JP2943606B2 - Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents
Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereofInfo
- Publication number
- JP2943606B2 JP2943606B2 JP12331194A JP12331194A JP2943606B2 JP 2943606 B2 JP2943606 B2 JP 2943606B2 JP 12331194 A JP12331194 A JP 12331194A JP 12331194 A JP12331194 A JP 12331194A JP 2943606 B2 JP2943606 B2 JP 2943606B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric layer
- layer
- magneto
- recording medium
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスク等のよう
に光磁気効果によって情報を記録しかつその書換えを行
う光磁気記録媒体に関し、特に偏光性ノイズを抑制した
ノイズレベルの低い光磁気記録媒体とその製造方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium, such as a magneto-optical disk, for recording information by means of a magneto-optical effect and for rewriting the information. The present invention relates to a medium and a method for manufacturing the medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、光ディスクは大容量ファイルメモ
リの一つとして注目されている。中でも光磁気ディスク
は記録情報の書換えが可能であるという利点があること
から、コードデータファイルメモリを始め、画像ファイ
ルメモリ等、広範囲な応用が各所で盛んに研究されてい
る。したがって、このような用途の拡大に伴って、さら
なる記録密度の向上及び高速化が期待されている。2. Description of the Related Art In recent years, optical disks have been receiving attention as one of large-capacity file memories. Above all, magneto-optical disks have the advantage of being able to rewrite recorded information, and a wide range of applications, such as code data file memories and image file memories, are being actively studied in various places. Therefore, with the expansion of such applications, further improvement in recording density and speeding up are expected.
【0003】このような光磁気ディスクの一例を図3に
示す。同図において、ポリカーボネイト等の樹脂基板2
01上に、SiNからなる第1の誘電体層202が形成
され、この第1の誘電体層202の表面はスパッタエッ
チング処理203されている。また、その上に希土類金
属と鉄族遷移金属との組み合わせによって形成されるT
bFeCoのような非晶質磁性合金膜からなる記録層2
04が形成され、更にその上にSiNからなる第2の誘
電体層205が形成されている。また、その上にAl等
の反射層206が形成される。FIG. 3 shows an example of such a magneto-optical disk. In the figure, a resin substrate 2 made of polycarbonate or the like is used.
On the first dielectric layer 202, a first dielectric layer 202 made of SiN is formed, and the surface of the first dielectric layer 202 is subjected to a sputter etching process 203. In addition, T formed by a combination of a rare earth metal and an iron group transition metal thereon.
Recording layer 2 made of an amorphous magnetic alloy film such as bFeCo
04 is formed thereon, and a second dielectric layer 205 made of SiN is further formed thereon. Further, a reflective layer 206 of Al or the like is formed thereon.
【0004】この光磁気ディスクでは、周知のように、
外部磁界を加えた状態でレーザ光等による加熱を行うこ
とにより記録層205における磁化の方向として情報を
記録し、この磁化の方向に伴う偏光方向によって情報の
再生を行い、かつ逆方向の磁界を加えることで情報の消
去を可能とする。In this magneto-optical disk, as is well known,
By heating with a laser beam or the like in a state where an external magnetic field is applied, information is recorded as the direction of magnetization in the recording layer 205, information is reproduced by the polarization direction associated with this direction of magnetization, and the magnetic field in the opposite direction is generated. The addition enables erasure of information.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た光磁気ディスクでは、再生信号の低周波数領域、特に
5MHz以下の周波数領域での媒体ノイズレベルが大き
いという問題が生じている。このため、再生信号のジッ
タが大きく、信号再生時のウインドマージンが狭くな
り、記録密度の向上の妨げとなっている。また、光磁気
ディスクにおける記録情報が熱によって消失される等の
熱的安定性が劣化され易いという問題もある。However, the above-described magneto-optical disk has a problem that the medium noise level is large in a low frequency region of the reproduction signal, particularly in a frequency region of 5 MHz or less. For this reason, the jitter of the reproduced signal is large, and the window margin at the time of signal reproduction is narrowed, which hinders the improvement of the recording density. In addition, there is a problem that thermal stability is easily deteriorated such that information recorded on the magneto-optical disk is lost by heat.
【0006】[0006]
【発明の目的】本発明の目的は、偏光性ノイズを低減し
て媒体ノイズレベルを小さくした光磁気記録媒体を提供
することにある。また、本発明の他の目的は、熱的安定
性を高めた光磁気記録媒体を提供する。更に、本発明の
目的は、媒体ノイズレベルを小さくし、かつ熱的安定性
を高めた光磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium in which the polarization noise is reduced to reduce the medium noise level. Another object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium having improved thermal stability. It is a further object of the present invention to provide a method of manufacturing a magneto-optical recording medium having a reduced medium noise level and improved thermal stability.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気記録媒体
は、有機樹脂基板の上に、第1の誘電体層と、第2の誘
電体層と、非晶質磁性合金からなる記録層と、第3の誘
電体層と、反射層とを順次積層した構成とされ、前記第
2の誘電体層の表面と記録層の表面はそれぞれスパッタ
エッチング処理された構成とされる。例えば、有機樹脂
基板はポリカーボネイトで形成され、第1の誘電体層は
TaOx(x=1〜2.5)で形成され、第2の誘電体
層はSiNで形成され、記録層は希土類金属と鉄族遷移
金属との組み合わせによって形成され、第3の誘電体層
はSiNで形成され、反射層はAlTi合金で形成され
る。The magneto-optical recording medium of the present invention comprises a first dielectric layer, a second dielectric layer, and a recording layer made of an amorphous magnetic alloy on an organic resin substrate. , A third dielectric layer and a reflective layer are sequentially laminated, and the surface of the second dielectric layer and the surface of the recording layer are each subjected to sputter etching. For example, the organic resin substrate is made of polycarbonate, the first dielectric layer is made of TaOx (x = 1 to 2.5) , the second dielectric layer is made of SiN, and the recording layer is made of rare earth metal. The third dielectric layer is formed of SiN, and the reflective layer is formed of an AlTi alloy, in combination with an iron group transition metal.
【0008】また、本発明の光磁気記録媒体の製造方法
は、有機樹脂基板上にTaOx(x=1〜2.5)から
なる第1の誘電体層を形成する工程と、この第1の誘電
体層の上にSiNからなる第2の誘電体層を形成する工
程と、この第2の誘電体層の表面をスパッタエッチング
処理する工程と、前記第2の誘電体層の上に希土類金属
と鉄族遷移金属とを組み合わせた非晶質磁性合金からな
る記録層を形成する工程と、この記録層の表面をスパッ
タエッチング処理する工程と、前記記録層の上にSiN
からなる第3の誘電体層を形成する工程と、この第3の
誘電体層の上にAlTi合金からなる反射層を形成する
工程とを含んでいる。ここで、記録層表面のスパッタエ
ッチング処理量が20Åから50Åの範囲とする。In the method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention, a step of forming a first dielectric layer made of TaOx (x = 1 to 2.5) on an organic resin substrate; Forming a second dielectric layer made of SiN on the dielectric layer, sputter etching the surface of the second dielectric layer, and forming a rare earth metal on the second dielectric layer; Forming a recording layer composed of an amorphous magnetic alloy in which the recording layer is combined with an iron-group transition metal; sputter etching the surface of the recording layer;
Forming a third dielectric layer made of AlTi alloy, and forming a reflective layer made of an AlTi alloy on the third dielectric layer. Here, the sputter etching amount of the recording layer surface is in the range of 20 ° to 50 °.
【0009】[0009]
【作用】記録層の表面をスパッタエッチングすること
で、偏光性ノイズを低減し、記録媒体ノイズレベルを小
さくすることが可能となる。また、これと同時に熱的安
定性を高めることが可能となる。According to the present invention, by subjecting the surface of the recording layer to sputter etching, the polarization noise can be reduced and the noise level of the recording medium can be reduced. At the same time, the thermal stability can be improved.
【0010】[0010]
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明の光磁気記録媒体の断面図である。
厚さ1.2mm、直径130mmのポリカーボネイト基
板101の表面にTaOx(x=1〜2.5)からなる
厚さ300Åの第1の誘電体層102が形成されてお
り、その上にはSiNからなる厚さ800Åの第2の誘
電体層103が形成されている。この第2の誘電体層1
03の表面は7Å程度の厚さだけスパッタエッチングさ
れており、これによりその表面にスパッタエッチング処
理104が施される。更に、その上にTbFeCoTi
からなる厚さ250Åの記録層105が形成され、その
表面は20〜50Åの厚さだけスパッタエッチングされ
てスパッタエッチング処理106が施される。その上
に、SiNからなる厚さ320Åの第3の誘電体層10
7が形成され、更にその上にはAlTiからなる厚さ3
00Åの金属反射層108が形成される。なお、その上
には紫外線硬化樹脂からなる保護層109が形成されて
いる。Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a magneto-optical recording medium according to the present invention.
A 300 - mm thick first dielectric layer 102 made of TaOx (x = 1 to 2.5) is formed on the surface of a polycarbonate substrate 101 having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 130 mm. A second dielectric layer 103 having a thickness of 800 ° is formed. This second dielectric layer 1
The surface of No. 03 is sputter-etched by a thickness of about 7 °, so that the surface is subjected to sputter etching 104. In addition, TbFeCoTi
The recording layer 105 having a thickness of 250 ° is formed, and the surface thereof is sputter-etched by a thickness of 20 to 50 °, and a sputter etching process 106 is performed. A third dielectric layer 10 made of SiN and having a thickness of 320 ° is formed thereon.
7 is formed thereon, and a thickness 3 of AlTi is further formed thereon.
A metal reflective layer 108 of 00 ° is formed. Note that a protective layer 109 made of an ultraviolet curable resin is formed thereon.
【0011】前記各層はインラインスパッタ装置を用い
て形成される。即ち、第1誘電体層(TaOx層(x=
1〜2.5))102は、Taターゲットを用い、ター
ゲットと基板101の距離を15(cm)とし、パワー
密度を8(W/cm2)とし、ArとO2のガス流量比
をAr/O2=100/55(SCCM)とし、スパッ
タガス圧0.2(Pa)の条件で成膜する。Each of the above layers is formed using an in-line sputtering apparatus. That is, the first dielectric layer (TaOx layer (x =
1 to 2.5) ) 102 is a Ta target, the distance between the target and the substrate 101 is 15 (cm), the power density is 8 (W / cm2), and the gas flow ratio of Ar and O2 is Ar / O2. = 100/55 (SCCM) and a film is formed under the condition of a sputtering gas pressure of 0.2 (Pa).
【0012】第2の誘電体層(SiN層)103は、S
iターゲットを用い、ターゲットと基板101の距離を
15(cm)とし、パワー密度を8(W/cm2)と
し、ArとN2のガス流量比をAr/N2=100/5
5(SCCM)とし、スパッタガス圧0.3(Pa)の
条件で成膜する。また、この第2の誘電体層103の表
面は、パワー密度0.15(W/cm2)、Ar=25
(SCCM)、ガス圧0.1(Pa)の条件でスパッタ
エッチングし、7Å程度エッチングしてスパッタエッチ
ング処理104を行う。The second dielectric layer (SiN layer) 103 is made of S
Using an i target, the distance between the target and the substrate 101 was 15 (cm), the power density was 8 (W / cm 2), and the gas flow ratio of Ar and N 2 was Ar / N 2 = 100/5.
5 (SCCM) and a film is formed under the condition of a sputtering gas pressure of 0.3 (Pa). The surface of the second dielectric layer 103 has a power density of 0.15 (W / cm 2) and Ar = 25.
(SCCM), sputter etching under the conditions of a gas pressure of 0.1 (Pa), and etching by about 7 ° to perform sputter etching processing 104.
【0013】記録層(TbFeCoTi層)105は、
TbターゲットとFeCoTi合金ターゲット(Fe
Co Ti atm%)を用いた2元DCマグネトロン
スパッタ法により、基板101を回転させながら成膜す
る。このとき、ターゲットと基板との距離を10(c
m)とし、Tbターゲット及びFeCoTi合金ターゲ
ットのパワー密度をそれぞれ1.5(W/cm2),
3.0(W/cm2)とし、Ar=50(SCCM)、
ガス圧0.14(Pa)の条件で行う。そして、この記
録層105の表面は、前記第2の誘電体層103の表面
のスパッタエッチングと同じ条件でスパッタエッチング
してスパッタエッチング処理106とする。但し、エッ
チング量は20〜50Åの範囲とする。The recording layer (TbFeCoTi layer) 105 is
Tb target and FeCoTi alloy target (Fe
The film is formed by rotating the substrate 101 by a binary DC magnetron sputtering method using Co Ti atm%). At this time, the distance between the target and the substrate is 10 (c).
m), the power densities of the Tb target and the FeCoTi alloy target are 1.5 (W / cm 2),
3.0 (W / cm2), Ar = 50 (SCCM),
This is performed under the condition of a gas pressure of 0.14 (Pa). The surface of the recording layer 105 is sputter-etched under the same conditions as the sputter-etching of the surface of the second dielectric layer 103 to form a sputter etching process 106. However, the etching amount is in the range of 20 to 50 °.
【0014】第3の誘電体層(SiN層)107は、第
2の誘電体層103と同じ条件で成膜を行う。The third dielectric layer (SiN layer) 107 is formed under the same conditions as the second dielectric layer 103.
【0015】金属反射層(AlTi合金層)108は、
Tiを1Wt%含有するAlTi合金ターゲットを用
い、Arガスをスパッタガスとしてターゲットと基板1
01の距離を15(cm)とし、パワー密度を3.0
(W/cm2)とし、ガス圧0.1(Pa)の条件で成
膜する。保護層(紫外線硬化樹脂層)109は、紫外線
硬化樹脂をスピンコート法により塗布する。The metal reflection layer (AlTi alloy layer) 108
Using an AlTi alloy target containing 1 Wt% of Ti and using an Ar gas as a sputtering gas and the target and the substrate 1
01 is 15 (cm) and the power density is 3.0.
(W / cm 2) and a film is formed under the conditions of a gas pressure of 0.1 (Pa). The protective layer (ultraviolet curable resin layer) 109 is formed by applying an ultraviolet curable resin by spin coating.
【0016】ここで、本発明において記録層105の表
面を処理したことにより形成されるスパッタエッチング
処理106の効果を確認するために、スパッタエッチン
グ量を0から70Åの間で種々に変化させた試料を作成
する。ここでは、10Å単位で変化させた8種類の試料
を作成した。そして、これらの試料を単板状態でマグネ
ットハブ付けを行い偏光性のノイズの測定を行った。こ
の偏光性ノイズの測定は、試料を初期化した後、次に示
す測定条件によりMOヘッド検出器の差信号出力を測定
することで行っている。なお、この場合、それぞれのス
パッタエッチング量の相違により反射率が異なるため、
戻り光量が一定となるように再生時のパワーを調節して
いる。Here, in order to confirm the effect of the sputter etching process 106 formed by treating the surface of the recording layer 105 in the present invention, the samples in which the sputter etching amount was variously changed from 0 to 70 ° were used. Create In this case, eight types of samples changed in units of 10 ° were prepared. Then, these samples were attached to a magnet hub in a single plate state, and the polarization noise was measured. The polarization noise is measured by initializing the sample and then measuring the difference signal output of the MO head detector under the following measurement conditions. In this case, since the reflectance is different due to the difference in the respective sputter etching amounts,
The power at the time of reproduction is adjusted so that the amount of return light is constant.
【0017】偏光性ノイズの測定条件 (a)線速(m/sec):9.4 (b)周波数(MHz) :1.0〜10.0 (c)再生パワー(mW):1.0〜1.9 (d)VBW(Hz) :100 (e)RBW(kHz) :30Conditions for measuring polarization noise (a) Linear velocity (m / sec): 9.4 (b) Frequency (MHz): 1.0 to 10.0 (c) Reproduction power (mW): 1.0 1.9 (d) VBW (Hz): 100 (e) RBW (kHz): 30
【0018】また各試料に対して、記録信号の熱的安定
性(ΔC/N)の評価を行った。この評価は、各試料に
信号を記録した後、その部分に外部から情報消去方向に
500(Oe)の磁界を印加し、同時に2.5(mW)
のレーザ光を3分間照射し、照射前後の再生信号の差を
とって評価結果としている。The thermal stability (ΔC / N) of the recording signal was evaluated for each sample. In this evaluation, after a signal was recorded on each sample, a magnetic field of 500 (Oe) was externally applied to the portion in the information erasing direction, and simultaneously, 2.5 (mW)
Is irradiated for 3 minutes, and the difference between the reproduced signals before and after the irradiation is taken as the evaluation result.
【0019】1MHzにおける前記偏光性ノイズの測定
結果を図2の下側に示す。同じく熱的安定性の評価結果
を図2の上側に示す。偏光性ノイズは、スパッタエッチ
ング量が0Åから増加するのに伴って低下され、20Å
以上ではほぼ一定の値となる。一方、熱的安定性は、ス
パッタエッチング量が0Åから増加していっても変化さ
れないが、60Å以上になると急激に増加し、熱的安定
性が急激に劣化される。The measurement result of the polarization noise at 1 MHz is shown in the lower part of FIG. Similarly, the evaluation results of the thermal stability are shown in the upper part of FIG. The polarization noise is reduced as the sputter etching amount increases from 0 ° to 20 °.
Above values are almost constant. On the other hand, the thermal stability is not changed even when the sputter etching amount is increased from 0 °, but increases rapidly when the amount exceeds 60 °, and the thermal stability is rapidly deteriorated.
【0020】以上のことから、スパッタエッチング処理
106を行う際のスパッタエッチング量を20Å〜50
Åの範囲に調整することにより、偏光性ノイズを抑制す
る一方で熱的安定性に優れた光磁気ディスクを得ること
ができる。特に、偏光性ノイズを抑制することにより、
光磁気ディスクにおける再生信号のジッタを低減でき、
信号再生時のウインドマージンを拡大でき、光磁気ディ
スクにおける高密度化が可能となる。From the above, the sputter etching amount when performing the sputter etching process 106 is set to 20 ° to 50 °.
By adjusting to the range of Å, a magneto-optical disk having excellent thermal stability while suppressing polarization noise can be obtained. In particular, by suppressing polarization noise,
It can reduce the jitter of the reproduction signal on the magneto-optical disk,
The window margin at the time of signal reproduction can be expanded, and the density of the magneto-optical disk can be increased.
【0021】ここで、前記実施例は光磁気ディスクに本
発明を適用した例を示しているが、光磁気カード等、他
の形式の記録媒体においても本発明を同様に適用するこ
とができる。また、記録層の組成やその膜厚、或いは他
の層の組成や膜厚は前記実施例のものに限定されるもの
ではなく、所望の光磁気記録媒体を得るために適宜変更
することは可能である。Although the above embodiment shows an example in which the present invention is applied to a magneto-optical disk, the present invention can be similarly applied to other types of recording media such as a magneto-optical card. Further, the composition and thickness of the recording layer or the composition and thickness of the other layers are not limited to those of the above-described embodiment, and can be appropriately changed in order to obtain a desired magneto-optical recording medium. It is.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上説明したように本発明の光磁気記録
媒体は、有機樹脂基板の上に形成した記録層の表面をス
パッタエッチング処理した構成とすることにより、偏光
性ノイズを低減し、記録媒体ノイズレベルを小さくする
ことができるとともに、記録媒体における熱的安定性を
高めることができる効果もある。As described above, the magneto-optical recording medium of the present invention has a structure in which the surface of the recording layer formed on the organic resin substrate is sputter-etched to reduce the polarization noise and to perform recording. There is also an effect that the medium noise level can be reduced and the thermal stability of the recording medium can be increased.
【0023】また、本発明の光磁気記録媒体の製造方法
は、記録層を形成した後に、この記録層の表面を所要量
だけスパッタエッチングすることにより、偏光性ノイズ
を低減し、熱的安定性を高めた光磁気記録媒体を製造す
ることができる。In the method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention, after forming a recording layer, the surface of the recording layer is sputter-etched by a required amount, thereby reducing polarization noise and improving thermal stability. Can be manufactured.
【0024】更に、本発明方法では、記録層表面のスパ
ッタエッチング処理量を20Åから50Åの範囲とする
ことで、偏光性ノイズの低減と熱的安定性の双方を好適
に改善することが可能となる。Further, according to the method of the present invention, by controlling the sputter etching amount of the recording layer surface in the range of 20 ° to 50 °, it is possible to preferably improve both the polarization noise reduction and the thermal stability. Become.
【図1】本発明の光磁気記録媒体の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a magneto-optical recording medium of the present invention.
【図2】本発明の光磁気記録媒体のスパッタエッチング
量を相違させた試料について偏光性ノイズと熱的安定性
の測定を行った結果を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the results of measurement of polarization noise and thermal stability of samples of the magneto-optical recording medium of the present invention with different sputter etching amounts.
【図3】従来の光磁気記録媒体の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a conventional magneto-optical recording medium.
【符号の説明】 101 ポリカーボネイト基板 102 TaOx層(第1の誘電体層) 103 SiN層(第2の誘電体層) 104 スパッタエッチング処理 105 TbFeCoTi合金層(記録層) 106 スパッタエッチング処理 107 SiN層(第3の誘電体層) 108 AlTi層(金属反射層) 109 保護層DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Polycarbonate substrate 102 TaOx layer (first dielectric layer) 103 SiN layer (second dielectric layer) 104 Sputter etching processing 105 TbFeCoTi alloy layer (recording layer) 106 Sputter etching processing 107 SiN layer ( Third dielectric layer) 108 AlTi layer (metal reflective layer) 109 Protective layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 11/10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11B 11/10
Claims (4)
1の誘電体層と、この第1の誘電体層の上に形成される
第2の誘電体層と、この第2の誘電体層の上に形成され
る非晶質磁性合金からなる記録層と、この記録層の上に
形成される第3の誘電体層と、この第3の誘電体層の上
に形成される反射層とを備え、前記第2の誘電体層の表
面と前記記録層の表面とがスパッタエッチング処理され
た構成であることを特徴とする光磁気記録媒体。And 1. A organic resin substrate, a first dielectric layer formed thereon, and the first Ru is formed on the dielectric layer <br/> second dielectric layer, the Formed on the second dielectric layer
A recording layer made of an amorphous magnetic alloy, a third dielectric layer formed on the recording layer, and a reflective layer formed on the third dielectric layer . Table of 2 dielectric layers
The surface and the surface of the recording layer are sputter-etched.
Magneto-optical recording medium characterized configured der Rukoto was.
形成され、前記第1の誘電体層はTaOx(x=1〜
2.5)で形成され、前記第2の誘電体層はSiNで形
成され、前記記録層は希土類金属と鉄族遷移金属との組
み合わせによって形成され、前記第3の誘電体層はSi
Nで形成され、前記反射層はAlTi合金で形成される
請求項1に記載の光磁気記録媒体。Wherein said organic resin substrate is formed of polycarbonate, the first dielectric layer TaOx (x =. 1 to
2.5) is formed in said second dielectric layer is formed of SiN, the recording layer is formed by a combination of rare earth metals and iron group transition metals, said third dielectric layer is Si
Is formed by N, the reflective layer is formed of AlTi alloy
The magneto-optical recording medium according to claim 1 .
2.5)からなる第1の誘電体層を形成する工程と、こ
の第1の誘電体層の上にSiNからなる第2の誘電体層
を形成する工程と、この第2の誘電体層の表面をスパッ
タエッチング処理する工程と、前記第2の誘電体層の上
に希土類金属と鉄族遷移金属とを組み合わせた非晶質磁
性合金からなる記録層を形成する工程と、この記録層の
表面をスパッタエッチング処理する工程と、前記記録層
の上にSiNからなる第3の誘電体層を形成する工程
と、この第3の誘電体層の上にAlTi合金からなる反
射層を形成する工程とを含むことを特徴とする光磁気記
録媒体の製造方法。3. An organic resin substrate comprising a TaOx (x = 1 to 1)
2.5) forming a first dielectric layer made of SiN, forming a second dielectric layer made of SiN on the first dielectric layer, and forming the second dielectric layer Forming a recording layer made of an amorphous magnetic alloy in which a rare earth metal and an iron group transition metal are combined on the second dielectric layer; and forming a recording layer on the second dielectric layer. A step of sputter etching the surface, a step of forming a third dielectric layer made of SiN on the recording layer, and a step of forming a reflective layer made of an AlTi alloy on the third dielectric layer And a method for manufacturing a magneto-optical recording medium.
理量が20Åから50Åである請求項3に記載の光磁気
記録媒体の製造方法。 4. The method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 3 , wherein the sputter etching amount of the recording layer surface is 20 ° to 50 °.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12331194A JP2943606B2 (en) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12331194A JP2943606B2 (en) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07311987A JPH07311987A (en) | 1995-11-28 |
JP2943606B2 true JP2943606B2 (en) | 1999-08-30 |
Family
ID=14857412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12331194A Expired - Lifetime JP2943606B2 (en) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2943606B2 (en) |
-
1994
- 1994-05-13 JP JP12331194A patent/JP2943606B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07311987A (en) | 1995-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3429877B2 (en) | Magneto-optical recording medium, its reproducing method and recording method | |
JP3178025B2 (en) | Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same | |
JP3363409B2 (en) | Optical memory device and method of manufacturing the same | |
JP2943606B2 (en) | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof | |
JP2943607B2 (en) | Method for manufacturing magneto-optical recording medium | |
JP3093440B2 (en) | Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same | |
US5710746A (en) | Magneto-optical recording medium and reading method with magnetic layers of different coercivity | |
JP2663881B2 (en) | Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same | |
JP3109927B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP2703003B2 (en) | Optical disc and method of manufacturing the same | |
JP3109926B2 (en) | Method for manufacturing magneto-optical recording medium | |
JP2897862B2 (en) | Magneto-optical recording method and method for producing magneto-optical recording information carrying medium | |
JP2775853B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP2528088B2 (en) | Magneto-optical recording medium manufacturing method and magneto-optical recording medium | |
JP2830385B2 (en) | Method for manufacturing magneto-optical recording medium | |
JP3237977B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPH05242525A (en) | Optical recording medium | |
EP0595547A2 (en) | Magneto-optical recording medium, and data recording and reproducing method using it | |
JPH06124488A (en) | Manufacture of magneto-optical recording medium | |
JPH0594647A (en) | Production of magneto-optical recording medium | |
JPH0684216A (en) | Production of magneto-optical recording medium | |
JPH0644624A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPH07141707A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPH10162441A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JPH0944919A (en) | Magneto-optical disk |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100625 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100625 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110625 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120625 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120625 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 14 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |