JPH0822901A - 電子部品とその製造方法 - Google Patents
電子部品とその製造方法Info
- Publication number
- JPH0822901A JPH0822901A JP6153503A JP15350394A JPH0822901A JP H0822901 A JPH0822901 A JP H0822901A JP 6153503 A JP6153503 A JP 6153503A JP 15350394 A JP15350394 A JP 15350394A JP H0822901 A JPH0822901 A JP H0822901A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- layers
- electronic component
- diffused
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Details Of Resistors (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は電子部品とその製造方法に関するも
ので、水分などから素子を保護する保護膜の付着強度を
高めるものである。 【構成】 そしてこの目的を達成するために本発明は、
保護膜4を、素子1表面に、その少なくとも一部が拡散
した反応助剤層と、この反応助剤層表面に設けられた保
護層とにより構成したものである。
ので、水分などから素子を保護する保護膜の付着強度を
高めるものである。 【構成】 そしてこの目的を達成するために本発明は、
保護膜4を、素子1表面に、その少なくとも一部が拡散
した反応助剤層と、この反応助剤層表面に設けられた保
護層とにより構成したものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品とその製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、素子を外部雰囲気より保護す
るために、その外周部に保護膜を設けることが行われて
いる。
るために、その外周部に保護膜を設けることが行われて
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の保護膜は、
例えばガラスを素子の外周部に塗布することにより形成
されたものであったが、その接着強度が低いと言う問題
があった。即ち、ガラスは素子の外表面に単に付着して
いるだけであったので、衝撃や熱による膨張収縮によ
り、はく離してしまうのであった。そこで本発明は、こ
の保護膜の付着強度を高めることを目的とするものであ
る。
例えばガラスを素子の外周部に塗布することにより形成
されたものであったが、その接着強度が低いと言う問題
があった。即ち、ガラスは素子の外表面に単に付着して
いるだけであったので、衝撃や熱による膨張収縮によ
り、はく離してしまうのであった。そこで本発明は、こ
の保護膜の付着強度を高めることを目的とするものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】そしてこの目的を達成す
るために本発明は、保護膜を、素子表面に、その少なく
とも一部が拡散した反応助剤層と、この反応助剤層表面
に設けられた保護層とにより構成したものである。
るために本発明は、保護膜を、素子表面に、その少なく
とも一部が拡散した反応助剤層と、この反応助剤層表面
に設けられた保護層とにより構成したものである。
【0005】
【作用】上記構成とすれば、下層の反応助剤層の一部が
素子表面に拡散しており、また上層の保護層にもこの反
応助剤層が拡散しているので、結論として保護膜の素子
に対する付着強度は極めて強く、水分などによる素子の
変成を防止することが出来る。
素子表面に拡散しており、また上層の保護層にもこの反
応助剤層が拡散しているので、結論として保護膜の素子
に対する付着強度は極めて強く、水分などによる素子の
変成を防止することが出来る。
【0006】
【実施例】図1において、1はバリスタ素子で、その内
部には複数の内部電極2が設けられ、その両端には外部
電極3が設けられている。バリスタ素子1は、SrTi
O 3を主成分とし、副成分としてNb2O5,Ta2O5,
SiO2,MnO2などを添加して形成したものである。
また、内部電極2はNiを主成分とし、副成分としてL
i2CO3などを添加して形成したものである。さらに外
部電極3は、下層3aがNiを主成分とし、副成分とし
てLi2CO3などを添加して形成され、上層3bがAg
で形成されたものである。以上の構成においてバリスタ
素子1の上下面およびそれに接する上層3b表面には、
保護膜4が付着形成されている。この保護膜は、上下二
層の構成となっており、下層はバリスタ素子1表面と上
層3bに少なくともその一部が拡散した反応助剤層とな
っている。この反応助剤層はBi,Sbの少なくとも一
方を含むものである。また、上層は、保護層となってお
りSi,Ti,Alの少なくとも一種類以上を含む構造
となっており、その下面には前記反応助剤層の一部が拡
散している。従って、バリスタ素子1は、その外表面を
保護膜4および外部電極3で覆われ、しかも、これらの
保護膜4と外部電極3の当接部分においては、反応助剤
層の一部が外部電極3に拡散しているので、その気密性
は極めて高く、水分などからの保護が確実に行われる。
部には複数の内部電極2が設けられ、その両端には外部
電極3が設けられている。バリスタ素子1は、SrTi
O 3を主成分とし、副成分としてNb2O5,Ta2O5,
SiO2,MnO2などを添加して形成したものである。
また、内部電極2はNiを主成分とし、副成分としてL
i2CO3などを添加して形成したものである。さらに外
部電極3は、下層3aがNiを主成分とし、副成分とし
