JPH10183086A - Heat-conductive adhesive composition and heat-conductive adhesive film using the composition - Google Patents

Heat-conductive adhesive composition and heat-conductive adhesive film using the composition

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JPH10183086A
JPH10183086A JP8343457A JP34345796A JPH10183086A JP H10183086 A JPH10183086 A JP H10183086A JP 8343457 A JP8343457 A JP 8343457A JP 34345796 A JP34345796 A JP 34345796A JP H10183086 A JPH10183086 A JP H10183086A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a heat-conductive adhesive compsn. and a heatconductive adhesive film which can improve both the heat conductivity and the adhesion and possess excellent moisture resistance, heat resistance, insulation reliability, cracking resistance, and flexibility. SOLUTION: This heat-conductive adhesive compsn. comprises: 100 pts.wt. in total of an epoxy resin and a curing agent; 1 to 40 pts.wt. high-mol.wt. resin which is compatible with an epoxy resin and has a wt. average mol.wt. of not less than 30,000; 20 to 100 pts.wt. high-mol.wt. resin, with a wt. average mol.wt. of not less than 100,000, having a reactive functional group, 0.1 to 5 pts.wt. curing accelerator; and an inorg. filler in an amt. of 60 to 200 pts.vol. based on 100 pts.vol. resin. The heat-conductive adhesive film is prepd. by coating a substrate with the above compsn. and bringing the degree of curing of the coating to such a state that heat generation in an amt. of 10 to 40% of the total curing calorific value as measured by DSC(differential scanning calorimetry) has been completed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱伝導性接着剤組
成物及び該熱伝導性接着剤組成物をフィルムにした熱伝
導性接着フィルムに関する。
The present invention relates to a heat conductive adhesive composition and a heat conductive adhesive film formed from the heat conductive adhesive composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、多層配線板、PGA、BGAなど
の半導体パッケージに対する配線の高密度化、電子部品
の搭載密度が大きくなり、また、半導体素子も高集積化
して単位面積あたりの発熱量が大きくなるなど、半導体
パッケージからの熱放散をよくすることが望まれるよう
になっている。それに伴うヒートマネージメントが重要
になってきているが、従来、熱伝導性が良い熱硬化系接
着フィルムで、しかも高レベルの耐熱性、耐湿性を有す
るものは得られていなかった。
2. Description of the Related Art In recent years, the density of wiring for semiconductor packages such as multilayer wiring boards, PGAs, and BGAs, the mounting density of electronic components has increased, and the amount of heat generated per unit area has increased due to the high integration of semiconductor elements. It has been desired that heat dissipation from a semiconductor package be improved, for example, as the size increases. Although heat management has become important along with this, hitherto, a thermosetting adhesive film having good heat conductivity and having high levels of heat resistance and moisture resistance has not been obtained.

【0003】従来、熱伝導性接着剤としては、ゴム系粘
接着剤に無機フィラーを添加したものなどが知られてい
る。これは、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエ
ンゴムなどの各種ゴムを主成分とする接着剤であり、こ
れらのゴムは、接着剤の強度、可撓性及び密着性を改善
するために使用されている。
[0003] Conventionally, as a thermally conductive adhesive, a rubber-based adhesive to which an inorganic filler is added has been known. This is an adhesive mainly composed of various rubbers such as acrylic rubber and acrylonitrile butadiene rubber, and these rubbers are used to improve the strength, flexibility and adhesion of the adhesive.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のうち、アクリルゴムを主成分とする系では、高温長時
間処理後の接着力の低下は比較的小さいが、高温時の接
着強さが不十分であるほか、吸湿時の特性低下が大きい
という欠点があった。また、NBRを主成分とする系で
は、高温長時間処理後の接着力の低下が大きいことや、
耐電食性に劣ることなどの欠点があった。特に、PCT
処理等、近年の電子機器の厳しい条件での耐湿性試験を
行った場合の劣化が大きかった。吸湿後のはんだ耐熱性
を向上させたものとしては、特開昭60−243180
号公報に示されるアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
イソシアネート及び無機フィラーを含む接着剤があり、
また特開昭61−138680号公報に示されるアクリ
ル系樹脂、エポキシ樹脂、分子中にウレタン結合を有す
る両末端が第1級アミン化合物及び無機フィラーを含む
接着剤があるが、特開昭60−243180号公報は、
樹脂混合物100重量部に対して無機フィラーを10〜
45重量部添加するものであり、また特開昭61−13
8680号公報は、樹脂混合物100重量部に対して無
機フィラーを10〜100部添加するものであり、熱伝
導性の向上の効果はあまり大きくない。
However, among these, in the system containing acrylic rubber as a main component, the decrease in adhesive strength after long-time high-temperature treatment is relatively small, but the adhesive strength at high temperature is insufficient. In addition to the above, there is a disadvantage that the property is significantly deteriorated when absorbing moisture. Further, in a system containing NBR as a main component, the adhesive strength after long-time treatment at high temperature is greatly reduced,
There were drawbacks such as poor electrical corrosion resistance. In particular, PCT
When a moisture resistance test was performed under severe conditions of recent electronic devices such as processing, deterioration was large. Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-243180 discloses an improved solder heat resistance after moisture absorption.
There is an adhesive containing an acrylic resin, an epoxy resin, a polyisocyanate and an inorganic filler shown in JP-A No.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-138680 discloses an acrylic resin, an epoxy resin, and an adhesive containing a primary amine compound having a urethane bond in the molecule and having both ends terminated with a primary amine compound and an inorganic filler. No. 243180,
10 to 10 parts by weight of the inorganic filler with respect to 100 parts by weight of the resin mixture
45 parts by weight.
No. 8680 discloses that 10 to 100 parts of an inorganic filler is added to 100 parts by weight of a resin mixture, and the effect of improving thermal conductivity is not so large.

【0005】また、ゴムーエポキシ樹脂系接着剤におい
て、反応性を有するアクリルゴム、アクリロニトルリル
ブタジエンゴムなどエポキシ樹脂を混合した接着剤があ
り、これらの接着剤は、高温接着性等が改善されてい
る。
Further, among rubber-epoxy resin adhesives, there are adhesives in which epoxy resins such as reactive acrylic rubber and acrylonitrile butadiene rubber are mixed, and these adhesives have improved high-temperature adhesion and the like. .

【0006】反応性ゴム系接着剤として反応性アクリル
系接着剤は特開平3−181580号公報に示されるよ
うに、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基含
有アクリルエラストマ及びアルキルフェノール、エポキ
シ樹脂、イミダゾリウムトリメリテートからなる接着剤
組成物があり、フレキシブル印刷配線板のベースフィル
ムと銅箔とを接着する分野に用いられる。また光沢面と
の接着性、耐熱性を向上させたものとして特開平7−7
6679号公報のエポキシ基を有するアクリルエラスト
マ60〜80重量部及びアルキルフェノール8〜20重
量部、エポキシ樹脂8〜20重量部、イミダゾール系硬
化剤0.2〜1.0重量部を必須成分とする抵抗回路付
きシートヒーター用接着剤組成物があるほか、特開平7
−173449号公報に示されるように、エポキシ基含
有アクリルゴムを主成分としたエポキシ基含有アクリル
エラストマ系接着剤組成物がある。
As a reactive rubber-based adhesive, a reactive acrylic-based adhesive is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-181580, in which an acrylic elastomer containing a carboxyl group, a hydroxyl group, and an epoxy group, an alkylphenol, an epoxy resin, an imidazolium trioxide. There is an adhesive composition comprising melitate, which is used in the field of bonding a base film of a flexible printed wiring board and a copper foil. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-7 / 1994 improves the adhesiveness to a glossy surface and the heat resistance.
No. 6679, 60-80 parts by weight of an acrylic elastomer having an epoxy group, 8-20 parts by weight of an alkylphenol, 8-20 parts by weight of an epoxy resin, and 0.2-1.0 parts by weight of an imidazole-based curing agent. There is an adhesive composition for a seat heater with a circuit.
As disclosed in JP-A-173449, there is an epoxy group-containing acrylic elastomer-based adhesive composition containing an epoxy group-containing acrylic rubber as a main component.

【0007】これらの接着剤にフィラーを含有すること
により、熱伝導性接着剤を得ることは容易に類推できる
が、これらにフィラーを混合した場合、熱伝導性が向上
するが、同時に接着性が低下する問題点があった。この
理由として、フィラーの割合を高くすると、被着体と接
する接着剤の表面に、接着に寄与しないフィラーが存在
する確率が大きくなり、そのため接着性が低下すると考
えられる。これをさけるために、たとえば、表層に樹脂
のみの薄い層を設けることにより同様の効果が得られる
が、製造コストが大幅に上昇する等の問題があった。
It is easy to guess that a thermal conductive adhesive can be obtained by adding a filler to these adhesives. However, when a filler is mixed with the adhesive, the thermal conductivity is improved, but at the same time, the adhesiveness is reduced. There was a problem of lowering. As a reason for this, it is considered that when the proportion of the filler is increased, the probability that the filler which does not contribute to the adhesion is present on the surface of the adhesive in contact with the adherend is increased, and thus the adhesiveness is reduced. In order to avoid this, for example, the same effect can be obtained by providing a thin layer of only resin on the surface layer, but there is a problem that the manufacturing cost is significantly increased.

【0008】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、熱伝導性及び接着性の両立を図るとともに、
耐湿性、耐熱性、絶縁信頼性、耐クラック性、可撓性に
優れた熱伝導性接着剤組成物及び該組成物を用いた熱伝
導性接着フィルムを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and aims at achieving both thermal conductivity and adhesiveness.
An object of the present invention is to provide a thermally conductive adhesive composition having excellent moisture resistance, heat resistance, insulation reliability, crack resistance, and flexibility, and a thermally conductive adhesive film using the composition.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は(1)エポキシ樹脂及びその硬化剤を合わ
せて100重量部、(2)エポキシ樹脂と相溶性であり
かつ重量平均分子量3万以上の高分子量樹脂1〜40重
量部、(3)反応性の官能基を有する重量平均分子量1
0万以上の高分子量樹脂20〜100重量部、(4)硬
化促進剤0.1〜5重量部及び(5)無機フィラーを、
樹脂100体積部に対して60〜200体積部含む熱伝
導性接着剤組成物である。また本発明は、反応性の官能
基を有する重量平均分子量10万以上の高分子量樹脂が
エポキシ基を1〜10モル%含んだアクリルゴムである
こと、無機フィラーがアルミナであることを特徴とし、
さらに、これらの接着剤組成物を基材上に塗布し、その
硬化度をDSC(示差走査熱分析)を用いて測定した場
合の全硬化発熱量の10〜40%の発熱を終えた状態に
した熱伝導性接着フィルムである。さらに、本発明は、
上記熱伝導性接着剤組成物を金属箔上に塗布または貼付
してなる接着剤付き金属箔に適用した熱伝導性接着フィ
ルムである。
In order to achieve the above object, the present invention provides (1) a total of 100 parts by weight of an epoxy resin and a curing agent thereof, and (2) a weight-average molecular weight compatible with the epoxy resin. 1 to 40 parts by weight of high molecular weight resin of 30,000 or more, (3) weight average molecular weight 1 having a reactive functional group
20 to 100 parts by weight of a high molecular weight resin of 100,000 or more, (4) 0.1 to 5 parts by weight of a curing accelerator and (5) an inorganic filler,
A heat conductive adhesive composition containing 60 to 200 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the resin. Further, the present invention is characterized in that the high-molecular-weight resin having a weight average molecular weight of 100,000 or more having a reactive functional group is an acrylic rubber containing 1 to 10 mol% of an epoxy group, and the inorganic filler is alumina,
Further, these adhesive compositions are applied on a substrate, and the degree of cure is measured by using DSC (differential scanning calorimetry). It is a heat conductive adhesive film obtained. Further, the present invention provides
A heat conductive adhesive film applied to a metal foil with an adhesive obtained by applying or sticking the above heat conductive adhesive composition on a metal foil.

【0010】本発明は多層プリント配線板、PGA、B
GAなどの半導体パッケージ用配線板用に必要な、熱伝
導性と接着性の両立をはかり、さらに、耐湿性、耐熱
性、高温時の接着強さを有する接着剤であり、適度な流
動性を有し、回路充填性、密着性にも優れる。また流動
性の付与と、取扱い性の向上を両立したものである。
The present invention relates to a multilayer printed wiring board, PGA, B
It is an adhesive that has both thermal conductivity and adhesiveness necessary for wiring boards for semiconductor packages such as GA, and has moisture resistance, heat resistance, and adhesive strength at high temperatures. It has excellent circuit filling properties and adhesion. In addition, it imparts both fluidity and improved handleability.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明において使用される(1)
のエポキシ樹脂は、硬化して接着作用を呈するものであ
れば良く制限するものでないが、二官能以上で、分子量
が5,000未満、好ましくは3,000未満のエポキ
シ樹脂が好適に使用される。特に、分子量が500以下
のビスフェノールA型またはビスフェノールF型液状樹
脂を用いると積層時の流動性を向上させることができて
好ましい。分子量が500以下のビスフェノールA型ま
たはビスフェノールF型液状樹脂は、油化シェルエポキ
シ株式会社から、エピコート807、エピコート82
7、エピコート828という商品名で市販されている。
また、ダウケミカル日本株式会社からは、D.E.R.
330、D.E.R.331、D.E.R.361とい
う商品名で市販されている。さらに、東都化成株式会社
から、YD128、YDF170という商品名で市販さ
れている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (1) Used in the present invention
The epoxy resin is not particularly limited as long as it hardens and exhibits an adhesive action, but an epoxy resin having a bifunctional or higher molecular weight of less than 5,000, preferably less than 3,000 is suitably used. . In particular, it is preferable to use a bisphenol A type or bisphenol F type liquid resin having a molecular weight of 500 or less, since the fluidity during lamination can be improved. Bisphenol A type or bisphenol F type liquid resin having a molecular weight of 500 or less is obtained from Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
7, marketed under the trade name Epicoat 828.
In addition, Dow Chemical Japan Co., Ltd. E. FIG. R.
330, D.I. E. FIG. R. 331; E. FIG. R. 361. Further, they are commercially available from Toto Kasei Co., Ltd. under the trade names of YD128 and YDF170.

【0012】高Tg化を目的に多官能エポキシ樹脂を加
えてもよい。多官能エポキシ樹脂としては、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂が例示される。
A polyfunctional epoxy resin may be added for the purpose of increasing the Tg. Examples of the polyfunctional epoxy resin include a phenol novolak epoxy resin and a cresol novolak epoxy resin.

【0013】フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、
日本化薬株式会社から、EPPN−201という商品名
で市販されている。また、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂は、住友化学工業株式会社から、ESCN−0
01、ESCN−195という商品名で、また、前記、
日本化薬株式会社から、EOCN1012、EOCN1
025、EOCN1027という商品名で市販されてい
る。
The phenol novolak type epoxy resin is
It is commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. under the trade name EPPN-201. Cresol novolak type epoxy resin was obtained from Sumitomo Chemical Co., Ltd. as ESCN-0.
01, under the trade name ESCN-195,
EOCN1012, EOCN1 from Nippon Kayaku Co., Ltd.
025, EOCN1027.

【0014】本発明において使用される(1)のエポキ
シ樹脂の硬化剤は、特に制限するものではないが、フェ
ノール性水酸基を1分子中に2個以上有する化合物であ
るフェノールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラッ
ク樹脂、クレゾールノボラック樹脂を用いるのが好まし
い。吸湿時の接着性、耐電食性に優れるからである。
The curing agent for the epoxy resin (1) used in the present invention is not particularly limited, but a phenol novolak resin or a bisphenol novolak resin which is a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule. It is preferable to use a cresol novolak resin. This is because it is excellent in adhesiveness at the time of moisture absorption and electric corrosion resistance.

【0015】このような硬化剤として、大日本インキ化
学工業株式会社から、フェノライトLF2882、フェ
ノライトLF2822、フェノライトTD−2090、
フェノライトTD−2149、フェノライトVH415
0、フェノライトVH4170という商品名で市販され
ている。
As such a curing agent, phenolite LF2882, phenolite LF2822, phenolite TD-2090, and phenolite LF2882 from Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Phenolite TD-2149, Phenolite VH415
0, commercially available under the trade name Phenolite VH4170.

【0016】本発明で用いる(4)の硬化促進剤として
は、各種イミダゾール類を用いるのが好ましい。イミダ
ゾールとしては、2−メチルイミダゾール、2−エチル
−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フ
ェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル
イミダゾリウムトリメリテート等が挙げられる。
As the curing accelerator (4) used in the present invention, various imidazoles are preferably used. Examples of the imidazole include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, and the like.

【0017】イミダゾール類は、四国化成工業株式会社
から、2E4MZ、2PZ−CN、2PZ−CNSとい
う商品名で市販されている。
Imidazoles are commercially available from Shikoku Chemicals Corporation under the trade names 2E4MZ, 2PZ-CN, and 2PZ-CNS.

【0018】本発明において使用される(2)のエポキ
シ樹脂と相溶性でありかつ重量平均分子量3万以上の高
分子量樹脂としては、フェノキシ樹脂、高分子量エポキ
シ樹脂、超高分子量エポキシ樹脂、カルボキシル基を含
む官能基含有ゴムなどが挙げられる。Bステージにおけ
る接着剤のタック性の低減や硬化時の可撓性を向上させ
るため重量平均分子量が3万以上とされる。前記極性の
大きい官能基含有ゴムは、アクリルゴムにカルボキシル
基のような極性が大きい官能基を付加したゴムが挙げら
れる。ここで、エポキシ樹脂と相溶性があるとは、硬化
後にエポキシ樹脂と分離して二つ以上の相に分かれるこ
となく、均質混和物を形成する性質を言う。フェノキシ
樹脂は、東都化成株式会社から、フェトートYP−4
0、フェトートYP−50、フェトートYP−60とい
う商品名で市販されている。
The high molecular weight resin having a weight average molecular weight of 30,000 or more, which is compatible with the epoxy resin (2) used in the present invention, includes phenoxy resin, high molecular weight epoxy resin, ultrahigh molecular weight epoxy resin, and carboxyl group. And functional group-containing rubbers. The weight average molecular weight is set to 30,000 or more in order to reduce the tackiness of the adhesive in the B stage and improve the flexibility at the time of curing. Examples of the rubber having a high polarity functional group include a rubber obtained by adding a high polarity functional group such as a carboxyl group to an acrylic rubber. Here, “compatible with the epoxy resin” refers to a property of forming a homogeneous mixture without being separated from the epoxy resin and being separated into two or more phases after curing. Phenoxy resin was purchased from Toto Kasei Co., Ltd. as Fetote YP-4.
0, Fetote YP-50 and Fetote YP-60.

【0019】高分子量エポキシ樹脂は、分子量が3〜8
万の高分子量エポキシ樹脂、さらには、分子量が8万を
超える超高分子量エポキシ樹脂(特公平7−59617
号、特公平7−59618号、特公平7−59619
号、特公平7−59620号、特公平7−64911
号、特公平7−68327号公報参照)があり、何れも
日立化成工業株式会社で製造している。カルボキシル基
含有アクリロニトリル−ブダジエンゴムは、日本合成ゴ
ム株式会社から、PNR−1という商品名で、また、日
本ゼオン株式会社から、ニポール1072という商品名
で市販されている。上記エポキシ樹脂と相溶性がありか
つ重量平均分子量が3万以上の高分子量樹脂の添加量
は、エポキシ樹脂を主成分とする相(以下エポキシ樹脂
相という)の可撓性の不足、タック性の低減やクラック
等による絶縁性の低下を防止するため1重量部以上、エ
ポキシ樹脂相のTgの低下を防止するため40重量部以
下とされる。
The high molecular weight epoxy resin has a molecular weight of 3-8.
10,000 high molecular weight epoxy resins, and ultrahigh molecular weight epoxy resins having a molecular weight exceeding 80,000 (Japanese Patent Publication No. 7-59617).
No., Tokuhei 7-59618, Tokuhei 7-59619
No., Tokuhei 7-59620, Tokuhei 7-64911
And Japanese Patent Publication No. 7-68327), all of which are manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. Carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber is commercially available from Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. under the trade name PNR-1 and from Zeon Corporation under the trade name Nipol 1072. The amount of the high-molecular-weight resin that is compatible with the epoxy resin and has a weight average molecular weight of 30,000 or more depends on the flexibility of the epoxy resin-based phase (hereinafter referred to as epoxy resin phase) and the tackiness. The amount is set to 1 part by weight or more to prevent reduction in the insulating property due to cracks and the like, and to 40 parts by weight or less to prevent a decrease in Tg of the epoxy resin phase.

【0020】本発明において使用する(3)の反応性の
官能基を有する重量平均分子量10万以上の高分子量樹
脂としては、エポキシ基を含有するアクリルゴム、NB
R等が挙げられる。
The high molecular weight resin having a reactive functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more used in the present invention includes acrylic rubber containing epoxy group, NB
R and the like.

【0021】また、反応性の官能基を有する高分子量樹
脂の重量平均分子量は10万以上200万以下であるこ
とが必要であり、好ましくは80万以上200万以下で
ある。高分子量樹脂の重量平均分子量が10万未満であ
ると、接着フィルムの可撓性が低下するとともに、フロ
ー性が大きくなりすぎてしまい、樹脂の浸出量の制御が
困難になる。また、200万を超えるとフロー性が小さ
くなり、回路充填性の低下等が生じ好ましくない。
Further, the weight average molecular weight of the high molecular weight resin having a reactive functional group needs to be 100,000 or more and 2,000,000 or less, preferably 800,000 or more and 2,000,000 or less. When the weight average molecular weight of the high molecular weight resin is less than 100,000, the flexibility of the adhesive film decreases, and the flow property becomes too large, and it becomes difficult to control the amount of resin leached. On the other hand, if it exceeds 2,000,000, the flowability is reduced, and the circuit filling property is deteriorated, which is not preferable.

【0022】上記反応性の官能基を有する重量平均分子
量10万以上の高分子量樹脂の配合量は、20〜100
重量部とされる。配合量が、20重量部未満であると、
フィルムの強度が小さく、タック性が大きくなるため好
ましくなく、100重量部を越えると高温での絶縁信頼
性の低下、耐熱性の低下、耐湿性の低下が起こるため好
ましくない。
The compounding amount of the high molecular weight resin having a reactive functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more is 20 to 100.
Parts by weight. When the amount is less than 20 parts by weight,
It is not preferable because the strength of the film is small and the tackiness becomes large, and if it exceeds 100 parts by weight, the insulation reliability at high temperatures, the heat resistance, and the moisture resistance decrease, which is not preferable.

【0023】本発明では、接着剤として異種材料間の界
面結合をよくするために、カップリング剤を配合するこ
ともできる。カップリング剤としては、シランカップリ
ング剤が好ましい。シランカップリング剤としては、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエト
キシシラン、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン等が挙げられる。
In the present invention, a coupling agent may be blended as an adhesive in order to improve interfacial bonding between different materials. As the coupling agent, a silane coupling agent is preferable. As a silane coupling agent, γ
-Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, N-β-aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like. Can be

【0024】前記したシランカップリング剤は、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランがNUC A−
187、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランが
NUC A−189、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シランがNUC A−1100、γ−ウレイドプロピル
トリエトキシシランがNUC A−1160、N−β−
アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
がNUC A−1120という商品名で、いずれも日本
ユニカー株式会社から市販されている。
The above-mentioned silane coupling agent is such that γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is NUC A-
187, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane is NUC A-189, γ-aminopropyltriethoxysilane is NUC A-1100, γ-ureidopropyltriethoxysilane is NUC A-1160, N-β-
Aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane is commercially available from Nippon Unicar Co., Ltd. under the trade name NUC A-1120.

【0025】カップリング剤の配合量は、添加による効
果や耐熱性およびコストから、樹脂100重量部に対し
0.1〜10重量部を添加するのが好ましい。
The amount of the coupling agent to be added is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin in view of the effect of the addition, heat resistance and cost.

【0026】さらに、イオン性不純物を吸着して、吸湿
時の絶縁信頼性をよくするために、イオン捕捉剤を配合
することができる。イオン捕捉剤の配合量は、添加によ
る効果や耐熱性、コストより、5〜10重量部が好まし
い。イオン捕捉剤としては、銅がイオン化して溶け出す
のを防止するため銅害防止剤として知られる化合物、例
えば、トリアジンチオール化合物、ビスフェノール系還
元剤を配合することもできる。ビスフェノール系還元剤
としては、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−
6−第3−ブチルフェノール)、4,4’−チオ−ビス
−(3−メチル−6−第3−ブチルフェノール)等が挙
げられる。トリアジンチオール化合物を成分とする銅害
防止剤は、三協製薬株式会社から、ジスネットDBとい
う商品名で市販されている。またビスフェノール系還元
剤を成分とする銅害防止剤は、吉富製薬株式会社から、
ヨシノックスBBという商品名で市販されている。
Further, in order to adsorb ionic impurities and improve insulation reliability at the time of moisture absorption, an ion scavenger can be blended. The compounding amount of the ion scavenger is preferably 5 to 10 parts by weight in view of the effect, heat resistance and cost of the addition. As the ion scavenger, a compound known as a copper harm inhibitor, for example, a triazine thiol compound or a bisphenol-based reducing agent for preventing ionization and dissolution of copper can also be blended. As the bisphenol-based reducing agent, 2,2′-methylene-bis- (4-methyl-
6-tert-butylphenol), 4,4'-thio-bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol) and the like. A copper damage inhibitor containing a triazine thiol compound as a component is commercially available from Sankyo Pharmaceutical Co., Ltd. under the trade name Disnet DB. In addition, a copper damage inhibitor containing a bisphenol-based reducing agent as a component is available from Yoshitomi Pharmaceutical Co., Ltd.
It is marketed under the trade name Yoshinox BB.

【0027】また、無機イオン吸着剤としては、東亜合
成化学工業株式会社から、ジルコニウム系化合物を成分
とするものがIXE−100という商品名で、アンチモ
ンビスマス系化合物を成分とするものがIXE−600
という商品名で、マグネシウムアルミニウム系化合物を
成分とするものがIXE−700という商品名で、市販
されている。また、ハイドロタルサイトは、協和化学工
業から、DHT−4Aという商品名で市販されているも
のがある。
As the inorganic ion adsorbent, a product containing a zirconium-based compound as a component IX-100 from Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd. and a product containing an antimony bismuth-based compound as a component IXE-600 are available.
And a product containing a magnesium aluminum compound as a component under the trade name IXE-700. Further, there is a hydrotalcite that is commercially available from Kyowa Chemical Industry under the trade name of DHT-4A.

【0028】さらに、本発明においては(5)の無機フ
ィラーを樹脂100体積部に対して60〜200体積部
配合する。無機フィラーの配合は、接着フィルムの熱伝
導性をよくすること、難燃性を与えること、溶融粘度を
調整すること、チクソトロピック性を付与すること、表
面硬度の向上などを目的とするものである。無機フィラ
ーの配合量が樹脂100体積部に対して60体積部未満
であると、配合の効果が少なく、200体積部を越えて
配合すると、接着剤の可撓性低下、接着性の低下、ボイ
ド残存による耐電圧の低下等の問題が発生する。なお、
100部以上を配合する場合には、パッキングのよい適
切な粒度分布を有するものを使用する必要がある。
Further, in the present invention, 60 to 200 parts by volume of the inorganic filler (5) is blended with respect to 100 parts by volume of the resin. The purpose of the inorganic filler is to improve the thermal conductivity of the adhesive film, to provide flame retardancy, to adjust the melt viscosity, to provide thixotropic properties, and to improve the surface hardness. is there. If the compounding amount of the inorganic filler is less than 60 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the resin, the effect of the compounding is small, and if the compounding amount exceeds 200 parts by volume, the flexibility of the adhesive is reduced, the adhesiveness is reduced, and voids are reduced. Problems such as lowering of the withstand voltage due to the residual occur. In addition,
In the case where 100 parts or more are blended, it is necessary to use one having an appropriate particle size distribution with good packing.

【0029】無機フィラーとしては、水酸化アルミニウ
ム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、ケイ酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化マグ
ネシウム、アルミナ、窒化アルミニウム、ほう酸アルミ
ウイスカ、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、
炭化ケイ素などが挙げられる。
As the inorganic filler, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, aluminum nitride, aluminum borate whisker, boron nitride, crystalline silica, amorphous Silica,
And silicon carbide.

【0030】特に、熱伝導性をよくするためには、アル
ミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、結晶性シリカ、
非晶性シリカ、炭化ケイ素が好ましい。
In particular, in order to improve thermal conductivity, alumina, aluminum nitride, boron nitride, crystalline silica,
Amorphous silica and silicon carbide are preferred.

【0031】この内、アルミナは、熱伝導性が良く、耐
熱性、絶縁性が良好な点で好適である。また、結晶性シ
リカまたは非晶性シリカは、熱伝導性の点ではアルミナ
より劣るが、イオン性不純物が少ないため、PCT処理
時の絶縁性が高く、銅箔、アルミ線、アルミ板等の腐食
が少ない点で好適である。
Of these, alumina is preferred because of its good thermal conductivity, good heat resistance and good insulation. In addition, crystalline silica or amorphous silica is inferior to alumina in terms of thermal conductivity, but has less ionic impurities, so it has high insulation properties during PCT treatment, and corrodes copper foil, aluminum wire, aluminum plate, etc. Is preferred in that there is little.

【0032】難燃性を与えるためには、水酸化アルミニ
ウム、水酸化マグネシウムが好ましい。溶融粘度調整や
チクトロピック性の付与の目的には、水酸化アルミニウ
ム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化マグシウム、アルミナ、結晶性シリ
カ、非晶性シリカが好ましい。
In order to provide flame retardancy, aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are preferred. Aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, crystalline silica, amorphous silica Silica is preferred.

【0033】表面硬度の向上に関しては、短繊維アルミ
ナ及びチタン酸カリウム、硫酸カルシウム、酸化亜鉛、
ほう酸アルミニウム等の無機ウイスカが好ましい。ま
た、本発明では、金属フィラーとして、銅、銀、アル
ミ、チタン及びそれらの合金の粉末や短繊維状のものを
使用することができる。さらに、半導体フィラーである
シリコン粉末、炭化ケイ素粉末等も使用することができ
る。
Regarding the improvement of surface hardness, short fiber alumina and potassium titanate, calcium sulfate, zinc oxide,
Inorganic whiskers such as aluminum borate are preferred. Further, in the present invention, as the metal filler, powders of copper, silver, aluminum, titanium, and alloys thereof and short fiber-like powders can be used. Further, silicon powder, silicon carbide powder, or the like, which is a semiconductor filler, can also be used.

【0034】本発明の熱伝導性接着剤組成物は、ワニス
としてそのまま使用するほか、各成分を溶剤に溶解・分
散してワニスとし、基材上に塗布し、加熱して溶剤を除
去してフィルム状態で使用することが可能である。ワニ
ス化の溶剤は、比較的低沸点の、メチルエチルケトン、
アセトン、メチルイソブチルケトン、2−エトキシエタ
ノール、トルエン、ブチルセルソルブ、メタノール、エ
タノール、2−メトキシエタノールなどを用いるのが好
ましい。また、塗膜性を向上するなどの目的で、高沸点
溶剤を加えても良い。高沸点溶剤としては、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、メチルピロリド
ン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。ワニスの製造
は、無機フィラーの分散を考慮した場合には、らいかい
機、3本ロール及びビーズミル等により、またこれらを
組み合わせて行なうことができる。フィラーと低分子量
物をあらかじめ混合した後、高分子量物を配合すること
により、混合に要する時間を短縮することも可能とな
る。また、ワニスとした後、真空脱気によりワニス中の
気泡を除去することが好ましい。基材としては、ポリエ
ステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレ
ンフィルム、ポリイミドフィルム等やそれらを離型処理
したフィルムなどを使用することができる。
The heat conductive adhesive composition of the present invention can be used as a varnish as it is, or by dissolving and dispersing each component in a solvent to form a varnish, coating the composition on a substrate, and heating to remove the solvent. It can be used in a film state. The varnishing solvent is relatively low boiling point, methyl ethyl ketone,
It is preferable to use acetone, methyl isobutyl ketone, 2-ethoxyethanol, toluene, butyl cellosolve, methanol, ethanol, 2-methoxyethanol and the like. Further, a high boiling point solvent may be added for the purpose of improving the coating properties. Examples of the high boiling point solvent include dimethylacetamide, dimethylformamide, methylpyrrolidone, cyclohexanone and the like. The production of the varnish can be carried out by a mill, a three-roll mill, a bead mill or the like, or a combination thereof, in consideration of the dispersion of the inorganic filler. By mixing the filler and the low molecular weight material in advance and then blending the high molecular weight material, the time required for mixing can also be reduced. After the varnish is formed, it is preferable to remove bubbles in the varnish by vacuum degassing. As the substrate, a polyester film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film, or the like, or a film obtained by subjecting them to a release treatment can be used.

【0035】さらに、銅箔やアルミニウム箔等の金属箔
を基材として使用することができる。金属箔を基材とし
て使用し、本発明の接着剤組成物を塗布することによ
り、接着剤付きの金属箔として、さらに、アルミニウム
板、銅板上にスクリーン印刷または塗布したり、フィル
ムを貼付けして使用することも可能である。これらの金
属箔は、マット処理等の粗面化処理を行っていることが
好ましい。
Further, a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil can be used as the base material. Using a metal foil as a substrate, by applying the adhesive composition of the present invention, as a metal foil with an adhesive, further, aluminum plate, screen printing or coating on a copper plate, or by pasting a film It is also possible to use. These metal foils are preferably subjected to a surface roughening treatment such as a mat treatment.

【0036】これらに接着剤組成物ワニスを塗布または
印刷した後、溶剤を乾燥し接着剤の若干の硬化を行う必
要がある。
After the adhesive composition varnish is applied or printed on these, it is necessary to dry the solvent to slightly cure the adhesive.

【0037】上記プラスチックフィルム等の基材上に接
着剤ワニスを塗布し、加熱乾燥して溶剤を除去するが、
これにより得られる接着フィルムは、DSCを用いて測
定した全硬化発熱量の10〜40%の発熱を終えた状態
とされる。溶剤を除去する際に加熱するが、この時、接
着剤組成物の硬化反応が進行しゲル化してくる。その際
の硬化状態が接着剤の流動性に影響し、接着性や取扱い
性を適正化する。DSC(示差走査熱分析)は、測定温
度範囲内で、発熱、吸熱の無い標準試料との温度差をた
えず打ち消すように熱量を供給または除去するゼロ位法
を測定原理とするものであり、測定装置が市販されてお
りそれを用いて測定できる。樹脂組成物の反応は、発熱
反応であり、一定の昇温速度で試料を昇温していくと、
試料が反応し熱量が発生する。その発熱量をチャートに
出力し、ベースラインを基準として発熱曲線とベースラ
インで囲まれた面積を求め、これを発熱量とする。室温
から250℃まで5〜10℃/分の昇温速度で測定し、
上記した発熱量を求める。これらは、全自動で行なうも
のもあり、それを使用すると容易に行なうことができ
る。つぎに、上記ベースフィルムに塗布し、乾燥して得
た接着剤の発熱量は、つぎのようにして求める。まず、
25℃で真空乾燥器を用いて溶剤を乾燥させた未硬化試
料の全発熱量を測定し、これをA(J/g)とする。つ
ぎに、塗工、乾燥した試料の発熱量を測定し、これをB
とする。試料の硬化度C(%)(加熱、乾燥により発熱
を終えた状態)は、つぎの数1で与えられる。
An adhesive varnish is applied on a base material such as the above plastic film and dried by heating to remove the solvent.
The adhesive film thus obtained is in a state where heat generation of 10 to 40% of the total curing calorific value measured using DSC has been completed. Heat is applied when the solvent is removed. At this time, the curing reaction of the adhesive composition proceeds and gels. The cured state at that time affects the fluidity of the adhesive, and optimizes adhesiveness and handleability. The DSC (differential scanning calorimetry) is based on a zero-position method of supplying or removing a calorific value so as to constantly cancel the temperature difference between a standard sample having no heat generation and heat absorption within a measurement temperature range. The device is commercially available and can be measured using it. The reaction of the resin composition is an exothermic reaction, and when the sample is heated at a constant heating rate,
The sample reacts and generates heat. The calorific value is output to a chart, and a heating curve and an area surrounded by the base line are obtained based on the base line, and this is defined as a calorific value. Measured from room temperature to 250 ° C at a heating rate of 5 to 10 ° C / min,
The calorific value described above is obtained. Some of these are performed automatically, and can be easily performed by using them. Next, the calorific value of the adhesive obtained by applying and drying the above base film is determined as follows. First,
The total calorific value of the uncured sample obtained by drying the solvent using a vacuum dryer at 25 ° C. is measured, and this is defined as A (J / g). Next, the calorific value of the coated and dried sample was measured.
And The curing degree C (%) of the sample (the state in which heat generation is completed by heating and drying) is given by the following equation (1).

【0038】[0038]

【数1】C(%)=(A−B)×100/A## EQU1 ## C (%) = (A−B) × 100 / A

【0039】熱伝導性接着フィルムの硬化度について
は、DSCを用いて測定した場合の全硬化発熱量の10
〜40%の発熱を終えた状態にすることが必要である。
The degree of curing of the heat conductive adhesive film was 10% of the total curing calorific value when measured using DSC.
It is necessary to end the heating up to 40%.

【0040】硬化度が10%未満の場合、網目構造が十
分発生していないため、液状成分、無機フィラーがとも
に流動し、被着面と接着するため、接着性が低下する点
で好ましくない。また、硬化度が40%を越えると、網
目構造が密になり、その他の液状成分まで硬化するた
め、液状成分、無機フィラーの流動性が低下し、接着性
が低下するので好ましくない。
If the degree of cure is less than 10%, the network structure is not sufficiently generated, so that the liquid component and the inorganic filler flow together and adhere to the surface to be adhered, which is not preferred in that the adhesiveness is reduced. On the other hand, if the degree of curing exceeds 40%, the network structure becomes dense, and other liquid components are cured, so that the fluidity of the liquid component and the inorganic filler is reduced, and the adhesiveness is undesirably reduced.

【0041】本発明の熱伝導性接着剤は、接着剤中の一
部をゲル化させ網目構造を形成させることを特徴として
いる。これにより、網目より小さい液状樹脂の成分は網
目をすり抜けることが可能であるのに対して、網目より
大きい多量に添加した無機フィラーは網目をすり抜ける
ことができないため移動できず、液状樹脂成分は被着体
と接する接着剤表面に浸み出し、接着に寄与するが、無
機フィラーは接着剤表面に浸み出してこないため、接着
性が低下することがないと考えられる。すなわち被着体
表面には樹脂のみが選択的に浸み出すため、接着性が良
好となり、かつ熱伝導性が良好な熱伝導性接着フィルム
とすることができる。
The heat conductive adhesive of the present invention is characterized in that a part of the adhesive is gelled to form a network structure. As a result, components of the liquid resin smaller than the network can pass through the network, whereas inorganic fillers added in a larger amount than the network cannot move through the network because they cannot pass through the network. Although it oozes out on the surface of the adhesive in contact with the adherend and contributes to adhesion, it is considered that the inorganic filler does not ooze out on the surface of the adhesive, so that the adhesiveness does not decrease. That is, since only the resin selectively oozes out onto the surface of the adherend, the adhesiveness becomes good and a heat conductive adhesive film having good heat conductivity can be obtained.

【0042】またこれに付随する本発明の接着剤の特徴
として、熱伝導性接着剤組成物中のエポキシ基含有アク
リルゴムやエポキシ樹脂等のエポキシ樹脂の混合比率が
大きいことである。エポキシ樹脂はTgが比較的高く、
かつ、耐湿性が良好であるため、エポキシ樹脂混合比を
大きくすることで、耐湿性、耐熱性の向上が図られる。
A feature of the adhesive according to the present invention is that the mixing ratio of epoxy resin such as acrylic rubber containing epoxy group and epoxy resin in the heat conductive adhesive composition is large. Epoxy resin has relatively high Tg,
In addition, since the moisture resistance is good, the moisture resistance and the heat resistance can be improved by increasing the mixing ratio of the epoxy resin.

【0043】以上をまとめると、以下のような特徴を有
する。 1)未反応のエポキシ樹脂の成分が多数残存しているた
め、圧力がかかった場合、ゲル中より未反応成分が浸み
だすため、フィラーを多量に含む場合でも接着性の低下
や回路充填性の低下が少ない。すなわち、接着剤組成物
の乾燥時に、反応性の官能基を有する重量平均分子量1
0万以上の高分子量樹脂であるアクリルゴムに含まれる
エポキシ基及びエポキシ樹脂がともに反応するが、アク
リルゴムは分子量が大きく、1分子鎖中にエポキシ基が
多く含まれるため、反応が若干進んだ場合でもゲル化す
る。(通常、DSCを用いて測定した場合の全硬化発熱
量の10〜40%の発熱を終えた状態、すなわちAまた
はBステージ前半の段階でゲル化がおこる。)そのた
め、エポキシ樹脂等の未反応成分を多く含んだ状態でゲ
ル化しており、溶融粘度がゲル化していない場合に比べ
て、大幅に増大しており、流動性が低い。 2)エポキシ樹脂を主成分としたことで、耐湿性の向上
がはかられる。 3)分子量の大きい高分子量樹脂を使用することで、接
着フィルムのフィルム強度、可撓性を発揮できる。 4)本発明で規定したエポキシ基含有アクリルゴムを使
用することにより、耐電圧、耐電食性の特性を付与でき
る。 5)無機フィラーを混合することで、タック性の低減を
はかれる。 6)高分子量樹脂がゲル化しているため、エポキシ樹脂
の未反応成分が多数残存している場合に圧力をかけたと
しても、未反応成分が極端に流動し多量の浸み出しを発
生し、接続端子を覆う等の不良が発生しない。 7)接着剤がエポキシ樹脂等の未反応成分を多く含んだ
状態でフィルム化できるため接着シートのライフ(有効
使用期間)が長くなるという利点がある。 8)上記の効果に加えて、接着剤の熱伝導性向上、接着
剤に難燃性を付与、接着時の温度において適正な粘度を
もたせること、表面硬度の向上等の特性を付与できる。 以下、本発明に係る熱伝導性接着剤組成物及びその組成
物を用いた熱伝導性接着フィルムについて実施例により
具体的に説明する。
The above features are summarized as follows. 1) Since many unreacted epoxy resin components remain, when pressure is applied, unreacted components leach out of the gel. Therefore, even when a large amount of filler is contained, the adhesiveness is reduced and the circuit filling property is reduced. Less decrease. That is, when the adhesive composition is dried, the weight average molecular weight having a reactive functional group is 1
The epoxy group and the epoxy resin contained in the acrylic rubber, which is a high molecular weight resin of 100,000 or more, react with each other, but the acrylic rubber has a large molecular weight and contains a large number of epoxy groups in one molecular chain, so the reaction has proceeded slightly. Even if it gels. (Normally, gelation occurs in the state where heating of 10 to 40% of the total curing calorific value measured by DSC is completed, that is, gelation occurs in the first half of the A or B stage.) It is gelled in a state containing many components, the melt viscosity is significantly increased and the fluidity is low as compared with the case where it is not gelled. 2) Moisture resistance is improved by using epoxy resin as a main component. 3) By using a high molecular weight resin having a large molecular weight, the film strength and flexibility of the adhesive film can be exhibited. 4) By using the epoxy group-containing acrylic rubber specified in the present invention, it is possible to impart a withstand voltage and an electrolytic corrosion resistance. 5) By mixing an inorganic filler, tackiness can be reduced. 6) Since the high molecular weight resin is gelled, even if pressure is applied when a large number of unreacted components of the epoxy resin remain, the unreacted components flow extremely and a large amount of leaching occurs, No defect such as covering the connection terminal occurs. 7) Since the adhesive can be formed into a film with a large amount of unreacted components such as an epoxy resin, there is an advantage that the life (effective use period) of the adhesive sheet is extended. 8) In addition to the above effects, it is possible to impart properties such as improving the thermal conductivity of the adhesive, imparting flame retardancy to the adhesive, giving an appropriate viscosity at the temperature at the time of bonding, and improving the surface hardness. Hereinafter, the heat conductive adhesive composition according to the present invention and the heat conductive adhesive film using the composition will be specifically described with reference to Examples.

【0044】[0044]

【実施例】【Example】

<実施例1>以下に示す組成物より熱伝導性接着フィル
ムを作製した。
<Example 1> A heat conductive adhesive film was prepared from the composition shown below.

【0045】エポキシ樹脂としてビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂(エポキシ当量=200、油化シェルエポキ
シ株式会社製商品名、エピコート828を使用した)4
5重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友
化学工業株式会社製商品名、ESCN001を使用し
た)15重量部と硬化剤としてビスフェノールA型ノボ
ラック樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製商品名、
プライオ−フェンLF2882を使用した)40重量
部、そしてエポキシ樹脂と相溶性でありかつ重量平均分
子量が3万以上の高分子量樹脂としてフェノキシ樹脂
(分子量5万、東都化成株式会社製商品名、フェトート
YP−50を使用した)15重量部、反応性の官能基を
有する重量平均分子量10万以上の高分子量樹脂として
エポキシ基含有アクリルゴム(分子量100万、帝国化
学産業株式会社製商品名、HTR−860P−3を使用
した)45重量部、硬化促進剤として1−シアノエチル
−2−メチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製商
品名、キュアゾール2PZ−CN)0.5重量部、γ−
グリシドキシプロピルトリトメキシシラン(日本ユニカ
ー株式会社製商品名、NUC A−187を使用した)
0.5重量部からなる組成物に、メチルエチルケトンを
加え、さらに無機フィラーとして平均粒径0.4μmの
アルミナ(昭和電工株式会社製商品名、AL−160−
SG−1を使用した)150重量部と平均粒径5μmの
アルミナ(昭和電工株式会社製商品名、AS−50を使
用した)100重量部を加えた。これをビーズミルで混
合し、さらにメチルエチルケトンを加えて粘度を調整
し、真空脱気した。得られたワニスを、基材として厚さ
70μmの離型処理ポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に塗布し、110℃で15分間加熱乾燥して、フィ
ルム厚みが0.1mmのBステージ状態の熱伝導性接着
フィルムを作製した。なおこの状態での接着フィルムの
硬化度は、DSC(デュポン社製912型DSC)を用
いて測定(昇温速度、10℃/分)した結果、全硬化発
熱量の20%の発熱を終えた状態であった。
Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent = 200, trade name, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., Epicoat 828) was used as the epoxy resin.
5 parts by weight, 15 parts by weight of cresol novolak type epoxy resin (trade name of ESCN001 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and bisphenol A type novolak resin (trade name of Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) as a curing agent,
Phenoxy resin (molecular weight: 50,000, trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., Fetoto YP) was used as a high-molecular-weight resin having a weight-average molecular weight of 30,000 or more, which was 40 parts by weight using Pryofen LF2882. Acrylic rubber containing epoxy groups (molecular weight: 1,000,000, trade name, HTR-860P, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) as a high-molecular weight resin having a reactive functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more, 45 parts by weight, 0.5 part by weight of 1-cyanoethyl-2-methylimidazole (trade name, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd., Curesol 2PZ-CN) as a curing accelerator, γ-
Glycidoxypropyl tritomexisilane (NUC A-187 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. was used)
To a composition consisting of 0.5 parts by weight, methyl ethyl ketone is added, and alumina having an average particle size of 0.4 μm (AL-160-, trade name, manufactured by Showa Denko KK) is further used as an inorganic filler.
150 parts by weight (using SG-1) and 100 parts by weight of alumina (using AS-50, trade name, manufactured by Showa Denko KK) having an average particle size of 5 μm were added. This was mixed with a bead mill, and the viscosity was adjusted by further adding methyl ethyl ketone, followed by vacuum degassing. The obtained varnish is applied on a release-treated polyethylene terephthalate film having a thickness of 70 μm as a base material, and dried by heating at 110 ° C. for 15 minutes. Was prepared. The degree of cure of the adhesive film in this state was measured using DSC (912 type DSC manufactured by DuPont) (heating rate, 10 ° C./min). As a result, heat generation of 20% of the total curing calorific value was completed. Condition.

