JPH08204061A - Plastic semiconductor package - Google Patents

Plastic semiconductor package

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JPH08204061A
JPH08204061A JP975795A JP975795A JPH08204061A JP H08204061 A JPH08204061 A JP H08204061A JP 975795 A JP975795 A JP 975795A JP 975795 A JP975795 A JP 975795A JP H08204061 A JPH08204061 A JP H08204061A
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JP
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semiconductor package
resin
plastic
semiconductor chip
plastic semiconductor
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JP975795A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuya Hazaki
拓哉 羽崎
Masakazu Mogi
雅一 茂木
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

PURPOSE: To provide a plastic semiconductor package of which the function defective during the surface mounting is lowered. CONSTITUTION: In a plastic semiconductor package where a semiconductor chip is bonded on a laminated board on which a circuit is formed, the semiconductor chip is electrically connected with a circuit and at least the connecting point with the semiconductor chip is sealed with a resin material, the laminated board having a humidity transmitting coefficient (JISZO2O8) of 0.60g/m<2> /24hr or less per 1mmt under the condition of 40 deg.C, 9O%RH is used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、開繊されたガラスクロ
スと熱硬化性樹脂からなる回路を形成された積層板に半
導体チップを接着し、少なくとも半導体チップと接続部
が樹脂で封止されてなるプラスチック半導体パッケージ
において、プリント配線板への表面実装時の不良率を著
しく低下させたプラスチック半導体パッケージである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention adheres a semiconductor chip to a laminated plate on which a circuit composed of opened glass cloth and thermosetting resin is formed, and at least the semiconductor chip and the connecting portion are sealed with resin. In the plastic semiconductor package obtained by the above, it is a plastic semiconductor package in which a defective rate at the time of surface mounting on a printed wiring board is remarkably reduced.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、一般の銅張積層板を用いたプリン
ト配線板を使用したプラスチック半導体パッケージは、
ベアチップを1個または複数個、銀ペーストでプリント
配線板の表面またはキャビティに接着し、ワイヤーボン
ディング、トランスファーまたはポッティング等で樹脂
封止後、保管雰囲気によりプリント配線板の裏面より水
分が進入し、ベアチップを接着している銀ペーストが吸
湿される。
2. Description of the Related Art Conventionally, a plastic semiconductor package using a printed wiring board using a general copper clad laminate is
One or more bare chips are attached to the surface or cavity of the printed wiring board with silver paste, and after sealing with resin by wire bonding, transfer or potting, moisture enters from the back surface of the printed wiring board due to the storage atmosphere, leaving bare chips. The silver paste adhering to is absorbed.

【0003】このような従来のプラスチック半導体パッ
ケージの場合、銀ペーストの吸湿量がある一定レベル以
上になったものを乾燥せずにプリント配線板に表面実装
すると、表面実装時の熱ショックにより、銀ペーストを
発端として、封止樹脂及び積層板にクラックが発生す
る。(以下この現象をポップコーン現象と記す)
In the case of such a conventional plastic semiconductor package, when the moisture absorption amount of the silver paste exceeds a certain level and is surface-mounted on the printed wiring board without being dried, silver is generated due to heat shock during surface mounting. Starting from the paste, cracks occur in the sealing resin and the laminated plate. (Hereinafter, this phenomenon is referred to as the popcorn phenomenon)

