JPS63303064A

JPS63303064A - スパッタリング装置

Info

Publication number: JPS63303064A
Application number: JP13334787A
Authority: JP
Inventors: Jun Kuwata; 純桑田; Yosuke Fujita; 洋介藤田; Takao Toda; 任田　隆夫; Masahiro Nishikawa; 雅博西川; Tomizo Matsuoka; 富造松岡; Atsushi Abe; 阿部　惇
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1987-05-30
Filing date: 1987-05-30
Publication date: 1988-12-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、薄膜技術を用いる電子デバイス分野に使用す
るスパッタリング装置に関する。

（従来の技術）従来のスパッタリング装置では、スパッタリングにより
スパッタ室内壁にも膜が付着し、この堆積した膜の一部
が剥離して被付着体に再付着するために、作製される膜
に大きな欠陥を作ることがしばしば生じる。この現象を
防止するために、ターゲット周辺のスパッタ室内壁をス
パッタする素材に応じて、スパッタ膜と付着力が大きい
材質でおおう方法がとられている。しかし、この方法で
は膜が堆積した場合、膜と膜の間で剥離する場合もあり
、定期的にスパッタを行なうスパッタ室を清掃する必要
があり、連続装置では致命的な欠点となっていた。

（発明が解決しようとする問題点）上記構成のスパッタリング装置では、スパッタ粒子が幅
広い領域に拡がるため、スパッタ膜が剥離することによ
って起こるスパッタ室内の汚染は防止できない、そのた
め、定期的にスパッタ室内のクリーニングを行なうこと
が不可欠となるという問題を有していた。

本発明は、従来の欠点を解消し、スパッタリング時にタ
ーゲットより飛び出したスパッタ粒子がスパッタ室内壁
のみならず被付着体以外の部分すなわち治具部分などに
付着して積層した膜がスパッタ中に剥離して被付着体に
再付着することがないスパッタリング装置を提供するこ
とを目的とするものである。

また、本発明は、スパッタ室内壁および治具などの部分
に剥離し難い薄膜を有するスパッタリング装置を提供す
ることを目的とするものである。

（問題点を解決するための手段）前記目的を達成するために、本発明のスパッタリング装
置は、被付着体以外のスパッタ粒子が付着するスパッタ
室内のすべての部分をターゲットと同質の材料で覆うも
のである。ターゲットは、酸化物セラミック材あるいは
ペロブスカイト型酸化物セラミックを用い、また、ター
ゲットと同質の材料は、接着剤を含んだ塗膜とすること
もできる。

（作　用）上記構成により、スパッタリング時にターゲットより飛
び出したスパッタ粒子は、被付着体以外のスパッタ室内
のすべての部分に付着するが、ターゲットと同質の材料
でびわれているために、スパッタ粒子の付着が良く、剥
離しないため清掃が不必要となる。

（実施例）本発明の一実施例を図に基づいて説明する０図は、本発
明のスパッタリング装置におけるスパッタ室の断面を模
型的に表わしたものである。同図のスパッタ室において
、ターゲット１の周囲は、すべてターゲットと同じ材質
の覆い３がはりめぐらされている。ターゲット１が加工
し難い材質である場合は、スパッタ室を加工し易い金属
で製作し、ターゲット１と同質の材料と接着剤とを含ん
だ塗膜によりスパッタ室内壁を形成することもできる。

被付着体２が設置される治具４のターゲット側の面にも
ターゲットと同じ材質のものが付いている。ここで、タ
ーゲツト材と被付着体に付着するスパッタ膜の成分は一
致しており、スパッタ膜は、スパッタ室内壁をターゲツ
ト材と同質の材料で構成すればスパッタ室内壁に対する
付着は良いことを確認した。ターゲットが金属でスパッ
タ膜が金属酸化物の場合においてもターゲットとの付着
は良かった。

このようなスパッタリング装置を用いて、被付着体であ
る基板に成膜したところ、基板上の平均粒径がＩＩＩＩ
ｓ以上の異物の付着数はｌ　０ｍ２当り１０−”個以下
となり、従来の数の１％以下となった。スパッタリング
法としては、ＲＦマグネトロン方式を用い、ターゲット
は、ペロブスカイト形酸化物セラミックである。　５ｒ
Ｔｉ０３．５ｒ（Ｔｉ、Ｚｒ）Ｏ，。

