JPH01162257A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JPH01162257A
JPH01162257A JP32077087A JP32077087A JPH01162257A JP H01162257 A JPH01162257 A JP H01162257A JP 32077087 A JP32077087 A JP 32077087A JP 32077087 A JP32077087 A JP 32077087A JP H01162257 A JPH01162257 A JP H01162257A
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JP
Japan
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metal thin
magneto
thin film
layers
layer
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Pending
Application number
JP32077087A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshitaka Ochiai
落合 祥隆
Shunichi Hashimoto
俊一 橋本
Koichi Aso
阿蘇 興一
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To lower Curie point and to improve information transfer speed by adding a 3rd element to the Co layers of a magneto-optical recording medium the recording layers consisting of thin superlattic metallic films or thin modulation structure metallic films alternately laminated with the Co layers and Pt layers. CONSTITUTION:This magneto-optical recording medium is formed, as the recording layers, with the thin superlattice metallic films or thin modulation structure metallic films alternately laminated with Co100-xMx (where M denotes at least one kind among B, C, Al, Si, P, Ti, V, Fe, Ni, Cu, Ga, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Gd, Tb, Dy, and Ta) 0.5-2.5atom. layers and Pt 1-7atom. layers and the total thickness of the recording layers is 50-500Angstrom . The lower limit of the substitution ratio (x) of the respective elements is 0.1atom.%, whereas the lowering of the Curie point is not effectual when said ratio is lower than the above-mentioned ratios. While the substitution ratio (x) of the above-mentioned respective elements varies to 7-40atom.% according to the elements to be added, there is the possibility that the magneto-optical characteristics are deteriorated on the contrary when the ratio is higher than the above-mentioned values.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気光学効果を利用してレーザー光等により
情報の記録・再生を行う光磁気記録媒体に関し、特に熱
安定性に優れる光磁気記録媒体に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magneto-optical recording medium that uses magneto-optic effects to record and reproduce information using laser beams, etc. Regarding recording media.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、Co層とPt層とを積層した超格子金属薄膜
あるいは変調構造金属薄膜を記録層とする光磁気記録媒
体において、上記00層に第3の元素を添加することに
より、得られる記録層のキュリー点を低下させ、情報転
送速度を向上させることを可能とするものである。
The present invention provides a recording layer obtained by adding a third element to the 00 layer in a magneto-optical recording medium whose recording layer is a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film in which a Co layer and a Pt layer are laminated. This makes it possible to lower the Curie point of the layer and improve the information transfer speed.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、書換え可能な高密度記録方式として、半導体レー
ザー光等により記録・再生を行う光磁気記録方式が注目
されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a magneto-optical recording method in which recording and reproduction is performed using semiconductor laser light or the like has been attracting attention as a rewritable high-density recording method.

この光磁気記録方式に使用される記録材料としては、G
d、Tb、 Dy等の希土類元素とFe。
The recording material used in this magneto-optical recording method is G
Rare earth elements such as d, Tb, and Dy, and Fe.

CO等の遷移金属元素とを組み合わせた非晶質合金が従
来の代表例である。しかし、これらの非晶質合金薄膜を
構成している希土類元素やFeは非常に酸化され昌く、
空気中の酸素とも容易に結合して酸化物を形成する性質
がある。このような酸化が進行して腐食や孔食に至ると
信号の脱落を誘起し、また特に希土類元素が酸化される
と、保磁力と残留磁気カー回転角の減少に伴ってC/N
比が劣化する。このような問題は、光記録媒体の記録層
の材料に希土類元素が使用されている限り避けられない
ものである。
A typical conventional example is an amorphous alloy in combination with a transition metal element such as CO. However, the rare earth elements and Fe that make up these amorphous alloy thin films are highly oxidized.
It has the property of easily combining with oxygen in the air to form oxides. As such oxidation progresses and leads to corrosion and pitting, it induces signal dropout, and especially when rare earth elements are oxidized, C/N decreases as coercive force and residual magnetic Kerr rotation angle decrease.
The ratio deteriorates. Such problems are unavoidable as long as rare earth elements are used as the material for the recording layer of an optical recording medium.

上述のような腐食や孔食は、上記非晶質合金薄膜にTj
、Cr、AI等の不動態被膜を形成し得る元素や、Pt
、Pd、Co等の不活性元素を添加することにより防止
することができ、比較的膜厚の厚い場合においてその効
果は確認されている。
The above-mentioned corrosion and pitting cause Tj to occur in the amorphous alloy thin film.
, Cr, AI, etc., which can form a passive film, and Pt.
This can be prevented by adding inert elements such as , Pd, and Co, and its effect has been confirmed in cases where the film is relatively thick.

しかしながら、上述のような添加元素の使用はしばしば
磁気カー回転角の低下につながり、しかも500Å以下
の膜厚では所望の効果が得られないので保護膜等の併用
を要するという問題点を有している。
However, the use of the above-mentioned additive elements often leads to a decrease in the magnetic Kerr rotation angle, and the desired effect cannot be obtained with a film thickness of less than 500 Å, so there is a problem that a protective film or the like must be used in combination. There is.

一方、本件出願人は先に特願昭62−211569号明
細書において、希土類元素を使用せずにCo層とPt層
とを交互に積層したCo=Pt系の超格子金属薄膜が優
れた耐蝕性を示し、かつ全厚の薄い領域で優れた磁気光
学特性を有することを開示している。
On the other hand, the present applicant previously reported in Japanese Patent Application No. 62-211569 that a Co=Pt-based superlattice metal thin film, in which Co layers and Pt layers are alternately laminated without using rare earth elements, has excellent corrosion resistance. It is disclosed that the material exhibits excellent magneto-optical properties in a region with a thin overall thickness.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところで、光磁気記録媒体においては磁性変化を生じさ
せるためには記録層が局部的にキュリー温度以上に加熱
されることが必要である。したがって、超格子金属薄膜
あるいは変調構造金属薄膜を記録層とする光磁気記録媒
体を使用する場合、記録層のキュリー点が低いほど、情
報転送速度が向上することになる。キュリー点を下げる
手段としては、記録層に第3の元素を添加することが従
来より考えられている。しかしながら、このような手段
は元素の種類によっては記録層の熱安定性を低下させる
ため、拡散により異種金属層の界面が乱れ、当初の良好
な保磁力や角型比が劣化するという結果を招く。
By the way, in a magneto-optical recording medium, in order to cause a magnetic change, it is necessary to locally heat the recording layer to a temperature higher than the Curie temperature. Therefore, when using a magneto-optical recording medium having a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film as a recording layer, the lower the Curie point of the recording layer, the higher the information transfer speed. As a means of lowering the Curie point, it has been conventionally considered to add a third element to the recording layer. However, depending on the type of element, these methods reduce the thermal stability of the recording layer, resulting in disturbance of the interface between the dissimilar metal layers due to diffusion, resulting in a deterioration of the initially good coercive force and squareness ratio. .

そこで本発明は、上述の問題点を解決し、情報転送速度
の速い光磁気記録媒体の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide a magneto-optical recording medium with a high information transfer rate.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者らは上述の問題点を解決するため、添加する第
3の元素の種類および添加量を検討した結果、Co層と
Pt層とを交互に積層した超格子金属薄膜あるいは変調
構造金属薄膜を記録層とする光磁気記録媒体において、
上記Co層にある種の金属元素を所定の範囲で添加する
ことにより、キュリー点を低下させつつ良好な熱安定性
を有する記録層が得られることを見出し、本発明に至っ
たものである。すなわち本発明にかかる光磁気記録媒体
は、CO+oo−*Mx (ただし、MはB、C。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors investigated the type and amount of the third element to be added, and found that a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film in which Co layers and Pt layers are alternately laminated. In a magneto-optical recording medium having a recording layer of
The inventors have discovered that by adding a certain metal element within a predetermined range to the Co layer, a recording layer having good thermal stability while lowering the Curie point can be obtained, leading to the present invention. That is, the magneto-optical recording medium according to the present invention has CO+oo-*Mx (where M is B or C).

Aj!、  Si、  P、Ti、  V、  Fe、
Nl、  Cu。
Aj! , Si, P, Ti, V, Fe,
Nl, Cu.

Ga、  Ge、  Zr、Nb、   Mo、  I
n、  Sn。
Ga, Ge, Zr, Nb, Mo, I
n, Sn.

Sb、Gd、Tb、Dy、Taの少なくとも一種を表し
、Xは置換量を原子%で表し、M=A1の場合0.1≦
x≦7.M=Zrの場合0.1≦x≦14゜M=Si、
MO,Taの場合0.1≦x≦20. M=Feの場合
0.1≦x≦25. M=B、 C,Ti、 V。
Represents at least one of Sb, Gd, Tb, Dy, and Ta, X represents the amount of substitution in atomic %, and when M=A1, 0.1≦
x≦7. When M=Zr, 0.1≦x≦14゜M=Si,
For MO, Ta, 0.1≦x≦20. When M=Fe, 0.1≦x≦25. M=B, C, Ti, V.

Cu、Ga、Ge、Nb、In、Snの場合0.1≦x
≦30.M=Pの場合0.1≦x≦35. M=C;d
0.1≦x for Cu, Ga, Ge, Nb, In, Sn
≦30. When M=P, 0.1≦x≦35. M=C;d
.

Tb、Dyの場合0.1≦χ・≦40.M=Sbの場合
0.1≦x≦45.M=Niの場合0.1≦x≦70で
ある。 )0.5〜2.5原子層とPtl〜7原子層と
が交互に積層された超格子金属薄膜あるいは変調構造金
属薄膜を記録層とし、該記録層の全厚が50〜500人
であることを特(衣とするものである。
For Tb and Dy, 0.1≦χ・≦40. When M=Sb, 0.1≦x≦45. When M=Ni, 0.1≦x≦70. ) The recording layer is a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film in which 0.5 to 2.5 atomic layers and Ptl to 7 atomic layers are alternately laminated, and the total thickness of the recording layer is 50 to 500 atomic layers. This is especially true for clothing.

本発明において記録層となる金属薄膜を構成する各金属
層の界面は、異種金属原子が互いに入り乱れずに平坦に
形成され、いわゆる超格子構造とされていることが理想
的であるが、界面にやや乱れを生じながらも全体として
は一定の周期を保って組成が変動する、いわゆる変調構
造(組成変調構造)を有するものであっても良い。
Ideally, the interface between the metal layers constituting the metal thin film serving as the recording layer in the present invention should be flat and have a so-called superlattice structure, with atoms of different metals not mixing with each other. It may have a so-called modulation structure (composition modulation structure) in which the composition changes while maintaining a constant period as a whole while causing some disturbance.

上記の超格子金属薄膜あるいは変調構造金属薄膜はスパ
ッタリングあるいは真空蒸着等によって形成することが
できる。
The superlattice metal thin film or modulation structure metal thin film described above can be formed by sputtering, vacuum deposition, or the like.

ここで、上記Co、。。−、M、で表される金属層はC
o層の一部を第3の元素Mで置換したものとみることが
できる。Co層に上記第3の元素Mを添加する方法とし
ては、Co蒸発源の上にMのチップを載置するか、ある
いはCo−M合金を蒸発源とする方法が可能である。
Here, the above Co. . -, M, the metal layer is C
It can be considered that a part of the o layer is replaced with the third element M. Possible methods for adding the third element M to the Co layer include placing an M chip on a Co evaporation source, or using a Co-M alloy as an evaporation source.

上記の各元素の置換量Xの下限は0.1原子%とされて
いるが、これより低い場合にはキュリー点の低減効果が
現れない。また、上記の各元素の置換量Xの上限は添加
する元素によって7〜40原子%と異なっているが、こ
れらの値より高い場合には磁気光学特性をかえって劣化
させる虞れがある。
The lower limit of the substitution amount X of each of the above elements is set at 0.1 atomic %, but if it is lower than this, the effect of reducing the Curie point will not appear. Further, the upper limit of the substitution amount X of each of the above elements varies from 7 to 40 atomic % depending on the added element, but if it is higher than these values, there is a risk that the magneto-optical properties may be deteriorated.

上記Co、。。−11M KあるいはPLの各金属層の
厚さ−(原子層数)の範囲は磁気光学特性を最適化する
観点から設定されたものであり、上記範囲外では面内磁
化成分が発生して磁気光学特性が劣化する。
The above Co. . The range of -11M K or PL metal layer thickness - (number of atomic layers) was set from the perspective of optimizing magneto-optical properties, and outside the above range, in-plane magnetization components occur and magnetic Optical properties deteriorate.

また上述の第3の元素をpt層に添加し、該Pt層の組
成をPt層。。−、M、(ただしXは置換量を原子%で
表し、0≦x≦15である。)とすることも考えられる
が、この場合は磁気光学特性や熱安定性を改善すること
を目的とするのではなく、むしろキlリー点の調節を主
目的とすべきである。
Further, the third element described above is added to the PT layer, and the composition of the Pt layer is changed to that of the Pt layer. . -, M, (where X represents the amount of substitution in atomic %, and 0≦x≦15), but in this case, the purpose is to improve magneto-optical properties and thermal stability. Rather, the main purpose should be to adjust the Killy point.

それは、第3の元素をpt層に添加すると、一部の例外
を除いてキュリー点が上昇するとともに磁気カー回転角
が低下するからである。ただし、キュリー点は記録情報
の保護の観点から無制限に低ければ良いという性質のも
のではないので、もともと記録層のキュリー点が著しく
低い場合等はこのような手段により実用的な範囲にまで
これを高めることが可能である。Pt層に添加し得る元
素としては、上述の第3の元素の他にもCr、Mn。
This is because, with some exceptions, when the third element is added to the PT layer, the Curie point increases and the magnetic Kerr rotation angle decreases. However, from the perspective of protecting recorded information, the Curie point does not necessarily have to be as low as possible, so if the Curie point of the recording layer is extremely low, this method can be used to reduce the Curie point to a practical level. It is possible to increase Elements that can be added to the Pt layer include Cr and Mn in addition to the third element mentioned above.

Co、Zn、Y、Rh、Ag、La、Nd、Sm。Co, Zn, Y, Rh, Ag, La, Nd, Sm.

Eu、Ho、Hf、W、Ir、Au、Pb、Bi等が挙
げられる。
Examples include Eu, Ho, Hf, W, Ir, Au, Pb, Bi, and the like.

さらに上記pt層は任意の割合でPd層に置き換わって
いても良い。
Further, the PT layer may be replaced with a Pd layer in any proportion.

上述のような組成を有する光磁気記録媒体の記録層への
書込み方法は、光ビームの他、釘型磁気ヘッド、熱ペン
、電子ビームなど、反転磁区を生じさせるのに必要なエ
ネルギーを供給できるものであれば、いかなるものでも
良いことは言うまでもない。
Writing methods for the recording layer of a magneto-optical recording medium having the above-mentioned composition include a light beam, a nail-shaped magnetic head, a thermal pen, an electron beam, etc., which can supply the energy necessary to generate a reversed magnetic domain. Needless to say, anything is fine as long as it is something.

〔作用〕[Effect]

本発明にかかる光磁気記録媒体においては、記録層とし
て従来広く用いられている希土類元素と遷移金属元素か
らなる非晶質合金を使用する代わりに、部分的に第3の
元素で置換された00層とpt層とを積層した超格子金
属薄膜あるいは変調構造金属薄膜を使用することにより
、記録層のキュリー点を低下させ情報転送速度を高める
ことが可能となる。
In the magneto-optical recording medium according to the present invention, instead of using an amorphous alloy consisting of a rare earth element and a transition metal element, which has been widely used in the past, as the recording layer, 000 is partially substituted with a third element. By using a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film in which a layer and a PT layer are laminated, it becomes possible to lower the Curie point of the recording layer and increase the information transfer rate.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の好適な実施例を゛実験例にもとづいて説
明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described based on experimental examples.

本実験例は、部分的に第3の元素で置換されたCo層と
pt層とを二元同時マグネトロン・スパッタリングによ
り交互に積層した変調構造金属薄膜を記録層とする光磁
気記録媒体の例である。ここで、使用する第3の元素(
以下、添加元素と称する。)を原子番号40未満のグル
ープと原子番号40以上のグループとに分け、それぞれ
のグループについて作成条件の若干具なる変調構造金属
薄膜を作成した。
This experimental example is an example of a magneto-optical recording medium whose recording layer is a modulated metal thin film in which a Co layer partially substituted with a third element and a PT layer are alternately laminated by dual simultaneous magnetron sputtering. be. Here, the third element used (
Hereinafter, this will be referred to as an additive element. ) was divided into a group with an atomic number of less than 40 and a group with an atomic number of 40 or more, and a modulated structure metal thin film was created for each group under slightly different creation conditions.

まず、原子番号40未満の添加元素MとしてB。First, B is used as an additive element M having an atomic number of less than 40.

C,A1.Si、P、Ti、V、Fe、Ni。C, A1. Si, P, Ti, V, Fe, Ni.

Cu、Ga、Geを使用した実験例について述べる。An experimental example using Cu, Ga, and Ge will be described.

まずチャンバー内に100 am径のCO11111−
11MXおよびptの各ターゲットを設置し、これらの
ターゲットと対向配置された回転基台に水冷ガラス基板
を載置し、ガス圧5 Xl0−” Torrのアルゴン
雰囲気中における二元同時マグネトロン・スパッタリン
グを行った。このときCo+o。−X M gターゲッ
トに対しては投入電流0.4OAの直流スパッタリング
、ptツタ−ットに対しては投入電力400Wの高周波
スパッタリングを行った。
First, a 100 am diameter CO11111-
11MX and PT targets were installed, a water-cooled glass substrate was placed on a rotating base facing these targets, and binary simultaneous magnetron sputtering was performed in an argon atmosphere with a gas pressure of 5 Xl0-'' Torr. At this time, direct current sputtering was performed with an input current of 0.4 OA for the Co+o.-X Mg target, and high frequency sputtering was performed with an input power of 400 W for the PT target.

この装置によれば、各ターゲットへの投入電流や投入電
力、あるいは基板を載置した回転基台の回転数を変化さ
せることにより、積層の周期を任意に決定することがで
きる0本実施例においては回転基台の回転数を16 r
pmとし、厚さ4.25人のCo、。。−xM、1層と
厚さ6.44人のpt層とを交互に積層し、全厚150
人のCO1116−XMII  P を系変調構造金属
薄膜を作成した。
According to this device, the period of lamination can be arbitrarily determined by changing the current or power applied to each target, or the rotation speed of the rotating base on which the substrate is placed. The rotation speed of the rotating base is 16 r
Co, with a thickness of 4.25 pm. . -xM, 1 layer and 6.44-thick PT layers are laminated alternately, total thickness 150
A thin metal film with a modulation structure based on human CO1116-XMII P was created.

ここでCO+o6−1MX層の1原子層の厚さは2.5
人、Pt層の1原子層の厚さは2.8人であるから、上
記Co、。。−11M11層の11当たりの原子層数は
約1.7、上記Pt層の11当たりの原子層数は2.3
である。また、原子層数が整数とならないのは、作成さ
れた金属薄膜が各金属層間において理想的な界面を持た
ず、変調構造を有しているからであるが、全体としては
約10.7人の周期が保たれている。なお、作成された
超格子金属薄膜の周期は、X線小角散乱におけるピーク
角度から求めた。
Here, the thickness of one atomic layer of CO+o6-1MX layer is 2.5
Since the thickness of one atomic layer of the Pt layer is 2.8 mm, the above Co. . - The number of atomic layers per 11 of the 11M11 layer is approximately 1.7, and the number of atomic layers per 11 of the above Pt layer is 2.3
It is. Also, the reason why the number of atomic layers is not an integer is because the created metal thin film does not have an ideal interface between each metal layer and has a modulation structure, but the total number of atomic layers is approximately 10.7. period is maintained. The period of the produced superlattice metal thin film was determined from the peak angle in small-angle X-ray scattering.

上述の各添加元素の添加量を種々に変えて各変調構造金
属薄膜を作成した。このようにして作成された各変調構
造金属薄膜について、まず波長780nmにおける磁気
カー回転角θえを測定し、500(Oe )の磁場を印
加しながら該変調構造金属薄膜の温度を上昇させて磁気
カー回転角θ、がOとなる温度をキュリー点T、として
求めた。
Each modulated structure metal thin film was created by varying the amount of each of the above-mentioned additive elements. For each modulated metal thin film created in this way, the magnetic Kerr rotation angle θ at a wavelength of 780 nm was first measured, and the temperature of the modulated metal thin film was increased while applying a magnetic field of 500 (Oe) to create a magnetic field. The temperature at which the Kerr rotation angle θ becomes O was determined as the Curie point T.

まず、作成した各変調構造金属薄膜の添加元素量(原子
%)とキュリー点Tc(”C)との関係を第1図に示す
、ここで、添加元素を使用しない場合の変調構造金属薄
膜のキュリー点T、は255°Cである。これに対し、
上述の各添加元素を使用した場合はいずれもキュリー点
Tcが低下しており、特に/l、TI、Pは少量でもキ
ュリー点Tcの低減効果が大きいことがわかる。
First, Figure 1 shows the relationship between the amount of added elements (atomic %) and the Curie point Tc ("C) of each of the modulated metal thin films created. The Curie point T, is 255°C.On the other hand,
When each of the above-mentioned additive elements is used, the Curie point Tc is lowered, and it can be seen that /l, TI, and P in particular have a large effect of reducing the Curie point Tc even in small amounts.

次に、作成した各変調構造金属薄膜の添加元素(原子%
)と磁気カー回転角θK(分)との関係を第2図に示す
、ここで、添加元素を使用しない場合の変調構造金属薄
膜の磁気カー回転角θ、は25.5分である。この値は
、添加元素としてB、  P。
Next, the additive elements (atomic%
) and the magnetic Kerr rotation angle θK (minutes) is shown in FIG. 2. Here, the magnetic Kerr rotation angle θ of the modulated metal thin film when no additive element is used is 25.5 minutes. This value is based on B and P as additive elements.

Fe、Ni、Cuを使用した場合にも維持されている。This is maintained even when Fe, Ni, and Cu are used.

特にPおよびCuはキュリー点T、の低減効果も大きい
ことから、有用な添加元素であると言える。この他の添
加元素については磁気カー回転角θ、に若干の低下がみ
られた。
In particular, since P and Cu have a large effect of reducing the Curie point T, they can be said to be useful additive elements. For other additive elements, a slight decrease in the magnetic Kerr rotation angle θ was observed.

ここで、上述の変調構造金属薄膜のいくつかについて観
測された磁気カー曲線と磁気カー回転角θ、の温度依存
性を以下の図に示す。すなわち、第3図(A)お、よび
第3図(B)は5原子%のPを添加したCo9.P、 
 Pt系変調構造金属薄膜、第4図(A)および第4図
(B)は10原子%のTiを添加したCo、。TI+o
Pt系変調構造全変調構造金属薄膜れぞれ示すものであ
る。また比較のために、添加元素を含有しないCo、。
Here, the temperature dependence of the magnetic Kerr curve and the magnetic Kerr rotation angle θ observed for some of the above-described modulated metal thin films is shown in the following figure. That is, FIG. 3(A) and FIG. 3(B) show Co9. P,
Pt-based modulated structure metal thin films, FIGS. 4(A) and 4(B) are Co doped with 10 atom % of Ti. TI+o
A Pt-based modulation structure and a full modulation structure metal thin film are shown. For comparison, Co does not contain any additional elements.

。=Pt系変調構造金属¥il膜の特性も第5図(A)
および第5図(B)に示す。これらの各図において(A
)の図はスパッタリング直後の磁気カー曲線を表し、縦
軸は磁気カー回転角θ、(分)、横軸は磁界の強さH(
koe)をそれぞれ表す、また(B)の図は磁気カー回
転角θ8の温度依存性を表し、縦軸は磁気カー回転角′
θに(分)、横軸は温度(°C)をそれぞれ表す。
. =Characteristics of Pt-based modulation structure metal \il film are also shown in Figure 5 (A).
and shown in FIG. 5(B). In each of these figures (A
) shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, the vertical axis is the magnetic Kerr rotation angle θ (minutes), and the horizontal axis is the magnetic field strength H (
The diagram in (B) shows the temperature dependence of the magnetic Kerr rotation angle θ8, and the vertical axis represents the magnetic Kerr rotation angle '
θ (minutes) and the horizontal axis represent temperature (°C), respectively.

これらの変調構造金属薄膜は、(A)の図をみる限りい
ずれも実用上十分な値の磁気カー回転角θ1.保磁力H
e、および良好な角型比を有している。ここで角型比と
は、残留磁気カー回転角θ1と飽和磁気カー回転角θ1
の比(−θKr/θに’)であり、この値が1に近いほ
ど磁気光学特性が良好であると言える。これらの特性は
、いったんキュリー点Tcまで昇温した後、室温まで戻
して磁気光学特性を再び測定した際にも変化しなかった
As can be seen from the diagram (A), these modulation structure metal thin films all have magnetic Kerr rotation angles θ1. Coercive force H
e, and has a good squareness ratio. Here, the squareness ratio refers to the residual magnetic Kerr rotation angle θ1 and the saturated magnetic Kerr rotation angle θ1.
It can be said that the closer this value is to 1, the better the magneto-optical properties are. These properties did not change even when the magneto-optical properties were measured again after the temperature was raised to the Curie point Tc and then returned to room temperature.

次に、原子番号40以上の添加元素MとしてZr。Next, Zr is added as an additional element M having an atomic number of 40 or more.

Nb、Mo、In、Sn、Sb、Cd、Tb。Nb, Mo, In, Sn, Sb, Cd, Tb.

Dy、Taを使用した実験例について述べる。An experimental example using Dy and Ta will be described.

変調構造金属薄膜の作成はガス圧4X10−’↑orr
のアルゴン雰囲気中における同時二元マグネトロン・ス
パッタリングにより行い、添加元素を含有するCo層に
ついては投入電流0.4Aの直流スパッタリング、Pt
層については投入電力450Wの高周波スパッタリング
を行った。ここで、添加元素として希土類元素であるG
d、Tb、Dyを使用する場合は、これらの扇型のチッ
プをCoターゲットの上に載置して直流スパッタリング
を行い、その他の添加元素を使用する場合は前述の実験
と同様Co、。6−、M、ターゲットを使用して直流ス
パッタリングを行った。回転基台の回転数は16 rp
sとし、Co、。。−HM X層とPt層とを交互に積
層し、全厚100人のCo、。。−XMII=Pt系変
調構造金属薄膜を作成した。
To create a modulated metal thin film, use a gas pressure of 4X10-'↑orr.
For the Co layer containing additive elements, direct current sputtering with an input current of 0.4 A, Pt
The layer was formed by high frequency sputtering with an input power of 450W. Here, G, which is a rare earth element, is added as an additive element.
When using d, Tb, and Dy, these fan-shaped chips are placed on a Co target and DC sputtering is performed, and when other additive elements are used, Co, Co, and Dy are used in the same manner as in the previous experiment. Direct current sputtering was performed using a 6-, M, target. The rotation speed of the rotating base is 16 rp
s and Co. . - HM X layer and Pt layer alternately stacked, total thickness 100 Co,. . -XMII=Pt-based modulated structure metal thin film was created.

上述の各添加元素の添加量を種々に変えて各変調構造金
属薄膜を作成した。このようにして作成された各変調構
造金属薄膜について、原子量40未満の添加元素Mを使
用した場合と同様に磁気カー回転角θ、とキュリー点T
cを測定した。
Each modulated structure metal thin film was created by varying the amount of each of the above-mentioned additive elements. For each modulated metal thin film created in this way, the magnetic Kerr rotation angle θ and the Curie point T are the same as when using the additive element M with an atomic weight of less than 40.
c was measured.

まず、作成した各変調構造金属薄膜の添加元素量(原子
%)とキュリー点’rc(’c)との関係を第6図に示
す、ここで、添加元素を使用しない場合の変調構造金属
薄膜のキュリー点Tcは258°Cである。これに対し
、上述の各添加元素を使用した場合はいずれもキュリー
点Tcが低下しており、特にZr、Ta、Mo、Sn、
Gd等は少量でもキュリー点Tcの低減効果が大きいこ
とがわかる。
First, Figure 6 shows the relationship between the amount of added elements (atomic %) and the Curie point 'rc ('c) of each modulated metal thin film created. The Curie point Tc of is 258°C. On the other hand, when each of the above-mentioned additive elements is used, the Curie point Tc is lowered, especially Zr, Ta, Mo, Sn,
It can be seen that even a small amount of Gd etc. has a large effect of reducing the Curie point Tc.

次に、作成した各変調構造金属薄膜の添加元素(原子%
)と磁気カー回転角θ、(分)との関係を第7図に示す
、ここで、添加元素を使用しない場合の変調構造金属薄
膜の磁気カー回転角θ、は20.7分である。この値は
sbを使用した場合に維持されており、この元素が優れ
た添加元素であることを示している。他の添加元素を使
用した場合には、いずれも磁気カー回転角θ、が低下し
ており、その度合いは特にMo、Ta、Zrを使用した
場合に著しい。
Next, the additive elements (atomic%
) and the magnetic Kerr rotation angle θ, (minutes) is shown in FIG. 7. Here, the magnetic Kerr rotation angle θ of the modulated metal thin film when no additive element is used is 20.7 minutes. This value was maintained when sb was used, indicating that this element is an excellent additive element. When other additive elements are used, the magnetic Kerr rotation angle θ is reduced, and the degree of this decrease is particularly remarkable when Mo, Ta, and Zr are used.

ここで、上述の変調構造金属薄膜のいくつかについて観
測された磁気カー曲線と磁気カー回転角θ、の温度依存
性を以下の図に示す、すなわち、第8図(A)および第
8図(B)は10原子%のNbを添加したCO9・N 
b r・−pt系変調構造金属薄膜、第9図(A)およ
び第9図(B)は10原子%のMoを添加したC Oq
aM O+a=P を系変調構造金属薄膜、第1θ図(
A)および第10図(B)は20原子%のDyを添加し
たC05oD7te  Pt系変調構造金属薄膜の特性
をそれぞれ示すものである。また比較のために、添加元
素を含有しないCo、、。=Pt系変調構造金属薄膜の
特性も第11図(A)および第11図(B)に示す、こ
れらの各図において(A)の図はスパッタリング直後の
磁気カー曲線を表し、縦軸は磁気カー回転角θ。
Here, the temperature dependence of the magnetic Kerr curve and the magnetic Kerr rotation angle θ observed for some of the above-mentioned modulated metal thin films is shown in the following figures, namely, FIG. 8(A) and FIG. 8( B) is CO9・N with 10 atomic% Nb added.
br·-pt-based modulated structure metal thin film, FIGS. 9(A) and 9(B) are COq with 10 atomic % Mo added.
aM O+a=P is a system modulation structured metal thin film, Figure 1θ (
A) and FIG. 10(B) respectively show the characteristics of a C05oD7tePt-based modulated structure metal thin film doped with 20 atom % of Dy. For comparison, Co does not contain any additive elements. =Characteristics of the Pt-based modulated metal thin film are also shown in Figures 11 (A) and 11 (B). In each of these figures, (A) represents the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and the vertical axis represents the magnetic Kerr curve. Kerr rotation angle θ.

(分)、横軸は磁界の強さH(koe)をそれぞれ表す
、また(B)の図は磁気カー回転角θ、の温度依存性を
表し、縦軸は磁気カー回転角θK(分)、横軸は温度(
°C)をそれぞれ表す。
(minutes), the horizontal axis represents the magnetic field strength H (koe), and the diagram in (B) represents the temperature dependence of the magnetic Kerr rotation angle θ, and the vertical axis represents the magnetic Kerr rotation angle θK (minutes). , the horizontal axis is the temperature (
°C) respectively.

これらの変調構造金属薄膜においても、前述の第3図(
A)および第4図(A)に示した場合と同様に良好な磁
気光学特性が得られている。特に、第10図(A)と第
11図(A)との比較かられかるように、Dyを添加し
た場合は添加元素を含有しない場合に比べて保磁力Hc
も増大している。同様な保磁力H0の増大は、Tbを添
加した際にも観察された。また、いずれの変調構造金属
薄膜についても温度サイクル(いったんキュリー点まで
昇温し゛た後、室温まで冷却すること、)経過後におけ
る磁気光学特性の劣化はみられなかった。
These modulated structure metal thin films also have the same structure as shown in Fig. 3 (
Similar to the cases shown in A) and FIG. 4(A), good magneto-optical properties are obtained. In particular, as can be seen from the comparison between Figures 10(A) and 11(A), when Dy is added, the coercive force Hc is higher than when no additive element is contained.
is also increasing. A similar increase in coercivity H0 was also observed when Tb was added. Furthermore, no deterioration of the magneto-optical properties was observed in any of the modulated metal thin films after temperature cycling (heating to the Curie point and then cooling to room temperature).

以上の結果から、上述の各種の添加元素はいずれも変調
構造金属薄膜のキュリー点Tcを低下させることがわか
る。しかし、キュリー点T、の低減効果の大きい添加元
素が必ずしも磁気カー回転角θ、の値を良好に維持する
とは限らない、キュリー点Tcを低下させることは光磁
気記録媒体の情報転送速度を向上させるために必要では
あるが、同時に磁気カー回転角0区の低下が起こり得る
ことも考慮して、各添加元素は得られる変調構造金属薄
膜の所望の特性に応じて適宜選択する必要がある。
From the above results, it can be seen that the various additive elements described above all lower the Curie point Tc of the modulated structure metal thin film. However, additive elements that have a large effect of reducing the Curie point T, do not necessarily maintain the value of the magnetic Kerr rotation angle θ, well.Lowering the Curie point Tc improves the information transfer speed of magneto-optical recording media. However, each additive element must be appropriately selected depending on the desired characteristics of the modulated structure metal thin film to be obtained, taking into account that a decrease in the zero section of the magnetic Kerr rotation angle may occur at the same time.

なお参考までに、添加元素をpt層に使用した場合の実
験例を紹介する0本実験例は、00層と部分的にSt、
Cr、Ni、Cu、Zr、Nb。
For your reference, this experimental example introduces an experimental example when additive elements are used in the PT layer.
Cr, Ni, Cu, Zr, Nb.

Mo、Ag、Gd、Tb、Dy、Ta、Wのいずれか一
種の元素で置換されたPt1iとを二元同時マグネトロ
ン・スパッタリングにより交互に積層した変調構造金属
薄膜を記録層とする光磁気記録媒体の例である。スパッ
タリングは、ガス圧5×10−” Torrのアルゴン
雰囲気中、COターゲットに対しては投入電流0.4A
、投入電圧300 Vの直流スパッタリング、ptター
ゲットに対しては投入電力400Wの高周波スパッタリ
ングにより行った。なお、添加元素はPtターゲットの
上に中心角12〜20°、半径50mmの各元素の扇型
チップを複数個載置することにより添加した。本実験例
においては回転基台の回転数を16 rpmとし、厚さ
4.25人の00層と厚さ6.44人のPt層。。−、
M、層とを交互に積層し、全厚150人のCo  Pt
層。。−8M8系変調構造金属薄膜を作成した。
A magneto-optical recording medium whose recording layer is a modulated metal thin film in which Pt1i substituted with one of Mo, Ag, Gd, Tb, Dy, Ta, and W is alternately laminated by simultaneous binary magnetron sputtering. This is an example. Sputtering was performed in an argon atmosphere with a gas pressure of 5 x 10-'' Torr, and an input current of 0.4 A for the CO target.
, DC sputtering with an input voltage of 300 V, and high frequency sputtering with an input power of 400 W for a PT target. The additive elements were added by placing a plurality of fan-shaped chips of each element with a central angle of 12 to 20 degrees and a radius of 50 mm on a Pt target. In this experimental example, the rotation speed of the rotating base was 16 rpm, and the 00 layer was 4.25 people thick and the Pt layer was 6.44 people thick. . -,
M, layers are laminated alternately, total thickness 150 people Co Pt
layer. . -8M8-based modulated metal thin film was created.

このようにして作成した各変調構造金属薄膜の添加元素
it(原子%)とキュリー点’re(”c)との関係を
第12図に示す、ここで、添加元素を使用しない場合の
変調構造金属薄膜のキュリー点Tcは約280℃である
。これに対し、上述の各添加元素を使用した場合にはC
uを除いてキュリー点Tcが増大している。
The relationship between the additive element it (atomic %) and the Curie point 're (''c) of each modulation structure metal thin film created in this way is shown in Figure 12. Here, the modulation structure when no additive element is used is shown. The Curie point Tc of a metal thin film is approximately 280°C.On the other hand, when each of the above-mentioned additive elements is used, the Curie point Tc
The Curie point Tc is increasing except for u.

さらに、作成した各変調構造金属薄膜の添加元素量(原
子%)と磁気カー回転角θK(分)との関係を第13図
に示す、ここで、添加元素を使用しない場合の変調構造
金属薄膜の磁気カー回転角は約26.4分である。この
値は、添加元素としてNtあるいはMOを使用した場合
は維持されているが、その他の元素についてはやや低下
がみられた。
Furthermore, the relationship between the amount of added elements (atomic %) and the magnetic Kerr rotation angle θK (minutes) of each of the produced modulated structured metal thin films is shown in Figure 13. The magnetic Kerr rotation angle of is about 26.4 minutes. This value was maintained when Nt or MO was used as an additive element, but a slight decrease was observed for other elements.

したがって、Pt層について添加元素を使用する際には
、もともと記録層のキュリー点が著しく低い場合等にこ
れを実用的な範囲にまで高めることを目的とすべきであ
る。
Therefore, when using additive elements for the Pt layer, the purpose should be to raise the Curie point to a practical range in cases where the Curie point of the recording layer is originally extremely low.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、Co
層とpt層とを交互に積層した超格子金属薄膜あるいは
変調構造金属薄膜を記録層とする光磁気記録媒体の上記
00層に第3の元素を添加することにより、キュリー点
を低下させて情報転送速度を向上させることが可能とな
る。しかもこのような超格子金属薄膜あるいは変調構造
金属薄膜は、全厚50〜500人という薄い膜厚領域に
て優れた磁気光学特性を示すので、省資源、生産効率の
向上の観点からも有意義である。
As is clear from the above description, according to the present invention, Co
By adding a third element to the 00 layer of a magneto-optical recording medium whose recording layer is a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film in which layers and PT layers are alternately laminated, the Curie point is lowered and information is It becomes possible to improve the transfer speed. Moreover, such superlattice metal thin films or modulation structure metal thin films exhibit excellent magneto-optical properties in the thin film thickness range of 50 to 500 mm, so they are meaningful from the viewpoint of resource saving and improvement of production efficiency. be.

さらに、上記超格子金属薄膜あるいは変調構造金属薄膜
には今後世界的に供給が逼迫されると予想される希土類
元素が使用されていないため、光磁気記録媒体の安定か
つ経済的な供給が期待できる。
Furthermore, the superlattice metal thin film or modulation structure metal thin film does not contain rare earth elements, whose supply is expected to become tight worldwide in the future, so a stable and economical supply of magneto-optical recording media can be expected. .

このような光磁気記録媒体を、たとえば光ビームを用い
て書込み、磁気カー効果を利用して読出しを行ういわゆ
るビーム・アドレッサブル・ファイル・メモリ等の光磁
気メモリの貯蔵媒体として使用すれば、極めて高密度で
C/N比が大きく、かつ長期にわたって高い信軟性を保
つメモリ装置を実現することができる。
If such a magneto-optical recording medium is used as a storage medium for a magneto-optical memory such as a so-called beam-addressable file memory, which writes using a light beam and reads using the magnetic Kerr effect, it can achieve extremely high performance. It is possible to realize a memory device that has a high density and a high C/N ratio and maintains high reliability over a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は原子番号40未満の添加元素を使用した場合の
代表的な変調構造金属薄膜における添加元素量とキュリ
ー点Tcとの関係を示す特性図である。第2図は原子番
号40未満の添加元素を使用した場合の代表的な変調構
造金属薄膜における添加元素量と磁気カー回転角θやと
の関係を示す特性図である。第3図(A)および第3図
(B)はC0qsPs  Pt系変調構造金属薄膜の磁
気光学特性およびその温度依存性を示す特性図であり、
第3図(A)はスパッタリング直後の磁気カー曲線、第
3図(B)は磁気カー回転角の温度依存性をそれぞれ示
す。第4図(A)および第4図(B)はCo層。T l
 +。=Pt、系変調構造金属薄膜の磁気光学特性およ
びその温度依存性を示す特性図であり、第4図(A)は
スパッタリング直後の磁気カー曲線、第4図(B)は磁
気カー回転角の温度依存性をそれぞれ示す。第5図(A
)および第5図(B)はCo、。。=Pt系変調構造金
属薄膜の磁気光学特性およびその温度依存性を示す特性
図であり、第5図(A)はスパッタリング直後の磁気カ
ー曲線、第5図(B)は磁気カー回転角の温度依存性を
それぞれ示す、第6図は原子番号40以上の添加元素を
使用した場合の代表的な変調構造金属薄膜における添加
元素量とキュリー点Tcとの関係を示す特性図である。 第7図は原子番号40以上の添加元素を使用した場合の
代表的な変調構造金属薄膜における添加元素量と磁気カ
ー回転角θ。 との関係を示す特性図である。第8図(A)および第8
図CB)はco、。N b t。−pt系変調構造金属
薄膜の磁気光学特性およびその温度依存性を示す特性図
であり、第8図(A)はスパッタリング直後の磁気カー
曲線、第8図(B)は磁気カー回転角の温度依存性をそ
れぞれ示す、第9図(A)および第9図(B)はCo雫
。Mo+。−pt系変調構造金属薄膜の磁気光学特性お
よびその温度依存性を示す特性図であり、第9図(A)
はスパッタリング直後の磁気カー曲線、第9図(B)は
磁気カー回転角の温度依存性をそれぞれ示す、第10図
(A)および第10図(B)はCO*aD1z*=P 
を系変調構造金属TIIRの磁気光学特性およびその温
度依存性を示す特性図であり、第10図(A)はスパッ
タリング直後の磁気カー曲線、第10図(B)は磁気カ
ー回転角の温度依存性をそれぞれ示す。 第11図(A)および第11図(B)はCo、。、=P
t系変調構造金属薄膜の磁気光学特性およびその温度依
存性を示す特性図であり、第11図(A)はスパッタリ
ング直後の磁気カー曲線、第11図(B)は磁気カー回
転角の温度依存性をそれぞれ示す、第12図は参考実験
例としてpt層に添加元素を使用した変調構造金属薄膜
における添加元素量とキュリー点T、との関係を示す特
性図であり、第13図は同じ変調構造金属薄膜における
添加元素量と磁気カー回転角θ菖との関係を示す特性図
である。 特許出願人   ソニー株式会社 代理人 弁理士   小 池   見 間   田村榮− 同   佐藤 勝 第1図 第2図 第6図 第71! 第8図(A) 第8図(B) 第9図(A) 温度(’CJ 第9図(B) 第10図(A) 温度 (@C) 第10図(Bン 第11図(A) 温f(”C) 第11図(B)
FIG. 1 is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of additive elements and the Curie point Tc in a typical modulated metal thin film when an additive element having an atomic number of less than 40 is used. FIG. 2 is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of additive elements and the magnetic Kerr rotation angle θ in a typical modulated metal thin film when an additive element having an atomic number of less than 40 is used. FIG. 3(A) and FIG. 3(B) are characteristic diagrams showing the magneto-optical properties and their temperature dependence of the C0qsPs Pt-based modulation structure metal thin film,
FIG. 3(A) shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and FIG. 3(B) shows the temperature dependence of the magnetic Kerr rotation angle. FIG. 4(A) and FIG. 4(B) are Co layers. T l
+. = Pt, are characteristic diagrams showing the magneto-optical properties and their temperature dependence of a metal thin film with a system modulation structure, where FIG. 4(A) shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and FIG. 4(B) shows the magnetic Kerr rotation angle. The temperature dependence is shown respectively. Figure 5 (A
) and FIG. 5(B) are Co. . =Characteristic diagrams showing the magneto-optical properties of a Pt-based modulated metal thin film and its temperature dependence; FIG. 5(A) shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and FIG. 5(B) shows the temperature of the magnetic Kerr rotation angle. FIG. 6, which shows the dependence, is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of added elements and the Curie point Tc in a typical modulation structure metal thin film when using added elements with an atomic number of 40 or more. FIG. 7 shows the amount of additive elements and the magnetic Kerr rotation angle θ in a typical modulated metal thin film when additive elements with atomic numbers of 40 or higher are used. FIG. Figures 8(A) and 8
Figure CB) is co. Nbt. FIG. 8(A) is a magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and FIG. 8(B) is the temperature of the magnetic Kerr rotation angle. FIG. 9(A) and FIG. 9(B), which respectively show the dependence, are Co drops. Mo+. FIG. 9(A) is a characteristic diagram showing the magneto-optical properties and their temperature dependence of a -pt-based modulated metal thin film;
shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, FIG. 9(B) shows the temperature dependence of the magnetic Kerr rotation angle, and FIGS. 10(A) and 10(B) show CO*aD1z*=P.
FIG. 10(A) shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and FIG. 10(B) shows the temperature dependence of the magnetic Kerr rotation angle. Each shows its gender. FIG. 11(A) and FIG. 11(B) are Co. ,=P
FIG. 11(A) is a characteristic diagram showing the magneto-optical properties of a metal thin film with a t-based modulation structure and its temperature dependence; FIG. 11(A) shows the magnetic Kerr curve immediately after sputtering, and FIG. 11(B) shows the temperature dependence of the magnetic Kerr rotation angle. Figure 12 is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of added elements and the Curie point T in a modulated metal thin film using added elements in the PT layer as a reference experimental example, and Figure 13 shows the relationship between the Curie point T and the amount of added elements in the PT layer. FIG. 2 is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of added elements in a structural metal thin film and the magnetic Kerr rotation angle θ. Patent Applicant Sony Corporation Representative Patent Attorney Koike Mima Sakae Tamura - Masaru Sato Figure 1 Figure 2 Figure 6 Figure 71! Figure 8 (A) Figure 8 (B) Figure 9 (A) Temperature ('CJ Figure 9 (B) Figure 10 (A) Temperature (@C) Figure 10 (B) Figure 11 (A ) Temperature f(”C) Figure 11(B)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  Co_1_0_0_−_xM_x(ただし、MはB,
C,Al,Si,P,Ti,V,Fe,Ni,Cu,G
a,Ge,Zr,Nb,Mo,In,Sn,Sb,Gd
,Tb,Dy,Taの少なくとも一種を表し、xは置換
量を原子%で表し、M=Alの場合0.1≦x≦7,M
=Zrの場合0.1≦x≦14,M=Si,Mo,Ta
の場合0.1≦x≦20,M=Feの場合0.1≦x≦
25,M=B,C,Ti,V,Cu,Ga,Ge,Nb
,In,Snの場合0.1≦x≦30,M=Pの場合0
.1≦x≦35,M=Gd,Tb,Dyの場合0.1≦
x≦40,M=Sbの場合0.1≦x≦45,M=Ni
の場合0.1≦x≦70である。)0.5〜2.5原子
層とPt1〜7原子層とが交互に積層された超格子金属
薄膜あるいは変調構造金属薄膜を記録層とし、該記録層
の全厚が50〜500Åであることを特徴とする光磁気
記録媒体。
Co_1_0_0_-_xM_x (where M is B,
C, Al, Si, P, Ti, V, Fe, Ni, Cu, G
a, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Gd
, Tb, Dy, and Ta, x represents the amount of substitution in atomic %, and when M=Al, 0.1≦x≦7, M
=Zr 0.1≦x≦14, M=Si, Mo, Ta
In case of 0.1≦x≦20, in case of M=Fe 0.1≦x≦
25, M=B, C, Ti, V, Cu, Ga, Ge, Nb
, In, Sn, 0.1≦x≦30, M=P, 0
.. 1≦x≦35, M=Gd, Tb, Dy, 0.1≦
When x≦40, M=Sb, 0.1≦x≦45, M=Ni
In the case of 0.1≦x≦70. ) The recording layer is a superlattice metal thin film or a modulation structure metal thin film in which 0.5 to 2.5 atomic layers and 1 to 7 Pt atomic layers are alternately laminated, and the total thickness of the recording layer is 50 to 500 Å. A magneto-optical recording medium characterized by:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03162740A (en) * 1989-11-20 1991-07-12 Sanyo Electric Co Ltd Magneto-optical recording medium
JPH03189941A (en) * 1989-12-20 1991-08-19 Sanyo Electric Co Ltd Magneto-optical recording medium
US5370945A (en) * 1991-07-22 1994-12-06 Canon Kabushiki Kaisha Magnetooptic recording medium

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62252546A (en) * 1986-04-24 1987-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd Magneto-optical recording medium
JPH01116945A (en) * 1987-10-29 1989-05-09 Mitsui Petrochem Ind Ltd Magneto-optical recording medium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62252546A (en) * 1986-04-24 1987-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd Magneto-optical recording medium
JPH01116945A (en) * 1987-10-29 1989-05-09 Mitsui Petrochem Ind Ltd Magneto-optical recording medium

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03162740A (en) * 1989-11-20 1991-07-12 Sanyo Electric Co Ltd Magneto-optical recording medium
JPH03189941A (en) * 1989-12-20 1991-08-19 Sanyo Electric Co Ltd Magneto-optical recording medium
US5370945A (en) * 1991-07-22 1994-12-06 Canon Kabushiki Kaisha Magnetooptic recording medium

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