てLi2CO3などを添加して形成され、上層3bがAg
で形成されたものである。以上の構成においてバリスタ
素子1の上下面およびそれに接する上層3b表面には、
保護膜4が付着形成されている。この保護膜は、上下二
層の構成となっており、下層はバリスタ素子1表面と上
層3bに少なくともその一部が拡散した反応助剤層とな
っている。この反応助剤層はBi,Sbの少なくとも一
方を含むものである。また、上層は、保護層となってお
りSi,Ti,Alの少なくとも一種類以上を含む構造
となっており、その下面には前記反応助剤層の一部が拡
散している。従って、バリスタ素子1は、その外表面を
保護膜4および外部電極3で覆われ、しかも、これらの
保護膜4と外部電極3の当接部分においては、反応助剤
層の一部が外部電極3に拡散しているので、その気密性
は極めて高く、水分などからの保護が確実に行われる。
【0007】図2は、保護膜4の形成方法を示したもの
である。即ち、受皿5上に、セラミック製の板6を設
け、その上にバリスタ素子1を粉体7内に埋設した状態
で設け、最後にセラミック製のフタ8を被せ、700〜
850℃で30分加熱する。この場合、粉体7はAl2
O3,SiO2,TiO2,MgO,ZrO2の少なくとも
一種類以上の反応抑制剤と、Bi2O3,Sb2O3の少な
くとも一方の反応助剤を混合したものであって、その重
量比は後者1に対して前者を2としている。
である。即ち、受皿5上に、セラミック製の板6を設
け、その上にバリスタ素子1を粉体7内に埋設した状態
で設け、最後にセラミック製のフタ8を被せ、700〜
850℃で30分加熱する。この場合、粉体7はAl2
O3,SiO2,TiO2,MgO,ZrO2の少なくとも
一種類以上の反応抑制剤と、Bi2O3,Sb2O3の少な
くとも一方の反応助剤を混合したものであって、その重
量比は後者1に対して前者を2としている。
【0008】さらに、ここで後者1に対して前者を2未
満とした場合では、反応助剤が多量に素子内部に拡散す
るため電気特性の変化や、形状の変化が激しく発生す
る。この現象は特に積層体に顕微に現われる。また、こ
の場合後者の粒径は前者よりも細かい方が望ましいもの
である。この図2に示す状態にする前に、バリスタ素子
1は、(C2H5O)4Si,(C3H7O)4Ti,(C4
H9O)3Alを含む液体中に浸漬されているので、その
表面にはこの液体が付着している。この状態で加熱すれ
ば図1に示すごとく保護膜4が形成される。但し、この
状態においては、外部電極3の外表面全面にも保護膜4
が形成されているので、面とりにより図1に示す状態ま
で取り除く。
満とした場合では、反応助剤が多量に素子内部に拡散す
るため電気特性の変化や、形状の変化が激しく発生す
る。この現象は特に積層体に顕微に現われる。また、こ
の場合後者の粒径は前者よりも細かい方が望ましいもの
である。この図2に示す状態にする前に、バリスタ素子
1は、(C2H5O)4Si,(C3H7O)4Ti,(C4
H9O)3Alを含む液体中に浸漬されているので、その
表面にはこの液体が付着している。この状態で加熱すれ
ば図1に示すごとく保護膜4が形成される。但し、この
状態においては、外部電極3の外表面全面にも保護膜4
が形成されているので、面とりにより図1に示す状態ま
で取り除く。
【0009】
【発明の効果】以上のごとく本発明は、素子の表面に、
その少なくとも一部が拡散した反応助剤層と、この反応
助剤層表面に設けられた保護層とにより構成された保護
膜を設けたものである。
その少なくとも一部が拡散した反応助剤層と、この反応
助剤層表面に設けられた保護層とにより構成された保護
膜を設けたものである。
【0010】上記構成とすれば、下層の反応助剤層の一
部が素子表面に拡散しており、また上層の保護層にもこ
の反応助剤層が拡散しているので、結論として保護膜の
素子に対する付着強度は極めて強く、水分などによる素
子の変成を防止することが出来る。
部が素子表面に拡散しており、また上層の保護層にもこ
の反応助剤層が拡散しているので、結論として保護膜の
素子に対する付着強度は極めて強く、水分などによる素
子の変成を防止することが出来る。
【図1】本発明の一実施例を示す断面図
【図2】その製造工程を示す断面図
1 バリスタ素子 2 内部電極 3 外部電極 4 保護膜
Claims (9)
- 【請求項1】 素子と、この素子の外周部に設けた保護
膜とを備え、前記保護膜は、前記素子表面にその少なく
とも一部が拡散した反応助剤層と、この反応助剤層表面
に設けられた保護層とにより構成された電子部品。 - 【請求項2】 反応助剤層は、Bi,Sbの少なくとも
一方を含む請求項1記載の電子部品。 - 【請求項3】 保護層は、Si,Ti,Alの少なくと
も一種類以上を含む請求項1または2記載の電子部品。 - 【請求項4】 素子の表面に保護層形成用物質を付着さ
せ、次にこの物質の外表面に反応助剤を付着させ、その
後加熱する電子部品の製造方法。 - 【請求項5】 保護層形成用物質を含む液体中に素子を
浸漬し、その後素子を液体中から取出した後に、反応助
剤を付着させる請求項4記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項6】 液体は、(C2H5O)4Si,(C3H7
O)4Ti,(C4H9O)3Alの少なくとも一種類以上
を含む請求項5記載の電子部品の製造方法。 - 【請求項7】 反応助剤と反応抑制剤を混合し、この混
合体を素子の外表面に当接させる請求項4または5記載
の電子部品の製造方法。 - 【請求項8】 重量比で反応助剤1に対して反応抑制剤
を2以上混合させる請求項7記載の電子部品の製造方
法。 - 【請求項9】 反応抑制剤は、Al2O3,SiO2,T
iO2,MgO,ZrO 2の少なくとも一種類以上のもの
よりなる請求項7または8記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15350394A JP3255799B2 (ja) | 1994-07-05 | 1994-07-05 | 電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15350394A JP3255799B2 (ja) | 1994-07-05 | 1994-07-05 | 電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0822901A true JPH0822901A (ja) | 1996-01-23 |
JP3255799B2 JP3255799B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=15563985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15350394A Expired - Fee Related JP3255799B2 (ja) | 1994-07-05 | 1994-07-05 | 電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3255799B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009177085A (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Tdk Corp | セラミック素子 |
CN107705945A (zh) * | 2017-09-25 | 2018-02-16 | 江苏时瑞电子科技有限公司 | 一种热敏电阻铜电极的制备方法及其所用压封模具 |
-
1994
- 1994-07-05 JP JP15350394A patent/JP3255799B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009177085A (ja) * | 2008-01-28 | 2009-08-06 | Tdk Corp | セラミック素子 |
US7813104B2 (en) | 2008-01-28 | 2010-10-12 | Tdk Corporation | Ceramic element |
CN107705945A (zh) * | 2017-09-25 | 2018-02-16 | 江苏时瑞电子科技有限公司 | 一种热敏电阻铜电极的制备方法及其所用压封模具 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3255799B2 (ja) | 2002-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5976186B2 (ja) | 1200℃膜抵抗体 | |
EP0708457A1 (en) | Electronic component and method for fabricating the same | |
JP2002535609A (ja) | プラチナ温度センサおよびその製造方法 | |
JP3179313B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JP3453857B2 (ja) | 積層型バリスタの製造方法 | |
JPH0822901A (ja) | 電子部品とその製造方法 | |
JPS54158249A (en) | Display cell | |
JP3013719B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JPS6454768A (en) | Manufacture of thin film solar cell | |
JP3036380B2 (ja) | 電子部品とその製造方法 | |
JPH10332635A (ja) | 電気化学的測定センサ用のセンサエレメント及びその製造方法 | |
JPH04339332A (ja) | 光記録ディスクおよびその製造方法 | |
US4307181A (en) | Masking agent for the deposition of a material and method for such a deposition using this masking agent | |
JP3265126B2 (ja) | 電子部品とその製造方法 | |
JPS6447055A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
JPS6244582Y2 (ja) | ||
JPH058418A (ja) | サーマルヘツド保護膜の製造方法 | |
JPS639159A (ja) | 太陽電池モジユ−ル | |
JPH0453049Y2 (ja) | ||
JPH0750708Y2 (ja) | 酸素センサ | |
JPH0497837A (ja) | 透明導電性耐透湿フイルムとel発光装置 | |
JPS641077B2 (ja) | ||
JPS60180109A (ja) | 誘電体薄膜素子 | |
JPS5882580A (ja) | 光導電素子 | |
JPH02126686A (ja) | 非晶質半導体太陽電池 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071130 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081130 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091130 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |