JPH07311987A - Magneto-optical recording medium and its manufacture - Google Patents

Magneto-optical recording medium and its manufacture

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JPH07311987A
JPH07311987A JP12331194A JP12331194A JPH07311987A JP H07311987 A JPH07311987 A JP H07311987A JP 12331194 A JP12331194 A JP 12331194A JP 12331194 A JP12331194 A JP 12331194A JP H07311987 A JPH07311987 A JP H07311987A
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dielectric layer
magneto
recording medium
sputter etching
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Hidetsugu Kariyada
英嗣 苅屋田
Tadashi Adachi
忠史 安達
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Abstract

PURPOSE:To obtain a magneto-optical recording medium where the polarization noise of a magneto-optical disk is reduced and thermal stability is improved. CONSTITUTION:A first dielectric layer 102 consisting of TaOx is formed on an organic resin substrate 101, a second dielectric layer 103 consisting of SiN is formed on it, and the surface is subjected to sputter etching treatment 104. Also, a recording layer 105 consisting of amorphous magnetic alloy where rare earth metal and iron transition metal are combined is formed on it and the surface is subjected to sputter etching treatment 106. A third dielectric layer 107 consisting of SiN is formed on it and further a reflection layer 108 and a protection layer 109 consisting of AlTi alloy are formed on it. By performing sputter etching of the surface of the recording layer 105, polarization noise can be reduced and recording medium noise can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスク等のよう
に光磁気効果によって情報を記録しかつその書換えを行
う光磁気記録媒体に関し、特に偏光性ノイズを抑制した
ノイズレベルの低い光磁気記録媒体とその製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium such as a magneto-optical disk for recording and rewriting information by a magneto-optical effect, and more particularly to a magneto-optical recording which suppresses polarization noise and has a low noise level. The present invention relates to a medium and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光ディスクは大容量ファイルメモ
リの一つとして注目されている。中でも光磁気ディスク
は記録情報の書換えが可能であるという利点があること
から、コードデータファイルメモリを始め、画像ファイ
ルメモリ等、広範囲な応用が各所で盛んに研究されてい
る。したがって、このような用途の拡大に伴って、さら
なる記録密度の向上及び高速化が期待されている。
2. Description of the Related Art In recent years, an optical disk has received attention as one of large-capacity file memories. Among them, a magneto-optical disk has an advantage that it is possible to rewrite recorded information, and therefore a wide range of applications such as a code data file memory and an image file memory are being actively studied in various places. Therefore, with the expansion of such applications, further improvement in recording density and speeding up are expected.

【0003】このような光磁気ディスクの一例を図3に
示す。同図において、ポリカーボネイト等の樹脂基板2
01上に、SiNからなる第1の誘電体層202が形成
され、この第1の誘電体層202の表面はスパッタエッ
チング処理203されている。また、その上に希土類金
属と鉄族遷移金属との組み合わせによって形成されるT
bFeCoのような非晶質磁性合金膜からなる記録層2
04が形成され、更にその上にSiNからなる第2の誘
電体層205が形成されている。また、その上にAl等
の反射層206が形成される。
An example of such a magneto-optical disk is shown in FIG. In the figure, a resin substrate 2 such as polycarbonate
01, a first dielectric layer 202 made of SiN is formed, and the surface of the first dielectric layer 202 is sputter-etched 203. In addition, T formed by a combination of a rare earth metal and an iron group transition metal thereon.
Recording layer 2 made of an amorphous magnetic alloy film such as bFeCo
04, and a second dielectric layer 205 made of SiN is further formed thereon. In addition, a reflective layer 206 of Al or the like is formed thereon.

【0004】この光磁気ディスクでは、周知のように、
外部磁界を加えた状態でレーザ光等による加熱を行うこ
とにより記録層205における磁化の方向として情報を
記録し、この磁化の方向に伴う偏光方向によって情報の
再生を行い、かつ逆方向の磁界を加えることで情報の消
去を可能とする。
In this magneto-optical disk, as is well known,
Information is recorded as the direction of magnetization in the recording layer 205 by heating with a laser beam or the like in the state where an external magnetic field is applied, information is reproduced by the polarization direction accompanying this direction of magnetization, and a magnetic field in the opposite direction is generated. Information can be erased by adding it.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た光磁気ディスクでは、再生信号の低周波数領域、特に
5MHz以下の周波数領域での媒体ノイズレベルが大き
いという問題が生じている。このため、再生信号のジッ
タが大きく、信号再生時のウインドマージンが狭くな
り、記録密度の向上の妨げとなっている。また、光磁気
ディスクにおける記録情報が熱によって消失される等の
熱的安定性が劣化され易いという問題もある。
However, the above-mentioned magneto-optical disk has a problem that the medium noise level is large in the low frequency region of the reproduced signal, particularly in the frequency region of 5 MHz or less. Therefore, the jitter of the reproduced signal is large and the window margin at the time of reproducing the signal is narrowed, which hinders the improvement of the recording density. There is also a problem that the thermal stability of the recorded information on the magneto-optical disk is easily lost due to heat and the like.

