JPH08230238A - 画像処理方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 小容量のメモリを用いて、例えば、シャドウ
等の修飾をフォントパターンを施すことができる画像処
理方法及びその装置を提供する。 【構成】 ＦＲＯＭ（フォントメモリ）に格納されたソ
ースパターンの内、１つのセグメントパターンを生成す
るのに必要な領域のパターンのみを読みだして、シャド
ウパターン領域にコピーする。このコピーされたパター
ンをシャドウ方向に太らせるとともに、その反転パター
ンを生成する。そして、太らせられたパターンと反転パ
ターンとの論理積が求められ、１つのセグメントのシャ
ドウパターンを生成する。このようなセグメントパター
ンはソースパターン全体にわたって生成され、ビットマ
ップ展開される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は画像処理方法及びその装
置に関し、特に、例えば、ページプリンタ等のように内
部にページメモリを有し、そのページメモリ上に描画イ
メージを生成する画像処理方法及びその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ページプリンタのように内部に
ページメモリ（ビットマップメモリ）を有しており、さ
らにメモリ削減と描画速度向上のためにそのメモリをい
くつかの領域に分割し、各領域毎に描画イメージを生成
する画像処理装置において、大きな文字イメージを生成
する場合、図１４に示すように複数の分割領域にまたが
った描画イメージが形成されるのが普通である。この場
合、種々の修飾パターン、例えば、図１４に示す文字
“亜”のシャドウパターンの生成は各分割領域ごとに実
行される。

【０００３】このように複数の分割領域にまたがってい
るシャドウパターンでも、従来は図１５(ａ)のように、
ビットマップフォントもしくはスケーラブルフォントを
展開したビットマップフォントを元にして文字パターン
をシャドウの長さ分ずらしてコピーし、さらに、そのコ
ピーしたパターンを反転させ、そのパターンの各ストロ
ークの幅を太くしたパターンとの論理積（ＡＮＤ）をと
ることにより生成していた。そして、図１５（ｂ）のよ
うに生成された描画パターンを各セグメント１５１、１
５２、１５３づつ切り取って、ビットマップメモリに転
送していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】さて上記従来例では、
生成されたシャドウパターンがフォントキャッシュメモ
リの容量が十分になく、そのフォントキャッシュメモリ
を用いて生成されない場合には、プリンタ装置の内部の
ＲＡＭに一時的なワークメモリを確保し、そのワークメ
モリを用いて生成することになる。しかしながら、大き
な文字イメージの生成には複数の分割領域が必要なの
で、大きな文字に関してはそのワークメモリさえ、確保
できなくなるという欠点があった。さらに十分な作業メ
モリがないと、処理速度が低下するという問題も生じて
いた。

【０００５】本発明は上記従来例に鑑みてなされたもの
で、シャドウパターンのような修飾パターンの生成に十
分な専用メモリが確保出来ない場合でも、小容量のメモ
リを用いて修飾パターンを生成することができる画像処
理方法及びその装置を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の画像処理方法は、以下のような工程からな
る。即ち、フォントパターンを複数の領域に分割し、各
分割領域毎にシャドウを施して修飾フォントパターンを
生成する画像処理方法であって、前記分割領域毎に記憶
媒体に格納されたフォントパターンの一部を読み出す読
みだし工程と、前記読みだし工程によって読みだされた
フォントパターンを構成する各ストロークの幅を、前記
シャドウの方向に太らせる太らせ工程と、前記読みだし
工程によって読みだされたフォントパターンの反転フォ
ントパターンを生成する反転工程と、前記太らせ工程に
よって太らせられたフォントパターンと、前記反転工程
によって生成された反転フォントパターンとを合成する
合成工程と、各分割領域毎に合成された合成パターンを
ビットマップ展開して修飾フォントパターンを生成する
生成工程とを有することを特徴とする画像処理方法を備
える。

