JPH0821340B2 - ダイナミックフォーカス電子銃 - Google Patents
ダイナミックフォーカス電子銃Info
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- JPH0821340B2 JPH0821340B2 JP1287268A JP28726889A JPH0821340B2 JP H0821340 B2 JPH0821340 B2 JP H0821340B2 JP 1287268 A JP1287268 A JP 1287268A JP 28726889 A JP28726889 A JP 28726889A JP H0821340 B2 JPH0821340 B2 JP H0821340B2
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- H01J29/51—Arrangements for controlling convergence of a plurality of beams by means of electric field only
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- H01J29/62—Electrostatic lenses
- H01J29/626—Electrostatic lenses producing fields exhibiting periodic axial symmetry, e.g. multipolar fields
- H01J29/628—Electrostatic lenses producing fields exhibiting periodic axial symmetry, e.g. multipolar fields co-operating with or closely associated to an electron gun
Description
【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明はダイナミックフォーカス電子銃に関するもの
であって、特に低い非点収差（Low Astigmatism）にて
陰極線管の解像度（Resoution）を改善することができ
るダイナミックフォーカス電子銃に関する。
であって、特に低い非点収差（Low Astigmatism）にて
陰極線管の解像度（Resoution）を改善することができ
るダイナミックフォーカス電子銃に関する。
《従来の技術》 ダイナミックフォーカス電子銃には第１図に図示され
た如き４重極レンズを有するダイナミックフォーカス電
子銃がある。即ち上記の電子銃は、前置３極管部を有す
るカソードＫ、制御グリッドG1,スクリーングリッドG2
と、メインレンズ系をなす静的フォーカス電圧が印加さ
れるフォーカス電圧E1,動的フォーカス電圧が印加され
るダイナミック電極E2、静的陽極高電圧が印加されるア
ノード電極E3から構成される。そして、上記フォーカス
電極E1のビーム出射側ビーム通過平面とダイナミック電
極E2のビーム入射側ビーム通過平面には、４極レンズを
形成する縦長形ビーム通過孔H1と横長形ビーム通過孔H2
とが互いに対向するように形成される。そしてダイナミ
ック電極E2のビーム出射側ビーム通過平面とアノード電
極E3のビーム入射側ビーム通過平面には、横長形共通ビ
ーム通過孔H2′,H3が形成されるし、各ビーム通過孔H
2′,H3には、垂直方向の隔離金属片I2,I2,I3,I3が設け
られて区画された３つの独立されたビーム通過領域が形
成される。
た如き４重極レンズを有するダイナミックフォーカス電
子銃がある。即ち上記の電子銃は、前置３極管部を有す
るカソードＫ、制御グリッドG1,スクリーングリッドG2
と、メインレンズ系をなす静的フォーカス電圧が印加さ
れるフォーカス電圧E1,動的フォーカス電圧が印加され
るダイナミック電極E2、静的陽極高電圧が印加されるア
ノード電極E3から構成される。そして、上記フォーカス
電極E1のビーム出射側ビーム通過平面とダイナミック電
極E2のビーム入射側ビーム通過平面には、４極レンズを
形成する縦長形ビーム通過孔H1と横長形ビーム通過孔H2
とが互いに対向するように形成される。そしてダイナミ
ック電極E2のビーム出射側ビーム通過平面とアノード電
極E3のビーム入射側ビーム通過平面には、横長形共通ビ
ーム通過孔H2′,H3が形成されるし、各ビーム通過孔H
2′,H3には、垂直方向の隔離金属片I2,I2,I3,I3が設け
られて区画された３つの独立されたビーム通過領域が形
成される。
上記したような構成の従来のダイナミックフォーカス
電子銃には、スクリーンに対する電子ビームの走査位置
に沿って垂直・水平走査信号に同期されるパラボラ形ダ
イナミックフォーカス電圧がダイナミック電極に印加さ
れるようになっており、フォーカス電極E1に印加される
静的フォーカス電圧（Static Potential Focus Voltag
e）も共にダイナミック電圧と合成されたまま印加され
る。即ち電子ビームがスクリーンの中央部位にランディ
ングされる時には０［Ｖ］（Zero Voltage）または低い
陽電位のダイナミック電圧Vdが印加され、電子ビームが
スクリーンの周辺部位にランディングされる時に、高電
位のダイナミック電圧が印加されるようになっている。
従って、電子ビームのランディング位置に沿ってフォー
カス電極E1とダイナミック電極E2との間の４極形ダイナ
ミックレンズの形成有無が決定されるようになり、電子
ビームがスクリーン部辺部に走査される時に、４極レン
ズが形成されれば縦長ビーム通過孔H1,H1,H1と縦長ビー
ム通過孔H2,H2,H2による非対称形ダイナミック電界（Dy
namic Electric Field）によってこれを通過する電子ビ
ームは縦長形化される。
電子銃には、スクリーンに対する電子ビームの走査位置
に沿って垂直・水平走査信号に同期されるパラボラ形ダ
イナミックフォーカス電圧がダイナミック電極に印加さ
れるようになっており、フォーカス電極E1に印加される
静的フォーカス電圧（Static Potential Focus Voltag
e）も共にダイナミック電圧と合成されたまま印加され
る。即ち電子ビームがスクリーンの中央部位にランディ
ングされる時には０［Ｖ］（Zero Voltage）または低い
陽電位のダイナミック電圧Vdが印加され、電子ビームが
スクリーンの周辺部位にランディングされる時に、高電
位のダイナミック電圧が印加されるようになっている。
従って、電子ビームのランディング位置に沿ってフォー
カス電極E1とダイナミック電極E2との間の４極形ダイナ
ミックレンズの形成有無が決定されるようになり、電子
ビームがスクリーン部辺部に走査される時に、４極レン
ズが形成されれば縦長ビーム通過孔H1,H1,H1と縦長ビー
ム通過孔H2,H2,H2による非対称形ダイナミック電界（Dy
namic Electric Field）によってこれを通過する電子ビ
ームは縦長形化される。
このようにスクリーン周辺部にランディングされる時
に、縦長形化された電子ビームは偏向ヨーク（Yoke）を
通過しながら不均一な磁界によって、その歪み（Distor
tion）が補正され、スクリーン面にランディングされる
時には、正常円に近い形態のビームスポットが形成され
るようになる。さらに画面周辺部に電子ビームがランデ
ィングされる時には、上記ダイナミック電圧が高く上昇
されるために、ダイナミック電極とアノード電極の間に
形成される最終加速および集束レンズの強度が弱化する
ようになる。従って電子ビームの焦点距離が長くなるよ
うになるが、スクリーンの中央部位に比べて、電子銃か
らの距離の遠いスクリーンの周辺部位に電子ビームの焦
点が形成されるようになる。従って非常に小さい直径の
ビームスポットを得るようになり、高解像度の画像実現
が可能になる。
に、縦長形化された電子ビームは偏向ヨーク（Yoke）を
通過しながら不均一な磁界によって、その歪み（Distor
tion）が補正され、スクリーン面にランディングされる
時には、正常円に近い形態のビームスポットが形成され
るようになる。さらに画面周辺部に電子ビームがランデ
ィングされる時には、上記ダイナミック電圧が高く上昇
されるために、ダイナミック電極とアノード電極の間に
形成される最終加速および集束レンズの強度が弱化する
ようになる。従って電子ビームの焦点距離が長くなるよ
うになるが、スクリーンの中央部位に比べて、電子銃か
らの距離の遠いスクリーンの周辺部位に電子ビームの焦
点が形成されるようになる。従って非常に小さい直径の
ビームスポットを得るようになり、高解像度の画像実現
が可能になる。
しかしながら、このような従来のダイナミックフォー
カス電子銃の短所は、ダイナミック電極にダイナミック
電圧と静的フォーカス電圧とが合成された高圧のパラボ
ラ形電圧が印加されなければならないために、回路的に
高圧に耐えるだけの電圧制御装置の具現が難しく、その
反面、実際の製品の生産が可能になるとしても高圧によ
る電流漏れにより陰極線間のネックにアークが発生され
るおそれがある点である。
カス電子銃の短所は、ダイナミック電極にダイナミック
電圧と静的フォーカス電圧とが合成された高圧のパラボ
ラ形電圧が印加されなければならないために、回路的に
高圧に耐えるだけの電圧制御装置の具現が難しく、その
反面、実際の製品の生産が可能になるとしても高圧によ
る電流漏れにより陰極線間のネックにアークが発生され
るおそれがある点である。
また、構造的にも２つのフォーカス電極を有するため
に、電子ビームを最終加速および集束する主レンズ（Ma
jor Lens）の倍率を拡大しなければならないが、高い倍
率の主レンズによって電子ビームに対する球面収差が多
く作用されるようになることにより画質が弱化されるお
それがあるのである。
に、電子ビームを最終加速および集束する主レンズ（Ma
jor Lens）の倍率を拡大しなければならないが、高い倍
率の主レンズによって電子ビームに対する球面収差が多
く作用されるようになることにより画質が弱化されるお
それがあるのである。
《発明が解決しようとする課題》 本発明は良好な耐電圧特性、低い非点収差および球面
収差を有することにより信頼性と画質が大きく改善され
たダイナミックフォーカス電子銃を提供することをその
目的とする。
収差を有することにより信頼性と画質が大きく改善され
たダイナミックフォーカス電子銃を提供することをその
目的とする。
《課題を解決するための手段》 上記の目的を達成するために、本発明は、カソード、
制御グリッド、スクーリングリッドからなる３極管部
と、ダイナミック４極フォーカスレンズを形成する電極
を含むメインレンズ系を有するダイナミックフォーカス
電子銃において、上記メインレンズ系に、スクーリング
リッドに隣接されるように設けられる第１フォーカス電
極と、最終加速電極であるアノード電極に隣接されるよ
うに設けられる第２フォーカス電極と、上記第１、第２
フォーカス電極間に位置されるものであって、ダイナミ
ック型４極レンズを形成する静電極とダイナミック電極
が備えられ、上記第１フォーカス電極および第２フォー
カス電極には高電位の静的フォーカス電圧が印加される
一方、上記静電極には上記静的フォーカス電圧より低電
位の静的フォーカス電圧が印加され、かつ、上記ダイナ
ミック電極には上記低電位の静的フォーカス電圧とダイ
ナミック電圧とが合成されて印加される一方、上記静電
極のビーム入射側ビーム通過平面には横長形ビーム通過
孔が形成され、かつ、上記静電極のビーム出射側ビーム
通過平面には縦長形ビーム通過孔が形成されると共に、
上記ダイナミック電極のビーム入射側ビーム通過平面に
は横長形ビーム通過孔が形成されている、ことを特徴と
する。
制御グリッド、スクーリングリッドからなる３極管部
と、ダイナミック４極フォーカスレンズを形成する電極
を含むメインレンズ系を有するダイナミックフォーカス
電子銃において、上記メインレンズ系に、スクーリング
リッドに隣接されるように設けられる第１フォーカス電
極と、最終加速電極であるアノード電極に隣接されるよ
うに設けられる第２フォーカス電極と、上記第１、第２
フォーカス電極間に位置されるものであって、ダイナミ
ック型４極レンズを形成する静電極とダイナミック電極
が備えられ、上記第１フォーカス電極および第２フォー
カス電極には高電位の静的フォーカス電圧が印加される
一方、上記静電極には上記静的フォーカス電圧より低電
位の静的フォーカス電圧が印加され、かつ、上記ダイナ
ミック電極には上記低電位の静的フォーカス電圧とダイ
ナミック電圧とが合成されて印加される一方、上記静電
極のビーム入射側ビーム通過平面には横長形ビーム通過
孔が形成され、かつ、上記静電極のビーム出射側ビーム
通過平面には縦長形ビーム通過孔が形成されると共に、
上記ダイナミック電極のビーム入射側ビーム通過平面に
は横長形ビーム通過孔が形成されている、ことを特徴と
する。
《実施例》 以下添付の図面を参照しながら本発明の一実施例を詳
細に説明する。
細に説明する。
第２図は、本発明によるダイナミックフォーカス電子
銃が示されている。この電子銃は、前置３極管部をなす
カソードＫ、制御グリッドG1,スクリーングリッドG2と
メインレンズ系をなす第１フォーカス電極E1,静電極（S
tatic Potential Electrode）E2、ダイナミック電極（D
ynamic Potential Electrode）E3、第２フォーカス電極
E4、アノード電極E5から構成される。
銃が示されている。この電子銃は、前置３極管部をなす
カソードＫ、制御グリッドG1,スクリーングリッドG2と
メインレンズ系をなす第１フォーカス電極E1,静電極（S
tatic Potential Electrode）E2、ダイナミック電極（D
ynamic Potential Electrode）E3、第２フォーカス電極
E4、アノード電極E5から構成される。
上記の静電極E2およびダイナミック電極E3の電子ビー
ム入射平面には縦幅がH1,横幅がW1である３つの横長矩
形のビーム通過孔2HF,3HFが形成され、電子ビーム出射
平面には縦幅がH2,横幅がW2である３つの縦長矩形のビ
ーム通過孔2HR,3HRが形成される。ここで、上記ビーム
通過孔の縦幅と横幅とは上記のような不等式で表現され
る。
ム入射平面には縦幅がH1,横幅がW1である３つの横長矩
形のビーム通過孔2HF,3HFが形成され、電子ビーム出射
平面には縦幅がH2,横幅がW2である３つの縦長矩形のビ
ーム通過孔2HR,3HRが形成される。ここで、上記ビーム
通過孔の縦幅と横幅とは上記のような不等式で表現され
る。
H1＜H2,W2＜W1,H1≒W2, H2≒W1 一方、上記第１フォーカス電極E1の電子ビーム出射平
面と第２フォーカス電極E4の電子ビーム入射平面には縦
幅がH1、横幅がW2である３つの略正四角形のビーム通過
孔1H,4Hが形成されるとともに、横長形ビーム通過孔1
H′,4H′が形成された板状補助電極片E1′,E4′が取付
けられる。
面と第２フォーカス電極E4の電子ビーム入射平面には縦
幅がH1、横幅がW2である３つの略正四角形のビーム通過
孔1H,4Hが形成されるとともに、横長形ビーム通過孔1
H′,4H′が形成された板状補助電極片E1′,E4′が取付
けられる。
従って、第1,第２フォーカス電極の略正四角形のビー
ム通過孔1H,4Hと、前記板状補助電極片E1′E4′の横長
形のビーム通過孔1H′,4H′が互いに重畳されるが、第
２図に示された如く互いに重畳されている前記ビーム通
過孔の上部の縁部などは略同一な平面上に位置され、左
右の縁部などは互いに偏位される。
ム通過孔1H,4Hと、前記板状補助電極片E1′E4′の横長
形のビーム通過孔1H′,4H′が互いに重畳されるが、第
２図に示された如く互いに重畳されている前記ビーム通
過孔の上部の縁部などは略同一な平面上に位置され、左
右の縁部などは互いに偏位される。
上記の如き構成のダイナミックフォーカス電子銃の各
電極などには次のような方式で電圧が印加される。
電極などには次のような方式で電圧が印加される。
上記の第１フォーカス電極E1と、第２フォーカス電極
E4には高電位の静的フォーカス電圧Vfが印加され、上記
静電極E2には上記フォーカス電圧Vfより低い電位の静的
フォーカス電圧Vsが印加される。そして上記ダイナミッ
ク電極E3にはパラボラ形ダイナミック電圧Vdが上記静電
圧Vsと合成されたまま印加される。一方、上記アノード
電極E5には上記フォーカス電圧Vfより高い電位のアノー
ド電圧Vaが印加される。
E4には高電位の静的フォーカス電圧Vfが印加され、上記
静電極E2には上記フォーカス電圧Vfより低い電位の静的
フォーカス電圧Vsが印加される。そして上記ダイナミッ
ク電極E3にはパラボラ形ダイナミック電圧Vdが上記静電
圧Vsと合成されたまま印加される。一方、上記アノード
電極E5には上記フォーカス電圧Vfより高い電位のアノー
ド電圧Vaが印加される。
《作用効果》 以下、本発明の作用効果を説明する。
まず、第3A図と、第4A図を参照して電子ビームの垂直
方向に制御状態を説明する。
方向に制御状態を説明する。
VR1領域では垂直・水平幅が略同一な第１フォーカス
電極E1と、ビーム通過孔1Hと、このビーム通過孔に重畳
される補助電極片E1′の横長形のビーム通過孔1H′によ
って垂直方向より水平方向に強い発散力を持つ発散レン
ズが形成されるが、これは前記第１フォーカス電極E1の
ビーム通過孔1Hの垂直幅と略同一な長さを持つ補助電極
片E1′の横長形のビーム通過孔1H′によって垂直方向に
電位分布が急激に低下されるからである。
電極E1と、ビーム通過孔1Hと、このビーム通過孔に重畳
される補助電極片E1′の横長形のビーム通過孔1H′によ
って垂直方向より水平方向に強い発散力を持つ発散レン
ズが形成されるが、これは前記第１フォーカス電極E1の
ビーム通過孔1Hの垂直幅と略同一な長さを持つ補助電極
片E1′の横長形のビーム通過孔1H′によって垂直方向に
電位分布が急激に低下されるからである。
そしてVR2領域ではダイナミック電圧電極E3に印加さ
れるダイナミック電圧Vdの大きさによって強度が持続的
に変わるようになる静電極E2とダイナミック電極E3によ
る４極レンズが形成されるようになるが、ダイナミック
電圧Vdが0Vより大きければ静電極E2の縦長形ビーム通過
孔2HRとダイナミック電極E3の横長形ビーム通過孔3HFに
よって、垂直方向に弱い集束力と、強い発散力を持つ４
極レンズが形成される。そしてダイナミック電圧Vdが０
［Ｖ］であれば静電極E2とダイナミック電極E3に同一な
電位の電圧が印加されるため、電子ビームを変形させる
４極レンズが形成されない用になる。
れるダイナミック電圧Vdの大きさによって強度が持続的
に変わるようになる静電極E2とダイナミック電極E3によ
る４極レンズが形成されるようになるが、ダイナミック
電圧Vdが0Vより大きければ静電極E2の縦長形ビーム通過
孔2HRとダイナミック電極E3の横長形ビーム通過孔3HFに
よって、垂直方向に弱い集束力と、強い発散力を持つ４
極レンズが形成される。そしてダイナミック電圧Vdが０
［Ｖ］であれば静電極E2とダイナミック電極E3に同一な
電位の電圧が印加されるため、電子ビームを変形させる
４極レンズが形成されない用になる。
更に、VR3領域においては、ダイナミック電圧Vdの大
きさに従って強度差異はあるが、垂直方向に強い発散力
を持つ発散レンズが形成されるようになる。
きさに従って強度差異はあるが、垂直方向に強い発散力
を持つ発散レンズが形成されるようになる。
次に第3B図、第4B図を参照しながら水平方向の電子ビ
ームの制御状態を説明する。
ームの制御状態を説明する。
HR1領域においては、第１集束電極E1に取付けられた横
長方ビーム通過孔1HR′を有する補助電極片E1′によっ
て水平方向に弱い発散レンズが形成されるようになる。
長方ビーム通過孔1HR′を有する補助電極片E1′によっ
て水平方向に弱い発散レンズが形成されるようになる。
HR2領域においては、ダイナミック電圧がダイナミッ
ク電極E2に印加される時、即ちVd＞０［Ｖ］であれば静
電極E2およびダイナミック電極E3の間で水平方向に強い
し集束力と、弱い発散力を有する４極レンズが形成され
る。更に、HR3領域においては、ダイナミック電圧Vdの
大きさに応じて強度差異はあるが、水平方向に強い集束
力を有する集束レンズが形成するようになる。
ク電極E2に印加される時、即ちVd＞０［Ｖ］であれば静
電極E2およびダイナミック電極E3の間で水平方向に強い
し集束力と、弱い発散力を有する４極レンズが形成され
る。更に、HR3領域においては、ダイナミック電圧Vdの
大きさに応じて強度差異はあるが、水平方向に強い集束
力を有する集束レンズが形成するようになる。
上述の電子ビーム通過領域における電子ビームの全体
的な制御状態を第5A図と第5B図を参照して説明する。
的な制御状態を第5A図と第5B図を参照して説明する。
同図において、上半部は垂直領域における電子ビーム
の制御状態を、下半部は水平領域における電子ビームの
制御状態をそれぞれ示す。
の制御状態を、下半部は水平領域における電子ビームの
制御状態をそれぞれ示す。
まず、Vdが０［Ｖ］である時には、第5A図に示したよ
うにHR2,VR2領域において水平・垂直方向への集束力に
よって、レンズ22が形成されることにより、電子ビーム
の水平・垂直方向への集束状態が同じくなり、Vd＞０
［Ｖ］である場合には第5B図に図示された如く垂直方向
のVR2領域において、発散レンズ20が形成されるととも
に水平方向のHR2領域においては集束レンズ21が形成さ
れるようになる。
うにHR2,VR2領域において水平・垂直方向への集束力に
よって、レンズ22が形成されることにより、電子ビーム
の水平・垂直方向への集束状態が同じくなり、Vd＞０
［Ｖ］である場合には第5B図に図示された如く垂直方向
のVR2領域において、発散レンズ20が形成されるととも
に水平方向のHR2領域においては集束レンズ21が形成さ
れるようになる。
従ってVd＝０［Ｖ］である場合、第5A図に図示された
如くVR2、HR2領域においては４極レンズは形成されない
ので、水平・垂直方向の仮想物点が同じくなり（０＝0H
＝0V）、像点も同じくなる（Ｉ＝IH＝IV）。そしてVd＞
０［Ｖ］である場合、第5B図にに図示された如くVR2,HR
2領域において４極レンズが形成されることにより、水
平方向の仮想物点（0H）は垂直仮想物点0Vに比べてVR2
（HR2）領域から遠く形成され、垂直方向の像点IVは水
平方向の像点2Hに比べて、AR2（AR2′）領域から遠いと
ころに形成される。
如くVR2、HR2領域においては４極レンズは形成されない
ので、水平・垂直方向の仮想物点が同じくなり（０＝0H
＝0V）、像点も同じくなる（Ｉ＝IH＝IV）。そしてVd＞
０［Ｖ］である場合、第5B図にに図示された如くVR2,HR
2領域において４極レンズが形成されることにより、水
平方向の仮想物点（0H）は垂直仮想物点0Vに比べてVR2
（HR2）領域から遠く形成され、垂直方向の像点IVは水
平方向の像点2Hに比べて、AR2（AR2′）領域から遠いと
ころに形成される。
このような本発明のダイナミック電子銃は偏向ヨーク
に印加される偏向信号に同期するダイナミック電圧によ
って電子ビームをコントロールするようになることによ
り、全スクリーンにおいて、均一で正常円に近いビーム
スポットを形成することができる。
に印加される偏向信号に同期するダイナミック電圧によ
って電子ビームをコントロールするようになることによ
り、全スクリーンにおいて、均一で正常円に近いビーム
スポットを形成することができる。
即ち、本発明の電子銃は電子ビームがスクリーンの中
央部位に走査される時には電子ビームを正常的な状態に
集束し、スクリーンの周辺部位に走査される時には、電
子ビームを縦長形に集束することにより、電子ビームが
不均一な磁界を形成する偏向ヨークを通過した後、スク
リーンにランディングされる時に全体的に正常円に近い
ビームスポットを形成することができるようになる。結
果的にスクリーン全面におけるビームスポットの特性が
改善されることにより高解像度の画像実現が可能とな
る。
央部位に走査される時には電子ビームを正常的な状態に
集束し、スクリーンの周辺部位に走査される時には、電
子ビームを縦長形に集束することにより、電子ビームが
不均一な磁界を形成する偏向ヨークを通過した後、スク
リーンにランディングされる時に全体的に正常円に近い
ビームスポットを形成することができるようになる。結
果的にスクリーン全面におけるビームスポットの特性が
改善されることにより高解像度の画像実現が可能とな
る。
一方、本発明の電子銃の場合、ダイナミック電極に印
加されるダイナミック電圧の電位が従来の電子銃に比べ
て低くなり得るが、これは小さい強度の磁界によって電
子ビームをコントロールしている４極レンズを形成する
ものとして高電圧が印加されるフォーカス電極とは別個
に低電位の静電極とダイナミック電極を具備するからで
ある。従って、高電圧の印加に伴なうアーク現象が発生
されるおそれがないようになり陰極線管の信頼性を大き
く向上するようになる。
加されるダイナミック電圧の電位が従来の電子銃に比べ
て低くなり得るが、これは小さい強度の磁界によって電
子ビームをコントロールしている４極レンズを形成する
ものとして高電圧が印加されるフォーカス電極とは別個
に低電位の静電極とダイナミック電極を具備するからで
ある。従って、高電圧の印加に伴なうアーク現象が発生
されるおそれがないようになり陰極線管の信頼性を大き
く向上するようになる。
第１図は従来のダイナミックフォーカス電子銃の一部切
欠き斜視図、第２図は本発明の一実施例によるダイナミ
ックフォーカス電子銃の一部切欠き斜視図、第3A図は第
２図にて図示された本発明のダイナミックフォーカス電
子銃の垂直断面図、第3B図は第２図に示された本発明の
ダイナミックフォーカス電子銃の水平断面図、第4A図は
第２図に図示された本発明のダイナミックフォーカス電
子銃の垂直方向の電位分布を示すグラフ図、第4B図は第
２図に図示された本発明のダイナミックフォーカス電子
銃の水平方向の電位分布を示したグラフ図、第5A図およ
び第5B図は第２図に示された本発明のダイナミックフォ
ーカス電子銃にダイナミック電極が印加される時の電子
ビームの集束状態を示した図面で、第5A図はVd＝０
［Ｖ］の場合を、第5B図はVd＞０［Ｖ］の場合を示す。 Ｋ……カソード G1,G2……グリッド E1〜E5……電極
欠き斜視図、第２図は本発明の一実施例によるダイナミ
ックフォーカス電子銃の一部切欠き斜視図、第3A図は第
２図にて図示された本発明のダイナミックフォーカス電
子銃の垂直断面図、第3B図は第２図に示された本発明の
ダイナミックフォーカス電子銃の水平断面図、第4A図は
第２図に図示された本発明のダイナミックフォーカス電
子銃の垂直方向の電位分布を示すグラフ図、第4B図は第
２図に図示された本発明のダイナミックフォーカス電子
銃の水平方向の電位分布を示したグラフ図、第5A図およ
び第5B図は第２図に示された本発明のダイナミックフォ
ーカス電子銃にダイナミック電極が印加される時の電子
ビームの集束状態を示した図面で、第5A図はVd＝０
［Ｖ］の場合を、第5B図はVd＞０［Ｖ］の場合を示す。 Ｋ……カソード G1,G2……グリッド E1〜E5……電極
Claims (3)
- 【請求項１】カソード、制御グリッド、スクーリングリ
ッドからなる３極管部と、ダイナミック４極フォーカス
レンズを形成する電極を含むメインレンズ系を有するダ
イナミックフォーカス電子銃において、 上記メインレンズ系に、 スクーリングリッドに隣接されるように設けられる第１
フォーカス電極と、最終加速電極であるアノード電極に
隣接されるように設けられる第２フォーカス電極と、上
記第１、第２フォーカス電極間に位置されるものであっ
て、ダイナミック型４極レンズを形成する静電極とダイ
ナミック電極が備えられ、 上記第１フォーカス電極および第２フォーカス電極には
高電位の静的フォーカス電圧が印加される一方、上記静
電極には上記静的フォーカス電圧より低電位の静的フォ
ーカス電圧が印加され、かつ、上記ダイナミック電極に
は上記低電位の静的フォーカス電圧とダイナミック電圧
とが合成されて印加される一方、 上記静電極のビーム入射側ビーム通過平面には横長形ビ
ーム通過孔が形成され、かつ、上記静電極のビーム出射
側ビーム通過平面には縦長形ビーム通過孔が形成される
と共に、 上記ダイナミック電極のビーム入射側ビーム通過平面に
は横長形ビーム通過孔が形成されている、 ことを特徴とするダイナミックフォーカス電子銃。 - 【請求項２】上記ダイナミック電極のビーム出射側ビー
ム通過平面には縦長矩形のビーム通過孔が形成される一
方、第２フォーカス電極のビーム入射側ビーム通過平面
には略正四角形のビーム通過孔が形成されたことを特徴
とする請求項１記載のダイナミックフォーカス電子銃。 - 【請求項３】上記第１フォーカス電極のビーム出射側ビ
ーム通過平面と、第２フォーカス電極のビーム入射側ビ
ーム通過平面に横長形のビーム通過孔を有する補助電極
片を取付けたことを特徴とする請求項１記載のダイナミ
ックフォーカス電子銃。
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-
1988
- 1988-11-05 KR KR1019880014575A patent/KR910007800B1/ko not_active IP Right Cessation
-
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- 1989-11-03 NL NL8902721A patent/NL190880C/xx not_active IP Right Cessation
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