JPH08213236A - Magnetic multilayered film, manufacture thereof and photomagnetic recording medium - Google Patents

Magnetic multilayered film, manufacture thereof and photomagnetic recording medium

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JPH08213236A
JPH08213236A JP3896995A JP3896995A JPH08213236A JP H08213236 A JPH08213236 A JP H08213236A JP 3896995 A JP3896995 A JP 3896995A JP 3896995 A JP3896995 A JP 3896995A JP H08213236 A JPH08213236 A JP H08213236A
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multilayer film
film
thickness
layer
alloy layer
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大助 宮内
Taro Oike
太郎 大池
Kiyoshi Noguchi
潔 野口
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    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
    • H01F10/325Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the spacer being noble metal

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Abstract

PURPOSE: To enable a magnetic multilayered film which is large in Kerr turning angle in a short wavelength range of light and vertical magnetic anisotropy and less reduced in vertical magnetic anisotropy due to a thermal effect to be formed on a board of comparatively low temperature and to provide a photomagnetic recording medium which is excellent repetitiously rewritable properties. CONSTITUTION: Co-Pt alloy layers are laminated through the intermediary of a Pt layer for the formation of a magnetic multilayered film, wherein the Co content of the Co-Pt alloy layer is 25 to 75atom%, and the magnetic multilayered film is formed on a board kept at temperatures of 80 to 150 deg.C through an evaporation method.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁性多層膜およびその
製造方法と、この磁性多層膜を記録膜として有する光磁
気記録媒体とに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic multilayer film, a method for producing the same, and a magneto-optical recording medium having the magnetic multilayer film as a recording film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光磁気記録材料として、TbFe
Coなどの希土類−遷移金属アモルファス合金薄膜が使
用されている。光磁気記録の高密度化を実現する手段と
して、光源に使用するレーザの短波長化が検討され、波
長700nm以下の半導体レーザによる記録再生が実現さ
れつつある。また、400〜500nm帯の半導体レーザ
の室温発振も確認されている。しかしながら、従来使用
されているTbFeCo等は短波長域でのカー回転角が
0.2°以下と小さいため、短波長域で大きなカー回転
を示す材料が望まれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, TbFe has been used as a magneto-optical recording material.
Rare earth-transition metal amorphous alloy thin films such as Co have been used. As a means for realizing high density of magneto-optical recording, shortening of the wavelength of a laser used as a light source is being studied, and recording / reproducing by a semiconductor laser having a wavelength of 700 nm or less is being realized. Further, room temperature oscillation of a semiconductor laser in the 400 to 500 nm band has also been confirmed. However, conventionally used TbFeCo and the like have a small Kerr rotation angle of 0.2 ° or less in the short wavelength region, and thus a material exhibiting a large Kerr rotation in the short wavelength region is desired.

【0003】短波長域で大きなカー回転を示す材料とし
て、Ptおよび/またはPd層とCo層とを交互に積層
した多層膜が注目されており、0.2〜0.4°の大き
なカー回転角が報告されている(特開平2−56572
号公報、特開平2−263344号公報、J.App
l.Phys.67巻,2136ページ,1990年、
J.Magn.Magn.Mater.93巻,194
ページ,1991年)。
As a material exhibiting a large Kerr rotation in a short wavelength region, a multi-layered film in which Pt and / or Pd layers and Co layers are alternately laminated has been noted, and a large Kerr rotation of 0.2 to 0.4 ° is noted. Corners have been reported (Japanese Patent Laid-Open No. 2-56572).
Japanese Patent Laid-Open No. 2-263344, J. App
l. Phys. 67, 2136, 1990,
J. Magn. Magn. Mater. Volume 93, 194
Page, 1991).

【0004】しかしながら、これらの多層膜では、Pt
および/またはPd層厚が1nm程度、Co層厚が0.2
〜0.5nm程度と非常に薄く、再現性よく同じ膜構成の
多層膜を作製するのが困難である。また、このような多
層膜を記録膜とする光磁気ディスクを実用化するための
課題のひとつに、繰り返し書き換え特性が挙げられる。
現在実用化されている希土類−遷移金属合金膜を用いた
光磁気ディスクは、106 回以上の繰り返し書き換え回
数を達成している。しかし、Pt/Co多層膜は、何度
も書き換えを行うと照射するレーザ光の熱的影響を受
け、Pt層とCo層との界面での拡散により垂直磁気異
方性が低下してしまう。そのため、書き換え回数は、せ
いぜい104 回であると報告されている。
However, in these multilayer films, Pt
And / or Pd layer thickness is about 1 nm, Co layer thickness is 0.2
It is very thin, about 0.5 nm, and it is difficult to produce a multilayer film having the same film structure with good reproducibility. Further, one of the problems for practical application of a magneto-optical disk having such a multilayer film as a recording film is a rewritable property.
The magneto-optical disk using the rare earth-transition metal alloy film which has been put into practical use has achieved the number of times of rewriting of 10 6 or more. However, when the Pt / Co multilayer film is rewritten many times, the perpendicular magnetic anisotropy is deteriorated due to thermal influence of the laser light to be irradiated and diffusion at the interface between the Pt layer and the Co layer. Therefore, it has been reported that the number of times of rewriting is 10 4 at most.

【0005】このようなPt/Co多層膜に対し、Co
Pt合金膜が検討され、報告されている(Appl.P
hys.Lett.61巻,1600頁,1992
年)。CoPt合金膜はPt/Co多層膜と同等以上の
カー回転角を有し、しかも多層膜でないため、繰り返し
書き換え回数特性はPt/Co多層膜より優れている。
しかしながら、超高真空蒸着法で膜形成をする場合、成
膜時の基板温度を200℃以上にしなければ垂直磁化膜
が得られない。このため、ポリカーボネート等の高分子
樹脂基板を用いることはできないという欠点がある。
For such a Pt / Co multilayer film, Co
Pt alloy films have been studied and reported (Appl. P.
hys. Lett. 61, 1600, 1992
Year). The CoPt alloy film has a Kerr rotation angle equal to or greater than that of the Pt / Co multilayer film, and is not a multilayer film, and therefore, the repetitive rewriting frequency characteristic is superior to that of the Pt / Co multilayer film.
However, when forming a film by the ultra-high vacuum evaporation method, a perpendicular magnetization film cannot be obtained unless the substrate temperature during film formation is 200 ° C. or higher. Therefore, there is a drawback that a polymer resin substrate such as polycarbonate cannot be used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短波
長域で大きなカー回転角を示し、しかも、垂直磁気異方
性が大きく、かつ、熱的影響による垂直磁気異方性の低
下が小さい磁性多層膜を、比較的低温の基板上に形成可
能とすることであり、また、優れた繰り返し書き換え特
性を有する光磁気記録媒体を提供することである。
The object of the present invention is to exhibit a large Kerr rotation angle in the short wavelength region, a large perpendicular magnetic anisotropy, and a decrease in the perpendicular magnetic anisotropy due to thermal influence. A small magnetic multilayer film can be formed on a substrate at a relatively low temperature, and a magneto-optical recording medium having excellent rewritable characteristics can be provided.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(9)の本発明により達成される。 (1)Pt層を介してCoPt合金層が積層されてお
り、CoPt合金層のCo含有率が25〜75原子%で
ある磁性多層膜。 (2)CoPt合金層のCo含有率が35〜60原子%
である上記(1)の磁性多層膜。 (3)CoPt合金層の厚さが0.5〜2nmであり、P
t層の厚さが0.5〜2nmである上記(1)または
(2)の磁性多層膜。 (4)最下層のCoPt合金層から最上層のCoPt合
金層までの厚さが5〜50nmである上記(1)〜(3)
のいずれかの磁性多層膜。 (5)Pt、Pd、Au、Ag、W、IrおよびCrの
少なくとも1種を含む金属下地層を有する上記(1)〜
(4)のいずれかの磁性多層膜。 (6)金属下地層の厚さが2〜20nmである上記(5)
の磁性多層膜。 (7)上記(1)〜(6)のいずれかの磁性多層膜を製
造する方法であって、蒸着法により、80〜150℃の
基板上に磁性多層膜を形成する工程を有する磁性多層膜
の製造方法。 (8)蒸着時の雰囲気圧力が1×10-7Torr以下である
上記(7)の磁性多層膜の製造方法。 (9)上記(1)〜(6)のいずれかの磁性多層膜を記
録膜として有する光磁気記録媒体。
The above objects are achieved by the present invention described in (1) to (9) below. (1) A magnetic multilayer film in which a CoPt alloy layer is laminated via a Pt layer, and the CoPt alloy layer has a Co content of 25 to 75 atomic%. (2) Co content of the CoPt alloy layer is 35 to 60 atom%.
The magnetic multilayer film according to (1) above. (3) The thickness of the CoPt alloy layer is 0.5 to 2 nm, and P
The magnetic multilayer film according to (1) or (2) above, wherein the thickness of the t layer is 0.5 to 2 nm. (4) The above-mentioned (1) to (3), wherein the thickness from the lowermost CoPt alloy layer to the uppermost CoPt alloy layer is 5 to 50 nm.
Any of the magnetic multilayer film. (5) The above (1) to (1) including a metal underlayer containing at least one of Pt, Pd, Au, Ag, W, Ir and Cr.
The magnetic multilayer film according to any one of (4). (6) The thickness of the metal underlayer is 2 to 20 nm (5)
Magnetic multilayer film. (7) A method for producing a magnetic multilayer film according to any one of (1) to (6), which comprises a step of forming a magnetic multilayer film on a substrate at 80 to 150 ° C. by a vapor deposition method. Manufacturing method. (8) The method for producing a magnetic multilayer film according to (7), wherein the atmospheric pressure during vapor deposition is 1 × 10 −7 Torr or less. (9) A magneto-optical recording medium having the magnetic multilayer film according to any one of (1) to (6) as a recording film.

【0008】[0008]

【作用および効果】本発明では、CoPt合金にPt中
間層を導入し、CoPt合金/Pt多層膜構造とする。
これにより、成膜時の基板温度が例えば150℃以下と
低くても、短波長領域で大きなカー回転角が得られる。
しかも、大きな垂直磁気異方性、すなわち、高角形比お
よび高保磁力を示すため、光磁気記録媒体に適用したと
きに高いC/Nが得られ、記録情報の安定性も良好とな
る。さらに、本発明の磁性多層膜は、熱的影響による垂
直磁気異方性の低下が小さい。
In the present invention, the Pt intermediate layer is introduced into the CoPt alloy to form the CoPt alloy / Pt multilayer film structure.
As a result, a large Kerr rotation angle can be obtained in the short wavelength region even when the substrate temperature during film formation is as low as 150 ° C. or lower.
Moreover, since it exhibits a large perpendicular magnetic anisotropy, that is, a high squareness ratio and a high coercive force, a high C / N is obtained when applied to a magneto-optical recording medium, and the stability of recorded information is also improved. Further, the magnetic multilayer film of the present invention has a small decrease in perpendicular magnetic anisotropy due to thermal influence.

【0009】このため本発明の磁性多層膜は、ポリカー
ボネート基板などの高分子樹脂基板を用いた光磁気記録
媒体の記録膜として使用でき、しかも、その場合、高C
/Nが得られると共に、106 回以上の繰り返し書き換
え特性が得られる。
Therefore, the magnetic multilayer film of the present invention can be used as a recording film of a magneto-optical recording medium using a polymer resin substrate such as a polycarbonate substrate, and in that case, a high C
/ N is obtained, and repetitive rewriting characteristics of 10 6 times or more are obtained.

【0010】従来のCo/Pt多層膜では、Pt層厚が
1nm程度、Co層厚が0.2〜0.5nm程度と非常に薄
いため、同じ膜構造の多層膜を再現性よく作製するのが
困難であるが、本発明のCoPt合金/Pt多層膜で
は、層厚制御および組成制御に関してそれほどの厳密さ
は要求されないため、作製が比較的容易である。
Since the conventional Co / Pt multilayer film has a very thin Pt layer thickness of about 1 nm and a Co layer thickness of about 0.2 to 0.5 nm, a multilayer film of the same film structure can be produced with good reproducibility. However, the CoPt alloy / Pt multilayer film of the present invention does not require so strict control of layer thickness and composition control, and thus is relatively easy to manufacture.

【0011】なお、CoPt合金/Pt多層膜構造は、
特開平3−252940号公報において報告されてい
る。しかし、同公報記載の多層膜では、CoPt合金膜
中のPtの割合が1〜20原子%と少ないため、本発明
の効果は実現せず、特に、基板温度が低い場合にはカー
ループの角形比が小さくなってしまう。Coの割合が高
いと一般にカー回転角は大きくなるが、カー回転角が大
きくても角形比が0.9以上、特に0.95以上でない
と、光磁気記録媒体に適用した場合に高C/Nは得られ
ない。また、本発明の磁性多層膜の好ましい形成方法は
超高真空蒸着法であるが、同公報では多層膜の形成にス
パッタ法を用いており、この点でも異なる。
The CoPt alloy / Pt multilayer film structure is
This is reported in JP-A-3-252940. However, in the multilayer film described in the publication, since the ratio of Pt in the CoPt alloy film is as small as 1 to 20 atomic%, the effect of the present invention cannot be realized. Particularly, when the substrate temperature is low, the squareness ratio of the Kerr loop is low. Becomes smaller. The Kerr rotation angle is generally large when the proportion of Co is high, but even if the Kerr rotation angle is large, unless the squareness ratio is 0.9 or more, particularly 0.95 or more, a high C / C ratio is obtained when applied to a magneto-optical recording medium. N cannot be obtained. The preferred method of forming the magnetic multilayer film of the present invention is the ultra-high vacuum vapor deposition method, but in this publication, the sputtering method is used to form the multilayer film, which is also different.

【0012】[0012]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0013】図1に、本発明の磁性多層膜の断面構造の
模式図を示す。本発明の磁性多層膜は、Pt層3を介し
てCoPt合金層4が積層されたものである。図示例で
は、最も下側のCoPt合金層4と基板1との間に、金
属下地層2が設けられている。
FIG. 1 shows a schematic view of the cross-sectional structure of the magnetic multilayer film of the present invention. The magnetic multilayer film of the present invention is one in which the CoPt alloy layer 4 is laminated via the Pt layer 3. In the illustrated example, the metal underlayer 2 is provided between the lowermost CoPt alloy layer 4 and the substrate 1.

【0014】CoPt合金層のCo含有率は、好ましく
は25〜75原子%、より好ましくは35〜60原子%
である。Coが多すぎる場合には良好な垂直磁気異方性
が得られず、またPtが多すぎる場合には十分なカー回
転角が得られない。なお、CoPt合金層の具体的組成
は、Pt層の厚さとの兼ね合いで上記範囲内において適
宜決定される。CoPt合金層には、他の元素、例えば
Fe、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn
等の3d遷移元素;Pd、Y、Zr、Nb、Mo、R
u、Rh、Ag等の4d遷移元素;Au、Hf、Ta、
W、Re、Os、Ir等の5d遷移元素;Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Yb、Lu、La、Ce、Pr、N
d、Sm、Eu等の希土類元素;B、Al、Ga、In
等の3B族元素;C、Si、Ge等の4B族元素;N、
P、Bi等の5B族元素などを含ませることもできる。
このような他の元素がCoPt合金層に添加される場
合、他の元素の含有量は好ましくは30原子%以下であ
り、より好ましくは20原子%以下である。
The Co content of the CoPt alloy layer is preferably 25 to 75 atom%, more preferably 35 to 60 atom%.
Is. When Co is too large, good perpendicular magnetic anisotropy cannot be obtained, and when Pt is too large, a sufficient Kerr rotation angle cannot be obtained. The specific composition of the CoPt alloy layer is appropriately determined within the above range in consideration of the thickness of the Pt layer. Other elements such as Fe, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Ni, Cu, Zn are contained in the CoPt alloy layer.
3d transition elements such as Pd, Y, Zr, Nb, Mo, R
4d transition elements such as u, Rh, and Ag; Au, Hf, Ta,
5d transition elements such as W, Re, Os, Ir; Gd, Tb,
Dy, Ho, Er, Yb, Lu, La, Ce, Pr, N
rare earth elements such as d, Sm, Eu; B, Al, Ga, In
3B group elements such as; 4B group elements such as C, Si, Ge; N,
Group 5B elements such as P and Bi can be included.
When such other element is added to the CoPt alloy layer, the content of the other element is preferably 30 atom% or less, more preferably 20 atom% or less.

【0015】磁性多層膜中の各Pt層の厚さおよび各C
oPt合金層の厚さは特に限定されるものではないが、
CoPt合金層が厚すぎる場合には、良好な垂直磁気異
方性を得るためにある程度基板温度を高くする必要が生
じ、CoPt合金層が薄すぎるとカー回転角が小さくな
ってしまうため、CoPt合金層の厚さは好ましくは
0.5〜2nm、より好ましくは0.5〜1.5nmとす
る。一方、Pt層は厚いほうが良好な垂直磁気異方性を
得ることができるが、厚くなりすぎると多層膜全体のC
oの平均濃度が低くなるため、カー回転角が小さくなっ
てしまう。このように、Pt層の厚さはCoPt合金層
の組成およびその厚さと併せて適宜決定されるものであ
るが、好ましくは0.5〜2nm、より好ましくは0.5
〜1.5nmとする。なお、CoPt合金層の厚さとPt
層の厚さとの比CoPt/Ptは、好ましくは1/2〜
2、より好ましくは2/3〜3/2である。この比が小
さすぎると、カー回転角が小さくなってしまい、この比
が大きすぎると、良好な垂直磁気異方性を得るためにあ
る程度基板温度を高くする必要が生じる。
Thickness of each Pt layer and each C in the magnetic multilayer film
Although the thickness of the oPt alloy layer is not particularly limited,
If the CoPt alloy layer is too thick, it is necessary to raise the substrate temperature to some extent in order to obtain good perpendicular magnetic anisotropy. If the CoPt alloy layer is too thin, the Kerr rotation angle becomes small. The layer thickness is preferably 0.5-2 nm, more preferably 0.5-1.5 nm. On the other hand, the thicker the Pt layer is, the better perpendicular magnetic anisotropy can be obtained.
Since the average density of o becomes low, the Kerr rotation angle becomes small. As described above, the thickness of the Pt layer is appropriately determined in accordance with the composition of the CoPt alloy layer and the thickness thereof, but is preferably 0.5 to 2 nm, more preferably 0.5.
~ 1.5 nm. The thickness of the CoPt alloy layer and Pt
The ratio CoPt / Pt to the layer thickness is preferably between 1/2 and
2, more preferably 2/3 to 3/2. If this ratio is too small, the Kerr rotation angle becomes small, and if this ratio is too large, it is necessary to raise the substrate temperature to some extent in order to obtain good perpendicular magnetic anisotropy.

【0016】多層膜全体の厚さも特に限定はされない
が、厚すぎると磁気カー曲線の角形比および保磁力が低
下する傾向を示すため、全厚(最下層のCoPt合金層
から最上層のCoPt合金層までの厚さ)は50nm以下
であることが好ましい。また、全厚が薄いほうが成膜時
間も短時間に抑えられる。ただし、薄くなりすぎると連
続膜とならず島状構造となるため、カー回転角が小さく
なってしまう。このため、全厚は5nm以上であることが
好ましい。
The total thickness of the multilayer film is not particularly limited, but if it is too thick, the squareness ratio of the magnetic Kerr curve and the coercive force tend to decrease, so that the total thickness (from the CoP alloy layer of the bottom layer to the CoPt alloy of the top layer) The thickness up to the layer) is preferably 50 nm or less. Further, the thinner the total thickness, the shorter the film formation time can be. However, if the film becomes too thin, the film will not be a continuous film but will have an island structure, and the Kerr rotation angle will be small. Therefore, the total thickness is preferably 5 nm or more.

【0017】なお、磁性多層膜中におけるCoPt合金
層の数は2層以上であればよいが、十分な全厚を確保す
るためには好ましくは3層以上とし、具体的には、膜設
計に応じて適宜決定すればよい。
The number of CoPt alloy layers in the magnetic multilayer film may be two or more, but it is preferably three or more in order to ensure a sufficient total thickness. It may be appropriately determined depending on the situation.

【0018】最下層のCoPt合金層4と基板1との間
に設けられる金属下地層2は、Pt、Pd、Au、A
g、W、IrおよびCrの少なくとも1種を含む金属か
ら構成されることが好ましく、特にPtから構成される
ことが好ましい。下地層を設けることにより、垂直磁気
異方性の向上、保磁力および角形比の増加が可能であ
る。下地層の厚さは、好ましくは2〜20nm、より好ま
しくは3〜6nmである。下地層が薄すぎると、下地層を
設けることによる効果が不十分となり、厚すぎると、光
磁気記録媒体に適用したときに基板側からレーザを入射
して情報を読み出すことが困難になる。
The metal underlayer 2 provided between the lowermost CoPt alloy layer 4 and the substrate 1 is made of Pt, Pd, Au, A.
It is preferably composed of a metal containing at least one of g, W, Ir and Cr, and particularly preferably composed of Pt. By providing the underlayer, the perpendicular magnetic anisotropy can be improved and the coercive force and the squareness ratio can be increased. The thickness of the underlayer is preferably 2 to 20 nm, more preferably 3 to 6 nm. If the underlayer is too thin, the effect of providing the underlayer will be insufficient, and if it is too thick, it will be difficult to read information by applying a laser from the substrate side when applied to a magneto-optical recording medium.

【0019】なお、最上層のCoPt合金層上には、図
示するように金属保護層5を設けてもよい。金属保護層
5には、Pt等を用いればよい。この金属保護層の厚さ
は、0.5〜2nm程度とすることが好ましい。
A metal protective layer 5 may be provided on the uppermost CoPt alloy layer as shown in the figure. Pt or the like may be used for the metal protective layer 5. The metal protective layer preferably has a thickness of about 0.5 to 2 nm.

【0020】本発明の磁性多層膜の形成には、真空蒸着
法、特に超高真空蒸着法を用いることが好ましい。具体
的には、CoおよびPtの2つの蒸発源を用意し、一定
のレートで基板上にPtを蒸着し続けながら、一定の周
期およびレートでCoを蒸着することが好ましい。蒸着
時の雰囲気圧力は、好ましく1×10-7Torr以下、より
好ましくは2×10-8Torr以下、さらに好ましくは1×
10-8Torr以下とする。なお、圧力の下限は特にない
が、蒸着時には、通常、5×10-9Torr以上となる。C
oおよびPtの各蒸着レートは特に限定されないが、周
期性、再現性を向上させるためには、好ましくは0.1
nm/秒以下、より好ましくは0.01〜0.05nm/秒
とする。これらの条件で蒸着を行なうことにより、特性
の良好なCoPt合金/Pt多層膜を容易に形成するこ
とができる。
For forming the magnetic multilayer film of the present invention, it is preferable to use a vacuum vapor deposition method, particularly an ultrahigh vacuum vapor deposition method. Specifically, it is preferable to prepare two evaporation sources of Co and Pt, and to deposit Pt on the substrate at a constant rate while depositing Co at a constant cycle and rate. The atmospheric pressure during vapor deposition is preferably 1 × 10 −7 Torr or less, more preferably 2 × 10 −8 Torr or less, and further preferably 1 ×.
It should be 10 -8 Torr or less. Although there is no particular lower limit to the pressure, it is usually 5 × 10 −9 Torr or more during vapor deposition. C
The vapor deposition rates of o and Pt are not particularly limited, but are preferably 0.1 in order to improve the periodicity and reproducibility.
nm / sec or less, more preferably 0.01 to 0.05 nm / sec. By performing vapor deposition under these conditions, a CoPt alloy / Pt multilayer film having good characteristics can be easily formed.

【0021】このようにして形成される本発明の磁性多
層膜は、(111)配向のfcc構造を有する。
The magnetic multilayer film of the present invention thus formed has a (111) oriented fcc structure.

【0022】本発明の磁性多層膜は、通常の樹脂基板を
用いて形成することができ、安価だが耐熱性の低いポリ
カーボネート基板を用いることもできる。200℃を超
える基板温度が必要とされる場合には高価な耐熱性樹脂
の基板を使う必要があるが、本発明では、基板温度が2
00℃以下、通常の樹脂が問題なく使える150℃以
下、さらにはポリカーボネート基板が安全に使える11
0℃以下であっても、良好な垂直磁気異方性と高保磁力
とが得られ、また、短波長の再生光でも大きなカー回転
角が得られる。例えば、角形比として、0.9以上が容
易に得られ、0.95以上、特に1.0とすることもで
きる。また、保磁力として0.4 kOe以上が容易に得ら
れ、0.5 kOe以上とすることもできる。また、カー回
転角として0.20°以上が容易に得られ、0.30°
以上とすることもできる。しかも、このようにして形成
された本発明の磁性多層膜は、熱的影響による垂直磁気
異方性の低下が小さい。したがって、本発明の磁性多層
膜を光磁気記録媒体の記録膜として用いた場合、高C/
Nと優れた繰り返し書き換え特性が得られる。
The magnetic multilayer film of the present invention can be formed by using an ordinary resin substrate, and a polycarbonate substrate which is inexpensive but has low heat resistance can also be used. When a substrate temperature exceeding 200 ° C. is required, it is necessary to use an expensive heat-resistant resin substrate, but in the present invention, the substrate temperature is 2
00 ° C or below, 150 ° C or below where normal resins can be used without problems, and even polycarbonate substrates can be used safely 11
Good perpendicular magnetic anisotropy and high coercive force can be obtained even at 0 ° C. or lower, and a large Kerr rotation angle can be obtained even with reproducing light having a short wavelength. For example, a squareness ratio of 0.9 or more can be easily obtained, and it can be 0.95 or more, particularly 1.0. Further, a coercive force of 0.4 kOe or more can be easily obtained, and it can be set to 0.5 kOe or more. Also, a Kerr rotation angle of 0.20 ° or more can be easily obtained,
The above can be applied. Moreover, the magnetic multilayer film of the present invention thus formed has a small decrease in perpendicular magnetic anisotropy due to thermal influence. Therefore, when the magnetic multilayer film of the present invention is used as a recording film of a magneto-optical recording medium, high C /
An excellent repetitive rewriting characteristic of N is obtained.

【0023】本発明の磁性多層膜を記録膜として有する
光磁気記録媒体は、通常、図2に示すように、基板1上
に、第一誘電体膜12、記録膜13、第二誘電体膜1
4、反射膜15および保護コート16をこの順で有する
構成とされる。
A magneto-optical recording medium having the magnetic multilayer film of the present invention as a recording film generally has a first dielectric film 12, a recording film 13, and a second dielectric film on a substrate 1, as shown in FIG. 1
4, the reflective film 15 and the protective coat 16 are arranged in this order.

【0024】記録光および再生光は、通常、基板を通し
て照射されるため、基板は樹脂やガラスなどの透明材質
から構成されるが、本発明では前述したようにポリカー
ボネート基板を用いることができる。基板の表面には、
光ヘッド案内溝やアドレスなどを示すピットなどがあら
かじめ形成されている。
Since the recording light and the reproducing light are normally irradiated through the substrate, the substrate is made of a transparent material such as resin or glass. In the present invention, the polycarbonate substrate can be used as described above. On the surface of the substrate,
Optical head guide grooves and pits indicating addresses are formed in advance.

【0025】第一誘電体膜および第二誘電体膜は、C/
Nの向上および記録膜の信頼性向上のために設けられ
る。第一誘電体膜の厚さは40〜200nm程度、第二誘
電体膜の厚さは10〜100nm程度とされる。各誘電体
膜は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるいはこ
れらの混合物(LaSiONなど)等からなる誘電体物
質から構成されることが好ましい。これらの誘電体膜
は、スパッタ法等の気相成膜法により形成されることが
好ましい。
The first dielectric film and the second dielectric film are C /
It is provided to improve N and reliability of the recording film. The thickness of the first dielectric film is about 40 to 200 nm, and the thickness of the second dielectric film is about 10 to 100 nm. Each dielectric film is preferably composed of a dielectric substance made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides, or mixtures thereof (LaSiON, etc.). It is preferable that these dielectric films are formed by a vapor phase film forming method such as a sputtering method.

【0026】反射膜は、C/N向上のために設けられ
る。反射膜を構成する材質は、Au、Ag、Pt、A
l、Ti、Cr、Ni、Co等の金属、あるいはこれら
を含む合金、あるいはこれらを含む化合物であることが
好ましい。反射膜は、スパッタ法等の気相成膜法により
形成することが好ましい。反射膜の厚さは、30〜20
0nm程度とすることが好ましい。
The reflective film is provided to improve C / N. The material forming the reflective film is Au, Ag, Pt, A
Metals such as 1, Ti, Cr, Ni, and Co, alloys containing these, or compounds containing these are preferable. The reflective film is preferably formed by a vapor phase film forming method such as a sputtering method. The thickness of the reflective film is 30 to 20.
It is preferably about 0 nm.

【0027】保護コートは、反射膜までの積層膜の保護
のために設けられる樹脂膜である。保護コートを構成す
る樹脂は特に限定されないが、放射線硬化型化合物の硬
化物であることが好ましい。放射線硬化型化合物として
はアクリル基を有するものが好ましく、これと光重合増
感剤ないし開始剤とを含有する塗膜を、紫外線や電子線
により硬化して保護コートを形成することが好ましい。
保護コートの厚さは、通常、1〜30μm 、好ましくは
2〜20μm とする。
The protective coat is a resin film provided to protect the laminated film up to the reflective film. The resin constituting the protective coat is not particularly limited, but it is preferably a cured product of a radiation curable compound. The radiation-curable compound preferably has an acrylic group, and a coating film containing this and a photopolymerization sensitizer or an initiator is preferably cured by ultraviolet rays or electron beams to form a protective coat.
The thickness of the protective coat is usually 1 to 30 μm, preferably 2 to 20 μm.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.

【0029】<実施例1>回転している基板上に、超高
真空蒸着法によりCoPt合金/Pt多層膜を形成し、
測定用サンプルとした。基板にはコーニング7059ガ
ラスを用いた。成膜条件は以下のとおりである。前述し
たように、CoおよびPtの2つの蒸発源を用意し、一
定のレートで基板上にPtを蒸着し続けながら、一定の
周期およびレートでCoを蒸着した。到達圧力は1×1
-9Torr、成膜中の圧力は2×10-8〜8×10-8Torr
とした。蒸着レートはCo、Ptともに0.02nm/秒
とした。基板温度は25〜150℃の範囲から選択し、
成膜中の基板温度は一定とした。なお、膜組成は蛍光X
線分析により測定した。
Example 1 A CoPt alloy / Pt multilayer film was formed on a rotating substrate by ultra-high vacuum deposition,
A sample for measurement was used. Corning 7059 glass was used for the substrate. The film forming conditions are as follows. As described above, two evaporation sources of Co and Pt were prepared, and Co was vapor-deposited at a constant cycle and rate while continuously depositing Pt on the substrate at a constant rate. Ultimate pressure is 1 × 1
0 -9 Torr, the pressure during film formation is 2 × 10 -8 to 8 × 10 -8 Torr
And The vapor deposition rate was 0.02 nm / sec for both Co and Pt. Select the substrate temperature from the range of 25-150 ℃,
The substrate temperature during film formation was constant. The film composition is fluorescent X
It was measured by line analysis.

【0030】磁気カー曲線の基板温度依存性 図3(a)〜(e)に、Pt(5nm)/[Pt(1nm)
/Co60Pt40(1nm)]10/Pt(1nm)多層
膜の波長680nmにおける磁気カー曲線の基板温度依存
性を示す。なお、多層膜についての上記表現は、1nm厚
のPt層と1nm厚のCoPt合金層とを1層づつ重ねた
ものを1単位として、厚さ5nmのPt層上に10単位積
層し、最後に金属保護層として1nm厚のPt層を積層し
たものを表わす。CoPt合金層の原子百分率組成はC
o60Pt40である。したがって、最下層のCoPt
合金層から最上層のCoPt合金層までの厚さは、19
nmであり、金属下地層の厚さは6nmとなる。
Substrate Temperature Dependence of Magnetic Kerr Curve FIGS. 3A to 3E show Pt (5 nm) / [Pt (1 nm)
/ Co60Pt40 (1 nm)] 10 / Pt (1 nm) multilayer film shows the substrate temperature dependence of the magnetic Kerr curve at a wavelength of 680 nm. The above expression of the multilayer film is such that one unit of a Pt layer having a thickness of 1 nm and a CoPt alloy layer having a thickness of 1 nm are stacked as one unit, and 10 units are laminated on a Pt layer having a thickness of 5 nm. It represents a Pt layer having a thickness of 1 nm laminated as a metal protective layer. The atomic percentage composition of the CoPt alloy layer is C
o60Pt40. Therefore, CoPt of the bottom layer
The thickness from the alloy layer to the uppermost CoPt alloy layer is 19
The thickness of the metal underlayer is 6 nm.

【0031】図3から、150℃以下の基板温度におい
ても良好な垂直磁気異方性、すなわち角形比1と0.5
kOe 以上の保磁力が得られることがわかる。基板温度2
5℃でも0.5の角形比は得られているが、基板温度8
0℃以上であれば角形比1が得られることがわかる。そ
して、基板温度100℃で成膜した場合には、保磁力
0.5kOe 、角形比1が得られている。
From FIG. 3, good perpendicular magnetic anisotropy is obtained even at a substrate temperature of 150 ° C. or less, that is, a squareness ratio of 1 and 0.5.
It can be seen that a coercive force greater than kOe can be obtained. Substrate temperature 2
A squareness ratio of 0.5 was obtained even at 5 ° C, but the substrate temperature was 8
It can be seen that a squareness ratio of 1 is obtained at 0 ° C. or higher. When a film is formed at a substrate temperature of 100 ° C., a coercive force of 0.5 kOe and a squareness ratio of 1 are obtained.

【0032】角形比の熱処理温度依存性 基板温度100℃で成膜した上記多層膜に熱処理を加
え、処理後の角形比を測定した。図4に、この多層膜の
角形比の熱処理温度依存性を、本発明例として示す。な
お、図4に比較例として示す曲線は、Pt(5nm)/
[Pt(1nm)/Co(0.3nm)]10/Pt(1n
m)多層膜、すなわちPt/Co多層膜についてのもの
である。図4に示されるように、本発明の多層膜は熱的
影響による垂直磁気異方性の低下が小さいので、光磁気
記録膜に適用した場合に、繰り返し書き換え特性が良好
となることがわかる。
Heat Treatment Temperature Dependence of Squareness Ratio The multilayer film formed at a substrate temperature of 100 ° C. was subjected to heat treatment, and the squareness ratio after the treatment was measured. FIG. 4 shows the heat treatment temperature dependence of the squareness ratio of this multilayer film as an example of the present invention. The curve shown in FIG. 4 as a comparative example is Pt (5 nm) /
[Pt (1 nm) / Co (0.3 nm)] 10 / Pt (1 n
m) Multilayer film, that is, Pt / Co multilayer film. As shown in FIG. 4, since the multilayer film of the present invention has a small decrease in perpendicular magnetic anisotropy due to the thermal effect, it can be seen that the repetitive rewriting characteristics are improved when applied to the magneto-optical recording film.

【0033】カー回転角の波長依存性 図5に、基板温度100℃で成膜した上記多層膜のカー
回転角の波長依存性を示す。なお、印加磁界は15kOe
とした。測定波長が短くなるにしたがって、カー回転角
が大きくなることが確認でき、波長400nmにおいて
0.32°のカー回転角が得られている。図5から、本
発明の多層膜では短波長領域において十分に大きなカー
回転角が得られることが確認できる。
Wavelength Dependence of Kerr Rotation Angle FIG. 5 shows the wavelength dependence of the Kerr rotation angle of the above-mentioned multilayer film formed at a substrate temperature of 100 ° C. The applied magnetic field is 15 kOe
And It was confirmed that the Kerr rotation angle increased as the measurement wavelength became shorter, and a Kerr rotation angle of 0.32 ° was obtained at a wavelength of 400 nm. From FIG. 5, it can be confirmed that the multilayer film of the present invention can obtain a sufficiently large Kerr rotation angle in the short wavelength region.

【0034】CoPt合金層組成の変更 膜形成時の基板温度を100℃とし、Pt層厚さおよび
CoPt合金層厚さをそれぞれ1nmに固定し、CoPt
合金層の組成を変更したときの、角形比、保磁力および
波長400nmにおけるカー回転角を、表1に示す。
The substrate temperature at the time of forming the film for changing the composition of the CoPt alloy layer is set to 100 ° C., the Pt layer thickness and the CoPt alloy layer thickness are fixed at 1 nm, respectively.
Table 1 shows the squareness ratio, the coercive force, and the Kerr rotation angle at a wavelength of 400 nm when the composition of the alloy layer was changed.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】表1では、CoPt合金層のCo含有率が
高くなるにしたがってカー回転角が大きくなっている
が、Co含有率が80原子%のものでは角形比が低くな
ってしまっているため、光磁気記録媒体に適用した場合
に高いC/Nが得られない。保磁力はCo含有率が低く
なるにしたがって大きくなる傾向を示しているが、Co
含有率が15原子%のものでは、保磁力が激減してしま
っているので、光磁気記録媒体に適用した場合に高信頼
性が得られない。表1から、CoPt合金層のCo含有
率が25〜75原子%、特に35〜60原子%の範囲に
おいて、角形比、保磁力、カー回転角のいずれもが良好
となることがわかる。
In Table 1, the Kerr rotation angle increases as the Co content of the CoPt alloy layer increases, but when the Co content is 80 atomic%, the squareness ratio decreases. When applied to a magneto-optical recording medium, high C / N cannot be obtained. The coercive force tends to increase as the Co content decreases.
When the content is 15 atomic%, the coercive force is drastically reduced, and therefore high reliability cannot be obtained when applied to a magneto-optical recording medium. It can be seen from Table 1 that all of the squareness ratio, the coercive force, and the Kerr rotation angle are good in the range where the Co content of the CoPt alloy layer is 25 to 75 atom%, particularly 35 to 60 atom%.

【0037】CoPt合金層厚さの変更 CoPt合金層の厚さを変更したときの、角形比、保磁
力および波長400nmにおけるカー回転角を、表2に示
す。
[0037] when changing the thickness of the CoPt alloy layer thickness changes CoPt alloy layer, squareness ratio, the Kerr rotation angle in the coercivity and the wavelength 400 nm, are shown in Table 2.

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】表2から、CoPt合金層の厚さが0.5
〜2nm、特に0.5〜1.5nmの範囲において、角形
比、保磁力、カー回転角のいずれもが良好となることが
わかる。
From Table 2, the thickness of the CoPt alloy layer is 0.5.
It can be seen that all of the squareness ratio, the coercive force, and the Kerr rotation angle are good in the range of up to 2 nm, particularly in the range of 0.5 to 1.5 nm.

【0040】Pt層厚さおよび金属下地層厚さの変更 層間のPt層の厚さを変更したとき、および金属下地層
の厚さを変更したときの、角形比、保磁力および波長4
00nmにおけるカー回転角を、表3に示す。
Change in Pt Layer Thickness and Metal Underlayer Thickness When the thickness of the Pt layer between layers is changed and when the thickness of the metal underlayer is changed, squareness ratio, coercive force and wavelength 4
The Kerr rotation angle at 00 nm is shown in Table 3.

【0041】[0041]

【表3】 [Table 3]

【0042】表3から、所定厚さの金属下地層を設ける
ことにより保磁力が向上できることがわかる。また、層
間のPt層が厚いほうが良好な垂直磁気異方性が得られ
るが、カー回転角が小さくなることが確認される。そし
て、層間のPt層の厚さが0.5〜2nm、特に0.5〜
1.5nmの範囲において、角形比、保磁力、カー回転角
のいずれもが良好となることがわかる。
From Table 3, it can be seen that the coercive force can be improved by providing the metal underlayer having a predetermined thickness. Further, it is confirmed that the thicker the Pt layer between layers is, the better perpendicular magnetic anisotropy is obtained, but the Kerr rotation angle becomes smaller. The thickness of the Pt layer between the layers is 0.5 to 2 nm, especially 0.5 to
It can be seen that the squareness ratio, the coercive force, and the Kerr rotation angle are all favorable in the range of 1.5 nm.

【0043】結晶配向性 表4に示す本発明の多層膜のX線回折チャートを、図6
に示す。また、表4に示す比較例の多層膜のX線回折チ
ャートを、図7に示す。各多層膜の結晶配向性と角形比
等との関係を、表4に示す。なお、結晶配向性は、Co
Pt(002)のピーク強度I(002)とfccのC
oPt(111)のピーク強度I(111)との比I
(002)/I(111)で評価した。
Crystal orientation The X-ray diffraction chart of the multilayer film of the present invention shown in Table 4 is shown in FIG.
Shown in Further, FIG. 7 shows an X-ray diffraction chart of the multilayer film of the comparative example shown in Table 4. Table 4 shows the relationship between the crystal orientation and the squareness ratio of each multilayer film. The crystal orientation is Co
Peak intensity I (002) of Pt (002) and C of fcc
Ratio I of oPt (111) to peak intensity I (111)
It was evaluated by (002) / I (111).

【0044】[0044]

【表4】 [Table 4]

【0045】表4から、CoPt(002)の比率が小
さく、fccのCoPt(111)ピーク強度が相対的
に強い本発明の多層膜では、角形比が高くなることがわ
かる。なお、この傾向はAppl.Phys.Let
t.61巻,2726頁,1992年に示されているC
28Pt72合金の場合の傾向と一致する。本発明におい
て基板温度が低い場合でも良好な垂直磁気異方性が得ら
れるのは、Pt層を介してCoPt合金層を積層するこ
とにより、低温でも(111)配向しやすくなったこと
が一因といえる。
From Table 4, it can be seen that the ratio of CoPt (002) is small, and that the CoPt (111) peak intensity of fcc is relatively strong, the multilayer film of the present invention has a high squareness ratio. In addition, this tendency is Appl. Phys. Let
t. C, 61, 2726, 1992
This is in agreement with the tendency for o 28 Pt 72 alloy. In the present invention, good perpendicular magnetic anisotropy can be obtained even when the substrate temperature is low, because the (111) orientation is easy even at low temperature by stacking the CoPt alloy layers through the Pt layer. Can be said.

【0046】<実施例2>実施例1と同じ条件でCoP
t合金/Pt多層膜を成膜して記録膜とした光磁気ディ
スクを作製した。
Example 2 CoP under the same conditions as in Example 1
A magneto-optical disk was prepared by forming a t-alloy / Pt multilayer film as a recording film.

【0047】この光磁気ディスクは、多元イオンビーム
スパッタ装置と超高真空多元蒸着装置を用い、以下のよ
うにして作製した。
This magneto-optical disk was manufactured as follows using a multi-source ion beam sputtering device and an ultra-high vacuum multi-source deposition device.

【0048】イオンビームスパッタ装置および超高真空
多元蒸着装置を用いて、案内溝およびピットを表面に形
成したポリカーボネート基板の表面に、基板を回転させ
ながら膜を形成した。
Using an ion beam sputtering apparatus and an ultra-high vacuum multi-source deposition apparatus, a film was formed on the surface of a polycarbonate substrate having guide grooves and pits formed on the surface while rotating the substrate.

【0049】まず、イオンビームスパッタ装置を用い、
SiターゲットをArイオンビームでスパッタし、同時
に別のイオンガンで窒素イオンビームアシストをするこ
とにより、窒化ケイ素の第一誘電体膜を形成した。メイ
ンイオンガンのビーム電圧は1200V 、ビーム電流は
135mA、Arガス流量は10SCCMとし、アシストイオ
ンガンのビーム電圧は350V 、ビーム電流は10mA、
窒素ガス流量は20SCCMとした。このときのスパッタ圧
力は、3.6×10-4Torrであった。第一誘電体膜の厚
さは80nmとした。
First, using an ion beam sputtering device,
The Si target was sputtered with an Ar ion beam, and at the same time, nitrogen ion beam assist was performed with another ion gun to form a first dielectric film of silicon nitride. Beam voltage of main ion gun is 1200V, beam current is 135mA, Ar gas flow rate is 10SCCM, beam voltage of assist ion gun is 350V, beam current is 10mA,
The nitrogen gas flow rate was 20 SCCM. The sputtering pressure at this time was 3.6 × 10 −4 Torr. The thickness of the first dielectric film was 80 nm.

【0050】次に、第一誘電体膜が形成された基板を取
り出し、超高真空多元蒸着装置にセットして、記録膜を
形成した。記録膜はPt(5nm)/[Pt(1nm)/C
o60Pt40(1nm)]10/Pt(1nm)とした。
Next, the substrate having the first dielectric film formed thereon was taken out and set in an ultra-high vacuum multi-source vapor deposition apparatus to form a recording film. The recording film is Pt (5 nm) / [Pt (1 nm) / C
o60Pt40 (1 nm)] 10 / Pt (1 nm).

【0051】記録膜形成後、基板を再びイオンビームス
パッタ装置にセットして、窒化ケイ素の第二誘電体膜を
形成した。このときのスパッタ条件は、第一誘電体膜形
成の際と同じにしたが、第二誘電体膜の厚さは100nm
とした。
After forming the recording film, the substrate was set again in the ion beam sputtering apparatus to form a second dielectric film of silicon nitride. The sputtering conditions at this time were the same as those for forming the first dielectric film, but the thickness of the second dielectric film was 100 nm.
And

【0052】第二誘電体膜形成後、連続してイオンビー
ムスパッタ装置内で、厚さ50nmのAl反射膜を形成し
た。スパッタガスとしてはArガスを、ターゲットには
Alを使用し、スパッタガス圧1.4×10-4Torr、ビ
ーム電圧1200V 、ビーム電流135mAにてスパッタ
した。
After forming the second dielectric film, an Al reflection film having a thickness of 50 nm was continuously formed in the ion beam sputtering apparatus. Ar gas was used as the sputtering gas and Al was used as the target, and sputtering was carried out at a sputtering gas pressure of 1.4 × 10 −4 Torr, a beam voltage of 1200 V, and a beam current of 135 mA.

【0053】最後に、紫外線硬化樹脂膜を約1μm の厚
さに形成して保護コートとし、光磁気ディスクを得た。
Finally, an ultraviolet curable resin film was formed to a thickness of about 1 μm to form a protective coat, and a magneto-optical disk was obtained.

【0054】このようにして作製した本発明の光磁気デ
ィスクに対し、繰り返し記録消去を行って書き換え特性
を調べた。波長780nmのレーザ光を用い、記録周波数
2.5MHz 、線速5m/s で、最適記録パワー7.2mWで
記録した。次に、記録した信号を外部磁界400 Oe 、
消去レーザ光7.4mWで完全に消去した。これを多数回
繰り返したときの搬送波対雑音比(CNR)の変化を調
べた。再生レーザ出力は1mWとした。
The magneto-optical disk of the present invention thus produced was repeatedly recorded and erased to examine the rewriting characteristics. Recording was performed using a laser beam having a wavelength of 780 nm, a recording frequency of 2.5 MHz, a linear velocity of 5 m / s, and an optimum recording power of 7.2 mW. Next, the recorded signal is transferred to an external magnetic field of 400 Oe,
Erase Laser beam was completely erased with 7.4 mW. The change in carrier-to-noise ratio (CNR) when this was repeated many times was examined. The reproduction laser output was 1 mW.

【0055】また、比較例として、記録膜にPt/Co
多層膜を用いた光磁気ディスクも作製し、上記と同様に
して特性を調べた。このPt/Co多層膜は、超高真空
蒸着装置を用いて、成膜時圧力5×10-9Torr、成膜速
度0.2A/s で形成した。Ptの厚さは1.0nm、Co
層の厚さは0.3nmとし、Pt、Co、Ptの順に交互
に積層した。最上層はPt層であり、全厚は14nmであ
る。記録膜以外の膜は、本発明のディスクと同様にして
形成した。
As a comparative example, Pt / Co was applied to the recording film.
A magneto-optical disk using a multilayer film was also manufactured, and the characteristics were examined in the same manner as above. This Pt / Co multilayer film was formed using an ultra-high vacuum vapor deposition apparatus at a film forming pressure of 5 × 10 −9 Torr and a film forming rate of 0.2 A / s. Pt thickness is 1.0 nm, Co
The layer thickness was 0.3 nm, and Pt, Co, and Pt were alternately laminated in this order. The top layer is a Pt layer with a total thickness of 14 nm. The films other than the recording film were formed in the same manner as the disc of the present invention.

【0056】図8に、書き換えを繰り返したときのCN
Rの変化(△CNR)を示す。比較例のディスクでは約
104 回付近からCNRの低下が著しくなるが、本発明
のディスクでは、106 回までCNRの低下はみられな
い。
FIG. 8 shows CN when rewriting is repeated.
The change in R (ΔCNR) is shown. In the disk of the comparative example, the CNR is remarkably lowered from around 10 4 times, but in the disk of the present invention, the CNR is not lowered up to 10 6 times.

【0057】なお、上記の本発明の光磁気ディスクは、
表1のサンプルNo. 105の多層膜(角形比1.0)を
記録膜として有するものである。この光磁気ディスクの
C/Nは52 dB であった。これに対し、表1のサンプ
ルNo. 107の多層膜(角形比0.85)を記録膜とし
て有する光磁気ディスクを作製し、これについてもC/
Nを測定したところ、35 dB であった。
The magneto-optical disk of the present invention described above is
The sample No. 105 in Table 1 has a multilayer film (square ratio of 1.0) as a recording film. The C / N of this magneto-optical disk was 52 dB. On the other hand, a magneto-optical disk having a multilayer film (square ratio 0.85) of Sample No. 107 in Table 1 as a recording film was prepared.
When N was measured, it was 35 dB.

【0058】以上の実施例の結果から、本発明の効果が
明らかである。
From the results of the above examples, the effects of the present invention are clear.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁性多層膜の断面構造を示す模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magnetic multilayer film of the present invention.

【図2】光磁気記録媒体の断面構造を示す模式図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium.

【図3】磁気カー曲線の基板温度依存性を示すグラフで
ある。
FIG. 3 is a graph showing the substrate temperature dependence of a magnetic Kerr curve.

【図4】角形比の熱処理温度依存性を示すグラフであ
る。
FIG. 4 is a graph showing the heat treatment temperature dependence of the squareness ratio.

【図5】カー回転角の波長依存性を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing wavelength dependence of Kerr rotation angle.

【図6】本発明の磁性多層膜のX線回折チャートであ
る。
FIG. 6 is an X-ray diffraction chart of the magnetic multilayer film of the present invention.

【図7】本発明範囲を外れる多層膜のX線回折チャート
である。
FIG. 7 is an X-ray diffraction chart of a multilayer film outside the scope of the present invention.

【図8】繰り返し書き換え回数とCNRの変化(ΔCN
R)との関係を示すグラフである。
FIG. 8 shows the number of repeated rewritings and the change in CNR (ΔCN
It is a graph which shows the relationship with R).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 金属下地層 3 Pt層 4 CoPt合金層 5 金属保護層 12 第一誘電体膜 13 記録膜 14 第二誘電体膜 15 反射膜 16 保護コート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Metal underlayer 3 Pt layer 4 CoPt alloy layer 5 Metal protective layer 12 First dielectric film 13 Recording film 14 Second dielectric film 15 Reflective film 16 Protective coat

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Pt層を介してCoPt合金層が積層さ
れており、CoPt合金層のCo含有率が25〜75原
子%である磁性多層膜。
1. A magnetic multilayer film in which a CoPt alloy layer is laminated via a Pt layer, and the CoPt alloy layer has a Co content of 25 to 75 atomic%.
【請求項2】 CoPt合金層のCo含有率が35〜6
0原子%である請求項1の磁性多層膜。
2. The Co content of the CoPt alloy layer is 35 to 6
The magnetic multilayer film according to claim 1, wherein the content is 0 atomic%.
【請求項3】 CoPt合金層の厚さが0.5〜2nmで
あり、Pt層の厚さが0.5〜2nmである請求項1また
は2の磁性多層膜。
3. The magnetic multilayer film according to claim 1, wherein the CoPt alloy layer has a thickness of 0.5 to 2 nm, and the Pt layer has a thickness of 0.5 to 2 nm.
【請求項4】 最下層のCoPt合金層から最上層のC
oPt合金層までの厚さが5〜50nmである請求項1〜
3のいずれかの磁性多層膜。
4. The lowermost CoPt alloy layer to the uppermost C
The thickness up to the oPt alloy layer is 5 to 50 nm.
3. The magnetic multilayer film according to any one of 3 above.
【請求項5】 Pt、Pd、Au、Ag、W、Irおよ
びCrの少なくとも1種を含む金属下地層を有する請求
項1〜4のいずれかの磁性多層膜。
5. The magnetic multilayer film according to claim 1, further comprising a metal underlayer containing at least one of Pt, Pd, Au, Ag, W, Ir and Cr.
【請求項6】 金属下地層の厚さが2〜20nmである請
求項5の磁性多層膜。
6. The magnetic multilayer film according to claim 5, wherein the metal underlayer has a thickness of 2 to 20 nm.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれかの磁性多層膜を
製造する方法であって、蒸着法により、80〜150℃
の基板上に磁性多層膜を形成する工程を有する磁性多層
膜の製造方法。
7. A method for producing a magnetic multilayer film according to claim 1, which is 80 to 150 ° C. by a vapor deposition method.
A method for manufacturing a magnetic multilayer film, the method including the step of forming a magnetic multilayer film on a substrate.
【請求項8】 蒸着時の雰囲気圧力が1×10-7Torr以
下である請求項7の磁性多層膜の製造方法。
8. The method for producing a magnetic multilayer film according to claim 7, wherein the atmospheric pressure during vapor deposition is 1 × 10 −7 Torr or less.
【請求項9】 請求項1〜6のいずれかの磁性多層膜を
記録膜として有する光磁気記録媒体。
9. A magneto-optical recording medium having the magnetic multilayer film according to claim 1 as a recording film.
JP3896995A 1995-02-03 1995-02-03 Magnetic multilayered film, manufacture thereof and photomagnetic recording medium Pending JPH08213236A (en)

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