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、該ポップコ
ーン現象の原因となる銀ペーストの吸湿量を低下させ、
プラスチック半導体パッケージの表面実装時の不良率を
著しく低下させることを目的としたプラスチック半導体
パッケージである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention reduces the moisture absorption of silver paste, which causes the popcorn phenomenon,
A plastic semiconductor package intended to significantly reduce the defect rate during surface mounting of the plastic semiconductor package.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、回
路が形成された積層板に半導体チップを接着し、半導体
チップと回路が電気的に接続され、少なくとも半導体チ
ップとの接続部が樹脂で封止されてなるプラスチック半
導体パッケージにおいて、該積層板の透湿率(JIS Z 020
8)が、40℃、90%RHの条件で 0.1mmt 当たり 0.60g/m2/
24hr以下である積層板を使用してなることを特徴とする
プラスチック半導体パッケージであり、好ましくは該積
層板が、ガラスフィラメントの間隔を広げることにより
(以下開繊と記す)通気度(JIS L 1079) 10 cm3/cm2/se
c.以下のガラスクロス及び熱硬化性樹脂からなること、
該熱硬化性樹脂が、ガラス転移温度 170℃以上であり、
シアネート樹脂を少なくとも一成分とすることを特徴と
するプラスチック半導体パッケージであって、表面実装
時のポップコーン現象による不良率を著しく低下させた
プラスチック半導体パッケージである。
That is, according to the present invention, a semiconductor chip is adhered to a laminated plate on which a circuit is formed, the semiconductor chip and the circuit are electrically connected, and at least a connecting portion with the semiconductor chip is made of resin. In a sealed plastic semiconductor package, the moisture permeability (JIS Z 020
8) is 0.60g / m 2 /0.1mmt at 40 ℃ and 90% RH.
A plastic semiconductor package characterized by using a laminated plate having a length of 24 hours or less, and preferably, the laminated plate has an air permeability (JIS L 1079) by increasing the distance between glass filaments (hereinafter referred to as opening). ) 10 cm 3 / cm 2 / se
c. consisting of the following glass cloth and thermosetting resin,
The thermosetting resin has a glass transition temperature of 170 ° C. or higher,
A plastic semiconductor package characterized by containing a cyanate resin as at least one component, wherein the defect rate due to the popcorn phenomenon during surface mounting is significantly reduced.

【0006】以下、本発明を説明する。本発明は、プラ
スチック・ピングリッド・アレイ(以下、PGA と記
す)、プラスチック・ボール・グリッド・アレイ(以
下、BGA と記す)等のプラスチック半導体パッケージで
あり、該プラスチック半導体パッケージに使用される積
層板の透湿率(JIS Z 0208)が、40℃、90%RHの条件にて
0.1mmt 当たり 0.60g/m2/24hrであるプラスチック半導
体パッケージである。
The present invention will be described below. The present invention is a plastic semiconductor package such as a plastic pin grid array (hereinafter referred to as PGA), a plastic ball grid array (hereinafter referred to as BGA), and a laminated plate used for the plastic semiconductor package. Moisture permeability (JIS Z 0208) of 40 ° C, 90% RH
It is a plastic semiconductor package with 0.60g / m 2 / 24hr per 0.1mmt.

【0007】積層板の透湿率を小さくする方法として
は、ガラスクロスの糸のフィラメントの間隔を広げる
(開繊)方法があげられる。開繊クロスの種類としては
ロール等機械的に楕円状に開繊されたガラスクロス、溶
剤中にガラスクロスを含浸させた状態で超音波等により
開繊されたガラスクロス、或いはウォータージェット等
で開繊されたガラスクロス等であり、ガラスクロスの通
気度が JIS L 1079 の測定方法で 10 cm3/cm2/sec.以下
のものが挙げられる。
As a method of reducing the moisture permeability of the laminated plate, there is a method of widening the gap between filaments of the glass cloth yarn (opening). The types of openable cloth include mechanically elliptical opened glass cloth such as rolls, ultrasonically opened glass cloth with solvent impregnated with glass cloth, or water jet. Examples of the glass cloth include fine glass cloth, and the air permeability of the glass cloth is 10 cm 3 / cm 2 / sec. Or less according to the measurement method of JIS L 1079.

【0008】熱硬化性樹脂として、シアネート樹脂、多
価マレイミド、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリア
ミン−ビスマレイミド樹脂、ポリマレイミド−イソシア
ネート樹脂、その他の熱硬化性樹脂類;これらを適宜二
種以上配合してなる組成物;さらにこれら熱硬化性樹脂
類、それらの二種以上配合してなる組成物をポリビニル
ブチラール、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、多官
能性アクリレート化合物、その他の公知の樹脂、添加剤
で変成したもの;架橋ポリエチレン/エポキシ樹脂、架
橋ポリエチレン/シアネート樹脂、ポリエステルカーボ
ネート/シアネート樹脂、その他の熱可塑性樹脂で変成
した架橋硬化性樹脂組成物(IPNまたはセミIPN)が例示さ
れる。また、好ましくはシアネート樹脂を少なくとも一
成分とする熱硬化性樹脂組成物である。
As the thermosetting resin, cyanate resin, polyvalent maleimide, epoxy resin, unsaturated polyester resin, phenol resin, diallyl phthalate resin, polyamine-bismaleimide resin, polymaleimide-isocyanate resin, and other thermosetting resins A composition obtained by appropriately mixing two or more of these; a thermosetting resin, a composition obtained by mixing two or more thereof, with polyvinyl butyral, acrylonitrile-butadiene rubber, a polyfunctional acrylate compound, and the like. Crosslinked polyethylene / epoxy resin, crosslinked polyethylene / cyanate resin, polyestercarbonate / cyanate resin, or other thermoplastic resin modified crosslinkable resin composition (IPN or semi-IPN) It is illustrated. Further, it is preferably a thermosetting resin composition containing a cyanate resin as at least one component.

【0009】シアネート樹脂としては、1,2-、1,3-又は
1,4-ジシアネートフェニルベンゼン、2,2-ビス(4−シア
ネートフェニル)プロパン、2,2-ビス(3,5−ジメチル−
4-シアネートフェニル)プロパン、ビス(4−シアネート
フェニル)メタンなどと、フェノールノボラックなどの
フェノール性水酸基を2個以上有する化合物とハロゲン
化シアンとを反応させてなるシアン酸エステル化合物、
及びこれらを加熱或いは触媒を使用して sym−トリアジ
ン環を形成する予備反応などを行ったものなどのシアネ
ート樹脂並びにこれらを主体として使用したものが例示
される。
Cyanate resins include 1,2-, 1,3- or
1,4-dicyanatephenylbenzene, 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-
4-cyanatephenyl) propane, bis (4-cyanatephenyl) methane, etc., and a cyanate ester compound obtained by reacting a compound having two or more phenolic hydroxyl groups such as phenol novolac with cyanogen halide,
Examples thereof include cyanate resins such as those obtained by performing a preliminary reaction for forming a sym-triazine ring by heating or using a catalyst, and those mainly using these.

【0010】また、充填剤を配合した熱硬化性樹脂組成
物も使用可能であり、これらの充填剤としては、天然シ
リカ、溶融シリカ、アモルファスシリカなどのシリカ
類、ホワイトカーボン、チタンホワイト、アエロジル、
クレー、タルク、ウォラスナイト、天然マイカ、合成マ
イカ、カオリン、水酸化アルミニウム、マグネシア、ア
ルミナ、パーライト及びE−,A−,C−,L−,D
−,S−,SII−,M−、G20−などのガラス微粉末が
挙げられる。
A thermosetting resin composition containing a filler can also be used. Examples of the filler include natural silica, fused silica, silica such as amorphous silica, white carbon, titanium white, aerosil,
Clay, talc, wollastonite, natural mica, synthetic mica, kaolin, aluminum hydroxide, magnesia, alumina, perlite and E-, A-, C-, L-, D
Glass fine powders such as-, S-, SII-, M-, and G20- are listed.

【0011】また、その他の目的により難燃剤、滑剤、
その他の添加剤類が配合できる。本発明の金属箔(特に
銅箔)としては、電気用に使用されているものであれば
特に限定なく、適宜用途に応じて選択する。
For other purposes, flame retardants, lubricants,
Other additives can be added. The metal foil (especially copper foil) of the present invention is not particularly limited as long as it is used for electricity, and is appropriately selected according to the application.

【0012】[0012]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。な
お、実施例の「部」及び「%」は特に断らない限り重量
基準である。 実施例1 2,2-ビス(4−シアネートフェニル)プロパン 540部とビ
ス(4−マレイミドフェニル)メタン 60部とを 150℃で
130分間予備反応させ、これをメチルエチルケトンとN,
N-−ジメチルホルムアミドとの混合溶剤に溶解した。こ
れにビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名;エピコ
ート 1001 、油化シェルエポキシ株式会社製、エポキシ
等量 450〜500) 600部とオクチル酸亜鉛 0.1部とを溶解
してワニスを得た。
The present invention will be described below with reference to examples. In the examples, "parts" and "%" are based on weight unless otherwise specified. Example 1 540 parts of 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane and 60 parts of bis (4-maleimidophenyl) methane at 150 ° C.
Pre-react for 130 minutes, add methyl ethyl ketone and N,
It was dissolved in a mixed solvent with N-dimethylformamide. 600 parts of bisphenol A type epoxy resin (trade name; Epicoat 1001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent: 450 to 500) and 0.1 part of zinc octylate were dissolved to obtain a varnish.

【0013】厚み 0.1mmの開繊されたガラスクロス(通
気度 8cm3/cm2/sec.) にこのワニスを含浸・乾燥してプ
リプレグを得た。上記で得たプリプレグを2枚重ね、そ
の両面に18μmの電解銅箔を重ねた構成として、圧力20
kgf/cm2、180 ℃、2時間の条件で積層成形し、絶縁層
厚み 0.2mmの両面銅張積層板を得た。
An open glass cloth having a thickness of 0.1 mm (air permeability 8 cm 3 / cm 2 / sec.) Was impregnated with this varnish and dried to obtain a prepreg. Two prepregs obtained above were stacked, and 18 μm electrolytic copper foil was stacked on both sides of the prepreg.
Laminate molding was performed under conditions of kgf / cm 2 , 180 ° C., and 2 hours to obtain a double-sided copper-clad laminate having an insulating layer thickness of 0.2 mm.

【0014】得られた両面銅張積層板をプリント板化
し、プリント板上にエポキシ系 Ag ペースト(Ablestick
社製 965-1L)を付してシリコンウエハー(10mm×10mm)
を接着後、エポキシ系封止コンパウンド(日東重工社製
NT8500)でモールドし、疑似パッケージを作成した。該
疑似パッケージを40℃、85%RH、48hrs で吸湿処理
後、260 ℃、5秒間半田に浸漬し、熱ショックを与えた
時の様子を観察した。
The obtained double-sided copper-clad laminate is made into a printed board, and an epoxy-based Ag paste (Ablestick
Silicon wafer (10 mm x 10 mm) with a 965-1L)
After bonding the epoxy compound (made by Nitto Heavy Industries, Ltd.)
Molded with NT8500) and made a pseudo package. The pseudo package was subjected to moisture absorption treatment at 40 ° C., 85% RH, 48 hrs, immersed in solder at 260 ° C. for 5 seconds, and observed when heat shocked.

【0015】実施例2 2,2-ビス(4−シアネートフェニル)プロパン 360部とビ
ス(4−マレイミドフェニル)メタン 40部とを 150℃で
130分間予備反応させ、これをメチルエチルケトンとN,
N-ジメチルホルムアミドとの混合溶剤に溶解した。これ
にブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名;
エピコート 1121 、油化シェルエポキシ株式会社製、エ
ポキシ等量 450〜500) 600部とオクチル酸亜鉛 0.1部と
を溶解してワニスを得た。
Example 2 360 parts of 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane and 40 parts of bis (4-maleimidophenyl) methane at 150 ° C.
Pre-react for 130 minutes, add methyl ethyl ketone and N,
It was dissolved in a mixed solvent with N-dimethylformamide. Brominated bisphenol A type epoxy resin (trade name;
Epicoat 1121, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., epoxy equivalent 450-500) 600 parts and zinc octylate 0.1 part were dissolved to obtain a varnish.

【0016】厚み 0.1mmの開繊されたガラスクロス(通
気度 8cm3/cm2/sec.) にこのワニスを含浸・乾燥してプ
リプレグを得た。上記で得たプリプレグを2枚重ね、そ
の両面に18μmの電解銅箔を重ねた構成として、圧力 2
0kgf/cm2、180 ℃、2時間の条件で積層成形し、絶縁層
厚み 0.2mmの両面銅張積層板を得た。
An open glass cloth having a thickness of 0.1 mm (air permeability 8 cm 3 / cm 2 / sec.) Was impregnated with this varnish and dried to obtain a prepreg. Two prepregs obtained above are stacked, and 18 μm electrolytic copper foil is stacked on both sides of the prepreg.
Lamination molding was performed under the conditions of 0 kgf / cm 2 , 180 ° C. and 2 hours to obtain a double-sided copper clad laminate having an insulating layer thickness of 0.2 mm.

【0017】得られた両面銅張積層板を実施例1と同様
にプリント板化し、プリント板上にエポキシ系 Ag ペー
スト(Ablestick社製 965-1L)を付してシリコンウエハー
(10mm×10mm)を接着後、エポキシ系封止コンパウンド
(日東重工社製 NT8500)でモールドし、疑似パッケージ
を作成した。該疑似パッケージを40℃、85%RT、48hrs
で吸湿処理後、260 ℃、5秒間半田に浸漬し、熱ショッ
クを与えた時の様子を観察した。
The obtained double-sided copper clad laminate was formed into a printed board in the same manner as in Example 1, and an epoxy-based Ag paste (965-1L manufactured by Ablestick Co.) was attached to the printed board to form a silicon wafer (10 mm × 10 mm). After the adhesion, a pseudo package was prepared by molding with an epoxy encapsulation compound (NT8500 manufactured by Nitto Heavy Industries, Ltd.). The pseudo package is 40 ℃, 85% RT, 48hrs
After moisture absorption treatment at 260 ° C., it was immersed in solder at 260 ° C. for 5 seconds, and the state when heat shock was given was observed.

【0018】比較例1 実施例2において厚み 0.1mmの開繊されたガラスクロス
の通気度が15cm3/cm2/sec.である他は同様とした。 比較例2 実施例2において、厚み 0.1mmの開繊されていないガラ
スクロスを使用し、その通気度が 25cm3/cm2/secである
他は同様とした。実験の結果を表1に示した。
Comparative Example 1 Same as Example 2 except that the air permeability of the opened glass cloth having a thickness of 0.1 mm was 15 cm 3 / cm 2 / sec. Comparative Example 2 The same procedure as in Example 2 was carried out except that an unopened glass cloth having a thickness of 0.1 mm was used and the air permeability thereof was 25 cm 3 / cm 2 / sec. The results of the experiment are shown in Table 1.

【0019】[0019]

【表1】測定項目など 実1 実2 比1 比2 樹脂組成 BT/EP wt/wt 50/50 40/60 40/60 40/60 ガラスクロスの通気度 (cm3/cm2/sec) 8 8 15 25 ガラス転移温度(DMA法) (℃) 200 180 180 180 積層板の透湿率 (g/m2/24hrs) 0.40 0.40 0.80 1.00 熱ショック時のクラック発生数/テスト数 0/10 0/10 2/10 6/10 [Table 1] Measurement items, etc. Actual 1 Actual 2 Ratio 1 Ratio 2 Resin composition BT / EP wt / wt 50/50 40/60 40/60 40/60 Air permeability of glass cloth (cm 3 / cm 2 / sec) 8 8 15 25 Glass transition temperature (DMA method) (℃) 200 180 180 180 Moisture permeability of laminate (g / m 2 / 24hrs) 0.40 0.40 0.80 1.00 Number of cracks generated during heat shock / Number of tests 0/10 0 / 10 2/10 6/10

【0020】[0020]

【発明の効果】以上、発明の詳細な説明、実施例、比較
例から明瞭なように、本発明のプラスチック半導体パッ
ケージによれば銀ペーストの吸湿に由来するポップコー
ン現象を著しく改善したプラスチック半導体パッケージ
の製造が可能になるものであり、その意義は極めて高い
ものである。
As is clear from the detailed description of the invention, the examples, and the comparative examples, according to the plastic semiconductor package of the present invention, a plastic semiconductor package in which the popcorn phenomenon resulting from the moisture absorption of the silver paste is remarkably improved. It can be manufactured, and its significance is extremely high.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路が形成された積層板に半導体チップ
を接着し、半導体チップと回路が電気的に接続され、少
なくとも半導体チップとの接続部が樹脂で封止されてな
るプラスチック半導体パッケージにおいて、該積層板の
透湿率(JIS Z0208)が、40℃、90%RHの条件で 0.1mmt
当たり 0.60 g/m2/24hr 以下である積層板を使用してな
ることを特徴とするプラスチック半導体パッケージ。
1. A plastic semiconductor package in which a semiconductor chip is bonded to a laminated plate on which a circuit is formed, the semiconductor chip and the circuit are electrically connected, and at least a connecting portion with the semiconductor chip is sealed with a resin, The moisture permeability (JIS Z0208) of the laminate is 0.1 mmt under the conditions of 40 ° C and 90% RH.
Plastic semiconductor package characterized by comprising using a 0.60 g / m 2 / 24hr or less is laminated plate per.
【請求項2】 該積層板が、ガラスフィラメントの間隔
を広げてなる通気度(JIS L 1079) 10 cm3/cm2/sec 以下
のガラスクロス及び熱硬化性樹脂からなることを特徴と
する請求項1記載のプラスチック半導体パッケージ。
2. The laminated plate is made of a glass cloth and a thermosetting resin having an air permeability (JIS L 1079) of 10 cm 3 / cm 2 / sec or less formed by widening the intervals of glass filaments. Item 2. The plastic semiconductor package according to item 1.
【請求項3】 該熱硬化性樹脂が、ガラス転移温度 170
℃以上であり、シアネート樹脂を少なくとも一成分とす
ることを特徴とする請求項1記載のプラスチック半導体
パッケージ。
3. The thermosetting resin has a glass transition temperature of 170
2. The plastic semiconductor package according to claim 1, wherein the temperature is not less than C and the cyanate resin is at least one component.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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