JPH0822803A - スパッタイオンポンプ - Google Patents

スパッタイオンポンプ

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Publication number
JPH0822803A
JPH0822803A JP18054794A JP18054794A JPH0822803A JP H0822803 A JPH0822803 A JP H0822803A JP 18054794 A JP18054794 A JP 18054794A JP 18054794 A JP18054794 A JP 18054794A JP H0822803 A JPH0822803 A JP H0822803A
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JP
Japan
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pump casing
magnet
pump
sputter ion
casing
Prior art date
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Pending
Application number
JP18054794A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Kotani
剛 小谷
Kazuhisa Hirasawa
和寿 平澤
Hiroyuki Kanehara
浩之 金原
Masaaki Nishiyama
正明 西山
Koichi Fujino
浩一 藤野
Katsuji Nakajima
克次 中嶋
Nozomi Takagi
望 高木
Kokuka Chin
沈  国華
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
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Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP18054794A priority Critical patent/JPH0822803A/ja
Publication of JPH0822803A publication Critical patent/JPH0822803A/ja
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Abstract

(57)【要約】 [目的] ベークアウト時における熱エネルギーロスが
小さく、かつ耐熱性の磁石を必要とせず、通常グレード
の磁石を使用してベークアウトの度毎に取り外す必要の
ないスパッタイオンポンプを提供すること。 [構成] 陰極1、2と陽極3を内蔵するポンプケーシ
ング4と永久磁石のN極15、S極16との間に空気層
1818’を介在させ、ベークアウト時における永久
磁石5、6の温度上昇を抑制する。または、ポンプケー
シングと永久磁石5、6との間に断熱材21を介在させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は超高真空を得るに使用さ
れるスパッタイオンポンプに関するものであり、更に詳
しくはベークアウトが容易なスパッタイオンポンプに関
するものである。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】構造が簡単で堅牢であ
り、比較的容易にオイルフリーの超高真空が得られるス
パッタイオンポンプは電子管や加速器のビーム系などの
排気に広く使用されている。しかし、このポンプは排気
ガスを溜め込む方式のポンプであり、スパッタされた陰
極材料による気体分子の化学的吸着や埋め込み作用によ
る排気であるから、場合によっては使用途中に既に排気
した気体が放出されるなど使用の履歴によっては性能が
変動する。
【0003】従って、スパッタイオンポンプの再生のた
めに、陰極、陽極やポンプケーシングの内面を加熱し
て、吸着され、埋め込まれている気体分子を予め放出さ
せ脱ガスさせるためのベークアウト(250℃〜300
℃、5〜20時間)が行なわれる。
【0004】図7は従来例の二極式スパッタイオンポン
プの構造の模式図であり、ポンプケーシング4内にステ
ンレス鋼製の円筒を単位とする陽極3と、その両側に間
隔をあけて平板状、チタン製の陰極1、2が配置され、
直流電源8によって両極間に約7.5kVの直流高電圧
が印加される。更には、ヨーク9によって支持固定され
た永久磁石のN極5とS極6とがポンプケーシング4の
両側に接して対峙して取り付けられており、ポンプケー
シング4内に1000〜2000ガウスの磁場が形成さ
れる。そして、ポンプケーシング4は支持部10を介し
てヨーク9に支持されている。
【0005】このスパッタイオンポンプの排気機構は次
の如くである。1Pa以下の減圧下での、例えば陰極
1、陽極3間のペニング放電、その他により陰極1に発