【0006】[0006]

【発明の目的】本発明の目的は、偏光性ノイズを低減し
て媒体ノイズレベルを小さくした光磁気記録媒体を提供
することにある。また、本発明の他の目的は、熱的安定
性を高めた光磁気記録媒体を提供する。更に、本発明の
目的は、媒体ノイズレベルを小さくし、かつ熱的安定性
を高めた光磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a magneto-optical recording medium in which the polarization noise is reduced to reduce the medium noise level. Another object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium having improved thermal stability. A further object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magneto-optical recording medium having a low medium noise level and high thermal stability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の光磁気記録媒体
は、有機樹脂基板の上に、第1の誘電体層と、第2の誘
電体層と、非晶質磁性合金からなる記録層と、第3の誘
電体層と、反射層とを順次積層した構成とされ、前記第
2の誘電体層の表面と記録層の表面はそれぞれスパッタ
エッチング処理された構成とされる。例えば、有機樹脂
基板はポリカーボネイトで形成され、第1の誘電体層は
TaOxで形成され、第2の誘電体層はSiNで形成さ
れ、記録層は希土類金属と鉄族遷移金属との組み合わせ
によって形成され、第3の誘電体層はSiNで形成さ
れ、反射層はAlTi合金で形成される。
A magneto-optical recording medium of the present invention is a recording layer comprising a first dielectric layer, a second dielectric layer, and an amorphous magnetic alloy on an organic resin substrate. The third dielectric layer and the reflective layer are sequentially laminated, and the surface of the second dielectric layer and the surface of the recording layer are sputter-etched. For example, the organic resin substrate is made of polycarbonate, the first dielectric layer is made of TaOx, the second dielectric layer is made of SiN, and the recording layer is made of a combination of a rare earth metal and an iron group transition metal. The third dielectric layer is made of SiN and the reflective layer is made of AlTi alloy.

【0008】また、本発明の光磁気記録媒体の製造方法
は、有機樹脂基板上にTaOxからなる第1の誘電体層
を形成する工程と、この第1の誘電体層の上にSiNか
らなる第2の誘電体層を形成する工程と、この第2の誘
電体層の表面をスパッタエッチング処理する工程と、前
記第2の誘電体層の上に希土類金属と鉄族遷移金属とを
組み合わせた非晶質磁性合金からなる記録層を形成する
工程と、この記録層の表面をスパッタエッチング処理す
る工程と、前記記録層の上にSiNからなる第3の誘電
体層を形成する工程と、この第3の誘電体層の上にAl
Ti合金からなる反射層を形成する工程とを含んでい
る。ここで、記録層表面のスパッタエッチング処理量が
20Åから50Åの範囲とする。
The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention comprises a step of forming a first dielectric layer made of TaOx on an organic resin substrate, and SiN made on the first dielectric layer. A step of forming a second dielectric layer, a step of subjecting the surface of the second dielectric layer to a sputter etching treatment, and a combination of a rare earth metal and an iron group transition metal on the second dielectric layer are combined. A step of forming a recording layer made of an amorphous magnetic alloy, a step of subjecting the surface of the recording layer to a sputter etching treatment, a step of forming a third dielectric layer made of SiN on the recording layer, Al on top of the third dielectric layer
And a step of forming a reflection layer made of a Ti alloy. Here, the amount of sputter etching on the surface of the recording layer is in the range of 20Å to 50Å.

【0009】[0009]

【作用】記録層の表面をスパッタエッチングすること
で、偏光性ノイズを低減し、記録媒体ノイズレベルを小
さくすることが可能となる。また、これと同時に熱的安
定性を高めることが可能となる。
By performing the sputter etching on the surface of the recording layer, it is possible to reduce the polarization noise and reduce the recording medium noise level. At the same time, it becomes possible to improve thermal stability.

【0010】[0010]

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明の光磁気記録媒体の断面図である。
厚さ1.2mm、直径130mmのポリカーボネイト基
板101の表面にTaOxからなる厚さ300Åの第1
の誘電体層102が形成されており、その上にはSiN
からなる厚さ800Åの第2の誘電体層103が形成さ
れている。この第2の誘電体層103の表面は7Å程度
の厚さだけスパッタエッチングされており、これにより
その表面にスパッタエッチング処理104が施される。
更に、その上にTbFeCoTiからなる厚さ250Å
の記録層105が形成され、その表面は20〜50Åの
厚さだけスパッタエッチングされてスパッタエッチング
処理106が施される。その上に、SiNからなる厚さ
320Åの第3の誘電体層107が形成され、更にその
上にはAlTiからなる厚さ300Åの金属反射層10
8が形成される。なお、その上には紫外線硬化樹脂から
なる保護層109が形成されている。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of the magneto-optical recording medium of the present invention.
On the surface of a polycarbonate substrate 101 having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 130 mm, a first layer of TaOx having a thickness of 300 Å is formed.
Is formed on the dielectric layer 102, and SiN is formed on the dielectric layer 102.
And a second dielectric layer 103 having a thickness of 800 Å is formed. The surface of the second dielectric layer 103 is sputter-etched by a thickness of about 7Å, and the sputter etching treatment 104 is performed on the surface.
Furthermore, the thickness of TbFeCoTi is 250 Å
The recording layer 105 is formed, and the surface thereof is sputter-etched by a thickness of 20 to 50Å to perform the sputter etching treatment 106. A third dielectric layer 107 of SiN having a thickness of 320 Å is formed thereon, and a metal reflective layer 10 of AlTi having a thickness of 300 Å is further formed thereon.
8 is formed. A protective layer 109 made of an ultraviolet curable resin is formed thereon.

【0011】前記各層はインラインスパッタ装置を用い
て形成される。即ち、第1誘電体層(TaOx層)10
2は、Taターゲットを用い、ターゲットと基板101
の距離を15(cm)とし、パワー密度を8(W/cm
2)とし、ArとO2のガス流量比をAr/O2=10
0/55(SCCM)とし、スパッタガス圧0.2(P
a)の条件で成膜する。
Each of the layers is formed by using an in-line sputtering device. That is, the first dielectric layer (TaOx layer) 10
2 uses a Ta target, and the target and the substrate 101
At a distance of 15 (cm) and a power density of 8 (W / cm
2) and the gas flow ratio of Ar and O2 is Ar / O2 = 10.
0/55 (SCCM), sputter gas pressure 0.2 (P
A film is formed under the condition of a).

【0012】第2の誘電体層(SiN層)103は、S
iターゲットを用い、ターゲットと基板101の距離を
15(cm)とし、パワー密度を8(W/cm2)と
し、ArとN2のガス流量比をAr/N2=100/5
5(SCCM)とし、スパッタガス圧0.3(Pa)の
条件で成膜する。また、この第2の誘電体層103の表
面は、パワー密度0.15(W/cm2)、Ar=25
(SCCM)、ガス圧0.1(Pa)の条件でスパッタ
エッチングし、7Å程度エッチングしてスパッタエッチ
ング処理104を行う。
The second dielectric layer (SiN layer) 103 is S
i target was used, the distance between the target and the substrate 101 was 15 (cm), the power density was 8 (W / cm 2), and the gas flow ratio of Ar and N 2 was Ar / N 2 = 100/5.
The film is formed under the conditions of 5 (SCCM) and a sputtering gas pressure of 0.3 (Pa). The surface of the second dielectric layer 103 has a power density of 0.15 (W / cm 2) and Ar = 25.
(SCCM) and the gas pressure is 0.1 (Pa), the sputter etching is performed to about 7Å, and the sputter etching process 104 is performed.

【0013】記録層(TbFeCoTi層)105は、
TbターゲットとFeCoTi合金ターゲット(Fe
Co Ti atm%)を用いた2元DCマグネトロン
スパッタ法により、基板101を回転させながら成膜す
る。このとき、ターゲットと基板との距離を10(c
m)とし、Tbターゲット及びFeCoTi合金ターゲ
ットのパワー密度をそれぞれ1.5(W/cm2),
3.0(W/cm2)とし、Ar=50(SCCM)、
ガス圧0.14(Pa)の条件で行う。そして、この記
録層105の表面は、前記第2の誘電体層103の表面
のスパッタエッチングと同じ条件でスパッタエッチング
してスパッタエッチング処理106とする。但し、エッ
チング量は20〜50Åの範囲とする。
The recording layer (TbFeCoTi layer) 105 is
Tb target and FeCoTi alloy target (Fe
A film is formed by rotating the substrate 101 by a binary DC magnetron sputtering method using Co Ti atm%). At this time, the distance between the target and the substrate is 10 (c
m) and the power densities of the Tb target and the FeCoTi alloy target are 1.5 (W / cm2),
3.0 (W / cm2), Ar = 50 (SCCM),
The gas pressure is 0.14 (Pa). Then, the surface of the recording layer 105 is sputter-etched under the same conditions as the sputter etching of the surface of the second dielectric layer 103 to form a sputter etching treatment 106. However, the etching amount is in the range of 20 to 50Å.

【0014】第3の誘電体層(SiN層)107は、第
2の誘電体層103と同じ条件で成膜を行う。
The third dielectric layer (SiN layer) 107 is formed under the same conditions as the second dielectric layer 103.

【0015】金属反射層(AlTi合金層)108は、
Tiを1Wt%含有するAlTi合金ターゲットを用
い、Arガスをスパッタガスとしてターゲットと基板1
01の距離を15(cm)とし、パワー密度を3.0
(W/cm2)とし、ガス圧0.1(Pa)の条件で成
膜する。保護層(紫外線硬化樹脂層)109は、紫外線
硬化樹脂をスピンコート法により塗布する。
The metal reflection layer (AlTi alloy layer) 108 is
Using an AlTi alloy target containing 1 Wt% of Ti and using Ar gas as a sputtering gas, the target and the substrate 1
The distance of 01 is 15 (cm) and the power density is 3.0
(W / cm 2) and the gas pressure is 0.1 (Pa). The protective layer (ultraviolet curable resin layer) 109 is formed by applying an ultraviolet curable resin by spin coating.

【0016】ここで、本発明において記録層105の表
面を処理したことにより形成されるスパッタエッチング
処理106の効果を確認するために、スパッタエッチン
グ量を0から70Åの間で種々に変化させた試料を作成
する。ここでは、10Å単位で変化させた8種類の試料
を作成した。そして、これらの試料を単板状態でマグネ
ットハブ付けを行い偏光性のノイズの測定を行った。こ
の偏光性ノイズの測定は、試料を初期化した後、次に示
す測定条件によりMOヘッド検出器の差信号出力を測定
することで行っている。なお、この場合、それぞれのス
パッタエッチング量の相違により反射率が異なるため、
戻り光量が一定となるように再生時のパワーを調節して
いる。
Here, in order to confirm the effect of the sputter etching treatment 106 formed by treating the surface of the recording layer 105 in the present invention, the samples in which the sputter etching amount was variously changed from 0 to 70 Å To create. Here, eight types of samples were prepared by changing them in units of 10Å. Then, these samples were attached to a magnet hub in a single plate state, and polarization noise was measured. This polarization noise is measured by initializing the sample and then measuring the difference signal output of the MO head detector under the following measurement conditions. In this case, since the reflectance differs due to the difference in the respective sputter etching amounts,
The power during playback is adjusted so that the amount of returned light is constant.

【0017】偏光性ノイズの測定条件 (a)線速(m/sec):9.4 (b)周波数(MHz) :1.0〜10.0 (c)再生パワー(mW):1.0〜1.9 (d)VBW(Hz) :100 (e)RBW(kHz) :30Polarization noise measurement conditions (a) linear velocity (m / sec): 9.4 (b) frequency (MHz): 1.0 to 10.0 (c) reproducing power (mW): 1.0 ~ 1.9 (d) VBW (Hz): 100 (e) RBW (kHz): 30

【0018】また各試料に対して、記録信号の熱的安定
性(ΔC/N)の評価を行った。この評価は、各試料に
信号を記録した後、その部分に外部から情報消去方向に
500(Oe)の磁界を印加し、同時に2.5(mW)
のレーザ光を3分間照射し、照射前後の再生信号の差を
とって評価結果としている。
Further, the thermal stability (ΔC / N) of the recording signal was evaluated for each sample. In this evaluation, after recording a signal on each sample, a magnetic field of 500 (Oe) was applied to the portion from the outside in the information erasing direction, and at the same time, 2.5 (mW) was applied.
This laser beam is irradiated for 3 minutes, and the difference between the reproduction signals before and after irradiation is taken as the evaluation result.

【0019】1MHzにおける前記偏光性ノイズの測定
結果を図2の下側に示す。同じく熱的安定性の評価結果
を図2の上側に示す。偏光性ノイズは、スパッタエッチ
ング量が0Åから増加するのに伴って低下され、20Å
以上ではほぼ一定の値となる。一方、熱的安定性は、ス
パッタエッチング量が0Åから増加していっても変化さ
れないが、60Å以上になると急激に増加し、熱的安定
性が急激に劣化される。
The measurement result of the polarization noise at 1 MHz is shown on the lower side of FIG. Similarly, the evaluation result of the thermal stability is shown on the upper side of FIG. Polarization noise is reduced by 20 Å as the sputter etching amount increases from 0 Å.
The above values are almost constant. On the other hand, the thermal stability does not change even if the sputter etching amount increases from 0 Å, but when it exceeds 60 Å, the thermal stability rapidly increases and the thermal stability rapidly deteriorates.

【0020】以上のことから、スパッタエッチング処理
106を行う際のスパッタエッチング量を20Å〜50
Åの範囲に調整することにより、偏光性ノイズを抑制す
る一方で熱的安定性に優れた光磁気ディスクを得ること
ができる。特に、偏光性ノイズを抑制することにより、
光磁気ディスクにおける再生信号のジッタを低減でき、
信号再生時のウインドマージンを拡大でき、光磁気ディ
スクにおける高密度化が可能となる。
From the above, the sputter etching amount when performing the sputter etching process 106 is 20Å to 50.
By adjusting to the range of Å, it is possible to obtain a magneto-optical disk excellent in thermal stability while suppressing polarization noise. In particular, by suppressing polarization noise,
It is possible to reduce the reproduction signal jitter on the magneto-optical disk,
The window margin at the time of signal reproduction can be expanded, and the density of the magneto-optical disk can be increased.

【0021】ここで、前記実施例は光磁気ディスクに本
発明を適用した例を示しているが、光磁気カード等、他
の形式の記録媒体においても本発明を同様に適用するこ
とができる。また、記録層の組成やその膜厚、或いは他
の層の組成や膜厚は前記実施例のものに限定されるもの
ではなく、所望の光磁気記録媒体を得るために適宜変更
することは可能である。
Although the above embodiment shows an example in which the present invention is applied to a magneto-optical disk, the present invention can be similarly applied to other types of recording media such as a magneto-optical card. Further, the composition and film thickness of the recording layer, or the composition and film thickness of the other layers are not limited to those in the above embodiment, and can be appropriately changed to obtain a desired magneto-optical recording medium. Is.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明の光磁気記録
媒体は、有機樹脂基板の上に形成した記録層の表面をス
パッタエッチング処理した構成とすることにより、偏光
性ノイズを低減し、記録媒体ノイズレベルを小さくする
ことができるとともに、記録媒体における熱的安定性を
高めることができる効果もある。
As described above, the magneto-optical recording medium of the present invention has a structure in which the surface of the recording layer formed on the organic resin substrate is subjected to the sputter etching treatment, thereby reducing the polarization noise and recording. The medium noise level can be reduced and the thermal stability of the recording medium can be enhanced.

【0023】また、本発明の光磁気記録媒体の製造方法
は、記録層を形成した後に、この記録層の表面を所要量
だけスパッタエッチングすることにより、偏光性ノイズ
を低減し、熱的安定性を高めた光磁気記録媒体を製造す
ることができる。
Further, in the method of manufacturing the magneto-optical recording medium of the present invention, after the recording layer is formed, the surface of the recording layer is sputter-etched by a required amount to reduce the polarization noise and to improve the thermal stability. It is possible to manufacture a magneto-optical recording medium having a high temperature.

【0024】更に、本発明方法では、記録層表面のスパ
ッタエッチング処理量を20Åから50Åの範囲とする
ことで、偏光性ノイズの低減と熱的安定性の双方を好適
に改善することが可能となる。
Furthermore, in the method of the present invention, by setting the sputter etching treatment amount on the surface of the recording layer in the range of 20Å to 50Å, it is possible to suitably improve both the reduction of the polarization noise and the thermal stability. Become.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光磁気記録媒体の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a magneto-optical recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光磁気記録媒体のスパッタエッチング
量を相違させた試料について偏光性ノイズと熱的安定性
の測定を行った結果を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the results of measurement of polarization noise and thermal stability of samples of the magneto-optical recording medium of the present invention with different amounts of sputter etching.

【図3】従来の光磁気記録媒体の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a conventional magneto-optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 ポリカーボネイト基板 102 TaOx層(第1の誘電体層) 103 SiN層(第2の誘電体層) 104 スパッタエッチング処理 105 TbFeCoTi合金層(記録層) 106 スパッタエッチング処理 107 SiN層(第3の誘電体層) 108 AlTi層(金属反射層) 109 保護層 101 Polycarbonate Substrate 102 TaOx Layer (First Dielectric Layer) 103 SiN Layer (Second Dielectric Layer) 104 Sputter Etching Treatment 105 TbFeCoTi Alloy Layer (Recording Layer) 106 Sputter Etching Treatment 107 SiN Layer (Third Dielectric Material) Layer) 108 AlTi layer (metal reflective layer) 109 protective layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機樹脂基板と、この上に形成される第
1の誘電体層と、この第1の誘電体層の上に形成されて
その表面がスパッタエッチング処理されてなる第2の誘
電体層と、この第2の誘電体層の上に形成されてその表
面がスパッタエッチング処理されてなる非晶質磁性合金
からなる記録層と、この記録層の上に形成される第3の
誘電体層と、この第3の誘電体層の上に形成される反射
層とを備えることを特徴とする光磁気記録媒体。
1. An organic resin substrate, a first dielectric layer formed on the organic resin substrate, and a second dielectric formed on the first dielectric layer and having its surface sputter-etched. A body layer, a recording layer made of an amorphous magnetic alloy formed on the second dielectric layer and having its surface sputter-etched, and a third dielectric layer formed on the recording layer. A magneto-optical recording medium comprising a body layer and a reflective layer formed on the third dielectric layer.
【請求項2】 有機樹脂基板はポリカーボネイトで形成
され、第1の誘電体層はTaOxで形成され、第2の誘
電体層はSiNで形成され、記録層は希土類金属と鉄族
遷移金属との組み合わせによって形成され、第3の誘電
体層はSiNで形成され、反射層はAlTi合金で形成
される請求項2の光磁気記録媒体。
2. The organic resin substrate is made of polycarbonate, the first dielectric layer is made of TaOx, the second dielectric layer is made of SiN, and the recording layer is made of a rare earth metal and an iron group transition metal. The magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein the magneto-optical recording medium is formed by a combination, the third dielectric layer is formed of SiN, and the reflective layer is formed of an AlTi alloy.
【請求項3】 有機樹脂基板上にTaOxからなる第1
の誘電体層を形成する工程と、この第1の誘電体層の上
にSiNからなる第2の誘電体層を形成する工程と、こ
の第2の誘電体層の表面をスパッタエッチング処理する
工程と、前記第2の誘電体層の上に希土類金属と鉄族遷
移金属とを組み合わせた非晶質磁性合金からなる記録層
を形成する工程と、この記録層の表面をスパッタエッチ
ング処理する工程と、前記記録層の上にSiNからなる
第3の誘電体層を形成する工程と、この第3の誘電体層
の上にAlTi合金からなる反射層を形成する工程とを
含むことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
3. A first layer made of TaOx on an organic resin substrate.
Forming the second dielectric layer, forming a second dielectric layer made of SiN on the first dielectric layer, and subjecting the surface of the second dielectric layer to sputter etching. And a step of forming a recording layer made of an amorphous magnetic alloy in which a rare earth metal and an iron group transition metal are combined on the second dielectric layer, and a step of subjecting the surface of the recording layer to sputter etching. And a step of forming a third dielectric layer made of SiN on the recording layer, and a step of forming a reflective layer made of AlTi alloy on the third dielectric layer. Manufacturing method of magneto-optical recording medium.
【請求項4】 記録層表面のスパッタエッチング処理量
が20Åから50Åである請求項3の光磁気記録媒体の
製造方法。
4. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein the amount of sputter etching on the surface of the recording layer is 20Å to 50Å.
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