JPH08220709A

JPH08220709A - 写真用カプラーの製造方法

Info

Publication number: JPH08220709A
Application number: JP4662495A
Authority: JP
Inventors: Hiroki Mizukawa; 裕樹水川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1995-02-13
Filing date: 1995-02-13
Publication date: 1996-08-30

Abstract

(57)【要約】【目的】製造工程を簡略化し製造にかかる日数を短縮す
る。【構成】式〔II〕のアミン体に一般式〔III 〕の化合物
を反応させ、次いでその生成物〔IV〕に一般式〔Ｖ〕の
化合物を反応させる式〔Ｉ〕の写真用カプラーの製造方
法。（Ｃｐはカプラー残基、Ｒ₁〜Ｒ₄は水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基またはアリール基、ｍは０から
２４の整数、Ａは−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、
−ＳＯ₂−等を、Ｒ₅はアルキル基等、Ｘ₁、Ｘ₂はハ
ロゲン原子または−ＯＳＯ₂−Ｒ₁₃を、Ｒ₁₃はアルキル
基またはアリール基、Ｍは水素原子またはアルカリ金属
原子を表す。）【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は写真感光材料に使用され
るカプラーの製造方法に関するものあり、工程の簡略
化、収率の向上を達成したカプラーの製造方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料におい
ては現像主薬の酸化体とカップリングしてイエロー、マ
ゼンタ、シアンに発色する色素形成カプラー、現像抑制
剤を放出するＤＩＲカプラー、色補正が目的のカラード
カプラー等々が用いられている。これらのカプラーには
種々の目的に沿って各種の置換基が導入されている。例
えば、これらのカプラーはゼラチン中に分散させるため
に、高沸点有機溶媒に溶解させたり、またはアルカリ水
溶液に溶解させて用いられており、これらの溶媒に対し
て優れた溶解性が要求され、それらを満足する置換基が
導入されている。またこれらの置換基はカプラーを好ま
しい層に固定化させるために耐拡散性の機能も付与され
た置換基が選択されている。さらにカプラーに要求され
る基本的な性能としては色相、発色性、カプラーの安定
性、色像の堅牢性等を挙げることができる。これらの性
能を満足させるために種々の置換基が選択されカプラー
骨格に導入されている。例えば特開昭−５０１９４３５
号、同６０−５５３４０、米国特許第４５１３０８２
号、米国特許第４９４２１１７号、特開平３−１９６０
３７号、同２−１８５５２、同３−２２１９４７、同３
−２８４７４５、特公昭５６−４４４２０等に記載され
ている。

【０００３】上記の特許に記載されているカプラー、す
なわち一般式〔Ｉ〕で表される置換基を有するカプラー
の製造方法においては、従来、以下に示す合成スキーム
（Ａ）または合成スキーム（Ｂ）に従って製造されてい
た。

【０００４】

【化６】

【０００５】すなわち、あらかじめ化合物ｃの酸クロラ
イド体を合成したのちに一般式〔II〕で表されるカプラ
ーのアミン体とを反応させて、一般式〔Ｉ〕で表される
カプラーを製造していた。しかしながら、これらの製造
方法においては、あらかじめ合成する化合物ｂもしくは
化合物ｅを単離、精製、乾燥等を行わなければならず製
造日数を必要とし、さらに精製等における損失等々コス
トアップの要因があり、カプラーのより安価な製造方法
が望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、製造工程を簡略化し製造にかかる日数を短縮したカ
プラーの製造方法を提供することにある。さらに中間体
を単離することによる損失を無くしカプラーを優れた得
率で製造する方法を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
製造方法によって達成されることが見出された。即ち、
一般式〔Ｉ〕

【０００８】

【化７】

【０００９】（式中、Ｃｐはカプラー残基を表し、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を表す。ｍは０か
ら２４の整数を表す。Ａは−Ｏ−，−ＯＣ（＝Ｏ）−，
−Ｓ−，−ＳＯ₂−，−Ｎ（Ｒ₁₁）−または−Ｎ
（Ｒ₁₂）ＳＯ₂−を表す。Ｒ₅はアルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、ヘテロ環基またはＲ₁₁またはＲ₁₂と
互いに結合して５員または６員の環を形成するために必
要な原子群を表す。Ｒ₁₁及びＲ₁₂はそれぞれにアルキル
基、アリール基、ヘテロ環基またはＲ₅と互いに結合し
て５員または６員の環を形成するために必要な原子群を
表す。）で表される写真用カプラーの製造方法におい
て、一般式〔II〕

【００１０】

【化８】

【００１１】（式中、Ｃｐはカプラー残基を表す。）で
表されるアミン体に一般式〔III 〕

【００１２】

【化９】

【００１３】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びｍは
それぞれに一般式〔Ｉ〕におけるそれぞれと同義であ
る。Ｘ₁及びＸ₂はそれぞれにハロゲン原子または−Ｏ
ＳＯ₂−Ｒ₁₃を表す。Ｒ₁₃はアルキル基またはアリール
基を表す。）で表される化合物を反応させ、次いでその
生成物〔IV〕

【００１４】

【化１０】

【００１５】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びｍは
それぞれ一般式〔Ｉ〕におけるそれぞれと同義である。
Ｘ₁及びＸ₂はそれぞれに一般式〔III 〕におけるそれ
ぞれと同義である。）に一般式〔Ｖ〕

【００１６】

【化１１】

【００１７】（式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属
原子を表し、Ａ、Ｒ₅、Ｒ₁₁及びＲ₁₂はそれぞれに一般
式〔Ｉ〕におけるそれぞれと同義である。）で表される
化合物を反応させることを特徴とする一般式〔Ｉ〕で表
される写真用カプラーの製造方法。特にＡが−ＯＣ（＝
Ｏ）−の場合に高い収率を得ることができる。

【００１８】以下に本発明を詳細に説明する。各一般式
における置換基を説明する。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄
のアルキル基は置換または無置換の直鎖、分岐鎖または
環状のアルキル基を表し、無置換のアルキル基の炭素数
としては１〜４８が好ましく、１〜３６がさらに好まし
く、１〜２４が特に好ましい。無置換の直鎖、分岐鎖ま
たは環状のアルキル基としては、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキ
サデシル、オクタデシル、エイコシル、イソプロピル、
イソブチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、アダマンチルが挙げられる。

【００１９】置換アルキル基の置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば、フッ素、塩素）、ヒドロキシル基、ニ
トロ基、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、アリー
ル基（炭素数６〜１８、好ましくは６〜１２。例えばフ
ェニル、４−ニトロフェニル、４−ヒドロキシフェニ
ル、ナフチル）、アルコキシ基（炭素数１〜２４、好ま
しくは１〜１８、例えばメトキシ、エトキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ、ドデシルオキシ、ヘキサデシルオキ
シ、２−エチルヘキシル）、アリールオキシ基（炭素数
６〜１８、好ましくは６〜１２、例えばフェノキシ、４
−ｔｅｒｔ−オクチルフェノキシ、２、４−ジ−ｔｅｒ
ｔ−アミルフェノキシ、４−シアノフェノキシ、２−メ
タンスルホンアミドフェノキシ、４−（４’−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ、４−フェニルフェ
ノキシ）、ヘテロ環オキシ基（炭素数１〜１２、好まし
くは１〜６、例えば５−ピラゾリルオキシ、２−ピリジ
ルオキシ）、アルキルチオ基（炭素数１〜２４、好まし
くは１〜１８、例えばメチルチオ、エチルチオ、ブチル
チオ、オクチルチオ、ｔ−オクチルチオ、ヘキサデシル
チオ）、アリールチオ基（炭素数６〜１８、好ましくは
１〜１２、例えばフェニルチオ、２−ピバロイルアミノ
フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニ
ルチオ、）、アルコキシカルボニル基（炭素数２〜３
６、好ましくは２〜２０、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ドデシルオ
キシカルボニル、）、アリールオキシカルボニル基（炭
素数７〜３６、好ましくは７〜２４、例えばフェノキシ
カルボニル、２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシカルボ
ニル、４−ドデシルオキシフェノキシカルボニル）、ア
シルアミノ基（炭素数２〜３６、好ましくは２〜２４、
例えばアセトアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、
ベンズアミド、ピバリン酸アミド、ヘキサデカン酸アミ
ド、２−オクタデシルオキシベンズアミド）、カルバモ
イル基（炭素数１〜３６、好ましくは１〜２４、例えば
Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、
Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモ
イル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバモイル、

【００２０】Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイ
ル）、スルファモイル基（炭素数１〜３６、好ましくは
１〜２４。Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−ブチルスル
ファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ
−ジオクチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモ
イル、Ｎ−シクルヘキシルスルファモイル、Ｎ−エチル
−Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホンアミド基
（炭素数１〜３６、好ましくは１〜２４、例えばメタン
スルホンアミド、ブタンスルホンアミド、オクタンスル
ホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、ベンゼンス
ルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド、２−オク
チルオキシ−５−ｔ−オクチルベンゼンスルホンアミ
ド）、アルコキシカルボニルアミノ基（炭素数２〜３
６、好ましくは２〜２４、例えばメトキシカルボニルア
ミノ、エトキシカルボニルアミノ、ドデシルオキシカル
ボニルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ）、ア
リールオキシカルボニルアミノ基（炭素数７〜３６、好
ましくは７〜２４、例えばフェノキシカルボニルアミ
ノ、４−メトキシフェノキシカルボニルアミノ）、ウレ
イド基（炭素数１〜３６、好ましくは１〜２４、例えば
Ｎ−ブチルウレイド、Ｎ−フェニルウレウイド、Ｎ，Ｎ
−ジオクチルウレイド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルウレ
イド、Ｎ−シクロヘキシルウレイド）、ヘテロ環基（炭
素数１〜２４、ヘテロ原子として例えば窒素原子、酸素
原子または硫黄原子を少なくとも１個以上有し３〜１
２、好ましくは５もしくは６員環の単環もしくは縮合
環。例えば２−ピリジル、１−ピロリル、モルホリノ、
インドリル）、アシル基（炭素数１〜３６、好ましくは
１〜２４、例えばアセチル、ベンゾイル、ピバロイ
ル）、イミド基（炭素数３〜３６、好ましくは３〜２
４、例えばコハク酸イミド、フタル酸イミド、ヒダント
イン−１−イル）、ホスフィノイル基（炭素数０〜３
６、好ましくは０〜２４、例えばジエトキシホスフィノ
イル、ジオクチルオキシホスフィノイル、ジオクチルホ
スフィノイル、ジフェノキシホスフィノイル、ジフェニ
ルホスフィノイル）、アルキルスルホニル基（炭素数１
〜３６、好ましくは１〜２４、例えばメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、ドデシルスルホニル、ヘキサデ
シルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル）、ア
リールスルホニル基（炭素数６〜３６、好ましくは６〜
２４、例えばフェニルスルホニル、４−ドデシルオキシ
フェニルスルホニル）等が挙げられる。上記の置換基は
さらに置換基を有していてもよい。その置換基の例とし
てはここで挙げた置換基が挙げられる。

【００２１】好ましい置換基としてはハロゲン原子、ア
ルコキシ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシルアミノ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基、ウレイド基、ヘテロ環基、アシル基、イ
ミド基、ホスフィノイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基等が挙げられる。さらに好ましい置
換基はアルコキシ基、シアノ基、アリール基、アルコキ
シ基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ
カルボニル基、、アシルアミノ基、カルバモイル基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、、ウレイド基、、アシル
基、イミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基等が挙げられる。最も好ましい置換基はアルコキ
シ基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、アルコキシカルボニル基、イミド基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等である。

【００２２】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄のアルケニル基
は、置換または無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアル
ケニル基を表し、置換アルケニル基の置換基は前記のＲ
₁〜Ｒ₄で説明した置換アルキル基の置換基と同義であ
る。無置換の直鎖、分岐鎖または環状のアルケニル基と
しては、炭素数として２〜３６が好ましく、２〜２４が
より好ましく、例えばビニル、２−プロペニル、３−ブ
テニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル、シクロヘキ
セニルが挙げられる。

【００２３】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄のアリール基
は、置換または無置換のアリール基を表し、置換アリー
ル基の置換基とは前記のＲ₁〜Ｒ₄で説明した置換アル
キル基の置換基及びアルキル基を表す。無置換のアリー
ル基としては炭素数６〜２４が好ましく、６〜１２のア
リール基がより好ましく、例えばフェニル、ナフチルが
挙げられる。

【００２４】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれに
同一であっても異なっていてもよい。Ｒ₁は水素原子ま
たは置換または無置換の直鎖または分岐鎖のアルキル基
が好ましく、水素原子、または無置換の直鎖または分岐
鎖のアルキル基が更に好ましい。Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は
水素原子または、無置換の直鎖または分岐鎖のアルキル
基が好ましく、水素原子が最も好ましい。ｍは好ましく
は０〜１０であり、さらに好ましくは０〜３であり、最
も好ましくは０である。Ａは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ
（＝Ｏ）−又は−ＳＯ₂−が好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−
又は−ＯＣ（＝Ｏ）−がさらに好ましい。

【００２５】Ｒ₅におけるアルキル基は置換または無置
換の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基を表す。置換
アルキル基の置換基は、前記のＲ₁〜Ｒ₄で説明した置
換アルキル基の置換基と同義である。無置換のアルキル
基は炭素数１〜４８、好ましくは１〜３６、さらに好ま
しくは１〜２４のアルキル基（例えばメチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリ
デシル、ペンタデシル、テトラデシル、ペンタデシル、
ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイコシ
ル、イソプロピル、イソブチル、２−エチルヘキシル、
ｔ−オクチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル）を表す。

【００２６】Ｒ₅におけるアルケニル基は置換または無
置換の直鎖、分岐または環状のアルケニル基を表し、置
換アルケニル基の置換基は前記のＲ₁〜Ｒ₄で説明した
置換アルキル基の置換基と同義である。無置換のアルケ
ニル基は炭素数２〜２４、好ましくは２〜１８のアルケ
ニル基（例えばビニル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサ
デセニル、オクタデセニル、シクロヘキセニル）を表
す。

【００２７】Ｒ₅におけるアリール基は置換または無置
換のアリール基を表し、置換アリール基の置換基は前記
のＲ₁〜Ｒ₄で説明した置換アルキル基の置換基及びア
ルキル基を表す。無置換のアリール基は炭素数６〜１
８、好ましくは６〜１２のアリール基（例えばフェニ
ル、ナフチル）を表す。

【００２８】Ｒ₅におけるヘテロ環基は炭素数１〜２
０、好ましくは１〜７のヘテロ原子として窒素原子、酸
素原子、もしくは硫黄原子から選ばれる、好ましくは３
員ないし８員の置換または無置換のヘテロ環基を表し、
置換ヘテロ環の置換基は前記のＲ₁〜Ｒ₄で説明した置
換アルキル基の置換基及びアルキル基を表す。ヘテロ環
基の代表的な例としては２−ピリジル、２−ベンズオキ
サゾリル、２−イミダゾリル、２−ベンズイミダゾリ
ル、テトラゾリル、チアゾリル、オキサジアゾリルが挙
げられる。

【００２９】またＲ₅がＲ₁₁またはＲ₁₂と互いに結合し
て５員または６員の環を形成するに必要な原子群を表す
場合、その５員または６員の環としては１−ピラゾリ
ル、１−イミダゾリル、１−トリアゾリル、１−ベンズ
トリアゾリル、１−ベンズイミダゾリル等が挙げられ
る。Ｒ₅はアルキル基、アリール基が好ましい。

【００３０】Ｃｐはカプラー残基を表し、イエローカプ
ラー残基、マゼンタカプラー残基、シアンカプラー残基
等のカプラー残基が挙げられる。さらに詳しく説明する
とＣｐがイエローカプラー残基を表す時、例えばピバロ
イルアセトアニライド型、ベンゾイルアセトアニライド
型、マロン酸ジエステル型、マロン酸ジアミド型、ジベ
ンゾイルメタン型、ベンゾチアゾリルアセトアミド型、
マロン酸エステルモノアミド型、ベンゾオキサゾリルア
セトアミド型、ベンゾイミダゾリルアセトアミド型、ま
たはシクロアルカノイルアセトアミド型等のカプラー残
基が挙げられる。さらに米国特許第５０２１３３２号、
同５０２１３３０号、欧州特許第４２１２２１Ａ号に記
載のカプラー残基であってもよい。

【００３１】Ｃｐがマゼンタカプラー残基を表すとき、
例えば５−ピラゾロン型、ピラゾロベンツイミダゾール
型、ピラゾロトリアゾール型、ピラゾロイミダゾール
型、イミダゾトリアゾール型またはシアノアセトフェノ
ン型のカプラー残基が挙げられる。Ｃｐがシアンカプラ
ー残基を表すとき、例えばフェノール型、ナフトール型
が挙げられる。さらに米国特許第４７４６６０２号、欧
州特許第２４９４５３号に記載のカプラー残基であって
もよい。さらにＣｐは実質的に色画像を残さないカプラ
ー残基であってもよく、このカプラー残基としては、例
えばインダノン型、アセトフェノン型などのカプラー残
基が挙げられる。

【００３２】一般式〔II〕で表される化合物の好ましい
例は下記一般式（Ｃｐ−１）、（Ｃｐ−２）、（Ｃｐ−
３）、（Ｃｐ−４）、（Ｃｐ−５）、（Ｃｐ−６）、
（Ｃｐ−７）、（Ｃｐ−８）、（Ｃｐ−９）、（Ｃｐ−
１０）、（Ｃｐ−１１）、または（Ｃｐ−１２）で表さ
れ、一般式（Ｃｐ−１）〜（Ｃｐ−１２）で表される化
合物のそれぞれの置換基Ｒ₅₁，Ｒ₅₂，Ｒ₅₃，Ｒ₅₄，
Ｒ₅₅，Ｒ₅₆，Ｒ₅₇，Ｒ₅₈，Ｒ₅₉，Ｒ₆₀，Ｒ₆₁，Ｒ₆₂、Ｒ
₆₃、Ｒ₆₄またはＸのいずれかに少なくとも一個の−ＮＨ
₂基を有すか、または置換基Ｒ₅₁〜Ｒ₆₄またはＸの少な
くとも一個が−ＮＨ₂基である化合物である。

【００３３】

【化１２】

【００３４】

【化１３】

【００３５】以下にＲ₅₁〜Ｒ₆₄、Ｘ、ｂ、ｄ及びｅにつ
いて詳しく説明する。以下で、Ｒ₄₁はアルキル基、アリ
ール基またはヘテロ環基を表し、Ｒ₄₂はアリール基また
はヘテロ環基を表す。Ｒ₄₃、Ｒ₄₄及びＲ₄₅は水素原子、
アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
Ｒ₅₁、Ｒ₅₂及びＲ₅₃は各々Ｒ₄₃と同じ意味を表す。ｂは
０または１を表す。Ｒ₅₄は−ＮＨ₂、Ｒ₄₁と同じ意味の
基、Ｒ₄₁Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₁ＳＯ₂Ｎ（Ｒ
₄₃）−基、Ｒ₄₁Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₁Ｓ−基、Ｒ₄₃Ｏ−
基、またはＲ₄₅Ｎ（Ｒ₄₃）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₄）−基を
表す。

【００３６】Ｒ₅₅は−ＮＨ₂またはＲ₄₁と同じ意味の基
を表す。Ｒ₅₆及びＲ₅₇は各々−ＮＨ₂、Ｒ₄₃と同じ意味
の基、Ｒ₄₁Ｓ−基、Ｒ₄₃Ｏ−基、Ｒ₄₁Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ
₄₃）−基、Ｒ₄₁ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₁Ｎ（Ｒ₄₃）
−基、またはＲ₄₅Ｎ（Ｒ₄₃）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₄）−基
を表す。

【００３７】Ｒ₅₈は−ＮＨ₂またはＲ₄₁と同じ意味の基
を表す。Ｒ₅₉は−ＮＨ₂、Ｒ₄₁と同じ意味の基、Ｒ₄₁Ｃ
（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₁ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₃）
−基、Ｒ₄₁ＳＯ₂Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₃（Ｒ₄₄）ＮＣ
（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₅）−基、Ｒ₄₁Ｏ−基、Ｒ₄₁Ｓ−基、ハ
ロゲン原子、またはＲ₄₁Ｎ（Ｒ₄₃）−基を表す。ｄは０
ないし３を表す。ｄが複数のとき複数個のＲ₅₉は同じ置
換基または異なる置換基を表す。

【００３８】Ｒ₆₀は−ＮＨ₂またはＲ₄₁と同じ意味の基
を表す。Ｒ₆₁は−ＮＨ₂またはＲ₄₁と同じ意味の基を表
す。Ｒ₆₂は−ＮＨ₂、Ｒ₄₁と同じ意味の基、Ｒ₄₁Ｃ（＝
Ｏ）ＮＨ−基、Ｒ₄₁ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₁
ＳＯ₂ＮＨ−基、Ｒ₄₃Ｎ（Ｒ₄₄）Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−基、
Ｒ₄₃Ｎ（Ｒ₄₄）ＳＯ₂ＮＨ−基、Ｒ₄₃Ｏ−基、Ｒ₄₁Ｓ−
基、またはハロゲン原子を表す。Ｒ₆₃及びＲ₆₄は各々−
ＮＨ₂、Ｒ₄₁と同じ意味の基、Ｒ₄₃Ｃ（＝Ｏ）Ｎ
（Ｒ₄₄）−基、Ｒ₄₃Ｎ（Ｒ₄₄）Ｃ（＝Ｏ）−基、Ｒ₄₁Ｓ
Ｏ₂Ｎ（Ｒ₄₃）−基、Ｒ₄₁Ｎ（Ｒ₄₃）ＳＯ₂−基、Ｒ₄₁
ＳＯ₂−基、Ｒ₄₃ＯＣ（＝Ｏ）−基、Ｒ₄₃ＯＳＯ₂−
基，ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、またはＲ₄₃Ｃ
Ｏ−基を表す。ｅは０ないし４の整数を表す。複数個の
Ｒ₆₂またはＲ₆₃があるとき各々同じものまたは異なるも
のを表す。

【００３９】置換基Ｒ₅₁〜Ｒ₆₄またはＸのいずれかに少
なくとも一個の−ＮＨ₂基を有すか、または置換基Ｒ₅₄
〜Ｒ₆₄またはＸの少なくとも一個が−ＮＨ₂基である。
さらに好ましくは、一般式（Ｃｐ−１）及び一般式（Ｃ
ｐ−２）で表されるカプラー残基である。

【００４０】Ｘは水素原子又は現像主薬の酸化体との反
応により離脱可能な基を表し、例えば、水素原子、ハロ
ゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、窒素原子で
離脱するヘテロ環基及びイミド基（例えば、特開昭５６
−３８０４４号、特公昭５８−１０７３９号、同５６−
５４１３４号、同５６−４５１３５号記載の離脱基）、
アルキルチオ基（例えば、特開昭５６−１２６８３３号
記載の離脱基）、アリールチオ基（例えば、米国特許第
４３５１８９７号、特開平２−１６０２３３号記載の離
脱基）、アルコキシ基（欧州特許第４２３７２７号記載
の離脱基）、アリールオキシ基（例えば、欧州特許第４
２８９０２号、同２９９７２６号記載の離脱基）、アゾ
基（例えば、特公昭５７−３９４１３号、特開昭６３−
１１０４５２号記載の離脱基）、米国特許第４０７２５
２５号、特開平５−３４８７８号、同５−３１３３２２
号、欧州特許第５１４８９６号、特開平６−３４７９６
０号および特願平５−２１２１９４号に記載の離脱基が
挙げられる。

【００４１】Ｘは水素原子、窒素原子で離脱するヘテロ
環基及びイミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましく、水素原子
がさらに好ましい。

【００４２】Ｘ₁及びＸ₂におけるハロゲン原子として
は例えばフッ素、塩素、臭素が挙げられる。

【００４３】Ｒ₁₃におけるアルキル基は置換または無置
換の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、置換アルキ
ル基の置換基は前記のＲ₁〜Ｒ₄の置換アルキル基で説
明した置換基と同義である。無置換のアルキル基は炭素
数１〜２０、好ましくは１〜４のアルキル基が好まし
く、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチルが挙げら
れる。Ｒ₁₃におけるアリール基は置換または無置換のア
リール基を表し、置換アリール基の置換基は前記のＲ₁
〜Ｒ₄の置換アルキル基で説明した置換基及びアルキル
基を表す。Ｘ₁及びＸ₂としてはそれぞれにハロゲン原
子または−ＯＳＯ₂−Ｒ₁₃（ここでのＲ₁₃は無置換アル
キル基、またはアリール基を表す。）が好ましく、ハロ
ゲン原子（例えば、塩素、臭素）または−ＯＳＯ₂−Ｒ
₁₃（ここでのＲ₁₃はメチル基、フェニル基、ｐ−トリル
基を表す。）がさらに好ましく、塩素原子または臭素原
子が最も好ましい。

【００４４】本発明の製造方法における好ましい置換基
の組合せを以下に示す。Ｒ₁が水素原子または置換また
は無置換の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表わし、Ｒ
₂、Ｒ₃及びＲ₄がそれぞれ水素原子または、無置換の
直鎖または分岐鎖のアルキル基を表わし、ｍが０〜１０
の整数を表し、Ａが−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−
又は−ＳＯ₂−を表し、Ｘ₁及びＸ₂がそれぞれハロゲ
ン原子または−ＯＳＯ₂−Ｒ₁₃（ここでのＲ₁₃は無置換
アルキル基、またはアリール基を表す。）を表し、Ｒ₅
がアルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ
環基を表す組合せが好ましい。

【００４５】更には、Ｒ₁が水素原子または無置換の直
鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ
₄がそれぞれ水素原子を表し、ｍが０〜３の整数を表
し、Ａが−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し、
Ｘ₁及びＸ₂がそれぞれハロゲン原子（例えば、塩素、
臭素）または−ＯＳＯ₂−Ｒ₁₃（ここでのＲ₁₃はメチル
基、フェニル基、ｐ−トリル基を表す。）を表し、Ｒ₅
がアルキル基またはアリール基を表す組合せが収率的に
さらに好ましい。Ｘ₁及びＸ₂がそれぞれ塩素原子また
は臭素原子を表す場合が特に好ましい。尚、本発明はＡ
が−ＯＣ（＝Ｏ）−の場合に従来方法では得られない程
高収率で最終生成物を得ることができ、Ａが−ＯＣ（＝
Ｏ）−における他の置換基も上述におけるＡ以外の組合
せのとおりである。

【００４６】一般式〔II〕で表される代表的な化合物例
を以下に示すが、本発明はこれら限定されるものではな
い。

【００４７】

【化１４】

【００４８】

【化１５】

【００４９】

【化１６】

【００５０】

【化１７】

【００５１】

【化１８】

【００５２】

【化１９】

【００５３】一般式〔III 〕で表される化合物の具体的
な代表例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されな
い。

【００５４】

【化２０】

【００５５】一般式〔Ｖ〕で表される化合物の代表的具
体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００５６】

【化２１】

【００５７】

【化２２】

【００５８】一般式〔Ｉ〕で表されるカプラーの代表的
具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【００５９】

【化２３】

【００６０】

【化２４】

【００６１】

【化２５】

【００６２】

【化２６】

【００６３】

【化２７】

【００６４】

【化２８】

【００６５】

【化２９】

【００６６】

【化３０】

【００６７】

【化３１】

【００６８】

【化３２】

【００６９】

【化３３】

【００７０】

【化３４】

【００７１】

【化３５】

【００７２】次に本発明の実施態様について説明する。
以下に本発明の一般的な合成スキーム（Ｃ）を示す。合成スキーム（Ｃ）

【００７３】

【化３６】

【００７４】式中、Ｃｐ、Ｒ₁〜Ｒ₅、Ｘ₁、Ｘ₂、
Ａ、Ｍ及びｍ等は前記で説明したのと同義である。一般
式〔II〕で表されるアミン体と一般式〔III 〕で表され
る化合物との反応においては無溶媒で行ってもよいし、
適当な溶媒に溶解または分散して行ってもよい。本発明
に用いることのできる代表的な溶媒としては、アセトニ
トリル、ジメチルスルホキサイド、スルホラン、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルイミダゾリドン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、１，２
−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、水、ジクロ
ロエタン等の溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単一で
使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよ
い。

【００７５】溶媒の使用量は一般式〔II〕のアミン体の
１重量部当たり０．１〜１０００重量部、好ましくは１
〜２０重量部の割合で使用され、さらに好ましくは１〜
５重量部の割合で使用される。一般式〔II〕で表される
アミン体と一般式〔III 〕で表される化合物は１：０．
５〜１：５のモル比で用いられ、好ましくは１：０．８
〜１：１．５のモル比で使用される。

【００７６】一般式〔II〕で表されるアミン体と一般式
〔III 〕で表される化合物との反応においては塩基を使
用しなくても良いし、適当な塩基を用いて行ってもよ
い。本発明に用いることのできる代表的な塩基としては
無機塩基（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ナトリウムアル
コラート（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウム
エチラート））、カリウムアルコラート（例えば、カリ
ウム−ｔ−ブチラート）、有機塩基（例えばトリエチル
アミン、ピリジン、ルチジン、ジエチルアニリン、ＤＢ
Ｕ（１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセ
ン））が挙げられる。

【００７７】塩基の使用量は一般式〔III 〕の化合物に
対して１：０．５〜１：３０のモル比で用いられ、好ま
しくは１：１〜１：５のモル比使用される。反応温度は
−３０℃〜１２０℃で行えるが、−２０℃〜１００℃が
好ましく、−１０℃〜８０℃がさらに好ましい。反応時
間は条件により異なるが、多くの場合には１０分〜２４
時間で反応が完結する。

【００７８】上記の条件で合成した生成物〔IV〕と一般
式〔Ｖ〕との反応においては、生成物〔IV〕を単離して
使用してもよいが、単離しないで一般式〔Ｖ〕との反応
に用いるほうが合成日数が少なく好ましい。特にＡが−
ＯＣ（＝Ｏ）−の場合に顕著である。この反応において
は無溶媒で行ってもよいし、適当な溶媒に溶解または分
散して行ってもよい。本発明に用いることのできる代表
的な溶媒としては、アセトニトリル、ジメチルスルホキ
サイド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチル
イミダゾリドン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、１，２−ジメトキシエタン、ベン
ゼン、トルエン、水、ジクロロエタン、メタノール、イ
ソプロパノール、アセトン等の溶媒が挙げられる。これ
らの溶媒は単一で使用してもよいし、２種以上を混合し
て使用してもよい。

【００７９】溶媒の使用量は先に用いた一般式〔II〕の
アミン体の１重量部当たり０．１〜１０００重量部、好
ましくは１〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１０重
量部の割合で使用できる。生成物〔IV〕と一般式〔Ｖ〕
で表される化合物のモル比は、１：０．８〜１：１０の
モル比で用いられ、好ましくは１：１〜１：２．０のモ
ル比で使用される。

【００８０】生成物〔IV〕と一般式〔Ｖ〕で表される化
合物の反応においては塩基を使用しなくても良いし、適
当な塩基を用いて行ってもよい。本発明に用いることの
できる代表的な塩基としては無機塩基（例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸
ナトリウム、ナトリウムアルコラート（例えば、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラート））、カリウム
アルコラート（例えば、カリウム−ｔ−ブチラート）、
水素化ナトリウム）、有機塩基（例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン、ルチジン、ジエチルアニリン、ＤＢＵ
（１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセ
ン））が挙げられる。

【００８１】塩基の使用量は一般式〔Ｖ〕の化合物に対
して１：０．５〜１：３０のモル比で用いられ、好まし
くは１：１〜１：５のモル比使用され、さらに好ましく
は１：１〜１：３のモル比で使用される。反応温度は−
３０℃〜１５０℃で行えるが、−２０℃〜１００℃が好
ましく、１０℃〜１００℃が特に好ましい。反応時間は
条件により異なるが、多くの場合には１０分〜４８時間
で反応が完結する。

【００８２】

【実施例】以下に本発明の具体的実施例の一部を示す
が、本発明はこれらによって限定されるものではない。実施例１（例示カプラーＩ−１）合成スキームＤ

【００８３】

【化３７】

【００８４】例示カプラーＩ−１の合成アミン体（化合物II−１）２６．９ｇ（０．１０モル）
をジメチルアセトアミド８０ｍｌに溶解し、５〜１０
℃に冷却し攪拌した。この溶液に２−ブロモプロピオニ
ルブロマイド（III −３）２２．７ｇ（０．１０５モ
ル）を滴下した。滴下終了後、室温で１時間攪拌を行っ
た後、次いでパルミチン酸（Ｖ−３１）２８．２ｇ
（０．１１モル）を添加し、さらにナトリウムメチラー
トの２８％メタノール溶液４５．２ｍｌ（０．２２５モ
ル）を滴下した。この溶液を８０℃〜８５℃に加熱し、
５時間攪拌した。反応終了後、室温に冷却し、塩酸１０
ｍｌを加えて酸性とした後、酢酸エチルを加えて抽出し
た。この酢酸エチル溶液を食塩水で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で酢酸エチルを留去し
た。残留物にｎ−ヘキサンを加えて結晶を析出させた。
この結晶を濾過し、乾燥した。例示カプラーＩ−１を４
９．２ｇ（８５％）を得た。

【００８５】プロトンＮＭＲ（ｐｐｍ）（多重度、
積分値）（ＣＤＣｌ₃）９．８５（ｓ．１Ｈ），８．２６（ｄ，
１Ｈ），７．９２（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｄｄ．１
Ｈ），７．３５（ｄ，１Ｈ），５．３２（ｑ．１Ｈ），
３．６８（ｓ．２Ｈ），２．４５（ｔ．２Ｈ），１．７
５〜１．５７（ｍ．２Ｈ），１．５４（ｄ．３Ｈ），
１．４０〜１．１５（ｂｒｓ．３３Ｈ），０．８６
（ｔ．３Ｈ）．

【００８６】実施例２例示カプラーＩ−３の合成アミン体（化合物II−１）１３．４ｇ（０．０５モル）
をジメチルホルムアミド４０ｍｌに溶解し、５℃〜１０
℃に冷却し攪拌した。この溶液に２−ブロモプロピオニ
ルブロマイド（III −３）１１．８ｇ（０．０５５モ
ル）を滴下した。滴下終了後、室温で３０分間攪拌を行
った後、次いでパラフェニルフェノール（Ｖ−５８）１
２．７７ｇ（０．０７５モル）とナトリウムメチラート
の２８％メタノール溶液２５ｍｌを添加した。この溶液
を６５℃〜７０℃に加熱して、６時間攪拌した。反応終
了後、室温に冷却してから塩酸５ｍｌを添加して酸性と
した。この溶液に酢酸エチルを加えて抽出した。この酢
酸エチル溶液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、減圧下で酢酸エチルを留去した。残留物にｎ−ヘ
キサンと酢酸エチルの混合溶媒（１０：１）を添加して
結晶を析出させた。この結晶を濾過して乾燥した。例示
カプラーＩ−３を１９．３ｇ（７８．３％）得た。

【００８７】プロトンＮＭＲ（ｐｐｍ）（多重度、積
分値）（ＣＤＣｌ₃）９．８２（ｓ．１Ｈ），８．２８（ｄ．
２Ｈ），７．７６（ｄｄ．１Ｈ），７．５５（ｄ．４
Ｈ），７．４５〜７．２５（ｍ．４Ｈ），７．０４
（ｄ．２ｈ），４．８０（ｑ．１Ｈ），３．６９（ｓ．
２Ｈ），１．６８（ｄ．３Ｈ），１．２１（ｓ．９Ｈ）

【００８８】実施例３例示カプラーＩ−５の合成アミン体（II−１）２６．９ｇ（０．１０モル）をジメ
チルアセトアミド１８０ｍｌに溶解させ、室温で攪拌し
た。この溶液に２−ブロモプロピオニルクロライド（II
I −２３）１８．０ｇ（０．１０５モル）を滴下した。
滴下終了後、室温で２時間攪拌した。この溶液にミリス
チン酸（Ｖ−２９）３４．３ｇ（０．１５モル）と炭酸
水素ナトリウム２５ｇを添加した。この溶液を６０℃〜
６５℃に加熱して８時間攪拌した。反応終了後、室温に
冷却してから酢酸エチル２００ｍｌを添加した。析出し
ている不溶解物を濾過して除き、濾液を酢酸エチルで抽
出した。この酢酸エチル溶液を水洗し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し、残留物に
ｎ−ヘキサンと酢酸エチルの１０：１の混合溶媒を添加
して結晶を析出させた。この結晶を濾過して乾燥した。
例示カプラーＩ−５を４５．２ｇ（８２．０％）得た。

【００８９】プロトンＮＭＲ（ｐｐｍ）（多重度、
積分値）（ＣＤＣｌ3 ）９．８７（ｓ．１Ｈ），８．２５（ｄ．
１Ｈ），７．９７（ｓ．１Ｈ），７．２６（ｄｄ．１
Ｈ），７．３５（ｄ．１Ｈ），５．３３（ｑ．１Ｈ），
３．７２（ｓ．２Ｈ），２．４８（ｔ．２Ｈ），１．８
０〜１．５５（ｂｒ．２Ｈ），１．５５（ｄ．３Ｈ），
１．４２〜１．１０（ｂｒｓ．２９Ｈ），０．８９
（ｔ．３Ｈ）

【００９０】実施例４例示カプラーＩ−６の合成アミン体（II−２）３９．５ｇ（０．１モル）をジメチ
ルアセトアミド１２０ｍｌに溶解させ、５〜１０℃に冷
却して攪拌した。この溶液に２−ブオモプロピオニルブ
ロマイド（III −３）２２．７ｇ（０．１０５モル）を
滴下した。滴下終了後、室温で２時間攪拌した。次いで
この溶液にドデシルメルカプタン（Ｖ−５）２２．３ｇ
（０．１１モル）を添加した。この溶液に水酸化カリウ
ム水溶液（水酸化カリウム１１．８ｇ、水２０ｍｌ）を
滴下した。滴下終了後、室温で７時間攪拌した。反応終
了後、塩酸１０ｍｌを添加して酸性とした。この溶液を
酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄した。この酢酸エチ
ル溶液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で
酢酸エチルを留去した。残留物にｎ−ヘキサンと酢酸エ
チルの混合溶媒（１０：１）を添加して結晶を析出させ
た。この結晶を濾過して乾燥した。例示カプラーＩ−６
を５７．６ｇ（８８．５％）得た。

【００９１】プロトンＮＭＲ（ｐｐｍ）（多重度、
積分値）（ＣＤＣＬ3 ）９．４０（ｂｒｓ．１Ｈ），８．７０
（ｓ．１Ｈ），８．２８（ｂｒｓ．１Ｈ），７．７５
（ｄｄ．１Ｈ），７．３１（ｄ．１Ｈ），６．２７
（ｓ．１Ｈ），５．６６（ｓ．１Ｈ），３．５１（ｑ．
１Ｈ），２．５５（ｔ．２Ｈ），１．７０〜１．１５
（ｍ．３８Ｈ），０．８６（ｔ．３Ｈ）

【００９２】同様な方法で例示カプラーＩ−２，Ｉ−
４，Ｉ−８，Ｉ−１０，Ｉ−１１，Ｉ−１２，Ｉ−１
３，Ｉ−１４，Ｉ−１８，Ｉ−３８，Ｉ−３９，Ｉ−５
１，及びＩ−５２を合成した。その結果を表１及び表２
に示す。

【００９３】

【表１】

【００９４】

【表２】

【００９５】（比較の合成例）例示カプラ−Ｉ−１の合成合成スキ−ム（Ｅ）

【００９６】

【化３８】

【００９７】２−ヒドロキシプロピオン酸２７．３ｇ
（０．３モル）を酢酸エチル１００ｍｌに溶解し室温で
攪拌した。この溶液にパルミチン酸７６．９ｇを添加
し、次いでジメチルアセトアミド１００ｍｌを滴下し
た。滴下終了後、室温で３時間攪拌を行った後、７０℃
に加熱して攪拌を２時間行った。反応終了後、室温に冷
却してから酢酸エチルで抽出した。この酢酸エチル溶液
を無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち減圧下で酢酸エ
チルを留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）を用い
て単離、精製した。カルボン酸体（化合物Ｇ）を４２．
７ｇ（４３．３％）得た。

【００９８】上記の方法で合成したカルボン酸体（化合
物Ｇ）３６．１ｇ（０．１１モル）にベンゼン１００ｍ
ｌを加えて加熱攪拌した。この溶液に塩化チオニル１０
ｍｌを滴下し、３時間加熱攪拌を行った。反応終了後、
減圧下でベンゼンと過剰の塩化チオニルを留去した。油
状の酸クロライド体（化合物Ｈ）を得、以下の反応に用
いた。アミン体（化合物II−１）２６．９ｇ（０．１モ
ル）をジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解し室温で
攪拌した。この溶液に上記の方法で得た酸クロライド体
（化合物Ｈ）を滴下した。滴下終了後、室温で３時間攪
拌を行った。反応終了後、酢酸エチル２００ｍｌを加え
て抽出した。この酢酸エチル溶液を食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で酢酸エチル
を留去した。残留物にｎ−ヘキサンを加えて結晶を析出
させた。この結晶を濾過して乾燥した。例示カプラーＩ
−１を４８．２ｇ（８３．２％）得た。

【００９９】

【発明の効果】本発明の合成方法により、より簡便に少
ない日数で、好収率で一般式〔Ｉ〕で表されるカプラー
を合成することが可能となった。また、比較例で示した
様に従来の方法では低収率であったカプラーの合成に対
しても有用な方法であることが明らかとなった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式〔Ｉ〕【化１】（式中、Ｃｐはカプラー残基を表し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃
及びＲ₄はそれぞれに水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基またはアリール基を表す。ｍは０から２４の整数を
表す。Ａは−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ
₂−、−Ｎ（Ｒ₁₁）−または−Ｎ（Ｒ₁₂）ＳＯ₂−を表
す。Ｒ₅はアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘ
テロ環基またはＲ₁₁またはＲ₁₂と互いに結合して５員ま
たは６員の環を形成するために必要な原子群を表す。Ｒ
₁₁及びＲ₁₂はそれぞれにアルキル基、アリール基、ヘテ
ロ環基またはＲ₅と互いに結合して５員または６員の環
を形成するために必要な原子群を表す。）で表される写
真用カプラーの製造方法において、一般式〔II〕【化２】（式中、Ｃｐはカプラー残基を表す。）で表されるアミ
ン体に一般式〔III 〕【化３】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びｍはそれぞれ一般
式〔Ｉ〕におけるそれぞれと同義である。Ｘ₁及びＸ₂
はそれぞれにハロゲン原子または−ＯＳＯ₂−Ｒ₁₃を表
す。Ｒ₁₃はアルキル基またはアリール基を表す。）で表
される化合物を反応させ、次いでその生成物〔IV〕【化４】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びｍはそれぞれ一般
式〔Ｉ〕におけるそれぞれと同義である。Ｘ₁及びＸ₂
はそれぞれに一般式〔III 〕におけるそれぞれと同義で
ある。）に一般式〔Ｖ〕【化５】（式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子を表し、
Ａ、Ｒ₅、Ｒ₁₁及びＲ₁₂はそれぞれ一般式〔Ｉ〕におけ
るそれぞれと同義である。）で表される化合物を反応さ
せることを特徴とする一般式〔Ｉ〕で表される写真用カ
プラーの製造方法。
【請求項２】Ａが−ＯＣ（＝Ｏ）−であることを特徴
とする請求項１に記載の写真用カプラーの製造方法。