生した電子eは陽極3内で磁場の方向に螺旋軌道を描き
ながら陰極2の方へ進行するが、この間に陽極3内の気
体分子と衝突する。この衝突によって2次電子と陽イオ
ンが形成され、2次電子はペニング放電を維持し、陽イ
オンは加速されて陰極1、2の表面に衝突して陰極材料
のチタンがスパッタされ、周囲の陰極1、2、陽極3な
いしはポンプケーシング4の内面に付着して新鮮かつ活
性なチタン表面が形成される。このチタン表面によって
気体分子が化学吸着され、また埋め込まれて排気が行な
われる。
【0006】しかし、上述したように、このスパッタイ
オンポンプには再生のためのベークアウトが必要であ
り、そのためにポンプケーシング4及び陰極1、2、陽
極3を加熱して温度を上げると、必然的に永久磁石のN
極5、S極6にも伝熱されるが、 (イ)永久磁石5、6の熱容量が大きいので、熱エネル
ギのロスが大きい。 (ロ)通常の永久磁石ではベークアウトの温度上昇によ
って性能低下が起こるので、これに耐える耐熱性の永久
磁石を必要とする。 などの問題があり、これらを避けるため、例えば300
℃以上に温度を上げる場合にはベークアウトの度毎に永
久磁石5、6を取り外し、また組み付けるという煩わし
い作業が必要になる。
【0007】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は上述の問題
に鑑みてなされ、ベークアウト時の熱エネルギロスの小
さいスパッタイオンポンプ、耐熱性の磁石を必要としな
いスパッタイオンポンプ、ないしはベークアウトの度毎
に磁石を取り外す必要のないスパッタイオンポンプを提
供することを目的とする。
【0008】
【問題点を解決するための手段】以上の目的は、陰極と
陽極とを内蔵するポンプケーシングと、該ポンプケーシ
ングの外壁に取り付けられ、該ケーシング内に磁界を形
成させる磁石とを備え、真空下、前記磁界中での直流放
電を利用するスパッタイオンポンプにおいて、前記ポン
プケーシングと前記磁石との間に空気層を介在させたこ
とを特徴とするスパッタイオンポンプ、によって達成さ
れる。
【0009】また、以上の目的は、陰極と陽極とを内蔵
するポンプケーシングと、該ポンプケーシングの外壁に
取り付けられ、該ケーシング内に磁界を形成させる磁石
とを備え、真空下、前記磁界中での直流放電を利用する
スパッタイオンポンプにおいて、前記ポンプケーシング
と前記磁石との間に断熱材を介在させたことを特徴とす
るスパッタイオンポンプ、によって達成される。
【0010】
【作用】内蔵される陰極、陽極と共にポンプケーシング
を加熱するベークアウト時に、ポンプケーシングと磁石
との間に介在させた空気層はポンプケーシングの熱が磁
石へ伝わることを防ぎ、磁石の温度上昇を抑制する。
【0011】また、ベークアウト時に、ポンプケーシン
グと磁石との間に介在させた断熱材はポンプケーシング
の熱が磁石へ伝わることを防ぎ、磁石の温度上昇を抑制
する。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例によるスパッタイオン
ポンプについて、図面を参照して説明する。
【0013】(第1実施例) 図1は第実施例による二
極式スパッタイオンポンプの構造の模式図である。すな
わち、ポンプケーシング4に陰極1、2と陽極3とが内
蔵され、直流電源8によって両極間に直流高電圧が印加
されることは従来例のスパッタイオンポンプと全く同様
である。また、ヨーク9に支持固定された永久磁石のN
極15、S極16がポンプケーシング4の両側に対峙さ
れ、ポンプケーシング4が支持部10を介してヨーク9
に支持されていることも同様であるが、従来例と異なる
ところは永久磁石15、16のポンプケーシング4に相
対する面の四隅に形成された突起17、17’によっ
て、ポンプケーシング4との間にそれぞれ空気層18
18’を介在させている。突起17(17’)を形成さ
せた永久磁石15(16)の斜視図を図2に示した。
【0014】このスパッタイオンポンプによる排気の機
構は従来例のスパッタイオンポンプと同様であるので、
その説明は省略する。
【0015】このポンプを再生するためのベークアウト
に際し、図示しないプレートヒータによってポンプケー
シング4の上壁を外部加熱すると、ポンプケーシング4
とそれに内蔵される陰極1、2及び陽極3は所定の温度
に加熱されるが、空気層18がポンプケーシング4から
永久磁石15、16への伝熱を阻害するので、ベークア
ウトの間、永久磁石15、16の温度上昇が抑制され
る。従って、熱エネルギは必要以上に消費されることは
なく、永久磁石15、16も通常グレードのものを使用
し得る。
【0016】第1実施例のスパッタイオンポンプについ
てポンプケーシングの温度を250℃まで加熱した時、
定格100Vのプレートヒータに電流1Aを要し、かつ
15時間のベークアウト期間中、永久磁石15、16の
温度は100℃を越えなかった。これに対し、従来例で
示したスパッタイオンポンプでは、ポンプケーシング4
の250℃への加熱に電流1.5Aを要し、永久磁石
5、6の温度は250℃まで上昇した。
【0017】(第2実施例) 図3は第2実施例による
二極式スパッタイオンポンプの構造の模式図である。す
なわち、ポンプケーシング4に陰極1、2と陽極3とが
内蔵され、直流電源8によって両極間に直流高電圧が印
加されることは従来例のスパッタイオンポンプと全く同
様である。また、ヨーク9に支持固定された永久磁石の
N極5、S極6がポンプケーシング4の両側に対峙さ
れ、ポンプケーシング4が支持部10を介してヨーク9
に支持されていることも同様であるが、従来例と異なる
ところは、永久磁石5、6とポンプケーシング4との間
にそれぞれ綿状ガラス繊維からなる断熱材21、21’
が介在されていることにある。
【0018】本実施例のスパッタイオンポンプによる排
気の機構も従来例のスパッタイオンポンプと同様である
ので、その説明は省略する。このスパッタイオンポンプ
を再生するためにベークアウトを行なった時、ポンプケ
ーシング4を加熱するために要した所要電力、及び永久
磁石5、6の温度上昇は何れも第1実施例と同程度に抑
制された。
【0019】以上、本発明の実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0020】例えば、第1実施例において、永久磁石1
5、16の四隅に形成させた突起17、17’によっ
て、ポンプケーシング4との間に空気層1818’
介在させたが、突起17、17’に代えて永久磁石1
5、16の表面を図4に示すように複数の平行な山形2
2、22’を形成させた凹凸面としてもよく、また図5
に示すように永久磁石15、16の表面に十字状の突起
23、23’を設けてもよく、その他種々の形状の突起
があり得る。いづれにしても凸部及び突起では磁束密度
が大となるので、ポンプケーシング4内で局部的に磁場
を必要とする部位に対向させる位置にこれらを形成する
ことが好ましい。
【0021】また、第1実施例において永久磁石15、
16の四隅に形成させた突起17、17’に代えて、例
えばテフロン・シートのような耐熱性材料を永久磁石
5、6とポンプケーシング4との間に挿入してスペーサ
としてもよい。
【0022】また、第2実施例においては耐熱材21、
21’として綿状ガラス繊維を永久磁石5、6とポンプ
ケーシング4との間に介在させたが、綿状ガラス繊維に
代えて、永久磁石5、6の表面に例えば発泡フェノール
樹脂や発泡ポリイミド樹脂の塗膜を形成させて断熱材2
1、21’としてもよい。塗膜は永久磁石5、6のポン
プケーシング4に相対する面に形成させる以外に、図6
に示すようにポンプケーシング4に相対する面とヨーク
9に相対する面との両面に形成させてもよく(121、
121’として示す)、ヨーク9から永久磁石5、6へ
の伝熱も抑制することができる。図7における符号は第
2実施例を示す図3と同一であるので、それらの説明は
省略する。更には塗装の方法によっては永久磁石5、6
の全面に塗膜を形成させてもよい。
【0023】また、以上の実施例では、N極15及びS
極16は永久磁石でなるものとしたが、勿論、電磁石で
構成してもよく、この場合には磁極15と磁極16とを
磁気回路的に接続し、この回路の一部にコイルを巻装
し、これに直流を流すことにより上記実施例と同様な作
用を得る事ができるのは明らかである。
【0024】また、第1実施例、第2実施例においては
ポンプケーシング4は支持部10を介してヨーク9に支
持させたが、この支持部10からの伝熱を抑制するため
には支持面積を可及的に小さくすることが好ましく、更
にはポンプケーシング4と支持部10との間にポリイミ
ド・シートで作成した断熱板を介在させることは極めて
有効である。
【0025】また、第1実施例、第2実施例において
は、二極式スパッタイオンポンプについて説明したが、
本発明に希ガスの排気に適した三極式スパッタイオンポ
ンプも含まれることは言うまでもない。
【0026】
【発明の効果】以上述べたように、第1の発明のスパッ
タイオンポンプによれば、ポンプケーシングと磁石との
間に介在させた空気層は、ベークアウト時において、ポ
ンプケーシングの熱が磁石へ伝熱されることを防ぐので
磁石の温度上昇が抑制され、従ってベークアウトに要す
る熱エネルギのロスが軽減され、磁石も耐熱性のものを
必要としないし、通常グレードの磁石を使用してベーク
アウトの度毎に取り外す必要もない。
【0027】また、第2の発明のスパッタイオンポンプ
によれば、ポンプケーシングと磁石との間に介在させた
断熱材はベークアウト時において、ポンプケーシングの
熱が磁石へ伝熱されることを防ぐので磁石の温度上昇が
抑制され、従ってベークアウトに要する熱エネルギのロ
スが軽減され、磁石も耐熱性のものを必要としないし、
通常グレードの磁石を使用してベークアウトの度毎に取
り外す必要もない。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例によるスパッタイオンポンプの構造
の模式図である。
【図2】第1実施例に使用される永久磁石の斜視図であ
る。
【図3】第2実施例によるスパッタイオンポンプの構造
の模式図である。
【図4】第1実施例に使用される永久磁石の変形例を示
す斜視図である。
【図5】第1実施例に使用される永久磁石の他の変形例