【０００７】また他の発明によれば、フォントパターン
を複数の領域に分割し、各分割領域毎にシャドウを施し
て修飾フォントパターンを生成する画像処理装置であっ
て、前記フォントパターンを格納する第１記憶手段と、
前記分割領域毎に前記第１記憶手段に格納されたフォン
トパターンの一部を読み出す読みだし手段と、前記読み
だされたフォントパターンを構成する各ストロークの幅
を、前記シャドウの方向に太らせる太らせ手段と、前記
読みだされたフォントパターンの反転フォントパターン
を生成する反転手段と、前記太らせられたフォントパタ
ーンと、前記反転フォントパターンとを合成する合成手
段と、各分割領域毎に合成された合成パターンをビット
マップ展開して修飾フォントパターンを生成する生成手
段とを有することを特徴とする画像処理装置を備える。

【０００８】

【作用】以上の構成により本発明は、フォントパターン
にシャドウを施して修飾フォントパターンを生成すると
き、第１記憶手段に格納されたフォントパターンを複数
の領域に分割し、その分割領域毎にフォントパターンの
一部を読みだし、その読みだされたフォントパターンを
構成する各ストロークの幅を、シャドウの方向に太ら
せ、また、その読みだされたフォントパターンを反転さ
せ、その太らせられたフォントパターンと反転フォント
パターンとを合成し、各分割領域毎に合成された合成パ
ターンをビットマップ展開して修飾フォントパターンを
生成するよう動作する。

【０００９】

【実施例】以下添付図面を参照して本発明の好適な実施
例を詳細に説明する。図１は本発明の代表的な実施例で
あるページメモリを備えたプリンタ装置の構成を示すブ
ロック図である。図１において、１はプリンタ装置、２
はデータ供給源となるホストコンピュータ（以下、ホス
トという）、３はプリンタ装置１の全体を制御するＣＰ
Ｕ、４はホスト２より送られてくるデータを格納する入
力インタフェース、５は後述する図４に示すフローチャ
ートのプログラムを含む制御プログラムを格納するプロ
グラムＲＯＭ（ＰＲＯＭ）、６は入力文字コードに対応
するスケーラブルフォント（文字パターンをドット情報
ではなく、ストローク情報で表して記憶した文字フォン
ト）が格納されているフォントＲＯＭ（ＦＲＯＭ）、６
ａは使用頻度の高い文字フォントとしてドットパターン
に変換して格納したり、また、以下に説明する文字修飾
のための作業領域として用いるフォントキャッシュメモ
リ（ＦＣＡＣＨＥ）、７は１ページ分の文字情報（後
述）を格納するページメモリ、修飾文字パターンを展開
するビットマップメモリ、及び、その他制御プログラム
の実行のための作業領域となるＲＡＭ、８は印刷を行う
ための出力部（プリンタエンジン）である。

【００１０】なお、出力部８はカラー印刷を行なうため
に、４色（Ｙ（イエロ）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シア
ン）、Ｂｋ（ブラック））のインク、或いは、トナーに
よって多値画像形成を行なう印刷部が備えられている。
図２は図１に示すプリンタ装置が実行する印刷処理にお
けるデータの流れを示すブロック図である。

【００１１】図２に従えば、入力インタフェース４で受
信されるホスト２からのデータはまずＲＡＭ７内にある
受信バッファ９に転送される。次に、その転送されたデ
ータはＣＰＵ３によって解析され、図３（ａ）に示すよ
うなページメモリ１０内に個々のコマンドとして１ペー
ジの１セグメントごとにレコード形式に編集される。次
に、編集されたレコードは、制御プログラムの１つであ
る描画ルーチンによって解析され、ビットマップメモリ
１１にビットマップイメージとして展開される。文字デ
ータに関してはこの時、文字処理用のビットマップ作成
ルーチンがＣＰＵ３によって実行される。

【００１２】最後に、描画ルーチンによって作成された
ビットマップイメージは出力部８に転送され、印刷され
る。図３は図２に示したページメモリ１０の内部構成を
示す図であり、図３（ａ）にはページメモリ内には１ペ
ージ分のレコードが１セグメントごとに編集されて格納
されている様子が、図３（ｂ）には１レコードの詳細な
内部構成が示されている。図３（ａ）に示されているよ
うに、各レコードには次のレコードへのポインタが格納
されリンクされている。尚、図３に示す１レコードは文
字データ関係のレコードである。

【００１３】そのレコードには、図３（ｂ）に示すよう
に、フィルパターン，アウトラインパターン，シャドウ
パターンの有無を示すビットフラグがあり、文字に修飾
がかかっていなければこの３ビットはすべて“０”とな
る。文字修飾がある場合、その修飾パターンに従って、
これらのフラグの少なくとも１つが“１”になる。フラ
グの値が“１”になっているパターンに関しては、それ
ぞれのパターンに対し、色の情報が与えられる。図３
（ｂ）は３ビット全部が“１”である場合の例である
が、それぞれのパターンの色情報が“０−２５５”の値
で示されており、数字が大きくなるほど濃度が高くな
る。例えば、フィルパターンの色が黄色に指定されてい
た場合、フィルパターン部の色情報にはＹ＝２５５，Ｍ
＝０，Ｃ＝０，Ｋ＝０と格納される。

【００１４】なお、図３（ｂ）では省略しているが、文
字の情報には他に文字サイズ，文字ピッチ，フィルパタ
ーン番号，アウトラインの太さ，シャドウパターン番
号，シャドウの方向，シャドウの長さ、文字の回転指示
などの情報が記述されている。次に、以上の構成のプリ
ンタ装置が実行する文字パターン修飾処理（シャドウパ
ターン修飾）について、図４に示すフローチャートを参
照して説明する。上述したように、ページメモリ１０に
格納されたレコード情報に基づいて、ＣＰＵ３は文字パ
ターンに関しては文字のビットマップ作成ルーチンをＰ
ＲＯＭ５から読みだし、文字パターン修飾処理のために
実行する。

【００１５】まず、ステップＳ１でレコードに記述され
ている文字情報を獲得する。次に、ステップＳ２では、
ステップＳ１で獲得した文字コードや文字サイズや文字
ピッチなどの文字情報に基づいて、ＦＲＯＭ６に格納さ
れているスケーラブルフォントを指定された大きさでビ
ットマップメモリ１１にビットマップ展開する。

【００１６】ステップＳ３では、ステップＳ１で獲得し
た文字情報に基づいて、シャドウパターンの文字修飾を
行なう指示があるかどうか、即ち、シャドウパターンの
有無を示すビットフラグの値が“１”であるかどうかを
判断する。ここで、そのビットフラグの値が“０”であ
れば、文字パターン修飾処理を終了させ、文字修飾を行
なわないまま文字パターンのビットマップ展開を行なっ
て、パターン描画を行なう。これに対して、そのビット
フラグの値が“１”であれば、シャドウパターン文字修
飾の指示があったと判断して処理はステップＳ４に進
む。

【００１７】ステップＳ４ではフォントキャッシュメモ
リ（ＦＣＡＣＨＥ）６ａにシャドウパターン領域が確保
できるかどうか調べる。ここで、フォントキャッシュメ
モリ（ＦＣＡＣＨＥ）６ａでシャドウパターン生成領域
が確保できる場合は、処理はステップＳ６´に進み、従
来例で図１５（ａ）を参照して説明したようにフォント
キャッシュメモリ（ＦＣＡＣＨＥ）６ａを用いてシャド
ウパターン生成を行う。これに対して、フォントキャッ
シュメモリ（ＦＣＡＣＨＥ）６ａにシャドウパターン生
成領域が確保できなかった場合は、処理はステップＳ５
に進み、ＲＡＭ７にその作業領域を確保する。この時、
確保されるメモリサイズは、従来例のようにシャドウパ
ターン全てを処理できる領域を確保するのではなく、そ
の一部のパターンを処理できる領域である。以下、この
領域によって処理されるパターンをセグメントという。
この点については、後で詳述する。次にステップＳ６
で、ステップＳ１で獲得した文字情報をもとに各セグメ
ントごとのシャドウパターン生成を行う。その後、生成
されたパターンは、ビットマップメモリ１１に転送され
る。

【００１８】次に、ステップＳ６におけるシャドウパタ
ーン生成について、図５に示すフローチャートを参照し
て詳細に説明する。ここでは、シャドウによる文字修飾
は文字パターンの右上方向（シャドウ方向）になされる
とし、従来例の図１５で説明したと同じ文字パターン
“亜”を例として考え、その文字パターンの修飾パター
ンは、図１５（ｂ）に示すように３つのセグメント１５
１〜１５３に分割されるとする。

【００１９】まず、ステップＳ７ではＦＲＯＭ６から読
みだされスケーラブルビットマップ展開されたパターン
（ソースパターン）において、１セグメント分の処理に
必要な部分を確保された作業領域の一部（シャドウパタ
ーン領域）にコピーする。この時、ソースパターンのど
の部分がそのセグメントに含まれているかに依存して、
コピーする領域は異なる。

【００２０】即ち、図６（ａ）の６１０に示すようなソ
ースパターン領域があったとし、各セグメント内に含ま
れるシャドウパターンのパターン高をcutheight，ソー
スパターン全ての展開に必要な領域を、例えば、図６
（ａ）の６１１に示すよう仮想的に考え、夫々のセグメ
ントの上端／下端よりその仮想領域上端／下端までのオ
フセット長を各々、topoffset，btmoffsetとし、シャド
ウの長さを縦方向、横方向夫々にsdwoffsetとすると、
縦方向に関して、ソースパターン領域上における各セグ
メントの切り取りサイズは、これら４つのパラメータで
定義される。

【００２１】まず、３分割されたセグメントの内、最上
部のセグメント１５１は、図６（ａ）の６１１が示すよ
うにtopoffset=０（即ち、上方のオフセットはない）な
ので、コピー対象とするソースパターンはその上端から
パターン高がcutheight＋sdwoffset分となる。また、中
間部のセグメント１５２は、図７（ａ）の７１０、７１
１が示すようにtopoffset＞sdwoffsetかつbtmoffset＞s
dwoffsetなので、コピーするソースパターンはその上端
からtopoffset−sdwoffsetの位置から、パターン高がcu
theight＋sdwoffset分となる。さらに、最下部のセグメ
ント１５３は、図８（ａ）の８１０、８１１が示すよう
にbtmoffset=０（即ち、下方のオフセットはない）なの
で、コピー対象とするソースパターンはその上端から
｛ソースパターン高(srcpath)−cutheight−sdwoffse
t)｝の位置からパターン高がcutheight＋sdwoffset分と
なる。

【００２２】次に、ステップＳ８ではシャドウパターン
領域にコピーしたパターンをシャドウの長さ分（縦横方
向sdwoffsetの値をもつ）夫々、シャドウの方向に平行
移動して論理和をとりながらその演算結果をシャドウパ
ターン領域に書き込む。これによって、図６（ａ）の６
１２、図７（ａ）の７１２、及び、図８（ａ）の８１２
各々のパターンは、図６（ａ）の６１３、図７（ａ）の
７１３、及び、図８（ａ）の８１３に示すように各々シ
ャドウの方向にストロークの幅が太くなる。

【００２３】ステップＳ９ではシャドウパターン領域に
コピーしたパターンを反転させる。これによって、図６
（ａ）の６１２、図７（ａ）の７１２、及び、図８
（ａ）の８１２各々のパターンは、図６（ａ）の６１
４、図７（ａ）の７１４、及び、図８（ａ）の８１４に
示すような反転パターンが生成される。さらに、図６
（ａ）の６１３、図７（ａ）の７１３、及び、図８
（ａ）の８１３に示すパターンは各々、図６（ａ）の６
１４、図７（ａ）の７１４、及び、図８（ａ）の８１４
に示すような反転パターンとの論理積がとられ、その演
算結果として、各セグメントに関し、図６（ａ）の６１
５、図７（ａ）の７１５、及び、図８（ａ）の８１５に
示すようなシャドウパターンが得られる。

【００２４】最後に、ステップＳ１０では得られたシャ
ドウパターンをビットマップメモリ１１に展開するため
の切り出し領域に関する情報を設定する。この時も、シ
ャドウパターンのどの部分がどのセグメントに含まれて
いるかによって、設定する情報も異なる。即ち、セグメ
ント１５１は図６（ｂ）に示すように、ステップＳ５で
確保された領域の先頭アドレスから実パターン高(cuthe
ight)分に相当する領域が切り出し領域として設定され
る。次に、セグメント１５２は図７（ｂ）に示すよう
に、ステップＳ５で確保された領域の先頭アドレスから
縦方向に関するシャドウの長さ(sdwoffset)分の領域を
加えたアドレスから実パターン高(cutheight)分に相当
する領域が切り出し領域として設定される。さらに、セ
グメント１５３は図８（ｂ）に示すように、ステップＳ
５で確保された領域の先頭アドレスから縦方向に関する
シャドウの２倍の長さ(sdwoffset×２)分の領域を加え
たアドレスから実パターン高(cutheight)分に相当する
領域が切り出し領域として設定される。このようにして
設定された情報に基づいて、各セグメントの修飾処理が
施されたパターンデータがビットマップメモリ１１へと
転送される。

【００２５】従って本実施例に従えば、フォントキャッ
シュメモリにシャドウパターン生成領域が確保できなか
った場合には、シャドウパターンの一部のパターンを処
理できる領域を作業領域として確保し、ソースパターン
を複数のセグメントに分割して、そのセグメント毎に確
保された領域を用いてシャドウパターンを生成すること
ができる。これによって、より小さいメモリ領域でもシ
ャドウパターン生成が可能になる。

【００２６】なお本実施例ではシャドウ方向を右上方向
とした場合について説明したので、パターンの縦方向に
関し、シャドウの長さ(sdwoffset)分と実パターン高(cu
theight)分の和に対応するメモリ領域が必要となるが、
シャドウ方向が横方向（右もしくは左）の場合は確保す
るメモリ領域としては、パターンの縦方向に関し、実パ
ターン高(cutheight)で十分である。このように、シャ
ドウ方向によって、確保すべきメモリ領域は変化する。

【００２７】従って、図４のステップＳ５のシャドウパ
ターンメモリ確保処理に、シャドウ方向を考慮してより
無駄なくメモリ領域を確保するために、図９に示すよう
な処理を加えても良い。図９はシャドウ方向を考慮した
シャドウパターンメモリ確保処理を示すフローチャート
である。

【００２８】まず、ステップＳ１１ではシャドウの方向
を獲得する。これは、文字情報を生成するホスト２で生
成され、入力インタフェース４を経てホスト２から指示
される。次にステップＳ１２では指示されたシャドウ方
向が文字パターンに関して横方向（右或いは左）かどう
かを調べる。ここで、その方向が横方向であるなら、処
理はステップＳ１３に進み、確保するメモリ領域として
は、パターンの縦方向に関し、実パターン高(cutheigh
t)とする。これに対して、その方向が横方向以外であれ
ば、処理はステップＳ１４に進み、確保するメモリ領域
としては、パターンの縦方向に関し、実パターン高(cut
height)＋sdwoffsetとする。このようにして、確保され
るメモリ領域の大きさが決まったら、処理はステップＳ
１５でその大きさに従って、メモリ領域を確保する。

【００２９】図１０は、シャドウ方向が横方向（右）の
場合のセグメント１５２のシャドウパターンの生成過程
を示す図である。この場合、図１０（ａ）の１０１０、
１０１１に示すように、コピーするソースパターンはそ
の上端からtopoffsetの位置から、実パターン高(cuthei
ght)分となる。次に、確保されたメモリ領域にコピーし
たパターンをシャドウの長さ分（横方向にsdwoffsetの
値をもつ）、シャドウの方向に平行移動して論理和をと
りながらその演算結果をシャドウパターン領域に書き込
む。これによって、図１０（ａ）の１０１２のパターン
は、図１０（ａ）の１０１３に示すようにシャドウの方
向にストロークの幅が太くなる。一方、図１０（ａ）の
１０１２のパターンは、図１０（ａ）の１０１４に示す
ような反転パターンに生成される。さらに、図１０
（ａ）の１０１３に示すパターンと、図１０（ａ）の１
０１４に示すような反転パターンとの論理積がとられ、
その演算結果として、セグメント１５２に関し、図１０
（ａ）の１０１５に示すようなシャドウパターンが得ら
れる。

【００３０】このシャドウパターンは、図１０（ｂ）に
示すように、確保された領域の先頭アドレスからそのま
ま実パターン高(cutheight)分に相当する領域が切り出
し領域として設定される。

【００３１】

【他の実施例】ここでは、前述の実施例と共通の装置を
用いて、例えば、図１１に示すような通常の文字を反時
計回りに９０°回転し、その回転文字に関して右上方向
をシャドウ方向としてシャドウパターンを施す修飾処理
について、図１２に示すフローチャートと、図１３に示
す文字パターン“亜”を例にとったシャドウパターンの
生成過程を示す図とを参照して説明する。ここでは、最
初には回転を施さないソースパターンにシャドウパター
ンの修飾だけを施して、その後、ビットマップメモリ１
１への展開時にその修飾パターンを回転させるものとす
る。

【００３２】そして、以下に説明するシャドウパターン
の生成過程では、最終的にビットマップメモリ１１に展
開される修飾パターンが、図１１に示すように３つのセ
グメント１１１、１１２、１１３に分割されて、そのセ
グメント毎にビットマップ展開が行なわれるとする。ま
ず、ステップＳ１６では、ＦＲＯＭ６から読みだされス
ケーラブルビットマップ展開されたパターン（ソースパ
ターン）において、最終的に得られる回転した修飾パタ
ーンを考慮して各セグメント１１１〜１１３の生成に必
要な部分のパターンをを確保された作業領域の一部（シ
ャドウパターン領域）にコピーする。ここでは、説明を
簡単にするため、３つのセグメントの内、真ん中のセグ
メント１１２を考える。

【００３３】即ち、前述の実施例と同様に図１３（ａ）
の１３１０に示すようなソースパターン領域があったと
し、各セグメント内に含まれるシャドウパターンのパタ
ーン高をcutheight，ソースパターン全ての展開に必要
な領域を、例えば、図１３（ａ）の１３１１に示すよう
仮想的に考え、夫々のセグメントの右端／左端よりその
仮想領域右端／左端までのオフセット長を各々、topoff
set，btmoffsetとし、シャドウの長さを縦方向、横方向
夫々にsdwoffsetとすると、横方向に関して、ソースパ
ターン領域上における各セグメントの切り取りサイズ
は、これら４つのパラメータで定義される。

【００３４】そして、セグメント１１２は、その横方向
に関し、図１３（ａ）の１３１０、１３１１が示すよう
にtopoffset＞sdwoffsetかつbtmoffset＞sdwoffsetなの
で、コピーするソースパターンはその右端からtopoffse
t−sdwoffsetの位置から、パターン高がcutheight＋sdw
offset分となり、この部分がコピーされる。次にステッ
プＳ１７でシャドウパターン領域にコピーしたパターン
をシャドウの長さ分（縦横方向sdwoffsetの値をもつ）
夫々、シャドウの方向に平行移動して論理和をとりなが
らその演算結果をシャドウパターン領域に書き込む。こ
れによって、これによって、図１３（ａ）の１３１２の
パターンは、図１３（ａ）の１３１３に示すように各々
シャドウの方向にストロークの幅が太くなる。

【００３５】ステップＳ１８ではシャドウパターン領域
にコピーしたパターンを反転させる。これによって、図
１３（ａ）の１３１２のパターンは、図１３（ａ）の１
３１４に示すような反転パターンが生成される。さら
に、図１３（ａ）の１３１３に示すパターンと、図１３
（ａ）の１３１４に示す反転パターンとの論理積がとら
れ、その演算結果として、セグメント１１２に関し、図
１３（ａ）の１３１５に示すようなシャドウパターンが
得られる。

【００３６】最後に、ステップＳ１９では得られたシャ
ドウパターンをビットマップメモリ１１に展開するため
の切り出し領域に関する情報を設定する。セグメント１
１２は図１３（ｂ）に示すように、確保された領域の右
端から横方向に関するシャドウの長さ(sdwoffset)分の
領域を加えたアドレスから実パターン高(cutheight)分
に相当する領域が切り出し領域として設定される。この
ようにして設定された情報に基づいて、各セグメントの
修飾処理が施されたパターンデータがビットマップメモ
リ１１へと転送される。この転送において、パターンデ
ータは図１３（ｂ）のＰ点から縦方向に読みだされ、Ｐ
´点まで転送される。

【００３７】従って本実施例に従えば、シャドウパター
ンを施した回転した文字を生成する場合でも、シャドウ
パターンの一部のパターンを処理できる領域を作業領域
として確保し、ソースパターンを複数のセグメントに分
割して、そのセグメント毎に確保された領域を用いてシ
ャドウパターンを生成することができる。これによっ
て、より小さいメモリ領域でもシャドウパターン生成が
可能になる。

【００３８】なお本実施例では、回転を施さないソース
パターンに修飾を施してビットマップメモリ１１への展
開時に回転を施して出力するという手順をとる場合につ
いて考えたが本発明はこれによって限定されるものでは
ない。例えば、シャドウパターン生成時に回転を施した
パターンを生成して、これをビットマップメモリにその
まま展開するという手順でもよい。

【００３９】尚、本発明は、複数の機器から構成される
システムに適用しても良いし、１つの機器から成る装置
に適用しても良い。また、本発明はシステム或は装置に
プログラムを供給することによって達成される場合にも
適用できることはいうまでもない。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、フ
ォントパターンにシャドウを施して修飾フォントパター
ンを生成するとき、第１記憶手段に格納されたフォント
パターンを複数の領域に分割し、その分割領域毎にフォ
ントパターンの一部を読みだし、その読みだされたフォ
ントパターンを構成する各ストロークの幅を、シャドウ
の方向に太らせ、また、その読みだされたフォントパタ
ーンを反転させ、その太らせられたフォントパターンと
反転フォントパターンとを合成し、各分割領域毎に合成
された合成パターンをビットマップ展開して修飾フォン
トパターンを生成するので、小さな領域のメモリを用い
ても、修飾フォントパターンの生成ができるという効果
がある。

【００４１】これによって、装置に実装するメモリ容量
が削減が可能になるという利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の代表的な実施例であるページメモリを
備えたプリンタ装置の構成を示すブロック図である。

【図２】図１に示すプリンタ装置が実行する印刷処理に
おけるデータの流れを示すブロック図である。

【図３】図２に示したページメモリ１０の内部構成を示
す図である。

【図４】文字パターン修飾処理を示すフローチャートで
ある。

【図５】シャドウパターン生成処理を示すフローチャー
トである。

【図６】文字パターン“亜”のセグメント１５１にシャ
ドウパターンを施す様子を示す図である。

【図７】文字パターン“亜”のセグメント１５２にシャ
ドウパターンを施す様子を示す図である。

【図８】文字パターン“亜”のセグメント１５３にシャ
ドウパターンを施す様子を示す図である。

【図９】シャドウ方向を考慮したメモリ確保処理を示す
フローチャートである。

【図１０】シャドウ方向が横方向である場合に確保した
メモリ領域を用いて文字パターン“亜”のセグメント１
５２にシャドウパターンを施す様子を示す図である。

【図１１】回転した文字に対するビットマップメモリの
構成を示す図である。

【図１２】回転した文字に対するシャドウパターン生成
処理を示すフローチャートである。

【図１３】回転した文字に対するシャドウパターンの生
成過程を示す図である。

【図１４】従来のビットマップメモリの構成を示す図で
ある。

【図１５】従来のシャドウパターン生成手順を表す図で
ある。

【符号の説明】

１ プリンタ装置 ２ ホストコンピュータ ３ ＣＰＵ ４ 入力インタフェース ５ プログラムＲＯＭ（ＰＲＯＭ） ６ フォントＲＯＭ（ＦＲＯＭ） ６ａ フォントキャッシュメモリ（ＦＣＡＣＨＥ） ７ ＲＡＭ ８ 出力部 ９ 受信バッファ １０ ページメモリ １１ ビットマップメモリ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォントパターンを複数の領域に分割
   し、各分割領域毎にシャドウを施して修飾フォントパタ
   ーンを生成する画像処理方法であって、 前記分割領域毎に記憶媒体に格納されたフォントパター
   ンの一部を読み出す読みだし工程と、 前記読みだし工程によって読みだされたフォントパター
   ンを構成する各ストロークの幅を、前記シャドウの方向
   に太らせる太らせ工程と、 前記読みだし工程によって読みだされたフォントパター
   ンの反転フォントパターンを生成する反転工程と、 前記太らせ工程によって太らせられたフォントパターン
   と、前記反転工程によって生成された反転フォントパタ
   ーンとを合成する合成工程と、 各分割領域毎に合成された合成パターンをビットマップ
   展開して修飾フォントパターンを生成する生成工程とを
   有することを特徴とする画像処理方法。
2. 【請求項２】 フォントパターンを複数の領域に分割
   し、各分割領域毎にシャドウを施して修飾フォントパタ
   ーンを生成する画像処理装置であって、 前記フォントパターンを格納する第１記憶手段と、 前記分割領域毎に前記第１記憶手段に格納されたフォン
   トパターンの一部を読み出す読みだし手段と、 前記読みだされたフォントパターンを構成する各ストロ
   ークの幅を、前記シャドウの方向に太らせる太らせ手段
   と、 前記読みだされたフォントパターンの反転フォントパタ
   ーンを生成する反転手段と、 前記太らせられたフォントパターンと、前記反転フォン
   トパターンとを合成する合成手段と、 各分割領域毎に合成された合成パターンをビットマップ
   展開して修飾フォントパターンを生成する生成手段とを
   有することを特徴とする画像処理装置。
3. 【請求項３】 前記記憶手段に格納されたフォントパタ
   ーンを分割せずに修飾フォントパターンを生成するため
   に用いる専用記憶手段と、 前記読みだされたフォントパターンの太らせ及び反転
   と、前記太らせられたフォントパターンと前記反転フォ
   ントパターンとの合成のための作業領域となる第２記憶
   手段とをさらに有し、 前記専用記憶手段の容量が不足したときに、前記第２記
   憶手段を用い、前記フォントパターンを複数の領域に分
   割し、各分割領域毎にシャドウを施して修飾フォントパ
   ターンを生成するよう制御することを特徴とする請求項
   ２に記載の画像処理装置。
4. 【請求項４】 前記生成手段は、ビットマップメモリを
   含むことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
5. 【請求項５】 外部装置から情報や指示を受信するイン
   タフェース手段と、 前記情報や指示を解析する解析手段とをさらに有し、 修飾フォントパターン生成は、前記外部装置からの指示
   に基づいて行なわれることを特徴とする請求項２に記載
   の画像処理装置。
6. 【請求項６】 前記指示にはシャドウの方向やフォント
   パターンの回転に関する指示が含まれていることを特徴
   とする請求項５に記載の画像処理装置。
7. 【請求項７】 前記シャドウの方向に関する指示に従っ
   て、前記太らせ手段は前記読みだされたフォントパター
   ンを構成する各ストロークの幅を太らせることを特徴と
   する請求項６に記載の画像処理装置。
8. 【請求項８】 前記フォントパターンの回転に関する指
   示に従って、フォントパターンを複数の領域に分割する
   ときの分割方向を制御する分割制御手段をさらに有する
   ことを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。