【0046】<実施例2>アルミナを平均粒径5μmの
アルミナ400重量部にしたこととフェノキシ樹脂(分
子量5万、東都化成株式会社製商品名、フェトートYP
−50を使用した)を2重量部に変更したこと以外は実
施例1と同様の方法で接着フィルムを作製した。なおこ
の状態での接着フィルムの硬化度は、DSCを用いて測
定した結果、全硬化発熱量の15%の発熱を終えた状態
であった。
<Example 2> A 400 parts by weight of alumina having an average particle size of 5 μm and a phenoxy resin (molecular weight: 50,000, trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., Fetote YP) were used.
(Using -50) was changed to 2 parts by weight to produce an adhesive film in the same manner as in Example 1. The degree of cure of the adhesive film in this state was measured using a DSC, and as a result, the heat generation was 15% of the total curing calorific value.

【0047】上記<実施例1><実施例2>の配合組成
を表1に示す。
<Example 1> Table 1 shows the composition of <Example 2>.

【0048】[0048]

【表1】 ―――――――――――――――――――――――――――――― 項目 品名 実施例1 実施例2 ―――――――――――――――――――――――――――――― エポキシ樹脂 エヒ゜コート828 45 45 ESCN-001 15 15 硬化剤 フ゜ライオ-フェンLF2882 40 40 相溶性高分子量樹脂 YP-50 15 2 反応性高分子量樹脂 HTR-860P-3 45 45 HTR-860 0 0 硬化促進剤 2PZ-CN 0.5 0.5シランカッフ゜リンク゛ 剤 NUC A-187 0.5 0.5 無機フィラー AL-160-SG-1 150 0 AS-50 100 400 樹脂100部に対する 68 105 フィラーの体積部 ――――――――――――――――――――――――――――――[Table 1] ―――――――――――――――――――――――――――― Item Product name Example 1 Example 2 ―――――――― ―――――――――――――――――――――― Epoxy resin Ehjicoat 828 45 45 ESCN-001 15 15 Curing agent Phuraio-fen LF2882 40 40 Compatible high molecular weight resin YP-50 15 2 Reactive high molecular weight resin HTR-860P-3 45 45 HTR-860 0 0 Curing accelerator 2PZ-CN 0.5 0.5 Silane coupling agent NUC A-187 0.5 0.5 Inorganic filler AL-160-SG-1 150 0 AS-50 100 400 100 parts of resin 68 105 Filler volume part ――――――――――――――――――――――――――――

【0049】<比較例1>エポキシ基含有アクリルを未
変性アクリルゴム(帝国化学産業株式会社製のHTR−
860)45重量部に変更したほか、実施例1と同様に
して接着フィルムを作製した。
<Comparative Example 1> An epoxy group-containing acrylic was replaced with an unmodified acrylic rubber (HTR- manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.).
860) The adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the weight was changed to 45 parts by weight.

【0050】<比較例2>アルミナの添加量を400重
量部を100重量部にしたこと以外は実施例2と同様の
方法で接着フィルムを作製した。
Comparative Example 2 An adhesive film was prepared in the same manner as in Example 2 except that the amount of alumina was changed from 400 parts by weight to 100 parts by weight.

【0051】<比較例3>アルミナの添加量を400重
量部を700重量部にしたことは以外は実施例2と同様
の方法で接着フィルムを作製した。
Comparative Example 3 An adhesive film was produced in the same manner as in Example 2 except that the amount of alumina was changed from 400 parts by weight to 700 parts by weight.

【0052】<比較例4>実施例1のワニスを、厚さ7
0μmの離型処理ポリエチレンテレフタレートフィルム
上に塗布し、実施例1より高い温度で同じ時間の130
℃で15分間加熱乾燥して、厚み0.1mmの接着フィ
ルムを作製した。なおこの状態での接着剤の硬化度は、
DSCを用いて測定した結果、全硬化発熱量の50%の
発熱を終えた状態であった。
<Comparative Example 4> The varnish of Example 1 was applied to a thickness of 7
0 μm release-treated polyethylene terephthalate film, applied at a higher temperature than in Example 1 for the same time
The resultant was dried by heating at 150 ° C. for 15 minutes to produce an adhesive film having a thickness of 0.1 mm. The curing degree of the adhesive in this state is
As a result of measurement using DSC, it was in a state where heat generation of 50% of the total curing calorific value was completed.

【0053】<比較例5>実施例1のワニスを、厚さ7
0μmの離型処理ポリエチレンテレフタレートフィルム
上に塗布し、実施例1より低い温度で同じ時間である1
00℃で15分間加熱乾燥して、厚み0.1mmの接着
フィルムを作製した。なおこの状態での接着フィルムの
硬化度は、DSCを用いて測定した結果、全硬化発熱量
の7%の発熱を終えた状態であった。
<Comparative Example 5> The varnish of Example 1 was applied to a thickness of 7
0 μm release coated polyethylene terephthalate film, applied at lower temperature than in Example 1 for the same time 1
It was dried by heating at 00 ° C. for 15 minutes to produce an adhesive film having a thickness of 0.1 mm. The degree of cure of the adhesive film in this state was measured using a DSC, and as a result, heat generation of 7% of the total curing calorific value was completed.

【0054】上記<比較例1>〜<比較例5>の配合組
成を表2に示す。
Table 2 shows the composition of <Comparative Example 1> to <Comparative Example 5>.

【0055】[0055]

【表2】 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 項目 品名 比較例1 2 3 4 5 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― エポキシ樹脂 エヒ゜コート828 45 45 45 45 45 ESCN-001 15 15 15 15 15 硬化剤 フ゜ライオ-フェンLF2882 40 40 40 40 40 相溶性高分子量樹脂 YP-50 15 0 0 10 10 反応性高分子量樹脂 HTR-860P-3 0 45 45 45 45 HTR-860 45 0 0
0 0 硬化促進剤 2PZ−CN 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5シランカッフ゜リンク゛ 剤 NUC A-187 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 無機フィラー AL-160-SG-1 150 0 0 150 150 AS-50 100 100 700 100 100 樹脂100部に対する 68 25 210 68 68 フィラーの体積部 ――――――――――――――――――――――――――――――――――――
[Table 2] ―――――――――――――――――――――――――――――――――― Item Item name Comparative example 1 2 3 4 5 ― ――――――――――――――――――――――――――――――――――― Epoxy resin Echicoat 828 45 45 45 45 45 ESCN-001 15 15 15 15 15 Curing agent Periophen LF2882 40 40 40 40 40 Compatible high molecular weight resin YP-50 15 0 0 10 10 Reactive high molecular weight resin HTR-860P-3 0 45 45 45 45 HTR-860 4500
0 0 Curing accelerator 2PZ-CN 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 Silane coupling agent NUC A-187 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 Inorganic filler AL-160-SG-1 150 0 0 150 150 AS-50 100 100 700 100 100 Resin 100 68 25 210 68 68 Volume part of filler ――――――――――――――――――――――――――――――――――――

【0056】次に、実施例1,2及び比較例1〜5によ
り得られた接着フィルムを170℃30分加熱処理して
硬化させ、硬化後の熱伝導性接着フィルムの各種特性を
調べ、その結果を表3に示した。 また、得られた接着
フィルムを、厚さ35μm、50mm×50mmの銅箔
と、厚さ2mm、50mm×50mmのアルミニウム板
とを、温度170℃、圧力1.96MPaで30分間加
熱加圧して接着した。その後、耐電圧測定用として銅箔
の周囲をエッチングして直径20mmの円形部分を残し
た。 またひきはがし強さ測定用として幅10mmの銅
箔を残した。
Next, the adhesive films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 5 were cured by heating at 170 ° C. for 30 minutes, and various characteristics of the cured heat conductive adhesive film were examined. The results are shown in Table 3. In addition, the obtained adhesive film was bonded by heating and pressing a copper foil having a thickness of 35 μm and 50 mm × 50 mm and an aluminum plate having a thickness of 2 mm and 50 mm × 50 mm at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 1.96 MPa for 30 minutes. did. Thereafter, the periphery of the copper foil was etched for withstand voltage measurement to leave a circular portion having a diameter of 20 mm. A copper foil having a width of 10 mm was left for measuring the peeling strength.

【0057】試験方法は以下の通りである。 密着性:温度121℃、相対湿度100%、気圧202
6hPaのプレッシャークッカーにて処理前と96時間
処理後の試験片について、層間に剥離が生じているもの
を不良、層間に剥離が生じていないものを良好とした。
The test method is as follows. Adhesion: temperature 121 ° C, relative humidity 100%, atmospheric pressure 202
With respect to the test pieces before and after the treatment for 96 hours using a pressure cooker of 6 hPa, those having peeled between the layers were regarded as defective, and those without peeling between the layers were regarded as good.

【0058】可撓性:接着フィルムを、25℃で直径1
0mmの円筒に巻きつけ、クラック発生の有無により評
価した。
Flexibility: Adhesive film with a diameter of 1 at 25 ° C.
It was wound around a 0 mm cylinder and evaluated by the presence or absence of cracks.

【0059】耐電圧:温度121℃、相対湿度100
%、気圧2026hPaのプレッシャークッカーにて処
理前と96時間処理後の試験片を絶縁油中に浸漬し、室
温で交流電圧を銅箔とアルミニウム板間に印加し、絶縁
破壊する電圧を測定した。なお、耐電圧の単位はkVで
ある。
Withstand voltage: temperature 121 ° C., relative humidity 100
The test pieces before and after the treatment for 96 hours were immersed in insulating oil using a pressure cooker with a pressure of 2026 hPa and a pressure of 2026 hPa, and an AC voltage was applied between the copper foil and the aluminum plate at room temperature to measure the voltage at which dielectric breakdown occurred. The unit of the withstand voltage is kV.

【0060】浸出量:100mm×100mmの接着フ
ィルムに直径6mmの穴を開けたものと厚さ2mm、1
00mm×100mmのアルミニウム板とを、温度17
0℃、圧力1.96MPaで30分間加熱加圧して接着
した。その後、穴から浸み出した樹脂の長さを測定し、
浸出量とした。浸出量が1.5mm以下のものを良好と
し、それ以上のものを不良と判定した。
Amount of leaching: A 100 mm × 100 mm adhesive film with a 6 mm diameter hole and a thickness of 2 mm,
A 100 mm x 100 mm aluminum plate was heated at a temperature of 17
Heating and pressing were performed at 0 ° C. and a pressure of 1.96 MPa for 30 minutes for bonding. After that, measure the length of resin leached from the hole,
The amount of leaching was used. Those with an leaching amount of 1.5 mm or less were determined to be good, and those with a leaching amount of more than 1.5 mm were determined to be defective.

【0061】回路充填性:パターン(パターン幅0.5
mm、パターン間距離0.5mm)を形成したガラスエ
ポキシ両面板(基材厚さ200μm、銅箔厚さ35μ
m)と100mm×100mmの接着フィルム及び厚さ
2mm、100mm×100mmのアルミニウム板と
を、温度170℃、圧力1.96MPaで30分間加熱
加圧して接着した。その後、断面を光学顕微鏡で観察
し、ガラスエポキシ両面板、接着フィルム、アルミニウ
ム板間にボイドが発生していないものを良好と判定し、
ボイドが発生しているものを不良と判定した。
Circuit filling: pattern (pattern width 0.5)
mm, glass epoxy double-sided board (base material thickness: 200 μm, copper foil thickness: 35 μm)
m) and a 100 mm × 100 mm adhesive film and a 2 mm thick, 100 mm × 100 mm aluminum plate were bonded by heating and pressing at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 1.96 MPa for 30 minutes. After that, the cross section was observed with an optical microscope, and the glass epoxy double-sided board, the adhesive film, those in which no void was generated between the aluminum plates were determined to be good,
Those having voids were determined to be defective.

【0062】加工性:接着フィルムをパンチにて穴明け
を行い、クラック等の発生または、樹脂くずが発生した
ものを不良とし、それがないものを良好した。
Workability: The adhesive film was perforated with a punch, cracks and the like or resin scraps were regarded as defective, and those without such defects were evaluated as good.

【0063】引きはがし強さ:銅箔と基板を90度の角
度で50mm/分の引っ張り速度で剥離した。その他は
JIS C6481に準じた。
Peel strength: The copper foil and the substrate were peeled off at an angle of 90 ° at a pulling speed of 50 mm / min. Others conformed to JIS C6481.

【0064】熱抵抗:得られた接着フィルム(厚み10
0μm)を、厚さ35μm、30mm×30mmの銅箔
と、厚さ2mm、30mm×30mmのアルミニウム板
とを、温度170℃、圧力1.96MPaで30分間加
熱加圧して接着した。その後、銅箔の周囲をエッチング
して、10mm×14mmの長方形の部分を形成した。
この試験片の銅箔にトランジスタ(2SC2233)を
はんだで固着し、アルミニウム板側が放熱ブロックと接
するようにして放熱ブロックの上において、トランジス
タに電流を通じた。そして、トランジスタの温度(T
1)と、放熱ブロックの温度(T2)を測定し、測定値
と印加電力(W)から、次の数式2によって熱抵抗
(X)を算出した。その結果を表3に示す。
Thermal resistance: The obtained adhesive film (thickness 10
0 μm) and a copper foil having a thickness of 35 μm and a size of 30 mm × 30 mm and an aluminum plate having a thickness of 2 mm and a size of 30 mm × 30 mm were bonded by heating and pressing at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 1.96 MPa for 30 minutes. Thereafter, the periphery of the copper foil was etched to form a rectangular portion of 10 mm × 14 mm.
A transistor (2SC2233) was fixed to the copper foil of this test piece with solder, and a current was passed through the transistor on the heat dissipation block so that the aluminum plate side was in contact with the heat dissipation block. Then, the temperature of the transistor (T
1) and the temperature (T2) of the heat radiating block were measured, and the thermal resistance (X) was calculated from the measured value and the applied power (W) by the following equation (2). Table 3 shows the results.

【0065】[0065]

【数2】X=(T1−T2)/W……(数式2)X = (T1-T2) / W (Equation 2)

【0066】熱伝導率:熱伝導率は接着フィルムを用い
熱電導率計を用いて25℃で測定した。
Thermal conductivity: Thermal conductivity was measured at 25 ° C. using a thermoconductivity meter using an adhesive film.

【0067】[0067]

【表3】 [Table 3]

【0068】以上、表3から明らかなように、実施例
1,2は、何れも、エポキシ樹脂及びその硬化剤、反応
性高分子量成分、本発明で規定したエポキシ基含有アク
リルゴムをともに含む接着剤である。これらは、熱伝導
性の尺度である熱抵抗が小さく、また熱伝導率は大きい
ほか、PCT処理後耐電圧、密着性が良好であるほか、
耐クラック性、可撓性、加工性も良好である。浸出量、
回路充填性も良好である。
As is clear from Table 3, Examples 1 and 2 show that each of Examples 1 and 2 has an adhesive containing an epoxy resin and its curing agent, a reactive high molecular weight component, and an epoxy group-containing acrylic rubber specified in the present invention. Agent. These have low thermal resistance, which is a measure of thermal conductivity, have high thermal conductivity, and have good withstand voltage and adhesion after PCT treatment.
Good crack resistance, flexibility and workability. Leaching volume,
Circuit filling is also good.

【0069】また、比較例1は、反応性の高分子量樹脂
を含んでいないため、密着性が低下している。比較例2
は、フィラー量が少なく、熱伝導性は実施例と比較して
悪くなっている。比較例3は、フィラー量が多すぎるた
め、熱伝導性は良好であるが、接着性が低下している
他、可撓性、加工性等も悪くなっている。比較例4は、
絶縁接着層付き銅箔を製造する際に、硬化が進みすぎて
いるため、流動性が悪く、接着性、回路充填性が不良で
ある。比較例5は逆に、硬化が不足しているために、フ
ロー性が低下している。
Further, Comparative Example 1 does not contain a reactive high molecular weight resin, so that the adhesion is low. Comparative Example 2
Has a small amount of filler and has poor thermal conductivity as compared with the examples. In Comparative Example 3, the thermal conductivity was good because the amount of the filler was too large, but the adhesiveness was reduced, and the flexibility and workability were also poor. Comparative Example 4
When a copper foil with an insulating adhesive layer is produced, the curing is excessively advanced, so that the fluidity is poor and the adhesiveness and the circuit filling property are poor. On the contrary, in Comparative Example 5, the flowability is lowered due to insufficient curing.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明に係る熱
伝導性接着剤組成物または、熱伝導性接着フィルムは、
熱伝導性及び接着性の両立が図られている他、耐湿性、
耐熱性、絶縁信頼性、耐クラック性、可撓性に優れてい
るという効果を有する。
As described above, as described above, the heat conductive adhesive composition or the heat conductive adhesive film according to the present invention comprises:
In addition to achieving both thermal conductivity and adhesiveness, moisture resistance,
It has the effect of being excellent in heat resistance, insulation reliability, crack resistance, and flexibility.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (1)エポキシ樹脂及びその硬化剤を合
わせて100重量部、(2)エポキシ樹脂と相溶性であ
りかつ重量平均分子量が3万以上の高分子量樹脂1〜4
0重量部、(3)反応性の官能基を有する重量平均分子
量10万以上の高分子量樹脂20〜100重量部、
(4)硬化促進剤0.1〜5重量部及び(5)無機フィ
ラーを、樹脂100体積部に対して60〜200体積部
含む熱伝導性接着剤組成物。
1. A total of 100 parts by weight of (1) an epoxy resin and a curing agent thereof, and (2) a high-molecular weight resin having a weight-average molecular weight of 30,000 or more, which is compatible with the epoxy resin.
0 parts by weight, (3) 20 to 100 parts by weight of a high molecular weight resin having a reactive functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more,
(4) A heat conductive adhesive composition containing 0.1 to 5 parts by weight of a curing accelerator and (5) 60 to 200 parts by volume of 100 parts by weight of an inorganic filler.
【請求項2】 反応性の官能基を有する重量平均分子量
10万以上の高分子量樹脂がエポキシ基を1〜10モル
%含んだアクリルゴムであることを特徴とする請求項1
に記載の熱伝導性接着剤組成物。
2. A high molecular weight resin having a reactive functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more is an acrylic rubber containing 1 to 10 mol% of an epoxy group.
3. The heat conductive adhesive composition according to item 1.
【請求項3】 無機フィラーがアルミナであることを特
徴とする請求項1または請求項2に記載の熱伝導性接着
剤組成物。
3. The heat conductive adhesive composition according to claim 1, wherein the inorganic filler is alumina.
【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載の熱伝導性接着剤組成物を基材上に塗布し、その硬化
度をDSC(示差走査熱分析)を用いて測定した場合の
全硬化発熱量の10〜40%の発熱を終えた状態にした
ことを特徴とする熱伝導性接着フィルム。
4. A case where the thermally conductive adhesive composition according to any one of claims 1 to 3 is applied on a substrate, and the degree of curing is measured by using DSC (differential scanning calorimetry). A heat conductive adhesive film characterized in that heat generation of 10 to 40% of the total curing calorific value has been completed.
【請求項5】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載の熱伝導性接着剤組成物を金属箔上に塗布または貼付
してなることを特徴とする熱伝導性接着フィルム。
5. A heat conductive adhesive film, wherein the heat conductive adhesive composition according to any one of claims 1 to 3 is applied or stuck on a metal foil.
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Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001060938A1 (en) * 2000-02-15 2001-08-23 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive composition, process for producing the same, adhesive film made with the same, substrate for semiconductor mounting, and semiconductor device
JP2001279197A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film, wiring substrate for mounting semiconductor and semiconductor device provided with adhesive film and method for fabricating them
JP2001279217A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, flame retardant adhesive composition, adhesive film, printed circuit board for mounting semiconductor, semiconductor device and method for producing the same
JP2001329241A (en) * 2000-05-23 2001-11-27 Nitto Denko Corp Thermosetting type adhesive composition and adhesive sheet
JP2002220576A (en) * 2001-01-26 2002-08-09 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, adhesion member, support member for semiconductor loading, semiconductor apparatus or the like
JP2002294192A (en) * 2001-03-29 2002-10-09 Three M Innovative Properties Co Thermally conductive flame-retardant pressure- sensitive adhesive and sheet by forming the same
JP2003193021A (en) * 2001-12-27 2003-07-09 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film with high heat conductivity
JP2004238634A (en) * 1999-06-18 2004-08-26 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive, adhesive member, wiring board having adhesive member and used for packaging semiconductor, and semiconductor device using the board
US6838170B2 (en) 1999-06-18 2005-01-04 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive, adhesive member, interconnecting substrate for semiconductor mounting having adhesive member, and semiconductor device containing the same
WO2005023954A1 (en) * 2003-09-02 2005-03-17 Sony Chemicals Corporation Adhesive agent and method for production thereof
WO2005103180A1 (en) * 2004-04-20 2005-11-03 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive sheet, semiconductor device and process for producing semiconductor device
JP2006183020A (en) * 2004-04-20 2006-07-13 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive sheet, semiconductor device, and method for producing the semiconductor device
KR100651475B1 (en) 2005-11-15 2006-11-29 삼성전기주식회사 Resin for substrate used in imprinting lithography process
CN100351337C (en) * 2000-02-15 2007-11-28 日立化成工业株式会社 Adhesive composition, process for producing the same, adhesive film using the same, substrate for mounting semiconductor and semiconductor device
JP2008069195A (en) * 2006-09-12 2008-03-27 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Heat conductive moisture-curing type adhesive and method for applying the same
JP2009144072A (en) * 2007-12-14 2009-07-02 Sekisui Chem Co Ltd Insulation sheet and laminated structure
WO2010047411A1 (en) * 2008-10-21 2010-04-29 味の素株式会社 Thermosetting resin composition
WO2011083835A1 (en) * 2010-01-08 2011-07-14 大日本印刷株式会社 Adhesive sheet and bonding method using same
JP2012012585A (en) * 2010-05-31 2012-01-19 Toray Ind Inc Adhesive composition for electronic equipment and adhesive sheet for electronic equipment
WO2012039324A1 (en) * 2010-09-22 2012-03-29 日立化成工業株式会社 Heat-conductive resin composition, resin sheet, resin-clad metal foil, cured resin sheet, and heat-dissipating member
KR101369047B1 (en) * 2006-09-13 2014-02-28 다츠다 덴센 가부시키가이샤 Thermally-conductive paste
JPWO2017191801A1 (en) * 2016-05-06 2019-03-07 Dic株式会社 Resin composition, molded body, laminate and adhesive

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004238634A (en) * 1999-06-18 2004-08-26 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive, adhesive member, wiring board having adhesive member and used for packaging semiconductor, and semiconductor device using the board
JP4556472B2 (en) * 1999-06-18 2010-10-06 日立化成工業株式会社 Adhesive, adhesive member, wiring board for semiconductor mounting provided with adhesive member, and semiconductor device using the same
US6838170B2 (en) 1999-06-18 2005-01-04 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive, adhesive member, interconnecting substrate for semiconductor mounting having adhesive member, and semiconductor device containing the same
JP2008193105A (en) * 2000-02-15 2008-08-21 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, manufacturing method thereof, adhesive film using the same, substrate for loading semiconductor, and semiconductor device
US7947779B2 (en) 2000-02-15 2011-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Semiconductor device by adhering circuit substrate with adhesive film of epoxy resin, phenolic resin and incompatible polymer
KR100889101B1 (en) * 2000-02-15 2009-03-17 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Adhesive Composition, Process for Producing the Same, Adhesive Film Made with the Same, Substrate for Semiconductor Mounting, and Semiconductor Device
WO2001060938A1 (en) * 2000-02-15 2001-08-23 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive composition, process for producing the same, adhesive film made with the same, substrate for semiconductor mounting, and semiconductor device
US8119737B2 (en) 2000-02-15 2012-02-21 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, process for producing the same, adhesive film using the same, substrate for mounting semiconductor and semiconductor device
JP2008187189A (en) * 2000-02-15 2008-08-14 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, method for manufacturing the same, adhesive film using the same, substrate for mounting semiconductor, and semiconductor device
CN100351337C (en) * 2000-02-15 2007-11-28 日立化成工业株式会社 Adhesive composition, process for producing the same, adhesive film using the same, substrate for mounting semiconductor and semiconductor device
JP2001279197A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film, wiring substrate for mounting semiconductor and semiconductor device provided with adhesive film and method for fabricating them
JP4505769B2 (en) * 2000-03-31 2010-07-21 日立化成工業株式会社 Adhesive film, wiring board for semiconductor mounting provided with adhesive film, semiconductor device, and manufacturing method thereof
JP2001279217A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, flame retardant adhesive composition, adhesive film, printed circuit board for mounting semiconductor, semiconductor device and method for producing the same
JP2001329241A (en) * 2000-05-23 2001-11-27 Nitto Denko Corp Thermosetting type adhesive composition and adhesive sheet
JP2002220576A (en) * 2001-01-26 2002-08-09 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, adhesion member, support member for semiconductor loading, semiconductor apparatus or the like
JP2002294192A (en) * 2001-03-29 2002-10-09 Three M Innovative Properties Co Thermally conductive flame-retardant pressure- sensitive adhesive and sheet by forming the same
JP2003193021A (en) * 2001-12-27 2003-07-09 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film with high heat conductivity
WO2005023954A1 (en) * 2003-09-02 2005-03-17 Sony Chemicals Corporation Adhesive agent and method for production thereof
JP2006183020A (en) * 2004-04-20 2006-07-13 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive sheet, semiconductor device, and method for producing the semiconductor device
US8017444B2 (en) * 2004-04-20 2011-09-13 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive sheet, semiconductor device, and process for producing semiconductor device
WO2005103180A1 (en) * 2004-04-20 2005-11-03 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive sheet, semiconductor device and process for producing semiconductor device
KR100651475B1 (en) 2005-11-15 2006-11-29 삼성전기주식회사 Resin for substrate used in imprinting lithography process
JP2008069195A (en) * 2006-09-12 2008-03-27 Hitachi Kasei Polymer Co Ltd Heat conductive moisture-curing type adhesive and method for applying the same
KR101369047B1 (en) * 2006-09-13 2014-02-28 다츠다 덴센 가부시키가이샤 Thermally-conductive paste
JP2009144072A (en) * 2007-12-14 2009-07-02 Sekisui Chem Co Ltd Insulation sheet and laminated structure
WO2010047411A1 (en) * 2008-10-21 2010-04-29 味の素株式会社 Thermosetting resin composition
JP5771988B2 (en) * 2008-10-21 2015-09-02 味の素株式会社 Thermosetting resin composition
WO2011083835A1 (en) * 2010-01-08 2011-07-14 大日本印刷株式会社 Adhesive sheet and bonding method using same
US9512335B2 (en) 2010-01-08 2016-12-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Adhesive sheet and bonding method using the same
JP2012012585A (en) * 2010-05-31 2012-01-19 Toray Ind Inc Adhesive composition for electronic equipment and adhesive sheet for electronic equipment
WO2012039324A1 (en) * 2010-09-22 2012-03-29 日立化成工業株式会社 Heat-conductive resin composition, resin sheet, resin-clad metal foil, cured resin sheet, and heat-dissipating member
JPWO2017191801A1 (en) * 2016-05-06 2019-03-07 Dic株式会社 Resin composition, molded body, laminate and adhesive

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