を示す斜視図である。
【図6】第2実施例の変形例によるスパッタイオンポン
プの構造の模式図であり、永久磁石のポンプケーシング
及び金具に相対する面に断熱材の塗膜が形成されてい
る。
【図7】従来例のスパッタイオンポンプの構造の模式図
である。
【符号の説明】
1 陰極 2 陰極 3 陽極 4 ポンプケーシング 5 永久磁石のN極 6 永久磁石のS極 8 直流電源 15 永久磁石のN極 16 永久磁石のS極18 空気層18’ 空気層 21 断熱材21’ 断熱材
フロントページの続き (72)発明者 西山 正明 神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 藤野 浩一 神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 中嶋 克次 神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 高木 望 神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 沈 国華 神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陰極と陽極とを内蔵するポンプケーシン
    グと、該ポンプケーシングの外壁に取り付けられ、該ケ
    ーシング内に磁界を形成させる磁石とを備え、真空下、
    前記磁界中での直流放電を利用するスパッタイオンポン
    プにおいて、前記ポンプケーシングと前記磁石との間に
    空気層を介在させたことを特徴とするスパッタイオンポ
    ンプ。
  2. 【請求項2】 前記空気層が前記磁石の前記ポンプケー
    シングに相対する面に形成された突起によって介在され
    る請求項1に記載のスパッタイオンポンプ。
  3. 【請求項3】 前記空気層が前記磁石と前記ポンプケー
    シングとの間に挿入されたスペーサによって介在される
    請求項1に記載のスパッタイオンポンプ。
  4. 【請求項4】 前記空気層を介在させて前記磁石が前記
    ポンプケーシングの外壁へ金具によって取り付けられて
    おり、かつ前記ポンプケーシングが断熱板を介して前記
    金具に支持されている請求項1から請求項3までの何れ
    かに記載のスパッタイオンポンプ。
  5. 【請求項5】 陰極と陽極とを内蔵するポンプケーシン
    グと、該ポンプケーシングの外壁に取り付けられ、該ケ
    ーシング内に磁界を形成させる磁石とを備え、真空下、
    前記磁界中での直流放電を利用するスパッタイオンポン
    プにおいて、前記ポンプケーシングと前記磁石との間に
    断熱材を介在させたことを特徴とするスパッタイオンポ
    ンプ。
  6. 【請求項6】 前記断熱材が少なくとも前記磁石の前記
    ポンプケーシングに相対する面に塗装して形成された請
    求項5に記載のスパッタイオンポンプ。
  7. 【請求項7】 前記断熱材と前記ポンプケーシングとの
    間に空気層を設けて、前記ポンプケーシングと前記磁石
    との間に前記空気層と前記断熱材との組合わせを介在さ
    せた請求項5または請求項6に記載のスパッタイオンポ
    ンプ。
  8. 【請求項8】 前記断熱材単独、または前記断熱材と前
    記空気層との組合わせを介在させて、前記磁石が前記ポ
    ンプケーシングの外壁へヨークによって取り付けられて
    おり、かつ前記ポンプケーシングが断熱板を介して前記
    ヨークに支持されている請求項5から請求項7までの何
    れかに記載のスパッタイオンポンプ。
JP18054794A 1994-07-08 1994-07-08 スパッタイオンポンプ Pending JPH0822803A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004105080A1 (ja) * 2003-05-20 2004-12-02 Kabushiki Kaisha Toshiba スパッタイオンポンプ、その製造方法、およびスパッタイオンポンプを備えた画像表示装置
JP2006511921A (ja) * 2002-12-18 2006-04-06 バリアン・インコーポレイテッド スパッタイオンポンプ用磁石アセンブリ
JP2006134798A (ja) * 2004-11-09 2006-05-25 Ulvac Japan Ltd スパッタイオンポンプ
US7635943B2 (en) * 2004-08-27 2009-12-22 Canon Kabushiki Kaisha Image display device having an ion pump with reduced leakage

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Effective date: 20040727

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02