JPH08223354A - 原稿読取装置及び結像レンズの位置調整方法とその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 結像レンズに入射する有効光束の結像性能を
高めることにより、一段と高品位な画質を得ることが可
能な原稿読取装置及び結像レンズの位置調整方法とその
装置を提供する。 【構成】 波動光照明手段１２ａからの光束をタンデン
シャル面Ｔ内における結像レンズ８の有効光束の調整仮
想画角ラインＪａ上の光束規制部材１３の微小開口部１
４ａ₀ に導いて回折パターンを発生させ、この回折パタ
ーンをパターン表示手段１５に表示して観察しながら、
結像レンズ８を調整仮想画角ラインＪａ上に介在させた
ときと介在させないときとの回折パターンとが一致する
ように結像レンズ調整手段を用いて結像レンズ８の入射
光束に対する位置を調整することによって、タンデンシ
ャル面Ｔ内における結像レンズ８の画角ラインＨａ，Ｈ
ｂを調整仮想画角ラインＪａ，Ｊｂすなわち照明手段か
ら発せられる光束の画角ラインに一致させ、結像性能を
高めるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、原稿読取装置及び結像
レンズの位置調整方法とその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の原稿読取装置として、ＣＣＤライ
ンセンサを用いた透過型の原稿読取装置を例に挙げて説
明する。図１１は、その原稿読取装置の読取光学系の構
成例を示すものである。読取光学系を構成する装置本体
１内の上部には照明手段としての光源２が設けられてお
り、この光源２から出射した光は、コールドミラー３に
より下方に折り返され、原稿４を照明する。この原稿４
はコンタクトガラス５と押圧ガラス６との間で隙間なく
挾持されている。そして、原稿４を透過した光束Ａは、
ミラー７により折り返されて結像レンズ８に入射し、こ
れにより集光されて受光手段としてのＣＣＤラインセン
サ９（以下、ＣＣＤという）に結像され、原稿画像の読
取りが行われる。結像レンズ８とＣＣＤ９との間の投影
距離は、Ｌとされている。なお、装置本体１の底面は、
ベース１０とされている。

【０００３】実際の読取動作としては、コンタクトガラ
ス５と押圧ガラス６とが一体となって構成されたキャリ
ッジ１１による読取解像度に対応した速度での副走査方
向Ｚへの走査と、ＣＣＤ９による主走査方向Ｘ（副走査
方向Ｚに直交するセンサ配列方向）への走査とよる２次
元的な読取走査が同時に行われることにより実際の読取
りがなされる。この場合、組付け調整された全ての光学
部材が設計位置（理想位置）に配置されていれば、光束
Ａの光軸Ｂと結像レンズ８のレンズ光軸Ｃとは完全に一
致し、光束Ａは結像レンズ８に対して垂直に入射するた
め、高品位な画像読取りを行うことができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ＣＣＤ９を用いたデジ
タルの原稿読取装置においては、画像品質を高めるため
の手段として、原稿４面上の読取ラインと、ＣＣＤ９の
読取ラインとを一致させるように調整することが不可欠
である。特に近年では、高解像度を得るために、ＣＣＤ
９を複数個読取ライン方向（主走査方向Ｘ）に配列して
読取画素数を増やした装置もある。このようなＣＣＤ９
が複数個配列された原稿読取装置においては、原稿４面
上の読取ラインと、ＣＣＤ９の読取ラインとを一致させ
るために、副走査方向の読取ラインのつなぎ調整だけで
なく、主走査方向Ｘの読取ラインのつなぎ調整も必要と
なってくる。

【０００５】このような読取ラインのつなぎ調整に関す
る公知例の代表的なものとしては、特公昭５５−１８０
９６号公報、特開昭５９−１２２１７１号公報に記載さ
れた技術がある。この場合、特公昭５５−１８０９６号
公報の例では、各ＣＣＤと結像レンズとの相対位置を、
ネジとバネとを用いて主走査方向及び副走査方向に微調
整することによって読取ラインのつなぎ調整を行ってい
る。また、特開昭５９−１２２１７１号公報の例では、
ＣＣＤと結像レンズとをモジュール化し、そのモジュー
ルの調整量を原稿面上の読取ラインのズレ量と等しくす
ることによって読取ラインのつなぎ調整を行っている。

【０００６】上述したような従来の原稿読取装置におい
ては、レンズ性能の範囲内で原稿面上のある点とＣＣＤ
とが相対的にズレていれば、結像レンズに対して斜めに
入射してレンズ光軸からズレていても読取りを行ってい
た。しかし、原稿面上のある点とＣＣＤとを結ぶ主光線
は、結像レンズに対して垂直に入射してそのレンズ光軸
と一致していることが理想的であり、レンズ光軸からズ
レると、各結像レンズの収差のバラツキが大きくなり、
結像性能が劣化してしまう。このような結像性能の低下
は画像品質の低下を招き、高品位な画像読取りを必要と
する印刷や製版の分野では重大な問題となる。また、前
述した公知例のように１個の結像レンズに１個のＣＣＤ
を対応させたものを複数組用いたものでは、原稿面上の
読取ラインを分割して読取る場合、同一性能のレンズを
用いても各レンズを通る各光束の場所によって、結像性
能がバラツキ、分割した読取幅毎に画像品質の違いを生
じる。

【０００７】また、結像レンズとＣＣＤとの間に直角ミ
ラーを入れ、１個の結像レンズに２個のＣＣＤを対応さ
せ、原稿面上の読取ラインを２分割して読取るような場
合（特開昭５７−８７２７７号公報参照）は、原稿面上
における光源の照度ピーク位置、読取位置、レンズ光
軸、直角ミラーの頂点などが全て一致又は略一致してい
ないと、各ＣＣＤに入射する光束は結像性能だけでな
く、絶対光量、光量分布、読取幅などに違いを生じ、画
像品質をかなり低下させてしまう。

【０００８】なお、特願平６−２７２０７６号に「原稿
読取装置及び結像レンズの光軸調整方法」として本出願
人により出願されているものがある。これは、結像レン
ズのレンズ光軸を装置本体の調整仮想光軸（設計位置）
に一致させることによって、読取り画像の品質を向上さ
せるようにしたものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、結像レンズを含む光学系のタンデンシャル面内でか
つその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光束の
調整仮想画角ライン上に波動光を発する波動光照明手段
を配設し、結像レンズを挾んで波動光照明手段とは反対
側のタンデンシャル面内でかつ結像レンズの有効光束の
調整仮想画角ライン上に波動光照明手段から発せられた
波動光を規制する微小開口部を有する光束規制部材を配
設し、この光束規制部材により発生した回折パターンを
受光して表示するパターン表示手段を設け、入射光束に
対する結像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段
を設けた。

【００１０】請求項２記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のラジアル面内でかつその結像レンズの入出射
の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波
動光を発する波動光照明手段を配設し、結像レンズを挾
んで波動光照明手段とは反対側のラジアル面内でかつ結
像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光照
明手段から発せられた波動光を規制する微小開口部を有
する光束規制部材を配設し、この光束規制部材により発
生した回折パターンを受光して表示するパターン表示手
段を設け、入射光束に対する結像レンズの位置を調整す
る結像レンズ調整手段を設けた。

【００１１】請求項３記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面の各面内で
かつその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光束
の調整仮想画角ライン上に波動光を発する波動光照明手
段を各々配設し、結像レンズを挾んで各波動光照明手段
とは反対側のタンデンシャル面及びラジアル面の各面内
でかつ結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に
波動光照明手段から発せられた波動光を規制する微小開
口部を有する光束規制部材を各々配設し、これら各光束
規制部材により発生した回折パターンを受光して表示す
るパターン表示手段を設け、入射光束に対する結像レン
ズの位置を調整する結像レンズ調整手段を設けた。

【００１２】請求項４記載の発明では、請求項１，２又
は３記載の発明において、結像レンズの入出射の何れか
一方側の調整仮想光軸上に波動光を発する波動光照明手
段を配設し、この波動光照明手段とは反対側の結像レン
ズの調整仮想光軸上に波動光照明手段から発せられた波
動光を規制する微小開口部を有する光束規制部材を配設
した。

【００１３】請求項５記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面内でその結像レンズの有効
光束の調整仮想画角ラインと微小開口部を有する光束規
制部材の微小開口部の中心とが一致又は略一致するよう
に、光束規制部材を装置本体に位置決めする第一の位置
調整工程と、微小開口部の中心と波動光を発する波動光
照明手段の光軸とが一致又は略一致するように、波動光
照明手段の位置を回折パターンを用いて調整し位置決め
する第二の位置調整工程と、結像レンズを調整仮想画角
ライン上に配置させこの結像レンズを介在させる前の回
折パターンと介在させた後の回折パターンとを比較し両
方の回折パターンが一致又は略一致するように結像レン
ズの位置決めを行う第三の位置調整工程とを用いて結像
レンズの位置調整を行うようにした。