ＢａＴｉＯ３，Ｂａ（Ｓｎ、Ｔｉ）Ｏ，、ＰｂＴｉＯ３
，（Ｓｒ、Ｃａ）Ｔｉｅ、　。

ＭｇＴｉ０．、５ｒ（Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ）Ｏ，セラミッ
クを用いた。被付着体には鏡面研磨したガラス基板、あ
るいは。

Ｓｉウェハを用いた。基板温度は、室温から６００℃ま
でとし、スパッタガスは、アルゴンと酸素の混合ガスと
し、６ｍ丁ｏｒｒから２０　ｍ　Ｔｏｒｒの間とした。

さらに、金属ターゲット、石英ガラスターゲットにおい
ても同様の結果が得られ、異物の付着数は従来の１％以
下に減少した。金属ターゲットとして、チタン、タンタ
ル、アルミニウム、インジウム、インジウム錫合金を用
いた。

また、セラミックターゲツト材と異なるセラミック材で
覆った場合、剥離を生じることがあった。

さらに、スパッタ膜をあらかじめスパッタ室内壁や、被
付着体を取り付ける基板ホルダーに成膜しておいてから
薄膜を形成する場合、剥離が起きない間は、被付着体上
の径が１戸以上の大きさの異物の付着数は１ｄ当り１０
−３個以下となり前述と同様の結果となるが、膜の剥離
がおきた場合は、急激に異物が増加した。しかし１本発
明の実施例のものは、従来のものと比較して剥離が起き
るまでの時間はかなり長かった。

（発明の効果）本発明によれば、スパッタ室内壁および治具など付着し
た膜の堆積物の剥離を防止し、被付着体上に形成される
薄膜の異物による欠陥を解消できるため、無欠陥薄膜が
必要な固体表示素子、半導体装置、各種センサ等の電子
デバイス製造の際、飛躍的に歩留を向上でき、その実用
的効果は大なるものがある。

また、本発明によれば、ターゲットと同質の材料と接着
剤とを含んだ塗膜によって、スパッタ室内壁および治具
などを覆うので簡単でしかも剥離し難いという効果を有
する。

【図面の簡単な説明】

図は、本発明の一実施例におけるスパッタリング装置の
スパッタ室の断面を模型的に表わしたものである。１　・・・ターゲット、　２　・・・被付着体、３　・
・・　ターゲットと同じ材質の覆い、　４・・・治具（
被付着体取り付は治具）。ズ面の浄書（内容に変更なし）第１図１・°°ブタ−ット２・・・核付眉ｊｌキ３・・・　ターケ′１クトヒ同じ木じ貢９［４・・・　
：／８　具手７ｖｌ！ネ市正書（方式）％式％１、事件の表示　特願昭６２−１３３３４７号２、発明
の名称　スパッタリング装置３、補正をする者事件との関係　出願人住　　　所　大阪府門真市大字門真１００６番地名　　
称　（５８２）　　松下電器産業株式会社代表者　　　
谷　井　昭　雄４、代理人５、手続補正指令書の日付昭和６２年８月５日（発送日昭和６２年８月２５日）６
、補正により増加する発明の数　　　　　０７、補正の
対象　明細書の発明の詳細な説明、図面の簡単な８、補
正の内容（１）　　明細書第４頁第１１行「本発明の一実施例を
図に基づいて説明する。図」を「本発明の一実施例を第
１図に基づいて説明する。第１図」と訂正する。（２）同第７頁第１１行ｒ図は」を「第１図は」と訂正
する。（３）別紙の通り第１図と記載した図面を提出する。（
内容に変更なし）以上

Claims

【特許請求の範囲】

（１）被付着体以外のスパッタ粒子が付着するスパッタ
室内のすべての部分をターゲットと同質の材料で覆うこ
とを特徴とするスパッタリング装置。
（２）前記ターゲットとして酸化物セラミック材を用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載のス
パッタリング装置。
（３）前記ターゲットとしてペロブスカイト型酸化物セ
ラミックを用いることを特徴とする特許請求の範囲第（
１）項または第（２）項記載のスパッタリング装置。
（４）前記ターゲットと同質の材料は、接着材を含んだ
塗膜であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
、第（２）項または第（３）項記載のスパッタリング装
置。