホトセンサを使用している。
【0041】このような構造で、例えばX方向位置検出
光源26axとX方向位置検出検出器26bxとを一定
速度で同期して走行させると、X方向位置検出光源26
axからの光線で光ファイバ母材1がX方向に走査さ
れ、反対側で同期走行するX方向位置検出検出器26b
xで検出される光量が変化し、図7に示すような出力が
X方向位置検出検出器26bxで得られる。この図7で
は、横軸はX方向位置検出光源26axとX方向位置検
出検出器26bxとを一定速度で同期走行させたときの
距離の変化を示し、縦軸はX方向位置検出検出器26b
xの出力を示す。図7において、位置t1 ,t2 では光
が光ファイバ母材1のX方向の各端部にあたってX方向
位置検出検出器26bxの出力が急激に減衰している状
態を示す。位置t1 ,t2 の間でX方向位置検出検出器
26bxの出力が山形に最上昇しているのは、光ファイ
バ母材1が透光性をもち、光ファイバ母材1のX方向の
両端ではX方向位置検出光源26axからの光線と光フ
ァイバ母材1の表面との傾斜角度が小さく反射量が多い
が、位置t1 ,t2 間の中央の位置t3 では光線と光フ
ァイバ母材1の表面との傾斜角度が直角になり、光線の
反射が最小限になって透過光量が最大になるためであ
る。
【0042】このような出力が制御装置27に入力され
ると、位置t1 ,t2 により光ファイバ母材1のX方向
の両端の各周面位置と該光ファイバ母材1の直径がわか
り、位置t3 {=(t1 +t2 )/2}より光ファイバ
母材1の中心位置がわかる。この場合、t=0の位置を
X方向位置検出光源26axとX方向位置検出検出器2
6bxとのスタート位置に固定することにより、絶対位
置を求めることができる。
【0043】図8は、母材周面位置検出手段26の具体
的な他の例を示したものである。本実施例では、X方向
ガイドレールは片側のX方向ガイドレール57axのみ
が設けられ、Y方向ガイドレールは片側のY方向ガイド
レール57ayのみが設けられている。X方向ガイドレ
ール57axの端部には、このX方向ガイドレール57
axの表面に沿って光線を出すX方向位置検出光源26
axが配置されている。X方向ガイドレール57ax上
には、X方向位置検出光源26axが出す光線を90°方
向変換して光ファイバ母材1をX方向に走査するX方向
スキャニングミラー58xが一定速度で走行するように
配置されている。同様に、Y方向ガイドレール57ay
の端部には、このY方向ガイドレール57ayの表面に
沿って光線を出すY方向位置検出光源26ayが配置さ
れている。Y方向ガイドレール57ay上には、Y方向
位置検出光源26ayが出す光線を90°方向変換して光
ファイバ母材1をY方向に走査するY方向スキャニング
ミラー58yが一定速度で走行するように配置されてい
る。光ファイバ母材1を間にしてX方向スキャニングミ
ラー58xの反対側にはX方向位置検出検出器26bx
が固定して設置されている。該X方向位置検出検出器2
6bxの前面には、光ファイバ母材1をX方向にスキャ
ニングする光線を該X方向位置検出検出器26bxに集
光させる集光レンズ59xが配置されている。同様に、
光ファイバ母材1を間にしてY方向スキャニングミラー
58yの反対側にはY方向位置検出検出器26byが設
置されている。該Y方向位置検出検出器26byの前面
には、光ファイバ母材1をY方向にスキャニングする光
線を該Y方向位置検出検出器26byに集光させる集光
レンズ59yが配置されている。
【0044】このようにしても図6のものと同様に光フ
ァイバ母材1の位置検出を行うことができる。
【0045】このような構造の場合には、図6のものに
比べて構造が簡単になり、駆動部分はスキャニングミラ
ー58x,58yだけとなる。
【0046】図9及び図10は、本発明に係る光ファイ
バ線引き装置の第2実施例を示したものである。なお、
前述した第1実施例と対応する部分には、同一符号を付
けて示している。
【0047】図9は、本実施例の光ファイバ線引き装置
の構成を示したものである。この光ファイバ線引き装置
においては、光ファイバ線引き炉5と、母材昇降機構2
の構造が第1実施例と相違している。その他の構造は、
第1実施例と同様になっている。
【0048】即ち、光ファイバ線引き炉5においては、
線引き炉本体6の炉体13に炉体延長部13aが設けら
れ、該炉体延長部13aの下端に下部ガス供給部8が設
けられている。また、上部ガス供給部7と下部ガス供給
部8とは炉体13と一体に形成されている。
【0049】また、この光ファイバ線引き炉5において
は、上部シャッター装置9の構造が第1実施例とは相違
しているが、その詳細については後で図10にて説明す
る。
【0050】母材昇降機構2は、ネジ軸4に螺合されて
昇降する昇降ナットブロック60を備え、この昇降ナッ
トブロック60の上に母材水平移動機構としてのXYス
テージ61Aが設置されている。該XYステージ61A
上に母材ホルダー3が支持され、該母材ホルダー3を介
して光ファイバ母材1がXY方向に移動できるようにな
っている。
【0051】図10は、本実施例で用いている上部シャ
ッター装置9の構造を示したものである。
【0052】該上部シャッター装置9は、固定リング6
2を備え、該固定リング62の外周には回転リング63
が回転自在に配置されている。固定リング62上の周方
向には、4枚のシャッター片64a〜64dが等間隔で
配置され、該固定リング62に植設された支持ピン65
a〜65dで回転自在に支持されている。この場合、シ
ャッター片64a〜64dは相互の動きの障害にならな
いように、向かい合う1対のシャッター片64a,64
cが下側に、向かい合う他の1対のシャッター片64
b,64dが上側に位置するように配置されている。回
転リング63上には、各シャッター片64a〜64dを
該回転リング63の回転につれて開閉方向に駆動する駆
動ピン66a〜66dが植設され、これら駆動ピン66
a〜66dは対応するシャッター片64a〜64dに通
され、回転リング63をシャッター片一括駆動手段67
で回転することにより各シャッター片64a〜64dを
一括して開閉駆動できるようになっている。シャッター
片一括駆動手段67は、モータ68と、該モータ68で
回転されるピニオン69と、回転リング63の下面に取
付けられていてピニオン69に噛み合う円弧状のラック
70とにより構成されている。各シャッター片64a〜
64dには、シャッター孔28を形成するため円弧凹部
71a〜71dが設けられている。
【0053】次に、このような光ファイバ線引き装置に
おける要部の動作について説明する。この装置において
は、上部シャッター装置9のシャッター孔28に入る前
の光ファイバ母材1が母材周面位置検出手段26に通さ
れてその測定がなされ、制御装置27から該光ファイバ
母材1のX方向の両端の各周面位置を示す各周面位置信
号とY方向の両端の各周面位置を示す各周面位置信号と
が出力され、これら周面位置信号がXYステージ61A
に入力される。これら周面位置信号を受けたXYステー
ジ61Aは、その入力に応じてX,Y方向に駆動され、
これにより光ファイバ母材1がX,Y方向に駆動され、
光ファイバ母材1の周面と、各シャッター片64a〜6
4dの円弧凹部71a〜71dとの間隔が所定の目標間
隔に調整される。
【0054】このため、この第2実施例によっても、第
1実施例と同様の効果を得ることができる。
【0055】図11は、本発明に係る光ファイバ線引き
装置の第3実施例を示したものである。なお、前述した
第2実施例と対応する部分には、同一符号を付けて示し
ている。
【0056】本実施例の光ファイバ線引き装置において
は、線引き炉本体6の上部の上部ガス供給部7の上に、
前述した図10に示す構造の上部シャッター装置9が設
けられ、該上部シャッター装置9と上部ガス供給部7と
の間に該上部シャッター装置9をX,Y方向に駆動する
XYステージ61Bが設置されている。該XYステージ
61Bで上部シャッター装置9の固定リング62が支持
されている。上部シャッター装置9における回転リング
63の上面には、ガスシールと各シャッター片64a〜
64dの開口方向への動きを制限するために環状鍔63
aが突設されている。また、固定リング62はガスシー
ルのために図示のように回転リング63の下にも存在す
るようになっている。このような構造はこの第3実施例
のみに必要な構造ではなく、図10に示す構造の場合も
同様になっているが、図10の場合には省略されてい
る。該XYステージ61Bには、母材周面位置検出手段
26から制御装置27を経て光ファイバ母材1のY方向
の両端の各周面位置を示す各周面位置信号とX方向の両
端の各周面位置を示す各周面位置信号とが入力されるよ
うになっている。その他の構造は、第1実施例と同様に
なっている。
【0057】このような構造でも、制御装置27からの
指令により上部シャッター装置9をXYステージ61B
でX,Y方向に動かすことにより、光ファイバ母材1の
周面と、各シャッター片64a〜64dの円弧凹部71
a〜71dとの間隔が所定の目標間隔に調整することが
できる。
【0058】なお、図9と図11とを組み合わせた光フ
ァイバ線引き装置も構成することができる。この装置の
場合においては、光ファイバ線引き炉5の下部にファイ
バ位置検出器を設け、このファイバ位置検出器からの検
出信号で光ファイバ55の位置が一定となるように光フ
ァイバ母材1をXYステージ61Aで移動し、光ファイ
バ母材1とシャッター片64a〜64dとの間隔が所定
の目標間隔になるようにXYステージ61Bで上部シャ
ッター装置9を移動する。
【0059】また、図1または図9に示すタイプの光フ
ァイバ線引き装置においては、炉心管11内に圧力計を
設け、該炉心管11内の圧力が所定値となるように各シ
ャッター片と光ファイバ母材との間隔を決定することも
できる。
【0060】以上説明した本発明の好ましい幾つかの態
様を要約して説明すると、次の通りである。
【0061】(1)上部に光ファイバ母材を挿入するた
めの上部開口部を有し且つ下部に前記光ファイバ母材か
ら線引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を有
して前記上部開口部から挿入された前記光ファイバ母材
の下部を加熱する線引き炉本体と、前記線引き炉本体の
前記上部開口部を開閉する上部シャッター装置とを備え
た光ファイバ線引き炉を持つ光ファイバ線引き装置にお
いて、前記上部シャッター装置は前記上部開口部を開閉
する複数枚のシャッター片とこれらシャッター片を開閉
方向に個々に駆動する複数のシャッター片個別駆動手段
とを備え、前記上部シャッター装置の上部には該上部シ
ャッター装置に入る前記光ファイバ母材の周方向の各位
置における該光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出
して得られた各位置における周面位置信号を、その位置
に対応する前記シャッター片を駆動する前記シャッター
片個別駆動手段に前記シャッター片と前記光ファイバ母
材との間隔が所定の目標間隔になるように与える母材周
面位置検出手段が設けられていることを特徴とする光フ
ァイバ線引き装置。
【0062】(2)前記上部シャッター装置は、シャッ
ター孔の中心を通ってY方向の分割面で分割されてX方
向に移動可能に併設されている1対の上部シャッター片
と、前記シャッター孔の中心を通ってX方向の分割面で
分割されてY方向に移動可能に併設されている1対の下
部シャッター片とを備え、前記上部シャッター片の分割
面の中央には前記シャッター孔を形成するための円弧凹
部が設けられ、前記下部シャッター片の分割面の中央に
は前記シャッター孔を形成するための円弧凹部が設けら
れ、前記各シャッター片は前記シャッター片個別駆動手
段で個別に開閉方向に駆動されるようになっていること
を特徴とする第1項に記載の光ファイバ線引き装置。
【0063】(3)前記上部シャッター片の分割面には
前記円弧凹部の範囲を延ばすために該円弧凹部の周方向
の片側に円弧凹部延長突起が設けられ、反対側には対向
する前記上部シャッター片の前記円弧凹部延長突起を嵌
め合わせる延長突起嵌合凹部が設けられ、前記下部シャ
ッター片の分割面には前記円弧凹部の範囲を延ばすため
に該円弧凹部の周方向の片側に円弧凹部延長突起が設け
られ、反対側には対向する前記下部シャッター片の前記
円弧凹部延長突起を嵌め合わせる延長突起嵌合凹部が設
けられていることを特徴とする第2項に記載の光ファイ
バ線引き装置。
【0064】(4)上部に光ファイバ母材を挿入するた
めの上部開口部を有し且つ下部に前記光ファイバ母材か
ら線引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を有
して前記上部開口部から挿入された前記光ファイバ母材
の下部を加熱する線引き炉本体と、前記線引き炉本体の
前記上部開口部を開閉する上部シャッター装置とを備え
た光ファイバ線引き炉を持つ光ファイバ線引き装置にお
いて、前記上部シャッター装置は前記上部開口部を開閉
する複数枚のシャッター片とこれらシャッター片を開閉
方向に一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手
段とを備え、前記光ファイバ母材はその軸心位置を水平
方向に変えるように移動する母材水平移動機構で支持さ
れ、前記上部シャッター装置の上部には該上部シャッタ
ー装置に入る前記光ファイバ母材の周方向の各位置にお
ける該光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出して得
られた各位置における周面位置信号を、前記母材水平移
動機構に前記光ファイバ母材と前記各シャッター片との
間隔が所定の目標間隔になるように与える母材周面位置
検出手段が設けられていることを特徴とする光ファイバ
線引き装置。
【0065】(5)上部に光ファイバ母材を挿入するた
めの上部開口部を有し且つ下部に前記光ファイバ母材か
ら線引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を有
して前記上部開口部から挿入された前記光ファイバ母材
の下部を加熱する線引き炉本体と、前記線引き炉本体の
前記上部開口部を開閉する上部シャッター装置とを備え
た光ファイバ線引き炉を持つ光ファイバ線引き装置にお
いて、前記上部シャッター装置は前記上部開口部を開閉
する複数枚のシャッター片とこれらシャッター片を開閉
方向に一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手
段とを備え、前記上部シャッター装置にはそのシャッタ
ー孔の中心位置を水平方向に変えるように該上部シャッ
ター装置を移動する上部シャッター装置移動機構が設け
られ、前記上部シャッター装置の上部には該上部シャッ
ター装置に入る前記光ファイバ母材の周方向の各位置に
おける該光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出して
得られた各位置における周面位置信号を、前記上部シャ
ッター装置移動機構に前記各シャッター片と前記光ファ
イバ母材との間隔が所定の目標間隔になるように与える
母材周面位置検出手段が設けられていることを特徴とす
る光ファイバ線引き装置。
【0066】(6)前記上部シャッター装置は、固定リ
ングを備え、該固定リングの外周には回転リングが回転
自在に配置され、前記固定リング上の周方向には4枚の
シャッター片が等間隔で且つ対向する1組が下側に位置
し他の1組が上側に位置するように配置され、これらシ
ャッター片は前記固定リングにそれぞれ植設された支持
ピンで回転自在に支持され、前記回転リング上には前記
各シャッター片に係止されて該回転リングの回転でこれ
らシャッター片を開閉方向に駆動する駆動ピンがそれぞ
れ植設され、前記回転リングは前記シャッター片一括駆
動手段で回転駆動されるようになっていることを特徴と
する第4項または第5項に記載の光ファイバ線引き装
置。
【0067】(7)前記母材周面位置検出手段は、前記
光ファイバ母材を間にしてX方向に1対のX方向ガイド
レールが設けられ、前記光ファイバ母材を間にしてY方
向に1対のY方向ガイドレールが設けられ、一方の前記
X方向ガイドレールには前記光ファイバ母材のX方向の
位置を検出するためのX方向位置検出光源が走行自在に
配置され、他方の前記X方向ガイドレールには前記光フ
ァイバ母材のX方向の位置を検出するためのX方向位置
検出検出器が前記X方向位置検出光源と同期して走行す
るように配置され、一方の前記Y方向ガイドレールには
前記光ファイバ母材のY方向の位置を検出するためのY
方向位置検出光源が走行自在に配置され、他方の前記Y
方向ガイドレールには前記光ファイバ母材1のY方向の
位置を検出するためのY方向位置検出検出器が前記Y方
向位置検出光源と同期して走行するように配置されて構
成されていることを特徴とする第1項〜第6項のいずれ
か1つに記載の光ファイバ線引き装置。
【0068】(8)前記母材周面位置検出手段は、前記
光ファイバ母材に対応してY方向の一方側にX方向にX
方向ガイドレールが設けられ、前記光ファイバ母材に対
応してX方向の一方側にY方向にY方向ガイドレールが
設けられ、前記X方向ガイドレールの端部側には該X方
向ガイドレールに沿って光線を出すX方向位置検出光源
が配置され、前記X方向ガイドレール上には前記X方向
位置検出光源が出す光線を90°方向変換して前記光ファ
イバ母材をX方向に走査するX方向スキャニングミラー
が一定速度で走行するように配置され、前記Y方向ガイ
ドレールの端部側には該Y方向ガイドレールに沿って光
線を出すY方向位置検出光源が配置され、前記Y方向ガ
イドレール上には前記Y方向位置検出光源が出す光線を
90°方向変換して前記光ファイバ母材をY方向に走査す
るY方向スキャニングミラーが一定速度で走行するよう
に配置され、前記光ファイバ母材を間にして前記X方向
スキャニングミラーの反対側にはX方向位置検出検出器
が設置され、該X方向位置検出検出器の前面には前記光
ファイバ母材をX方向にスキャニングする光線を該X方
向位置検出検出器に集光させる集光レンズが配置され前
記光ファイバ母材を間にして前記Y方向スキャニングミ
ラーの反対側にはY方向位置検出検出器が配置され、該
Y方向位置検出検出器の前面には前記光ファイバ母材を
Y方向にスキャニングする光線を該Y方向位置検出検出
器に集光させる集光レンズが配置されて構成されている
ことを特徴とする第1項〜第6項のいずれか1つに記載
の光ファイバ線引き装置。
【0069】(9)前記母材周面位置検出手段は、その
後部に該母材周面位置検出手段が前記光ファイバ母材を
検出して得られたデータを入力として該光ファイバ母材
のX方向の両端の各周面位置を示す各周面位置信号とY
方向の両端の各周面位置を示す各周面位置信号とを求め
て前記上部シャッター装置に入力する制御装置が設けら
れていることを特徴とする第1項〜第8項のいずれか1
つに記載の光ファイバ線引き装置。
【0070】
【発明の効果】請求項1に記載の光ファイバ線引き装置
においては、線引き炉本体にその上部開口部を複数のシ
ャッター片で開閉する上部シャッター装置を設け、該上
部シャッター装置には各シャッター片を開閉方向に個々
に駆動する複数のシャッター片個別駆動手段を設け、該
上部シャッター装置の上部には母材周面位置検出手段を
設け、該母材周面位置検出手段により該上部シャッター
装置に入る光ファイバ母材の周方向の各位置における該
光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出し、得られた
各位置における周面位置信号をその位置に対応するシャ
ッター片を駆動するシャッター片個別駆動手段に該シャ
ッター片と光ファイバ母材との間隔が目標間隔になるよ
うに与えるので、各シャッター片と光ファイバ母材との
間隔に変化が生じた場合にその間隔が目標間隔に戻るよ
うに各シャッター片を個々に制御することができる。
【0071】このため本発明によれば、光ファイバ母材
にその外径の変化や線引き炉本体の上部開口部に対する
母材中心位置の変化が生じても、各シャッター片と光フ
ァイバ母材との間隔を目標間隔になるように制御するこ
とができる。それ故、本発明によれば、各シャッター片
と光ファイバ母材との間隔の変化に基づく、これらシャ
ッター片と光ファイバ母材との間の隙間を通るガス流の
変化による光ファイバの線径変動を防止することができ
る。
【0072】また、請求項2に記載の光ファイバ線引き
装置においては、線引き炉本体にその上部開口部を複数
枚のシャッター片で開閉する上部シャッター装置を設
け、該上部シャッター装置には各シャッター片を開閉方
向に一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手段
を設け、光ファイバ母材はその軸心位置を水平方向に変
えるように移動する母材水平移動機構で支持させ、該上
部シャッター装置の上部には母材周面位置検出手段を設
け、該母材周面位置検出手段により該上部シャッター装
置に入る光ファイバ母材の周方向の各位置における該光
ファイバ母材の周面の位置の変化を検出し、得られた各
位置における周面位置信号を母材水平移動機構に光ファ
イバ母材と各シャッター片との間隔が目標間隔になるよ
うに与えるので、各シャッター片と光ファイバ母材との
間隔に変化が生じた場合にその間隔が目標間隔に戻るよ
うに上部シャッター装置を制御することができる。
【0073】このため本発明によれば、請求項1に記載
の発明と同様の効果を得ることができる。
【0074】また、請求項3に記載の光ファイバ線引き
装置においては、線引き炉本体にその上部開口部を複数
のシャッター片で開閉する上部シャッター装置を設け、
該上部シャッター装置には各シャッター片を開閉方向に
一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手段を設
け、該上部シャッター装置の上部には母材周面位置検出
手段を設け、また該上部シャッター装置にはそのシャッ
ター孔の中心位置を水平方向に変えるように該上部シャ
ッター装置を移動する上部シャッター装置移動機構を設
け、該母材周面位置検出手段により該上部シャッター装
置に入る光ファイバ母材の周方向の各位置における該光
ファイバ母材の周面の位置の変化を検出し、得られた各
位置における周面位置信号を上部シャッター装置移動機
構に各シャッター片と光ファイバ母材との間隔が目標間
隔になるように与えるので、各シャッター片と光ファイ
バ母材との間隔に変化が生じた場合にその間隔が目標間
隔に戻るように上部シャッター装置移動機構で制御を行
うことができる。
【0075】このため本発明においても、請求項1に記
載の発明と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ファイバ線引き装置の第1実施
例の概略構成を示した縦断面図である。
【図2】第1実施例で用いている上部シャッター装置の
構成を示した分解斜視図である。
【図3】図2に示す上部シャッター装置で用いている上
部シャッター片の平面図である。
【図4】第1実施例で用いている上部シャッター装置で
シャッター孔を開いた状態を示す平面図である。
【図5】円弧凹部延長突起と延長突起嵌合凹部都を備え
ていない上部シャッター装置でシャッター孔を開いた状
態を示す平面図である。
【図6】母材周面位置検出手段の一例を示す平面図であ
る。
【図7】母材周面位置検出手段の出力波形図である。
【図8】母材周面位置検出手段の他の例を示す平面図で
ある。
【図9】本発明に係る光ファイバ線引き装置の第2実施
例の概略構成を示した縦断面図である。
【図10】第2実施例で用いている上部シャッター装置
の構成を示した分解斜視図である。
【図11】本発明に係る光ファイバ線引き装置の第2実
施例で用いている上部シャッター装置とXYステージと
の構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
1 光ファイバ母材 2 母材昇降機構 3 母材ホルダー 4 ネジ軸 5 光ファイバ線引き炉 6 線引き炉本体 6a 上部開口部 6b 下部開口部 7 上部ガス供給部 8 下部ガス供給部 9 上部シャッター装置 10 下部シャッター装置 11 炉心管 12 ヒータ 13 炉体 14 断熱材 15 環体 16 均圧室 17 ガス供給孔部 18 ノズル孔 19 環体 20 均圧室 21 ガス供給孔部 22 ノズル孔 23 不活性ガス供給源 24,25 マスフローコントローラ 26 母材周面位置検出手段 26a 光源 26ax X方向位置検出光源 26ay Y方向位置検出光源 26b 検出器 26bx X方向位置検出検出器 26by Y方向位置検出検出器 27 制御装置 28 シャッター孔 29 分割面 30a,30b 上部シャッター片 31 分割面 32a,32b 下部シャッター片 33a,33b 円弧凹部 34a,34b 円弧凹部 35a,35b 円弧凹部延長突起 36a,36b 延長突起嵌合凹部 37a,37b 円弧凹部延長突起 38a,38b 延長突起嵌合凹部 39a,39b シャッター片個別駆動手段 40a,40b シャッター片個別駆動手段 41a,41b ラック 42a,42b ピニオン 43a,43b 回転軸 44a,44b 軸受 45a,45b 傘歯車 46a,46b 傘歯車 47a,47b モータ 48a,48b ラック 49a,49b ピニオン 50a,50b 回転軸 51a,51b 軸受 52a,52b 傘歯車 53a,53b 傘歯車 54a,54b モータ 55 光ファイバ 56 凹部 57ax,57bx X方向ガイドレール 57by,57by Y方向ガイドレール 58x X方向スキャニングミラー 58y Y方向スキャニングミラー 59 集光レンズ 60 昇降ナットブロック 61A XYステージ(母材水平移動機構) 61B XYステージ(上部シャッター装置移動機構) 62 固定リング 63 回転リング 64a〜64d シャッター片 65a〜65d 支持ピン 66a〜66d 駆動ピン 67 シャッター片一括駆動手段 68 モータ 69 ピニオン 70 ラック 71a〜71d 円弧凹部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上部に光ファイバ母材を挿入するための
    上部開口部を有し且つ下部に前記光ファイバ母材から線
    引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を有して
    前記上部開口部から挿入された前記光ファイバ母材の下
    部を加熱する線引き炉本体と、前記線引き炉本体の前記
    上部開口部を開閉する上部シャッター装置とを備えた光
    ファイバ線引き炉を持つ光ファイバ線引き装置におい
    て、 前記上部シャッター装置は前記上部開口部を開閉する複
    数枚のシャッター片とこれらシャッター片を開閉方向に
    個々に駆動する複数のシャッター片個別駆動手段とを備
    え、 前記上部シャッター装置の上部には該上部シャッター装
    置に入る前記光ファイバ母材の周方向の各位置における
    該光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出して得られ
    た各位置における周面位置信号を、その位置に対応する
    前記シャッター片を駆動する前記シャッター片個別駆動
    手段に前記シャッター片と前記光ファイバ母材との間隔
    が目標間隔になるように与える母材周面位置検出手段が
    設けられていることを特徴とする光ファイバ線引き装
    置。
  2. 【請求項2】 上部に光ファイバ母材を挿入するための
    上部開口部を有し且つ下部に前記光ファイバ母材から線
    引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を有して
    前記上部開口部から挿入された前記光ファイバ母材の下
    部を加熱する線引き炉本体と、前記線引き炉本体の前記
    上部開口部を開閉する上部シャッター装置とを備えた光
    ファイバ線引き炉を持つ光ファイバ線引き装置におい
    て、 前記上部シャッター装置は前記上部開口部を開閉する複
    数枚のシャッター片とこれらシャッター片を開閉方向に
    一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手段とを
    備え、 前記光ファイバ母材はその軸心位置を水平方向に変える
    ように移動する母材水平移動機構で支持され、 前記上部シャッター装置の上部には該上部シャッター装
    置に入る前記光ファイバ母材の周方向の各位置における
    該光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出して得られ
    た各位置における周面位置信号を、前記母材水平移動機
    構に前記光ファイバ母材と前記各シャッター片との間隔
    が目標間隔になるように与える母材周面位置検出手段が
    設けられていることを特徴とする光ファイバ線引き装
    置。
  3. 【請求項3】 上部に光ファイバ母材を挿入するための
    上部開口部を有し且つ下部に前記光ファイバ母材から線
    引きされた光ファイバを導出させる下部開口部を有して
    前記上部開口部から挿入された前記光ファイバ母材の下
    部を加熱する線引き炉本体と、前記線引き炉本体の前記
    上部開口部を開閉する上部シャッター装置とを備えた光
    ファイバ線引き炉を持つ光ファイバ線引き装置におい
    て、 前記上部シャッター装置は前記上部開口部を開閉する複
    数枚のシャッター片とこれらシャッター片を開閉方向に
    一括して駆動する共通のシャッター片一括駆動手段とを
    備え、 前記上部シャッター装置にはそのシャッター孔の中心位
    置を水平方向に変えるように該上部シャッター装置を移
    動する上部シャッター装置移動機構が設けられ、 前記上部シャッター装置の上部には該上部シャッター装
    置に入る前記光ファイバ母材の周方向の各位置における
    該光ファイバ母材の周面の位置の変化を検出して得られ
    た各位置における周面位置信号を、前記上部シャッター
    装置移動機構に前記各シャッター片と前記光ファイバ母
    材との間隔が目標間隔になるように与える母材周面位置
    検出手段が設けられていることを特徴とする光ファイバ
    線引き装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100427444B1 (ko) * 2001-12-12 2004-04-17 엘지전선 주식회사 광섬유 용해로용 상부 챔버 개폐장치
EP2664593A1 (en) * 2012-05-14 2013-11-20 Nextrom Oy Apparatus for sealing the end of a tubular treatment device
US11434163B2 (en) 2017-12-20 2022-09-06 Heraeus Quartz North America Llc Variable diameter seal for optical preform furnace

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