【００１４】請求項６記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のラジアル面内でその結像レンズの有効光束の
調整仮想画角ラインと微小開口部を有する光束規制部材
の微小開口部の中心とが一致又は略一致するように、光
束規制部材を装置本体に位置決めする第一の位置調整工
程と、微小開口部の中心と波動光を発する波動光照明手
段の光軸とが一致又は略一致するように、波動光照明手
段の位置を回折パターンを用いて調整し位置決めする第
二の位置調整工程と、結像レンズを調整仮想画角ライン
上に配置させこの結像レンズを介在させる前の回折パタ
ーンと介在させた後の回折パターンとを比較し両方の回
折パターンが一致又は略一致するように前記結像レンズ
の位置決めを行う第三の位置調整工程とを用いて結像レ
ンズの位置調整を行うようにした。

【００１５】請求項７記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面内でその結
像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインと微小開口部
を有する光束規制部材の微小開口部の中心とが一致又は
略一致するように、光束規制部材を装置本体に位置決め
する第一の位置調整工程と、微小開口部の中心と波動光
を発する波動光照明手段の光軸とが一致又は略一致する
ように、波動光照明手段の位置を回折パターンを用いて
調整し位置決めする第二の位置調整工程と、結像レンズ
を調整仮想画角ライン上に配置させこの結像レンズを介
在させる前の回折パターンと介在させた後の回折パター
ンとを比較し両方の回折パターンが一致又は略一致する
ように結像レンズの位置決めを行う第三の位置調整工程
とを用いて結像レンズの位置調整を行うようにした。

【００１６】請求項８記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のタンデンシャル面内でかつその結像レンズの
入出射の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン
上に配設された波動光を発する波動光照明手段と、結像
レンズを挾んで波動光照明手段とは反対側のタンデンシ
ャル面内でかつ結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラ
イン上に配設された波動光照明手段から発せられた波動
光を規制する微小開口部を有する光束規制部材と、この
光束規制部材により発生した回折パターンを受光して表
示するパターン表示手段と、入射光束に対する結像レン
ズの位置を調整する結像レンズ調整手段とによって結像
レンズ位置調整装置を構成した。

【００１７】請求項９記載の発明では、結像レンズを含
む光学系のラジアル面内でかつその結像レンズの入出射
の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に配
設された波動光を発する波動光照明手段と、結像レンズ
を挾んで波動光照明手段とは反対側のラジアル面内でか
つ結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配設
された波動光照明手段から発せられた波動光を規制する
微小開口部を有する光束規制部材と、この光束規制部材
により発生した回折パターンを受光して表示するパター
ン表示手段と、入射光束に対する結像レンズの位置を調
整する結像レンズ調整手段とによって結像レンズ位置調
整装置を構成した。

【００１８】請求項１０記載の発明では、結像レンズを
含む光学系のタンデンシャル面及びラジアル面の各面内
でかつその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光
束の調整仮想画角ライン上に各々配設された波動光を発
する波動光照明手段と、結像レンズを挾んで各波動光照
明手段とは反対側のタンデンシャル面及びラジアル面の
各面内でかつ結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライ
ン上に各々配設された波動光照明手段から発せられた波
動光を規制する微小開口部を有する光束規制部材と、こ
れら各光束規制部材により発生した回折パターンを受光
して表示するパターン表示手段と、入射光束に対する結
像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段とによっ
て結像レンズ位置調整装置を構成した。

【００１９】

【作用】請求項１記載の発明においては、波動光照明手
段から発せられたレーザ光等の波動光は、タンデンシャ
ル面内で結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上
を進んでいき、波動光照明手段とは反対側の結像レンズ
の調整仮想画角ライン上に配置された光束規制部材の微
小開口部に入射し回折パターンを発生させ、この回折パ
ターンはパターン表示手段に表示される。この場合、結
像レンズを調整仮想画角ライン上に介在させたときの回
折パターンと介在させないときの回折パターンとを観察
しながら、それら両方の回折パターンが一致するよう
に、結像レンズ調整手段を用いて結像レンズの位置を調
整することによって、タンデンシャル面内での結像レン
ズの画角ラインを有効光束の調整仮想画角ラインに完全
に一致させることができる。これにより、実際の原稿読
取り時における読取り光束（結像レンズに対する入射光
束）の画角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち結像
レンズの有効光束の画角ラインに一致させて進行させる
ことができる。

【００２０】請求項２記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、ラジアル
面内で結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上を
進んでいき、波動光照明手段とは反対側の結像レンズの
調整仮想画角ライン上に配置された光束規制部材の微小
開口部に入射し回折パターンを発生させ、この回折パタ
ーンはパターン表示手段に表示される。この場合、結像
レンズを調整仮想画角ライン上に介在させたときの回折
パターンと介在させないときの回折パターンとを観察し
ながら、それら両方の回折パターンが一致するように、
結像レンズ調整手段を用いて結像レンズの位置を調整す
ることによって、ラジアル面内での結像レンズの画角ラ
インを有効光束の調整仮想画角ラインに完全に一致させ
ることができる。これにより、実際の原稿読取り時にお
ける読取り光束（結像レンズに対する入射光束）の画角
ラインを、調整仮想画角ラインすなわち結像レンズの有
効光束の画角ラインに一致させて進行させることができ
る。

【００２１】請求項３記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、タンデン
シャル面及びラジアル面の各面内で結像レンズの有効光
束の調整仮想画角ライン上を進んでいき、波動光照明手
段とは反対側の結像レンズの調整仮想画角ライン上に配
置された光束規制部材の微小開口部に入射し回折パター
ンを発生させ、この回折パターンはパターン表示手段に
表示される。この場合、結像レンズを調整仮想画角ライ
ン上に介在させたときの回折パターンと介在させないと
きの回折パターンとを観察しながら、それら両方の回折
パターンが一致するように、結像レンズ調整手段を用い
て結像レンズの位置を調整することによって、タンデン
シャル面及びラジアル面の各面内での結像レンズの画角
ラインを有効光束の調整仮想画角ラインに完全に一致さ
せることができる。これにより、実際の原稿読取り時に
おける読取り光束（結像レンズに対する入射光束）の画
角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち結像レンズの
有効光束の画角ラインに一致させて進行させることがで
きる。

【００２２】請求項４記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、結像レン
ズの調整仮想光軸上を進んでいき、結像レンズの調整仮
想光軸上に配置された光束規制部材の微小開口部に入射
し、これにより発生した回折パターンはパターン表示手
段に表示され、結像レンズのレンズ光軸を調整仮想光軸
に完全に一致させることができる。これによって、実際
の原稿読取り時における読取り光束（結像レンズに対す
る入射光束）の光軸を調整仮想光軸すなわち結像レンズ
のレンズ光軸に一致させることが可能となる。

【００２３】請求項５記載の発明においては、第一の位
置調整工程で光束規制部材を装置本体に位置決めし、結
像レンズを含む光学系のタンデンシャル面内での結像レ
ンズの調整仮想画角ラインと光束規制部材の微小開口部
の中心とを一致又は略一致させ、第二の位置調整工程で
微小開口部の中心と波動光照明手段の光束の光軸とを一
致又は略一致させ、第三の位置調整工程で結像レンズを
介在させる前と後との回折パターンを比較して両方の回
折パターンを一致又は略一致させることによって、タン
デンシャル面内での結像レンズの位置調整作業をスムー
ズにかつ効率的に行える。

【００２４】請求項６記載の発明においては、第一の位
置調整工程で光束規制部材を装置本体に位置決めし、結
像レンズを含む光学系のラジアル面内での結像レンズの
調整仮想画角ラインと光束規制部材の微小開口部の中心
とを一致又は略一致させ、第二の位置調整工程で微小開
口部の中心と波動光照明手段の光束の光軸とを一致又は
略一致させ、第三の位置調整工程で結像レンズを介在さ
せる前と後との回折パターンを比較して両方の回折パタ
ーンを一致又は略一致させることによって、ラジアル面
内での結像レンズの位置調整作業をスムーズにかつ効率
的に行える。

【００２５】請求項７記載の発明においては、第一の位
置調整工程で光束規制部材を装置本体に位置決めし、結
像レンズを含む光学系のタンデンシャル面及びラジアル
面内での結像レンズの調整仮想画角ラインと光束規制部
材の微小開口部の中心とを一致又は略一致させ、第二の
位置調整工程で微小開口部の中心と波動光照明手段の光
束の光軸とを一致又は略一致させ、第三の位置調整工程
で結像レンズを介在させる前と後との回折パターンを比
較して両方の回折パターンを一致又は略一致させること
によって、タンデンシャル面及びラジアル面内での結像
レンズの位置調整作業をスムーズにかつ効率的に行え
る。

【００２６】請求項８記載の発明においては、請求項１
記載の発明と同様にして結像レンズの位置を調整するこ
とによって、タンデンシャル面内での結像レンズの画角
ラインを有効光束の調整仮想画角ラインに完全に一致さ
せることができ、これにより、実際の原稿読取り時にお
ける読取り光束の画角ラインを、調整仮想画角ラインす
なわち結像レンズの有効光束の画角ラインに一致させて
進行させることができる。

【００２７】請求項９記載の発明においては、請求項２
記載の発明と同様にして結像レンズの位置を調整するこ
とによって、ラジアル面内での結像レンズの画角ライン
を有効光束の調整仮想画角ラインに完全に一致させるこ
とができ、これにより、実際の原稿読取り時における読
取り光束の画角ラインを、調整仮想画角ラインすなわち
結像レンズの有効光束の画角ラインに一致させて進行さ
せることができる。

【００２８】請求項１０記載の発明においては、請求項
３記載の発明と同様にして結像レンズの位置を調整する
ことによって、タンデンシャル面内及びラジアル面内で
の結像レンズの画角ラインを有効光束の調整仮想画角ラ
インに完全に一致させることができ、これにより、実際
の原稿読取り時における読取り光束の画角ラインを、調
整仮想画角ラインすなわち結像レンズの有効光束の画角
ラインに一致させて進行させることができる。

【００２９】

【実施例】本発明の第一の実施例を図１〜図３に基づい
て説明する（請求項１，５，８記載の発明に対応す
る）。本実施例では、従来技術でも述べたようなＣＣＤ
９を用いた透過型の原稿読取装置（図１１参照）を例に
挙げて説明する。なお、読取光学系を構成する装置本体
１内の同一部分について説明は省略する。

【００３０】図１（ａ）（ｂ）は、結像レンズ８の位置
調整を行う光学系の構成を示すものである。図１（ａ）
は光学系をラジアル面（Ｒadial 面、以下、Ｒ面とい
う）側から見た図であり、図１（ｂ）は光学系をタンデ
ンシャル面（Ｔangential 面、以下、Ｔ面という）側か
ら見た図である。入射側の光学系のＴ面内には波動光照
明手段としてのレーザ光源１２ａが２個配置され、その
出射側の光学系には光束規制部材１３（以下、ピンホー
ルという）が１個配置されている。このピンホール１３
には、微小開口部としての１個の小孔１４ａ₀ と２個の
小孔１４ａとの計３個がＴ面内に形成されている。ま
た、ピンホール１３の後方には、発生する回折パターン
Ｋを受光して表示するパターン表示手段としての観測板
１５が配置されている。

【００３１】この場合、レーザ光源１２ａから発せられ
るレーザ光の各レーザ光軸Ｄａは、調整仮想画角ライン
としての調整仮想入射画角ラインＪａ（設計位置）上に
位置している。ピンホール１３の小孔１４ａ₀ の中心
は、２本の調整仮想入射画角ラインＪａの延長線上に位
置している。また、ピンホール１３の２個の小孔１４ａ
の中心は、調整仮想画角ラインとしての２本の調整仮想
出射画角ラインＪｂ（設計位置）の延長線上に位置して
いる。なお、ここでいう調整仮想画角ラインとは、実際
には目に見えるものではなく、設計時や調整時に便宜上
用いている架空なものである。この調整仮想画角ライン
が、最終的には光源２からの光束Ａの画角ラインに相当
する。

【００３２】また、結像レンズ８は、スペーサやマイク
ロヘッド等の結像レンズ調整手段（図示せず）によって
移動自在に支持されている。この結像レンズ調整手段に
よって、入射光束に対する結像レンズ８の位置を調整仮
想画角ラインに一致させるように移動調整する。

【００３３】このような構成において、まず、結像レン
ズ８における画角ラインの基本的な考え方を、図２
（ａ）（ｂ）に基づいて述べる。図２（ａ）は結像レン
ズ８をＴ面から、図２（ｂ）は結像レンズ８をＲ面から
それぞれ見たものである。図２（ａ）において、光学系
の理想的な配置では、入射する光束Ａの光軸Ｂ及び入射
画角ラインＧａ，出射画角ラインＧｂは、結像レンズ８
のレンズ光軸Ｃ及び入射画角ラインＨａ，出射画角ライ
ンＨｂとそれぞれ一致している。図２（ｂ）において、
光学系の理想的な配置（設計位置）では、入射する光束
Ａの光軸Ｂ及び入射画角ラインＧｃ，出射画角ラインＧ
ｄは、結像レンズ８のレンズ光軸Ｃ及び入射画角ライン
Ｈｃ，出射画角ラインＨｄと一致している。従って、一
般的に、結像レンズ８の画角ライン及び光軸を、その結
像レンズ８に入射する光束Ａの画角ライン及び光軸にで
きる限り一致させることによって、より高品位な装置を
作ることができることになる。

【００３４】そこで、本実施例では、以下、Ｔ面内にお
ける結像レンズ８の画角ラインＨａ，Ｈｂを、光束Ａの
画角ラインＧａ，Ｇｂに一致させるための結像レンズ８
の位置調整方法について述べる（第一〜第三の位置調整
工程）。このような結像レンズ８の調整を行うために、
ここでは調整仮想入射画角ラインＪａ、調整仮想出射画
角ラインＪｂを用いる。まず、結像レンズ８を装置本体
１に設置する前に調整を行う。すなわち、図１（ｂ）に
示すように、Ｔ面内に配置されたレーザ光源１２ａから
のレーザ光を、調整仮想入射画角ラインＪａ上のピンホ
ール１３の小孔１４ａ₀ に向けて照射し、観測板１５に
回折パターンを投影する。このとき、レーザ光軸Ｄａと
調整仮想入射画角ラインＪａと小孔１４ａ₀ の中心とは
一致しているため、調整仮想入射画角ラインＪａと観測
板１５とが交差する点１５₂ の位置を中心として楕円形
の回折パターンが形成される。この回折パターンの形状
及びその点１５₂ を調整の基準とする（この位置にマー
ク等の目印を付けてもよい）。図３（ａ）は、レーザ光
が小孔１４ａ₀ の中心を通り直角に入射した場合の回折
パターンＫの形状を示すものであり、きれいな同心円を
なし、中心から外に向かって光量が均等に減少してい
る。図３（ｂ）は、レーザ光が小孔１４ａ₀ の中心から
ズレた場合の回折パターンＫの形状を示すものであり、
光量分布が均等でない。ここでは、レーザ光が小孔１４
ａ₀ の中心を通り斜めから入射しているため、回折パタ
ーンＫは図３（ａ）と同様に光量分布は均等となるが、
入射角の度合いによってその形状が変わり楕円形とな
る。このようにして初期設定が終了する（第一〜第二の
位置調整工程）。

【００３５】次に、そのような調整後、結像レンズ８を
装置本体１に設置した状態で調整を行う。すなわち、こ
の結像レンズ８の設置により、観測板１５での回折パタ
ーンＫは、点１５₂ から点１５₃ へと移動する。この場
合、点１５₂ から点１５₃ までの距離Ｘ₁ ，Ｘ₂ が略等
しく、かつ、回折パターンＫの形状が略同一（図３
（ａ）を楕円形にしたもの）ならば、調整仮想入射画角
ラインＪａと結像レンズ８の入射画角ラインＨａ、及
び、調整仮想出射画角ラインＪｂと結像レンズ８の出射
画角ラインＨｂとがそれぞれ一致していることになるた
め、結像レンズ８のｙ _θ 方向（Ｔ面内）の調整は不要
となる。

【００３６】しかし、距離Ｘ₁ ，Ｘ₂ が等しくなかった
り、楕円形の回折パターンＫの形状が基準パターンとは
異なっていた場合は、調整仮想入射画角ラインＪａに対
して結像レンズ８の入射画角ラインＨａがズレているこ
とを意味するため、結像レンズ８のｙ_θ 方向の調整を
行う。この場合の調整方法としては、結像レンズ調整手
段を用いて結像レンズ８をＴ面内でｙ_θ 方向に移動さ
せ、距離Ｘ₁ ，Ｘ₂ を互いに一致させると共に、回折パ
ターンＫの形状を基準パターンと一致させる。このよう
な調整によって、Ｔ面内における結像レンズ８の位置調
整が完了する（第三の位置調整工程）。

【００３７】実際の画像読取り時には、光束Ａの入射画
角ラインＧａは調整仮想入射画角ラインＪａ上を進んで
いき、その入射画角ラインＧａは結像レンズ８の入射画
角ラインＨａと一致し、これに伴って光束Ａの出射画角
ラインＧｂは結像レンズ８の出射画角ラインＨｂと一致
することになる。このようにＴ面内における結像レンズ
８の有効光束の画角ラインを調整することによって、読
取り画像の劣化を防いで高品位な画像を得ることができ
る。

【００３８】なお、画角ラインの調整に際して、結像レ
ンズ８がシフトしているとそのレンズからの出射光は傾
き、傾いていると出射光はシフトするという光学的な性
質を考慮しながら調整を行うと、調整すべき方向や調整
量などを容易に把握することができるため作業効率を向
上させることができる。調整終了後は、光軸方向以外は
動かないように結像レンズ８を固定する。また、観測板
１５の位置は特に限定しないが、投影された回折パター
ンＫがよく認識でき、パターン状態の差がわかるような
位置におく。また、調整仮想出射画角ラインＪｂ（設計
位置）と結像レンズ８の出射画角ラインＨｂとのズレ
は、調整仮想入射画角ラインＪａ（設計位置）と結像レ
ンズ８の入射画角ラインＨａとを一致させれば、自動的
に一致するためその調整の必要はない。また、パターン
表示手段としては、回折パターンを単に受光して表示す
るものに限るものではなく、受光した回折パターンをデ
ータとして保存しディスプレイ等に表示するものも含ま
れる。

【００３９】次に、本発明の第二の実施例を図４に基づ
いて説明する（請求項１，４記載の発明に対応する）。
なお、前述した第一の実施例と同一部分についての説明
は省略し、その同一部分については同一符号を用いる。

【００４０】本実施例は、前述した第一の実施例（図１
参照）に以下の構成要件を付加させたものである。すな
わち、図４（ｂ）に示すように、Ｔ面内の入射側には、
波動光照明手段としてのレーザ光源１２ａ₀ が配置され
ており、そのレーザ光軸Ｄａ₀ は、調整仮想光軸として
の調整仮想入射光軸Ｊａ₀ （設計位置）上に位置してい
る。その調整仮想入射光軸Ｊａ₀ の延長線上には、ピン
ホール１３の小孔１４ａ₀ の中心が位置している。な
お、ここでいう調整仮想光軸とは、実際には目に見える
ものではなく、設計時や調整時に便宜上用いている架空
なものである。この調整仮想光軸が、最終的には光源２
からの光束Ａの光軸Ｂに相当する。

【００４１】ここでは、Ｔ面内における結像レンズ８の
レンズ光軸Ｃを、光束Ａの光軸Ｂに一致させるための結
像レンズ８の位置調整方法について述べる。このような
結像レンズ８の調整を行うために、ここでは調整仮想入
射光軸Ｊａ₀ 、調整仮想光軸としての調整仮想出射光軸
Ｊｂ₀ （設計位置）を用いる。まず、結像レンズ８を装
置本体１に設置する前に調整を行う。すなわち、図４
（ｂ）に示すように、Ｔ面内に配置されたレーザ光源１
２ａ₀ からのレーザ光を、調整仮想入射光軸Ｊａ₀ 上の
ピンホール１３の小孔１４ａ₀ に向けて照射し、観測板
１５に回折パターンを投影する。このとき、レーザ光軸
Ｄａ₀ と調整仮想入射光軸Ｊａ₀ と小孔１４ａ₀ の中心
とは一致しているため、調整仮想出射光軸Ｊｂ₀ と観測
板１５とが交差する点１５₁ の位置を中心として円形の
回折パターンＫが形成される。一方、レーザ光源１２ａ
からのレーザ光は、調整仮想入射画角ラインＪａ上を進
んでいき、点１５₂ の位置を中心として楕円形の回折パ
ターンＫが形成される。これら３つの回折パターンＫの
形状、及び、点１５₁ ，１５₂ の位置を調整の基準とす
る。なお、これら基準パターンの位置にマーク等の目印
を付けてもよい。このようにして初期設定が終了する。

【００４２】次に、結像レンズ８を装置本体１に設置し
た状態で調整を行う。すなわち、この結像レンズ８の設
置により、点１５₁ の位置の回折パターンＫはそのまま
の位置で移動せず、点１５₂ の位置の回折パターンＫは
点１５₃ へと移動する。この場合、点１５₁ での回折パ
ターンＫが設置前の状態と変わらず、また、点１５₃の
回折パターンＫにおける点１５₁ から点１５₃ までの距
離Ｘ₄ ，Ｘ₅ が略等しく、かつ、そのパターン形状が略
同一ならば、調整仮想入射光軸Ｊａ₀ と結像レンズ８の
レンズ光軸Ｃ、及び、調整仮想入射画角ラインＪａと結
像レンズ８の入射画角ラインＨａとがそれぞれ一致して
いることになるため、結像レンズ８のｘ，ｙ方向、及
び、ｙ_θ 方向（Ｔ面内）の調整は不要となる。

【００４３】しかし、距離Ｘ₄ ，Ｘ₅ が異なっていた
り、回折パターンＫの位置や形状が基準としたパターン
と異なっていた場合は、調整仮想入射光軸Ｊａ₀ に対し
て結像レンズ８のレンズ光軸Ｃがズレているか、調整仮
想入射画角ラインＪａに対して結像レンズ８の入射画角
ラインＨａがズレていることを意味するため、結像レン
ズ８のｘ，ｙ方向、ｙ_θ 方向の調整を行う。この場合
の調整方法としては、結像レンズ調整手段を用い、ｘ，
ｙ方向及びｙ_θ 方向への移動によって点１５₁の回折パ
ターンＫはそのままの位置で距離Ｘ₄ ，Ｘ₅ を互いに等
しくさせ、回折パターンＫの形状を基準パターンと一致
させるように調整する。これにより、ｘ，ｙ面、Ｔ面内
における結像レンズ８の位置調整が完了する。

【００４４】実際の画像読取り時には、光束Ａの光軸Ｂ
は調整仮想入射光軸Ｊａ₀ 上を進んでいき、その光軸Ｂ
が結像レンズ８のレンズ光軸Ｃと一致し、また、光束Ａ
の入射画角ラインＧａは調整仮想入射画角ラインＪａ上
を進んでいき、その入射画角ラインＧａが結像レンズ８
の入射画角ラインＨａと一致することになる。このよう
にＴ面内における結像レンズ８の光軸と、有効光束の画
角ラインとの両方を調整することによって、読取り画像
の劣化を一段と防いで、より高品位な画像を得ることが
できる。

【００４５】次に、本発明の第三の実施例を図５に基づ
いて説明する（請求項２，６，９記載の発明に対応す
る）。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。

【００４６】図５（ａ）（ｂ）は、結像レンズ８の位置
調整を行う光学系の構成を示すものである。図５（ａ）
は光学系をＲ面側から見た図であり、図５（ｂ）は光学
系をＴ面側から見た図である。入射側の光学系のＲ面内
には波動光照明手段としてのレーザ光源１２ｂが２個配
置され、その出射側の光学系にはピンホール１３が配置
されている。このピンホール１３には、微小開口部とし
ての１個の小孔１４ｂ₀ と２個の小孔１４ｂとの計３個
がＲ面内に形成されている。また、ピンホール１３の後
方には、発生する回折パターンＫを受光して表示するパ
ターン表示手段としての観測板１５が配置されている。

【００４７】この場合、レーザ光源１２ｂから発せられ
るレーザ光の各レーザ光軸Ｄｂは、調整仮想画角ライン
としての調整仮想入射画角ラインＪｃ（設計位置）上に
位置している。ピンホール１３の２個の小孔１４ｂの中
心は、２本の調整仮想入射画角ラインＪｃの延長線上に
位置している。また、ピンホール１３の小孔１４ｂ₀の
中心は、調整仮想画角ラインとしての２本の調整仮想出
射画角ラインＪｄ（設計位置）の延長線上に位置してい
る。

【００４８】また、結像レンズ８は、スペーサやマイク
ロヘッド等の結像レンズ調整手段（図示せず）によって
移動自在に支持されている。この結像レンズ調整手段に
よって、入射光束に対する結像レンズ８の位置を調整仮
想画角ラインに一致させるように移動調整する。

【００４９】このような構成において、以下、Ｒ面内に
おける結像レンズ８の画角ラインＨｃ，Ｈｄを、光束Ａ
の画角ラインＧｃ，Ｇｄに一致させるための結像レンズ
８の位置調整方法について述べる（第一〜第三の位置調
整工程）。このような結像レンズ８の調整を行うため
に、ここでは調整仮想入射画角ラインＪｃ、調整仮想出
射画角ラインＪｄを用いる。まず、結像レンズ８を装置
本体１に設置する前に調整を行う。すなわち、図５
（ａ）に示すように、Ｒ面内に配置されたレーザ光源１
２ｂからのレーザ光を、調整仮想入射画角ラインＪｃ上
のピンホール１３の小孔１４ｂに向けて照射し、観測板
１５に回折パターンを投影する。このとき、レーザ光軸
Ｄｂと調整仮想入射画角ラインＪｃと小孔１４ｂの中心
とは一致しているため、調整仮想入射画角ラインＪｃと
観測板１５とが交差する点１５₅ の位置を中心として楕
円形の回折パターンが形成される。この回折パターンの
形状及びその点１５₅ を調整の基準とする（この位置に
マーク等の目印を付けてもよい）。ここでは、レーザ光
が小孔１４ｂの中心を通り斜めから入射しているため、
回折パターンＫは光量分布は均等であるが、入射角の度
合いにより形状が変わり楕円形となる。このようにして
初期設定が終了する（第一〜第二の位置調整工程）。

【００５０】次に、結像レンズ８を装置本体１に設置し
た状態で調整を行う。すなわち、この結像レンズ８の設
置により、観測板１５での回折パターンＫは、点１５₅
の位置から点１５₄ の位置へと移動する。この場合、点
１５₅ から点１５₄ までの距離Ｘ₆ ，Ｘ₇ が互いに略等
しく、かつ、回折パターンＫの形状が略同一ならば、調
整仮想入射画角ラインＪｃと結像レンズ８の入射画角ラ
インＨｃ、及び、調整仮想出射画角ラインＪｄと結像レ
ンズ８の出射画角ラインＨｄとがそれぞれ一致している
ことになるため、結像レンズ８のｘ_θ 方向（Ｒ面内）
の調整は不要となる。

【００５１】しかし、距離Ｘ₆ ，Ｘ₇ が等しくなかった
り、回折パターンＫの形状が基準パターンとは異なって
いたりした場合は、調整仮想入射画角ラインＪｃに対し
て結像レンズ８の入射画角ラインＨｃがズレていること
を意味するため、結像レンズ８のｘ_θ 方向の調整を行
う。この場合の調整方法としては、結像レンズ調整手段
を用いて結像レンズ８をＲ面内でｘ_θ 方向へ移動さ
せ、距離Ｘ₆ ，Ｘ₇ を互いに等しくさせると共に、回折
パターンＫの形状を基準パターンと一致させる。このよ
うな調整によって、Ｒ面内における結像レンズ８の位置
調整が完了する（第三の位置調整工程）。

【００５２】実際の画像読取り時には、光束Ａの入射画
角ラインＧｃは調整仮想入射画角ラインＪｃ上を進んで
いき、その入射画角ラインＧｃは結像レンズ８の入射画
角ラインＨｃと一致し、これに伴って光束Ａの出射画角
ラインＧｄは結像レンズ８の出射画角ラインＨｄと一致
することになる。このようにＲ面内における結像レンズ
８の有効光束の画角ラインを調整することによって、読
取り画像の劣化を防いで高品位な画像を得ることができ
る。

【００５３】次に、本発明の第四の実施例を図６に基づ
いて説明する（請求項２，４記載の発明に対応する）。
なお、前述した第三の実施例と同一部分についての説明
は省略し、その同一部分については同一符号を用いる。

【００５４】本実施例は、前述した第三の実施例（図５
参照）に以下の構成要件を付加させたものである。すな
わち、図６（ａ）に示すように、Ｒ面内の入射側には、
波動光照明手段としてのレーザ光源１２ｂ₀ が配置され
ており、そのレーザ光軸Ｄｂ₀ は、調整仮想光軸として
の調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ （設計位置）上に位置してい
る。その調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ の延長線上には、ピン
ホール１３の小孔１４ｂ₀ の中心が位置している。

【００５５】ここでは、Ｒ面内における結像レンズ８の
レンズ光軸Ｃを、光束Ａの光軸Ｂに一致させるための結
像レンズ８の位置調整方法について述べる。このような
結像レンズ８の調整を行うために、ここでは調整仮想入
射光軸Ｊｃ₀ 、調整仮想光軸としての調整仮想出射光軸
Ｊｄ₀ （設計位置）を用いる。まず、結像レンズ８を装
置本体１に設置する前に調整を行う。すなわち、図６
（ａ）に示すように、Ｒ面内に配置されたレーザ光源１
２ｂ₀ からのレーザ光を、調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ 上の
ピンホール１３の小孔１４ｂ₀ に向けて照射し、観測板
１５に回折パターンを投影する。このとき、レーザ光軸
Ｄｂ₀ と調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ と小孔１４ｂ₀ の中心
とは一致しているため、調整仮想出射光軸Ｊｄ₀ と観測
板１５とが交差する点１５₁ の位置を中心として円形の
回折パターンＫが形成される。一方、レーザ光源１２ｂ
からのレーザ光は、調整仮想入射画角ラインＪｃ上を進
んでいき、点１５₅ の位置を中心として楕円形の回折パ
ターンＫが形成される。これら３つの回折パターンＫの
形状、及び、点１５₁ ，１５₅ の位置を調整の基準とす
る。なお、これら基準パターンの位置にマーク等の目印
を付けてもよい。このようにして初期設定が終了する。

【００５６】次に、結像レンズ８を装置本体１に設置し
た状態で調整を行う。すなわち、この結像レンズ８の設
置により、点１５₁ の位置の回折パターンＫはそのまま
の位置で移動せず、点１５₅ の位置の回折パターンＫは
点１５₄ へと移動する。この場合、点１５₁ での回折パ
ターンＫが設置前の状態と変わらず、また、点１５₄の
回折パターンＫにおける点１５₁ から点１５₄ までの距
離Ｘ₈ ，Ｘ₉ が略等しく、かつ、そのパターン形状が略
同一ならば、調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ と結像レンズ８の
レンズ光軸Ｃ、及び、調整仮想入射画角ラインＪｃと結
像レンズ８の入射画角ラインＨｃとがそれぞれ一致して
いることになるため、結像レンズ８のｘ，ｙ方向、及
び、ｘ_θ 方向（Ｒ面内）の調整は不要となる。

【００５７】しかし、距離Ｘ₈ ，Ｘ₉ が異なっていた
り、回折パターンＫの位置や形状が基準としたパターン
と異なっていた場合は、調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ に対し
て結像レンズ８のレンズ光軸Ｃがズレているか、調整仮
想入射画角ラインＪｃに対して結像レンズ８の入射画角
ラインＨｃがズレていることを意味するため、結像レン
ズ８のｘ，ｙ方向、ｘ_θ 方向の調整を行う。この場合
の調整方法としては、結像レンズ調整手段を用い、ｘ，
ｙ方向及びｘ_θ 方向への移動によって点１５₁の回折パ
ターンＫはそのままの位置で距離Ｘ₈ ，Ｘ₉ を互いに等
しくさせ、回折パターンＫの形状を基準パターンと一致
させるように調整する。これにより、ｘ，ｙ面、Ｒ面内
における結像レンズ８の位置調整が完了する。

【００５８】実際の画像読取り時には、光束Ａの光軸Ｂ
は調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ 上を進んでいき、その光軸Ｂ
が結像レンズ８のレンズ光軸Ｃと一致し、また、光束Ａ
の入射画角ラインＧｃは調整仮想入射画角ラインＪｃ上
を進んでいき、その入射画角ラインＧｃが結像レンズ８
の入射画角ラインＨｃと一致することになる。このよう
にＲ面内における結像レンズ８の光軸と、有効光束の画
角ラインとの両方を調整することによって、読取り画像
の劣化を一段と防いで、より高品位な画像を得ることが
できる。

【００５９】次に、本発明の第五の実施例を図７及び図
８に基づいて説明する（請求項３，７記載の発明に対応
する）。なお、前記第一及び第三の実施例と同一部分に
ついての説明は省略し、その同一部分については同一符
号を用いる。

【００６０】本実施例は、第一の実施例（図１参照）の
ようなＴ面内での結像レンズ８の画角ライン調整と、第
三の実施例（図５参照）のようなＲ面内での結像レンズ
８の画角ライン調整とを組合わせた場合の例である。図
７（ａ）（ｂ）は、結像レンズ８の位置調整を行う光学
系の構成を示すものである。図７（ａ）は光学系をＲ面
側から見た図であり、図７（ｂ）は光学系をＴ面側から
見た図である。

【００６１】図７（ａ）に示すように、入射側の光学系
のＲ面内にはレーザ光源１２ｂが２個配置されている。
その出射側の光学系のピンホール１３には、微小開口部
としての１個の小孔１４ｂ₀ と２個の小孔１４ｂとの計
３個がＲ面内に形成されている。また、レーザ光源１２
ｂの各レーザ光軸Ｄｂは、調整仮想入射画角ラインＪｃ
（設計位置）上に位置し、小孔１４ｂの中心は調整仮想
入射画角ラインＪｃの延長線上に位置している。小孔１
４ｂ₀ の中心は、調整仮想出射画角ラインＪｄ（設計位
置）の延長線上に位置している。

【００６２】図７（ｂ）に示すように、入射側の光学系
のＴ面内にはレーザ光源１２ａが２個配置されている。
その出射側の光学系のピンホール１３には、微小開口部
としての１個の小孔１４ａ₀ と２個の小孔１４ａとの計
３個がＴ面内に形成されている。また、レーザ光源１２
ａの各レーザ光軸Ｄａは、調整仮想入射画角ラインＪａ
（設計位置）上に位置し、小孔１４ａ₀ の中心は調整仮
想入射画角ラインＪａの延長線上に位置している。小孔
１４ａの中心は、調整仮想出射画角ラインＪｂ（設計位
置）の延長線上に位置している。

【００６３】ここでは、Ｒ面内における結像レンズ８の
画角ラインＨｃ，Ｈｄを光束Ａの画角ラインＧｃ，Ｇｄ
に、Ｔ面内における結像レンズ８の画角ラインＨａ，Ｈ
ｂを光束Ａの画角ラインＧａ，Ｇｂに、それぞれ一致さ
せるための結像レンズ８の位置調整方法について述べる
（第一〜第三の位置調整工程）。まず、結像レンズ８を
装置本体１に設置する前に調整を行う。すなわち、図７
（ａ）に示すように、Ｒ面内のレーザ光源１２ｂからの
レーザ光を調整仮想入射画角ラインＪｃ上の小孔１４ｂ
に向けて照射し、観測板１５に回折パターンを投影す
る。このとき、調整仮想入射画角ラインＪｃと観測板１
５とが交差する点１５₅ の位置を中心として調整の基準
となる回折パターンが形成される。また、図７（ｂ）に
示すように、Ｔ面内のレーザ光源１２ａからのレーザ光
を調整仮想入射画角ラインＪａ上の小孔１４ａ₀ に向け
て照射し、観測板１５に回折パターンを投影する。この
とき、調整仮想入射画角ラインＪａと観測板１５とが交
差する点１５₂ の位置を中心として調整の基準となる回
折パターンが形成される。このようにして初期設定が終
了する（第二の位置調整工程）。

【００６４】次に、結像レンズ８を装置本体１に設置し
た状態で調整を行う。すなわち、この結像レンズ８の設
置により、観測板１５でのＲ面側での回折パターンＫ
は、点１５₅ の位置から点１５₄ の位置へと移動する
が、距離Ｘ₆ ，Ｘ₇ が略等しく、かつ、回折パターンＫ
の形状が略同一ならば、調整仮想入射画角ラインＪｃと
入射画角ラインＨｃ、及び、調整仮想出射画角ラインＪ
ｄと出射画角ラインＨｄとがそれぞれ一致していること
になるため、結像レンズ８のｘ_θ 方向（Ｒ面内）の調
整は不要となる。一方、観測板１５でのＴ面側での回折
パターンＫは、点１５₂ の位置から点１５₃ の位置へと
移動するが、距離Ｘ₁ ，Ｘ₂ が略等しく、かつ、回折パ
ターンＫの形状が略同一ならば、調整仮想入射画角ライ
ンＪａと入射画角ラインＨａ、及び、調整仮想出射画角
ラインＪｂと出射画角ラインＨｂとがそれぞれ一致して
いることになるため、結像レンズ８のｙ_θ 方向（Ｔ面
内）の調整は不要となる。

【００６５】しかし、距離Ｘ₆ ，Ｘ₇ や距離Ｘ₁ ，Ｘ₂
がそれぞれ等しくなかったり、回折パターンＫの形状が
基準パターンとは異なっていた場合は、調整仮想入射画
角ラインＪｃ，Ｊａに対して入射画角ラインＨｃ，Ｈａ
がズレていることを意味するため、結像レンズ８のｘ_θ
，ｙ_θ 方向の調整を行う。この場合の調整方法として
は、結像レンズ調整手段を用い、結像レンズ８をＲ面内
ではｘ_θ 方向へＴ面内ではｙ_θ 方向へそれぞれ移動さ
せ、距離Ｘ₆ ，Ｘ₇ や距離Ｘ₁ ，Ｘ₂ を互いに等しくさ
せると共に、回折パターンＫの形状を基準パターンと一
致させる。このような調整によって、Ｒ面，Ｔ面内にお
ける結像レンズ８の位置調整が完了する（第三の位置調
整工程）。

【００６６】実際の画像読取り時には、光束Ａの入射画
角ラインＧｃ，Ｇａは調整仮想入射画角ラインＪｃ，Ｊ
ａ上をそれぞれ進んでいき、入射画角ラインＧｃ，Ｇａ
は結像レンズ８の入射画角ラインＨｃ，Ｈａと一致し、
これに伴って光束Ａの出射画角ラインＧｄ，Ｇｂは結像
レンズ８の出射画角ラインＨｄ，Ｈｂと一致することに
なる。このようにＲ面，Ｔ面内における結像レンズ８の
有効光束の画角ラインを調整することによって、読取り
画像の劣化を防いで高品位な画像を得ることができる。

【００６７】次に、本発明の第六の実施例を図９及び図
１０に基づいて説明する（請求項３，４，１０記載の発
明に対応する）。なお、前述した第二，第四，第五の実
施例と同一部分についての説明は省略し、その同一部分
については同一符号を用いる。

【００６８】本実施例は、第二の実施例（図４参照）の
ようなＴ面内での結像レンズ８の位置調整と、第四の実
施例（図６参照）のようなＲ面内での結像レンズ８の位
置調整とを組合わせた場合の例である。図９（ａ）
（ｂ）は、結像レンズ８の位置調整を行う光学系の構成
を示すものである。図９（ａ）は光学系をＲ面側から見
た図であり、図９（ｂ）は光学系をＴ面側から見た図で
ある。

【００６９】図９（ａ）に示すように、Ｒ面内の入射側
には、レーザ光源１２ｂ₀ が配置されている。レーザ光
軸Ｄｂ₀ は調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ 上に位置し、その調
整仮想入射光軸Ｊｃ₀ の延長線上には小孔１４ｂ₀ の中
心が位置している。また、図９（ｂ）に示すように、Ｔ
面内の入射側には、レーザ光源１２ａ₀ が配置されてい
る。レーザ光軸Ｄａ₀ は調整仮想入射光軸Ｊａ₀ 上に位
置し、その調整仮想入射光軸Ｊａ₀ の延長線上には小孔
１４ａ₀ の中心が位置している。なお、Ｒ面側における
レーザ光源１２ｂ、小孔１４ｂ、調整仮想入射画角ライ
ンＪｃ、調整仮想出射画角ラインＪｄ、及び、Ｔ面側に
おけるレーザ光源１２ａ、小孔１４ａ、調整仮想入射画
角ラインＪａ、調整仮想出射画角ラインＪｂのそれぞれ
の位置関係についての説明は省略する。

【００７０】ここでは、Ｒ面内における結像レンズ８の
レンズ光軸Ｃを光束Ａの光軸Ｂに、Ｔ面内における結像
レンズ８のレンズ光軸Ｃを光束Ａの光軸Ｂに、それぞれ
一致させるための結像レンズ８の位置調整方法について
述べる。まず、結像レンズ８を装置本体１に設置する前
に調整を行う。すなわち、図９（ａ）に示すように、Ｒ
面内に配置されたレーザ光源１２ｂ₀ からのレーザ光を
調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ 上の小孔１４ｂ₀ に向けて照射
し、観測板１５に回折パターンを投影する。このとき、
調整仮想出射光軸Ｊｃ₀ と観測板１５とが交差する点１
５₁ の位置を中心として調整の基準となる回折パターン
Ｋが形成される。一方、レーザ光源１２ｂからのレーザ
光は、調整仮想入射画角ラインＪｃ上を進んでいき、点
１５₅ の位置を中心として調整の基準となる回折パター
ンＫが形成される。

【００７１】また、図９（ｂ）に示すように、Ｔ面内に
配置されたレーザ光源１２ａ₀ からのレーザ光を調整仮
想入射光軸Ｊａ₀ 上の小孔１４ａ₀ に向けて照射し、観
測板１５に回折パターンを投影する。このとき、調整仮
想出射光軸Ｊａ₀ と観測板１５とが交差する点１５₁ の
位置を中心として調整の基準となる回折パターンＫが形
成される。一方、レーザ光源１２ａからのレーザ光は、
調整仮想入射画角ラインＪａ上を進んでいき、点１５₂
の位置を中心として調整の基準となる回折パターンＫが
形成される。このようにして初期設定が終了する。

【００７２】次に、結像レンズ８を装置本体１に設置し
た状態で調整を行う。すなわち、この結像レンズ８の設
置により、Ｒ面では点１５₁ の位置の回折パターンＫは
そのままの位置で移動せず、点１５₅ の位置の回折パタ
ーンＫは点１５₄ へと移動し、点１５₁ から点１５₄ ま
での距離Ｘ₈ ，Ｘ₉ が略等しく、かつ、そのパターン形
状が略同一ならば、調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ とレンズ光
軸Ｃ、及び、調整仮想入射画角ラインＪｃと入射画角ラ
インＨｃとがそれぞれ一致していることになるため、結
像レンズ８のｘ，ｙ方向、及び、ｘ_θ 方向（Ｒ面内）
の調整は不要となる。同様に、Ｔ面では点１５₁ の位置
の回折パターンＫはそのままの位置で移動せず、点１５
₂ の位置の回折パターンＫは点１５₃ へと移動し、点１
５₁ から点１５₃ までの距離Ｘ₄ ，Ｘ₅ が略等しく、か
つ、そのパターン形状が略同一ならば、調整仮想入射光
軸Ｊａ₀ とレンズ光軸Ｃ、及び、調整仮想入射画角ライ
ンＪａと入射画角ラインＨａとがそれぞれ一致している
ことになるため、結像レンズ８のｘ，ｙ方向、及び、ｙ
_θ 方向（Ｔ面内）の調整は不要となる。

【００７３】しかし、距離Ｘ₈ ，Ｘ₉ や距離Ｘ₄ ，Ｘ₅
が異なっていたり、回折パターンＫの位置や形状が基準
としたパターンと異なっていた場合は、調整仮想入射光
軸Ｊｃ₀ ，Ｊａ₀ に対して結像レンズ８のレンズ光軸Ｃ
がズレているか、調整仮想入射画角ラインＪｃ，Ｊａに
対して結像レンズ８の入射画角ラインＨｃ，Ｈａがズレ
ていることを意味するため、結像レンズ８のｘ，ｙ方
向、ｘ_θ ，ｙ_θ 方向の調整を行う。この場合の調整方
法としては、結像レンズ調整手段を用い、ｘ，ｙ方向及
びｘ_θ ，ｙ_θ 方向への移動によって点１５₁ の回折パ
ターンＫはそのままの位置で距離Ｘ₈ ，Ｘ₉ や距離Ｘ
₄ ，Ｘ₅ を互いに等しくさせ、回折パターンＫの形状を
基準パターンと一致させるように調整する。これによ
り、ｘ，ｙ面、Ｒ，Ｔ面内における結像レンズ８の位置
調整が完了する。

【００７４】実際の画像読取り時には、光束Ａの光軸Ｂ
は調整仮想入射光軸Ｊｃ₀ ，Ｊａ₀上を進んでいき、そ
の光軸Ｂが結像レンズ８のレンズ光軸Ｃと一致し、ま
た、光束Ａの入射画角ラインＧｃ，Ｇａは調整仮想入射
画角ラインＪｃ，Ｊａ上を進んでいき、その入射画角ラ
インＧｃ，Ｇａが結像レンズ８の入射画角ラインＨｃ，
Ｈａと一致することになる。このようにＲ，Ｔ面内にお
ける結像レンズ８の光軸と、有効光束の画角ラインとの
両方を調整することによって、読取り画像の劣化を一段
と防いで、より一段と高品位な画像を得ることができ
る。

【００７５】

【発明の効果】請求項１記載の発明は、波動光照明手段
と光束を規制する微小開口部を有する光束規制部材と
を、タンデンシャル面内における結像レンズの有効光束
の調整仮想画角ライン上に配置させ、これにより発生し
た回折パターンをパターン表示手段に表示させ、その表
示された回折パターンをもとに結像レンズ調整手段を用
いて結像レンズの位置を調整することによって、結像レ
ンズを調整仮想画角ライン上に介在させたときの回折パ
ターンと介在させないときの回折パターンとを一致させ
るようにしたので、タンデンシャル面内における結像レ
ンズの有効光束の画角ラインを調整仮想画角ラインすな
わち設計位置に一致させることができ、これにより、実
際の原稿読取り時における読取り光束の画角ラインが結
像レンズの画角ラインに対してズレるようなことがなく
なり、結像性能を一段と高めることができ、これによ
り、高品位な画像を得ることが可能な原稿読取装置を提
供することができる。

【００７６】請求項２記載の発明は、波動光照明手段と
光束を規制する微小開口部を有する光束規制部材とを、
ラジアル面内における結像レンズの有効光束の調整仮想
画角ライン上に配置させ、これにより発生した回折パタ
ーンをパターン表示手段に表示させ、その表示された回
折パターンをもとに結像レンズ調整手段を用いて結像レ
ンズの位置を調整することによって、結像レンズを調整
仮想画角ライン上に介在させたときの回折パターンと介
在させないときの回折パターンとを一致させるようにし
たので、ラジアル面内における結像レンズの有効光束の
画角ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位置に一
致させることができ、これにより、実際の原稿読取り時
における読取り光束の画角ラインが結像レンズの画角ラ
インに対してズレるようなことがなくなり、結像性能を
一段と高めることができ、これにより、高品位な画像を
得ることが可能な原稿読取装置を提供することができ
る。

【００７７】請求項３記載の発明は、波動光照明手段と
光束を規制する微小開口部を有する光束規制部材とを、
タンデンシャル面及びラジアル面の各面内における結像
レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配置させ、
これにより発生した回折パターンをパターン表示手段に
表示させ、その表示された回折パターンをもとに結像レ
ンズ調整手段によって結像レンズの位置を調整すること
によって、結像レンズを調整仮想画角ライン上に介在さ
せたときの回折パターンと介在させないときの回折パタ
ーンとを一致させるようにしたので、タンデンシャル面
及びラジアル面の各面内における結像レンズの有効光束
の画角ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位置に
一致させることができ、これにより、実際の原稿読取り
時における読取り光束の画角ラインが結像レンズの画角
ラインに対してズレるようなことがなくなり、結像性能
を一段と高めることができ、これにより、高品位な画像
を得ることが可能な原稿読取装置を提供することができ
る。

【００７８】請求項４記載の発明は、波動光照明手段と
光束を規制する微小開口部を有する光束規制部材とを、
結像レンズの調整仮想光軸上に配置させ、これにより発
生した回折パターンをパターン表示手段に表示させ、そ
の表示された回折パターンをもとに結像レンズ調整手段
を用いて結像レンズの位置を調整することによって、結
像レンズを調整仮想画角ライン上及び調整仮想光軸上に
介在させたときの回折パターンと介在させないときの回
折パターンとを一致させるようにしたので、結像レンズ
のレンズ光軸を調整仮想光軸すなわち設計位置に一致さ
せることができ、これにより、実際の原稿読取り時にお
ける読取り光束の光軸も結像レンズのレンズ光軸に対し
てズレるようなことがなくなり、結像性能をより一段と
高めることができる。

【００７９】請求項５記載の発明は、結像レンズを含む
光学系のタンデンシャル面内において、光束規制部材を
装置本体に配置させた状態で、第一〜第三の位置調整工
程に従って順次回折パターンを用いた結像レンズの画角
ライン調整を行うようにしたので、結像レンズの位置調
整作業をスムーズにかつ効率的に行え、所望とする画角
ライン精度を容易に誰でも達成することができ、これに
より、作業が簡単で高精度な結像レンズの位置調整方法
を実現することができる。

【００８０】請求項６記載の発明は、結像レンズを含む
光学系のラジアル面内において、光束規制部材を装置本
体に配置させた状態で、第一〜第三の位置調整工程に従
って順次回折パターンを用いた結像レンズの画角ライン
調整を行うようにしたので、結像レンズの位置調整作業
をスムーズにかつ効率的に行え、所望とする画角ライン
精度を容易に誰でも達成することができ、これにより、
作業が簡単で高精度な結像レンズの位置調整方法を実現
することができる。

【００８１】請求項７記載の発明は、結像レンズを含む
光学系のタンデンシャル面及びラジアル面内において、
光束規制部材を装置本体に配置させた状態で、第一〜第
三の位置調整工程に従って順次回折パターンを用いた結
像レンズの画角ライン調整を行うようにしたので、結像
レンズの位置調整作業をスムーズにかつ効率的に行え、
所望とする画角ライン精度を容易に誰でも達成すること
ができ、これにより、作業が簡単で高精度な結像レンズ
の位置調整方法を実現することができる。

【００８２】請求項８記載の発明は、波動光照明手段
と、光束規制部材と、パターン表示手段と、結像レンズ
調整手段とによって構成された結像レンズ位置調整装置
を用いてタンデンシャル面内で結像レンズの位置調整を
行うようにしたので、タンデンシャル面内における結像
レンズの有効光束の画角ラインを調整仮想画角ラインす
なわち設計位置に一致させることができ、これにより、
結像レンズの画角ラインに対して実際の原稿読取り時に
おける読取り光束の画角ラインのズレをなくし、結像性
能を一段と高めることができる。

【００８３】請求項９記載の発明は、波動光照明手段
と、光束規制部材と、パターン表示手段と、結像レンズ
調整手段とによって構成された結像レンズ位置調整装置
を用いてラジアル面内で結像レンズの位置調整を行うよ
うにしたので、ラジアル面内における結像レンズの有効
光束の画角ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位
置に一致させることができ、これにより、結像レンズの
画角ラインに対して実際の原稿読取り時における読取り
光束の画角ラインのズレをなくし、結像性能を一段と高
めることができる。

【００８４】請求項１０記載の発明は、波動光照明手段
と、光束規制部材と、パターン表示手段と、結像レンズ
調整手段とによって構成された結像レンズ位置調整装置
を用いてタンデンシャル面及びラジアル面内で結像レン
ズの位置調整を行うようにしたので、タンデンシャル面
及びラジアル面内における結像レンズの有効光束の画角
ラインを調整仮想画角ラインすなわち設計位置に一致さ
せることができ、これにより、結像レンズの画角ライン
に対して実際の原稿読取り時における読取り光束の画角
ラインのズレをなくし、結像性能を一段と高めることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例を示すものであり、
（ａ）はＲ面から見た側面図、（ｂ）はＴ面から見た平
面図である。

【図２】（ａ）は結像レンズをＴ面から見た平面図、
（ｂ）は結像レンズをＲ面から見た側面図である。

【図３】（ａ）は同心円状の正常な回折パターンを示す
模式図、（ｂ）は非対称な回折パターンを示す模式図で
ある。

【図４】本発明の第二の実施例を示すものであり、
（ａ）はＲ面から見た側面図、（ｂ）はＴ面から見た平
面図である。

【図５】本発明の第三の実施例を示すものであり、
（ａ）はＲ面から見た側面図、（ｂ）はＴ面から見た平
面図である。

【図６】本発明の第四の実施例を示すものであり、
（ａ）はＲ面から見た側面図、（ｂ）はＴ面から見た平
面図である。

【図７】本発明の第五の実施例を示すものであり、
（ａ）はＲ面から見た側面図、（ｂ）はＴ面から見た平
面図である。

【図８】Ｒ，Ｔ面内における光源の配置を示す模式図で
ある。

【図９】本発明の第六の実施例を示すものであり、
（ａ）はＲ面から見た側面図、（ｂ）はＴ面から見た平
面図である。

【図１０】Ｒ，Ｔ面内における光源の配置を示す模式図
である。

【図１１】原稿読取装置の読取光学系を示す側面図であ
る。

【符号の説明】

２ 照明手段 ４ 原稿 ８ 結像レンズ １２ａ，１２ａ₀，１２ｂ，１２ｂ₀ 波動光照明手
段 １３ 光束規制部材 １４ａ，１４ａ₀，１４ｂ，１４ｂ₀ 微小開口部 １５ パターン表示
手段 Ｊａ〜Ｊｄ 調整仮想画角
ライン Ｊａ₀，Ｊｃ₀ 調整仮想光軸 Ｔ タンデンシャ
ル面 Ｒ ラジアル面

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原稿を照明手段により照明し、この照明
   により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
   導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
   に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
   稿読取装置において、前記結像レンズを含む光学系のタ
   ンデンシャル面内でかつその結像レンズの入出射の何れ
   か一方側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光を
   発する波動光照明手段を配設し、前記結像レンズを挾ん
   で前記波動光照明手段とは反対側の前記タンデンシャル
   面内でかつ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラ
   イン上に前記波動光照明手段から発せられた前記波動光
   を規制する微小開口部を有する光束規制部材を配設し、
   この光束規制部材により発生した回折パターンを受光し
   て表示するパターン表示手段を設け、入射光束に対する
   前記結像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段を
   設けたことを特徴とする原稿読取装置。
2. 【請求項２】 原稿を照明手段により照明し、この照明
   により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
   導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
   に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
   稿読取装置において、前記結像レンズを含む光学系のラ
   ジアル面内でかつその結像レンズの入出射の何れか一方
   側の有効光束の調整仮想画角ライン上に波動光を発する
   波動光照明手段を配設し、前記結像レンズを挾んで前記
   波動光照明手段とは反対側の前記ラジアル面内でかつ前
   記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に前記
   波動光照明手段から発せられた前記波動光を規制する微
   小開口部を有する光束規制部材を配設し、この光束規制
   部材により発生した回折パターンを受光して表示するパ
   ターン表示手段を設け、入射光束に対する前記結像レン
   ズの位置を調整する結像レンズ調整手段を設けたことを
   特徴とする原稿読取装置。
3. 【請求項３】 原稿を照明手段により照明し、この照明
   により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
   導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
   に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
   稿読取装置において、前記結像レンズを含む光学系のタ
   ンデンシャル面及びラジアル面の各面内でかつその結像
   レンズの入出射の何れか一方側の有効光束の調整仮想画
   角ライン上に波動光を発する波動光照明手段を各々配設
   し、前記結像レンズを挾んで前記各波動光照明手段とは
   反対側の前記タンデンシャル面及びラジアル面の各面内
   でかつ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン
   上に前記波動光照明手段から発せられた前記波動光を規
   制する微小開口部を有する光束規制部材を各々配設し、
   これら各光束規制部材により発生した回折パターンを受
   光して表示するパターン表示手段を設け、入射光束に対
   する前記結像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手
   段を設けたことを特徴とする原稿読取装置。
4. 【請求項４】 結像レンズの入出射の何れか一方側の調
   整仮想光軸上に波動光を発する波動光照明手段を配設
   し、この波動光照明手段とは反対側の前記結像レンズの
   調整仮想光軸上に前記波動光照明手段から発せられた前
   記波動光を規制する微小開口部を有する光束規制部材を
   配設したことを特徴とする請求項１，２又は３記載の原
   稿読取装置。
5. 【請求項５】 結像レンズを含む光学系のタンデンシャ
   ル面内でその結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライ
   ンと微小開口部を有する光束規制部材の前記微小開口部
   の中心とが一致又は略一致するように、前記光束規制部
   材を装置本体に位置決めする第一の位置調整工程と、前
   記微小開口部の中心と波動光を発する波動光照明手段の
   光軸とが一致又は略一致するように、前記波動光照明手
   段の位置を回折パターンを用いて調整し位置決めする第
   二の位置調整工程と、前記結像レンズを前記調整仮想画
   角ライン上に配置させこの結像レンズを介在させる前の
   前記回折パターンと介在させた後の回折パターンとを比
   較し両方の回折パターンが一致又は略一致するように前
   記結像レンズの位置決めを行う第三の位置調整工程とか
   らなることを特徴とする結像レンズの位置調整方法。
6. 【請求項６】 結像レンズを含む光学系のラジアル面内
   でその結像レンズの有効光束の調整仮想画角ラインと微
   小開口部を有する光束規制部材の前記微小開口部の中心
   とが一致又は略一致するように、前記光束規制部材を装
   置本体に位置決めする第一の位置調整工程と、前記微小
   開口部の中心と波動光を発する波動光照明手段の光軸と
   が一致又は略一致するように、前記波動光照明手段の位
   置を回折パターンを用いて調整し位置決めする第二の位
   置調整工程と、前記結像レンズを前記調整仮想画角ライ
   ン上に配置させこの結像レンズを介在させる前の前記回
   折パターンと介在させた後の回折パターンとを比較し両
   方の回折パターンが一致又は略一致するように前記結像
   レンズの位置決めを行う第三の位置調整工程とからなる
   ことを特徴とする結像レンズの位置調整方法。
7. 【請求項７】 結像レンズを含む光学系のタンデンシャ
   ル面及びラジアル面内でその結像レンズの有効光束の調
   整仮想画角ラインと微小開口部を有する光束規制部材の
   前記微小開口部の中心とが一致又は略一致するように、
   前記光束規制部材を装置本体に位置決めする第一の位置
   調整工程と、前記微小開口部の中心と波動光を発する波
   動光照明手段の光軸とが一致又は略一致するように、前
   記波動光照明手段の位置を回折パターンを用いて調整し
   位置決めする第二の位置調整工程と、前記結像レンズを
   前記調整仮想画角ライン上に配置させこの結像レンズを
   介在させる前の前記回折パターンと介在させた後の回折
   パターンとを比較し両方の回折パターンが一致又は略一
   致するように前記結像レンズの位置決めを行う第三の位
   置調整工程とからなることを特徴とする結像レンズの位
   置調整方法。
8. 【請求項８】 結像レンズを含む光学系のタンデンシャ
   ル面内でかつその結像レンズの入出射の何れか一方側の
   有効光束の調整仮想画角ライン上に配設された波動光を
   発する波動光照明手段と、前記結像レンズを挾んで前記
   波動光照明手段とは反対側の前記タンデンシャル面内で
   かつ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上
   に配設された前記波動光照明手段から発せられた前記波
   動光を規制する微小開口部を有する光束規制部材と、こ
   の光束規制部材により発生した回折パターンを受光して
   表示するパターン表示手段と、入射光束に対する前記結
   像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段とを備え
   たことを特徴とする結像レンズ位置調整装置。
9. 【請求項９】 結像レンズを含む光学系のラジアル面内
   でかつその結像レンズの入出射の何れか一方側の有効光
   束の調整仮想画角ライン上に配設された波動光を発する
   波動光照明手段と、前記結像レンズを挾んで前記波動光
   照明手段とは反対側の前記ラジアル面内でかつ前記結像
   レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に配設された
   前記波動光照明手段から発せられた前記波動光を規制す
   る微小開口部を有する光束規制部材と、この光束規制部
   材により発生した回折パターンを受光して表示するパタ
   ーン表示手段と、入射光束に対する前記結像レンズの位
   置を調整する結像レンズ調整手段とを備えたことを特徴
   とする結像レンズ位置調整装置。
10. 【請求項１０】 結像レンズを含む光学系のタンデンシ
    ャル面及びラジアル面の各面内でかつその結像レンズの
    入出射の何れか一方側の有効光束の調整仮想画角ライン
    上に各々配設された波動光を発する波動光照明手段と、
    前記結像レンズを挾んで前記各波動光照明手段とは反対
    側の前記タンデンシャル面及びラジアル面の各面内でか
    つ前記結像レンズの有効光束の調整仮想画角ライン上に
    各々配設された前記波動光照明手段から発せられた前記
    波動光を規制する微小開口部を有する光束規制部材と、
    これら各光束規制部材により発生した回折パターンを受
    光して表示するパターン表示手段と、入射光束に対する
    前記結像レンズの位置を調整する結像レンズ調整手段と
    を備えたことを特徴とする結像レンズ位置調整装置。