JPH08201791A - Transparent electrode substrate - Google Patents

Transparent electrode substrate

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Publication number
JPH08201791A
JPH08201791A JP1363595A JP1363595A JPH08201791A JP H08201791 A JPH08201791 A JP H08201791A JP 1363595 A JP1363595 A JP 1363595A JP 1363595 A JP1363595 A JP 1363595A JP H08201791 A JPH08201791 A JP H08201791A
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JP
Japan
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transparent electrode
electrode substrate
film
layer
conductive layer
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Application number
JP1363595A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Igarashi
聡 五十嵐
Kazuo Hachiman
一雄 八幡
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH08201791A publication Critical patent/JPH08201791A/en
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Abstract

PURPOSE: To provide a transparent electrode substrate using a plastic film as a substrate having excellent durability and display performance for a display panel, etc. CONSTITUTION: A gas barrier layer is formed with an anchor coat layer interposed on one or both surfaces of a plastic film, and further, a protective layer is formed on one or both surfaces of the laminated body to obtain a laminated substrate. Then a transparent conductive layer is formed on one or both surfaces of the laminated substrate to obtain a transparent electrode substrate. The transparent conductive layer consists of amorphous indium oxide having 95/5 to 85/15 weight ratio of indium/tin and 20 to 200nm film thickness. The plastic film shows optical isotropy with <=20nm retardation and within ±15 deg. variance of the axis of logging has 70 to 200μm thickness. The surface roughness of the laminated substrate where the transparent conductive layer is to be formed is <=4Onm center line average roughness Ra.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、酸素、窒素、二酸化炭
素などの耐透気性、耐水蒸気透過性、平滑性、平面性、
光学特性が良好で、液晶表示パネル等に用いた場合に表
示品位に優れ、その上機械的、熱的、溶剤的影響を受け
ても、その表示品質に劣化を起こさないという信頼性の
高い液晶表示パネル等の表示・照明パネルの電極に好適
な透明電極基板に関し、液晶表示装置の他、光導電性感
光体用電極、面発熱体、有機エレクトロルミネッセンス
用電極などとしても利用できる透明電極基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to gas permeation resistance of oxygen, nitrogen, carbon dioxide, etc., water vapor permeation resistance, smoothness, flatness,
A liquid crystal that has good optical characteristics, excellent display quality when used in liquid crystal display panels, etc., and that does not deteriorate its display quality even when affected by mechanical, thermal and solvent effects. The present invention relates to a transparent electrode substrate suitable for an electrode of a display / illumination panel such as a display panel, and to a transparent electrode substrate that can be used as an electrode for a photoconductive photoconductor, a surface heating element, an electrode for organic electroluminescence, etc., in addition to a liquid crystal display device. .

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示素子には、より軽薄化、
より大型化という要求に加え、長期信頼性、形状の自由
度、曲面表示等の高度な要求がなされている。特に、ペ
イジャー(ポケットベル)、携帯電話、電子手帳、ペン
入力機器など、携帯して移動する事のできる機器の利用
が普及するにつれ、従来の厚く、重く、割れやすいガラ
ス基板に変わって、プラスチックを基板とする透明電極
を用いた液晶パネル等が検討され、一部で実用化し始め
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have become lighter and thinner.
In addition to the demand for larger size, there are high demands such as long-term reliability, freedom of shape, and curved surface display. In particular, as the use of portable and mobile devices such as pagers (pagers), mobile phones, electronic organizers, and pen input devices becomes widespread, the conventional thick, heavy, and fragile glass substrates are replaced by plastics. A liquid crystal panel or the like using a transparent electrode having a substrate as a substrate has been studied, and some have begun to put it into practical use.

【0003】こうしたプラスチック基板は、特開昭56
−130010号公報等に既に記載されており、公知で
ある。
Such a plastic substrate is disclosed in JP-A-56
It has already been described in Japanese Patent Publication No. 130010 and the like and is publicly known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】プラスチックフィルム
基板の透明電極基板は、ガラス基板のものと比較して、
軽くて薄く、形状も自由で、曲面表示の要望を満たして
はいるものの、耐ガス透過性、耐水蒸気透過性、平滑
性、平面性、光学特性、長期信頼性等が劣るという欠点
を持っている。
The transparent electrode substrate of the plastic film substrate is, compared with that of the glass substrate,
It is light and thin, can be freely shaped, and meets the requirements for curved surface display, but has the drawback of being inferior in gas permeation resistance, water vapor permeation resistance, smoothness, flatness, optical characteristics, long-term reliability, etc. There is.

【0005】耐ガス透過性、耐水蒸気透過性が劣るプラ
スチックフィルムの透明電極基板を用いると、例え導電
層自体の耐ガス透過性、耐水蒸気透過性が高くても、実
際に液晶セルとして使用する場合には導電層はエッチン
グされ、パターンニングされるため、導電層のない部分
が生じ、この部分から空気、水蒸気が浸透し、液晶部に
気泡が発生し、表示不能となってディスプレーの表示品
位を劣化させてしまう欠点が生ずる。特に車載用等の過
酷な条件下ではこの欠点が容易に発生し大きな問題とな
る。
When a transparent electrode substrate made of a plastic film having poor gas permeation resistance and water vapor permeation resistance is used, even if the conductive layer itself has high gas permeation resistance and water vapor permeation resistance, it is actually used as a liquid crystal cell. In this case, since the conductive layer is etched and patterned, a part without the conductive layer is generated, air and water vapor permeate from this part, bubbles are generated in the liquid crystal part, it becomes impossible to display and the display quality of the display is displayed. However, there is a drawback that it deteriorates. Especially, under severe conditions such as vehicle mounting, this defect easily occurs and becomes a serious problem.

【0006】また、平滑性、平面性が低い場合、液晶層
のギャップが均一でなくなる上、プラスチックフィルム
基板自体も光学的なムラが発生するため、表示色にむら
が生じる上、均一な電圧対透過率の関係を示さなくな
る。特に熱的耐久性が低い場合には、平面性が損なわれ
易く車載用等の過酷な条件下で大きな問題となる。
Further, when the smoothness and flatness are low, the gap of the liquid crystal layer is not uniform, and the plastic film substrate itself causes optical unevenness, resulting in uneven display color and uniform voltage distribution. The relationship of transmittance is not shown. In particular, when the thermal durability is low, the flatness is likely to be impaired, which becomes a serious problem under severe conditions such as vehicle mounting.

【0007】更に、プラスチックフィルム基板自体に複
屈折性がある場合も、表示の着色・コントラストの低下
等、ディスプレーの表示品位を低下させることになる。
Further, even when the plastic film substrate itself has birefringence, the display quality of the display is deteriorated due to the deterioration of coloring and contrast of the display.

【0008】これらは液晶ディスプレーが、液晶層中で
偏光方向を電気的にスイッチングするという原理に従っ
ているためである。
These are because the liquid crystal display follows the principle of electrically switching the polarization direction in the liquid crystal layer.

【0009】こうした課題に対して、特開昭61−41
122号公報、特開昭63−71829号公報、特開平
3−9323号公報などにはこれらの点を改良するもの
として、種々の改良プラスチックフィルム基板が提案さ
れている。しかしながら、これらに提案されたプラスチ
ック基板は、それぞれ改良された特性を有するが、既に
示した、表示品位に関わる特性及びその長期信頼性を総
合的に十分に満足していないのが現状である。
In order to solve such problems, Japanese Patent Laid-Open No. 61-41
No. 122, JP-A-63-71829 and JP-A-3-9323 propose various improved plastic film substrates to improve these points. However, although the plastic substrates proposed therein have improved properties, respectively, the present condition is that the properties relating to display quality and their long-term reliability, which have already been shown, are not fully satisfied.

【0010】本発明はかかる現状に鑑みなされたもの
で、前述の課題を総合的に解決し、ガラス基板と遜色無
く液晶表示パネル用に用いることができるプラスチック
フィルム基板の透明電極基板を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a transparent electrode substrate which is a plastic film substrate which can solve the above-mentioned problems comprehensively and can be used for a liquid crystal display panel as well as a glass substrate. With the goal.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記の目的は、以下の本
発明により達成される。すなわち、本発明は、プラスチ
ックフィルムの片面または両面に、高分子樹脂からなる
ガスバリア層をアンカーコート層を介して積層し、更に
その積層体の片面または両面に保護層を積層した積層基
板を用い、その最表面の片面または両面に透明導電層を
設けた透明電極基板において、該透明導電層は錫をイン
ジウム/錫の重量比で95/5〜85/15含有する非
結晶性のインジウム酸化物からなり、膜厚が20から2
00nmの範囲にある透明導電層であり、該プラスチッ
クフィルムはリターデーション値が20nm以下で遅相
軸のばらつきが±15度以内の光学等方性を有し、厚さ
が70〜200μmのプラスチックフィルムであり、前
記積層基板の透明導電層を設ける面の表面粗さが中心線
平均粗さRaで40nm以下であることを特徴とする透
明電極基板である。
The above object can be achieved by the present invention described below. That is, the present invention, on one or both sides of the plastic film, a gas barrier layer made of a polymer resin is laminated via an anchor coat layer, further using a laminated substrate having a protective layer laminated on one or both sides of the laminate, In a transparent electrode substrate provided with a transparent conductive layer on one or both surfaces of the outermost surface thereof, the transparent conductive layer is made of an amorphous indium oxide containing tin in an indium / tin weight ratio of 95/5 to 85/15. And the film thickness is 20 to 2
A transparent conductive layer having a thickness of 70 to 200 μm, which is a transparent conductive layer having a retardation value of 20 nm or less and a slow axis variation of ± 15 degrees or less. The surface roughness of the surface of the laminated substrate on which the transparent conductive layer is provided has a center line average roughness Ra of 40 nm or less.

【0012】上述の本発明は、上記の光学等方性のプラ
スチックフィルム上に上記の表面粗さを満足するように
各層を積層した光学等方性と表面平坦性の優れた積層基
板と光学特性に優れた上述の透明導電層を組み合わせる
ことにより、アンカーコート層、ガスバリア層、保護層
を設けて実用上支障のない耐ガス透過性、耐水蒸気透過
性を確保しつつ、最も品質基準が厳しいSTN型の液晶
パネルで必要と言われるセルギャップのばらつきを±5
0nm以下を実現する表面性が得られ、実用上満足でき
る表示品質が得られことを見出し、なされたものであ
る。
The present invention described above is a laminated substrate having excellent optical isotropy and surface flatness obtained by laminating each layer so as to satisfy the above-mentioned surface roughness on the above-mentioned optically isotropic plastic film, and optical characteristics. By combining the above-mentioned transparent conductive layer, which has excellent properties, an anchor coat layer, a gas barrier layer, and a protective layer are provided to ensure gas permeation resistance and water vapor permeation resistance that do not hinder practical use, and STN, which has the strictest quality standards. Variation of the cell gap, which is said to be necessary for a standard LCD panel, is ± 5
It was made by discovering that the surface property realizing 0 nm or less was obtained and the display quality which was practically satisfactory was obtained.

【0013】すなわち、上述のセルギャップへの影響を
含め、透明電極基板の表面性が表示品質に及ぼす影響を
検討したところ、 表面粗さがRaで40nm以下であ
れば問題なく、Ra値が40nmを越えると、液晶セル
を作製した場合に、液晶層の配向に影響を及ぼし動作特
性にムラが生じ、またコントラストのばらつきの原因と
もなることが判った。
That is, when the influence of the surface property of the transparent electrode substrate on the display quality including the above-mentioned influence on the cell gap was examined, no problem was found if the surface roughness Ra was 40 nm or less, and the Ra value was 40 nm. It has been found that when the value exceeds the range, when a liquid crystal cell is manufactured, the alignment of the liquid crystal layer is affected, the operation characteristics are uneven, and the contrast is also varied.

【0014】ところで、透明電極基板の透明導電層の表
面粗さは、透明導電層の膜厚が本発明の範囲であれば、
透明導電層を設ける面の表面粗さがほぼそのまま発現す
るので、上記の知見は換言すれば透明電極基板の中間積
層体である前記積層基板の表面粗さを、Ra値で40n
m以下する必要があることを示している。本発明は、実
施例に示すとおり、上記構成によりこの表面性を十分に
満たし、もって上記表示品質を実現するものである。
By the way, the surface roughness of the transparent conductive layer of the transparent electrode substrate is as long as the thickness of the transparent conductive layer is within the range of the present invention.
Since the surface roughness of the surface on which the transparent conductive layer is provided almost develops as it is, the above-mentioned findings are, in other words, the surface roughness of the above-mentioned laminated substrate, which is an intermediate laminated body of the transparent electrode substrate, as Ra value of 40 n.
It shows that it is necessary to be m or less. As shown in the examples, the present invention sufficiently satisfies this surface property by the above-mentioned constitution and thereby realizes the above display quality.

【0015】ここで、中心線平均粗さRaは、位相シフ
ト干渉法を測定原理に用いているWYCO社製TOPO
−3Dを用い、40倍の倍率でフィルム表面上の辺の長
さが256μmの正方形の面を1μm間隔で測定した時
に得られる中心線平均粗さRaである。
Here, the center line average roughness Ra is TOPO manufactured by WYCO, which uses a phase shift interferometry as a measurement principle.
3D is a center line average roughness Ra obtained by measuring a square surface having a side length of 256 μm on the film surface at a magnification of 40 × at an interval of 1 μm.

【0016】以下、本発明の詳細を説明する。The details of the present invention will be described below.

【0017】本発明では、基板のプラスチックフィルム
には、上述の通り、透明電極基板として、表示の着色や
コントラストの低下を抑え、表示品位が優れた液晶表示
パネル、具体的にはSTN等の大型パネルで単純マトリ
ックス駆動で精細な表示を行う液晶表示パネルの色相ム
ラを実用上問題の無い範囲にするためには、リターデー
ション値が20nm以下、かつ、遅相軸のばらつきが±
15度以内の光学等方性を有し、厚さが70〜200μ
mのものを用いる。
In the present invention, as described above, the plastic film of the substrate is used as a transparent electrode substrate, which is a liquid crystal display panel which suppresses coloring of display and deterioration of contrast and is excellent in display quality, specifically, a large size such as STN. The retardation value is 20 nm or less, and the variation of the slow axis is ±, in order to set the hue unevenness of the liquid crystal display panel that performs fine display by simple matrix drive in the panel to a range that does not pose a practical problem.
Has optical isotropy within 15 degrees and a thickness of 70-200μ
The thing of m is used.

【0018】なお、プラスチックフィルムの複屈折は現
状では不可避であるが、本発明のプラスチックフィルム
は、複屈折の光学軸を示す遅相軸のばらつきが±15度
以内と、一方向に揃っていると見なされる範囲にあるの
で、位相差板との組み合わせなどでの光学設計が容易で
あるという効果がある。
Although the birefringence of the plastic film is unavoidable at present, the plastic film of the present invention has the dispersion of the slow axis, which represents the optical axis of the birefringence, within ± 15 degrees and is aligned in one direction. Since it is in the range considered to be, there is an effect that optical design in combination with a retardation plate is easy.

【0019】ところで、その表面性は、積層基板の表面
粗さを前述のRaで40nm以下にするために、その表
面粗さがRaで10nm以下、更には5nm以下のもの
が好ましい。
The surface property is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less Ra so that the surface roughness of the laminated substrate is 40 nm or less.

【0020】なお、ここで述べるリターデーション値は
公知の複屈折の屈折率の差△nと膜厚dとの積△n・d
であり、可視光線の範囲である波長での測定値であるこ
とが必要であり、一般的にプラスチックは屈折率の波長
分散特性を有しているので、代表値として590nmの
測定値とする。また遅相軸のばらつき角度は同一の波長
で測定するが、リターデーション値及び遅相軸の角度は
良く知られている複屈折率測定装置で測定することがで
きる。例えば日本分光製の多波長複屈折率測定装置M−
150等で簡便に測定することができる。
The retardation value described here is the product Δn · d of the known difference Δn in birefringence and the film thickness d.
It is necessary that the measured value is at a wavelength in the visible light range, and since plastic generally has wavelength dispersion characteristics of refractive index, the measured value is 590 nm as a typical value. Further, the dispersion angle of the slow axis is measured at the same wavelength, but the retardation value and the angle of the slow axis can be measured by a well-known birefringence measuring device. For example, a multi-wavelength birefringence measuring device M- manufactured by JASCO
It can be easily measured at 150 or the like.

【0021】この様なプラスチック基板を用いて液晶表
示パネル用透明電極基板を構成したときに、その光学特
性については、さらに、550nmでの光透過率が80
%以上、かつ、ヘイズ値が1%以下であることが好まし
い。すなわち、光透過率が80%よりも低い場合、これ
を用いて液晶セルを構成したときに、光利用効率は低下
し、表示が暗くなる上、コントラストも低下してしま
う。また、ヘイズ値が1%よりも高い場合には、これを
用いて液晶セルを構成したときに、透過光は散乱される
様になり、偏光板を透過した偏光の偏光度を低下させて
しまう。これによりコントラストが低下してしまう。
When a transparent electrode substrate for a liquid crystal display panel is constructed using such a plastic substrate, the optical characteristics thereof are that the light transmittance at 550 nm is 80.
% Or more and the haze value is preferably 1% or less. That is, when the light transmittance is lower than 80%, when a liquid crystal cell is formed by using the light transmittance, the light utilization efficiency is lowered, the display is darkened, and the contrast is lowered. In addition, when the haze value is higher than 1%, when the liquid crystal cell is formed by using the haze value, the transmitted light is scattered and the polarization degree of the polarized light transmitted through the polarizing plate is lowered. . This reduces the contrast.

【0022】ここで、光透過率は公知の可視分光光度計
を用い、平行光線での透過率であり、ヘイズ値は日本電
色製NDH−300Aを用いて、C光源で測定したとき
の値である。
Here, the light transmittance is a transmittance with a parallel light ray using a known visible spectrophotometer, and the haze value is a value when measured with a C light source using NDH-300A manufactured by Nippon Denshoku. Is.

【0023】本発明に用いるプラスチックフィルムは、
ポリアリレートまたはポリカーボネートのフィルムが好
ましい。一般にプラスチック材料では、熱的、機械的、
光学的な特性を維持しつつ、実用的な耐ガス透過性を得
るには材料が限定され、さらに軽薄化の面で実用的なレ
ベルを満たすことが難しいが、ポリアリレートまたはポ
リカーボネートは熱的、機械的、光学的な特性がいずれ
も良好であり、その他の特性については後述の適切な機
能膜を積層することにより十分実用に供し得るものであ
る。
The plastic film used in the present invention is
Films of polyarylate or polycarbonate are preferred. Generally in plastic materials, thermal, mechanical,
Materials are limited to obtain practical gas permeation resistance while maintaining optical characteristics, and it is difficult to meet a practical level in terms of weight reduction, but polyarylate or polycarbonate is thermally, Both mechanical and optical properties are good, and other properties can be sufficiently put to practical use by laminating appropriate functional films described later.

【0024】ところで、ポリアリレート、またはポリカ
ーボネートフィルムの耐ガス透過性は低く、これらのフ
ィルムに直接透明導電層を設けて透明電極基板とした場
合、既に述べたようにこれを用いた液晶表示パネルでは
液晶中での気泡の発生原因となりうる。そこで、特公平
6−44116号公報などで公知のように、ガスバリア
性の高い高分子樹脂からなるガスバリア層を形成するこ
とで耐ガス透過性を向上する事ができる。
By the way, the polyarylate or polycarbonate film has a low gas permeation resistance, and when a transparent conductive layer is directly provided on these films to form a transparent electrode substrate, a liquid crystal display panel using the same is used as described above. It may cause bubbles in the liquid crystal. Therefore, as known from Japanese Patent Publication No. 6-44116 and the like, the gas permeation resistance can be improved by forming a gas barrier layer made of a polymer resin having a high gas barrier property.

【0025】しかし、一般に、ポリアリレートまたはポ
リカーボネートと異種材料であるガスバリア性の高い高
分子樹脂との接着性は低く、ガスバリア層が容易に剥離
してしまう組み合わせが殆どで、実用的な長期信頼性が
得られない。
However, in general, the adhesiveness between polyarylate or polycarbonate and a polymer resin having a high gas barrier property, which is a different material, is low, and most of the combinations cause the gas barrier layer to be easily peeled off. Can't get

【0026】これには、これら両者との接着性が良い材
からなる後述のアンカーコート層を設け、両者の接着性
を向上させることが好ましい。
For this purpose, it is preferable to provide an anchor coat layer, which will be described later, made of a material having good adhesiveness with both of them to improve the adhesiveness of both.

【0027】ところで、この様な積層構成の積層体にお
いて、そのガス透過率、水蒸気透過率は、液晶表示パネ
ルの劣化防止の面から、ガス透過率が1cc/m2 ・日
・atm以下、水蒸気透過率が20g/m2 ・日・at
m以下であることが好ましい。
By the way, in the laminated body having such a laminated constitution, the gas permeability and the water vapor permeability thereof are 1 cc / m 2 · day · atm or less, and the water vapor rate is from the viewpoint of preventing deterioration of the liquid crystal display panel. Transmittance is 20g / m 2 · day · at
m or less.

【0028】ガス透過率が1cc/m2 ・日・atmよ
り多い、あるいは水蒸気透過率が20g/m2 ・日・a
tmより多い、上述の積層体を用いた透明電極基板2枚
で7μm厚の液晶を挟持し、封止剤で密閉して液晶セル
を構成し、60℃で90%RHという条件下で1000
時間の加速耐久性試験を行ったところ、液晶層中に気泡
が発生した。従って、実用面から上述の範囲が好まし
い。
Gas permeability is more than 1 cc / m 2 · day · atm, or water vapor permeability is 20 g / m 2 · day · a
A liquid crystal cell having a thickness of 7 μm is sandwiched between two transparent electrode substrates using the above-described laminated body, which is more than tm, and sealed with a sealant to form a liquid crystal cell.
When an accelerated durability test of time was performed, bubbles were generated in the liquid crystal layer. Therefore, from the practical viewpoint, the above range is preferable.

【0029】なお、本発明でのガス透過率はMOCON
社製オキシトラン2/20MHを用いて25℃で測定し
た酸素透過率の値、水蒸気透過率はMOCON社製パー
マトランW1Aを用いて25℃,90%RHで測定した
値である。
The gas permeability in the present invention is MOCON.
The oxygen transmission rate value and water vapor transmission rate measured at 25 ° C. using Oxytran 2/20 MH manufactured by Mfg. Co. are the values measured at 25 ° C. and 90% RH using Permatran W1A manufactured by MOCON.

【0030】このような透明電極基板のガスバリア層に
は、公知のもの例えば前記公報に記載のものが適用でき
るが、アクリロニトリル成分、ビニルアルコール成分、
ビニルアルコール共重合体成分、またはハロゲン化ビニ
リデン成分よりなる群から選ばれた少なくとも1種を5
0モル%以上含有する高分子樹脂が好ましく適用され
る。
As the gas barrier layer of such a transparent electrode substrate, known ones such as those described in the above publications can be applied, but an acrylonitrile component, a vinyl alcohol component,
At least one selected from the group consisting of a vinyl alcohol copolymer component or a vinylidene halide component is used.
A polymer resin containing 0 mol% or more is preferably applied.

【0031】これらの高分子樹脂は、ガス透過係数とし
て、0.1cc・mm/m2 ・日・atm以下の値を示
し、このガスバリア層の厚みとして実用的な100μm
以下で透明電極基板のガス透過率1cc/m2 ・日・a
tmを達成することができる。
These polymer resins have a gas permeation coefficient of 0.1 cc · mm / m 2 · day · atm or less, and a practical thickness of 100 μm for the gas barrier layer.
The gas permeability of the transparent electrode substrate is 1 cc / m 2 · day · a
tm can be achieved.

【0032】更に、この中では、アクリロニトリル成分
がある場合、溶剤の選択性が限定されてしまうことや、
ハロゲン化ビニリデン成分がある場合、焼却時にハロゲ
ンが発生するという作業性、環境問題の点から、ビニル
アルコール成分、ビニルアルコール共重合体成分を含有
するものが特に好ましい。
Further, among these, when there is an acrylonitrile component, the selectivity of the solvent is limited, and
When there is a vinylidene halide component, those containing a vinyl alcohol component and a vinyl alcohol copolymer component are particularly preferred from the viewpoints of workability and environmental problems that halogen is generated during incineration.

【0033】これ以外の、例えば、ポリメチルメタクリ
レートをガスバリア層とする場合、ガス透過率を1cc
/m2 ・日・atm以下を得るためにはガスバリア層自
体の厚みを6mm以上にする必要があり、液晶表示パネ
ル用として実用的な透明電極基板が得られい。
Other than this, for example, when polymethyl methacrylate is used as the gas barrier layer, the gas permeability is 1 cc.
The thickness of the gas barrier layer itself must be 6 mm or more in order to obtain / m 2 · day · atm or less, and a practical transparent electrode substrate for a liquid crystal display panel cannot be obtained.

【0034】前述のアンカーコート層には、前記高分子
樹脂のガスバリア層及び基板のポリカーボネートフィル
ムとの接着性面から親水基を有するポリエステル樹脂、
アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、およびイオン高分子
錯体よりなる群から選ばれた少なくとも1種が好ましく
適用される。中でも、アンカーコート層を形成した後の
その表面にタック性が残らないものが良く、そのような
観点からアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂がより好まし
い。
The above anchor coat layer includes a polyester resin having a hydrophilic group from the viewpoint of adhesiveness with the gas barrier layer of the polymer resin and the polycarbonate film of the substrate,
At least one selected from the group consisting of acrylic resin, polyurethane resin, and ionic polymer complex is preferably applied. Among them, those that do not have tackiness on the surface after forming the anchor coat layer are preferable, and acrylic resin and polyurethane resin are more preferable from such a viewpoint.

【0035】以上のアンカーコート層により、ポリアリ
レートまたはポリカーボネートのフィルムとガスバリア
層の剥離強度が150g/cm以上の優れた接着性を得
ることができ、耐久性試験等で界面剥離等の劣化を防
ぎ、信頼性の高い実用上十分な特性の積層体が得られ
る。
With the above anchor coat layer, it is possible to obtain excellent adhesion between the polyarylate or polycarbonate film and the gas barrier layer with a peel strength of 150 g / cm or more, and prevent deterioration such as interfacial peeling in a durability test or the like. A highly reliable laminated body having practically sufficient characteristics can be obtained.

【0036】アンカーコート層が無い場合やアンカーコ
ート層としてこれ以外の材料例えばポリエチレングリコ
ールやビスフェノールAのジグリシジルエーテル化合物
とヘキサメチレンジアミンの混合によるエポキシ樹脂あ
るいはポリメチルメタクリレート等を用いた場合、ポリ
アリレートまたはポリカーボネートのフィルムとガスバ
リア層との接着性は低く、その剥離強度がいずれも5〜
100g/cm程度であり、例えば、セロハンテープ等
の接着引き剥がしで容易に剥離してしまう。この様な積
層体では、液晶セルの製造工程で剥がれてしまい、外観
が不良になることがある上、信頼性も悪くなる。
In the case where there is no anchor coat layer or when other materials such as polyethylene glycol or a diglycidyl ether compound of bisphenol A and hexamethylenediamine are used as the anchor coat layer, or epoxy resin or polymethylmethacrylate is used, polyarylate is used. Alternatively, the adhesion between the polycarbonate film and the gas barrier layer is low, and the peel strength is 5 to 5
It is about 100 g / cm, and is easily peeled off, for example, by peeling off the adhesive such as cellophane tape. In such a laminated body, the laminated body may be peeled off in the manufacturing process of the liquid crystal cell, resulting in a poor appearance and poor reliability.

【0037】なお、この接着性の良・不良の基準となる
本発明での剥離強度は、JIS−K−7113規格のT
型剥離試験を25℃で行ったときに得られる値である。
The peel strength in the present invention, which is the standard of good or bad adhesion, is T of JIS-K-7113 standard.
It is a value obtained when the mold peeling test is performed at 25 ° C.

【0038】さらに、本発明では、上記積層体の少なく
とも一方の面に、水、有機溶剤等を遮断する保護層を設
ける。この保護層には、エポキシ樹脂、フェノキシ樹
脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹
脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ま
たはウレタン樹脂よりなる群から選ばれた、少なくとも
1種からなる熱架橋性樹脂硬化物が好ましく適用され
る。中でも、作業性および保護性能の面よりエポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノ
キシエステル樹脂の硬化物が好ましい。
Further, in the present invention, a protective layer for blocking water, an organic solvent and the like is provided on at least one surface of the laminate. The protective layer includes a thermo-crosslinkable resin curing agent of at least one selected from the group consisting of epoxy resin, phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, acrylic resin, melamine resin, phenol resin, and urethane resin. The object is preferably applied. Among them, a cured product of an epoxy resin, a phenoxy resin, a phenoxy ether resin, or a phenoxy ester resin is preferable in terms of workability and protection performance.

【0039】以上の保護層は、その下層との接着性も良
好で、この保護層を積層した積層基板は、水、有機溶剤
などに対する耐久性に優れ、表面硬度が高く、耐擦傷性
等の機械特性にも優れた透明電極基板の透明導電層を形
成する基板となる。
The above-mentioned protective layer has good adhesiveness with the lower layer, and the laminated substrate having this protective layer laminated thereon has excellent durability to water, organic solvents, etc., high surface hardness, scratch resistance and the like. It becomes a substrate on which a transparent conductive layer of a transparent electrode substrate having excellent mechanical properties is formed.

【0040】この様な保護層が無い積層体を用いた透明
電極基板の場合、液晶セル作製工程での有機溶剤洗浄
や、配向膜形成時に液晶パネル用電極基板が白化あるい
は溶解してしまう。また、耐水性が無い場合、透明電極
基板の水蒸気透過率が大きく、既に述べたように、液晶
セルとしての欠点を生ずる。
In the case of a transparent electrode substrate using a laminate without such a protective layer, the electrode substrate for a liquid crystal panel will be whitened or dissolved at the time of washing with an organic solvent in the process of producing a liquid crystal cell or when forming an alignment film. In addition, when there is no water resistance, the water vapor transmission rate of the transparent electrode substrate is large, and as described above, a defect as a liquid crystal cell occurs.

【0041】以上のアンカーコート層、ガスバリア層、
保護層は、公知の湿式コーティング法等の膜形成手段で
形成される。湿式コーティング法は、公知の通り、層を
形成する原料を必要な場合は溶媒等で塗布に適した溶液
にして所定の膜厚で基板上に塗布し、乾燥等の必要な処
理をすることにより層を積層する方法であり、具体的に
はスピンコート法、マイヤーバーコート法、正回転ロー
ルコート法、グラビアコート法、リバースコート法等各
種のものがある。
The above anchor coat layer, gas barrier layer,
The protective layer is formed by a known film forming method such as a wet coating method. As is well known, the wet coating method is a method in which a raw material for forming a layer is formed into a solution suitable for coating with a solvent or the like, if necessary, and applied on a substrate with a predetermined film thickness, and necessary treatment such as drying is performed. It is a method of laminating layers, and specifically, there are various methods such as a spin coating method, a Meyer bar coating method, a forward rotation roll coating method, a gravure coating method and a reverse coating method.

【0042】本発明は、以上のアンカーコート層、ガス
バリア層、保護層をプラスチックフィルム上に積層した
積層基板の表面の表面粗さが、前述の通り、Raで40
nm以下にするものであり、これはこれら各層の膜厚、
材料、形成法等を適宜組み合わせることにより、得られ
るが、プラスチックフィルムの表面性の影響が大きく、
この点よりその表面は前述の通りRaで10nm以下に
することが好ましい。
In the present invention, the surface roughness of the surface of the laminated substrate obtained by laminating the above anchor coat layer, gas barrier layer and protective layer on a plastic film is Ra of 40 as described above.
The thickness of each of these layers,
It can be obtained by appropriately combining materials, forming methods, etc., but the influence of the surface property of the plastic film is large,
From this point, it is preferable that the surface has Ra of 10 nm or less as described above.

【0043】以上の積層基板上に設ける透明導電層は、
公知の錫、インジューム、チタン等の金属またはこれら
の酸化物が適用できる。そして、これらの透明導電層
は、蒸着法、スパッタリング法など公知の薄膜形成手段
で設けることができる。
The transparent conductive layer provided on the above laminated substrate is
Known metals such as tin, indium and titanium, or oxides thereof can be applied. Then, these transparent conductive layers can be provided by known thin film forming means such as vapor deposition and sputtering.

【0044】本発明では、中でも、主として非結晶性の
インジウム酸化物からなり、その組成分として錫を5〜
15重量%含有し、かつ、透明導電層の膜厚が20から
200nmの範囲にあるものが透明性、導電性、屈曲性
等の面から好ましい。
In the present invention, among others, it is composed mainly of non-crystalline indium oxide, and tin is contained in an amount of 5 to 5 as its composition.
The content of 15% by weight and the thickness of the transparent conductive layer in the range of 20 to 200 nm are preferable in terms of transparency, conductivity, flexibility and the like.

【0045】結晶性のインジウム酸化物は、非結晶性の
インジューム酸化物と比較すると透明性、導電性が高
く、これらの面では電極材料として好ましいが、屈曲性
の高いフィルム上に製膜して用いた場合、このフィルム
を屈曲したときには割れやすく、信頼性、組み立て時の
取り扱い性等において問題がある。
Crystalline indium oxide is higher in transparency and conductivity than non-crystalline indium oxide and is preferable as an electrode material in these respects, but it is formed on a highly flexible film. When used as a film, the film is liable to crack when bent, and there is a problem in reliability, handleability during assembly, and the like.

【0046】なお、本発明ではインジウム酸化物の結晶
性、非結晶性を次のように定義する。製膜したインジウ
ム酸化物の表面を透過電子顕微鏡で観察したときに、非
晶質膜面に点在する直径が高々100μm程度の微結晶
粒が観察される。この観察方法で、単位面積(100μ
2 )当たりの結晶粒面積が20%以下の場合を非結晶
性、20%を越えるものを結晶性と定義する。
In the present invention, the crystallinity and non-crystallinity of indium oxide are defined as follows. When the surface of the formed indium oxide is observed with a transmission electron microscope, fine crystal grains having a diameter of about 100 μm scattered on the amorphous film surface are observed. With this observation method, the unit area (100μ
The case where the crystal grain area per m 2 ) is 20% or less is defined as amorphous, and the case where it exceeds 20% is defined as crystalline.

【0047】インジウム酸化物は本来透明な電気絶縁体
であるが、微量の不純物を含有する場合や、わずかに酸
素不足の場合に半導体となる。好ましい半導体金属酸化
物としては、不純物として、錫、またはフッ素を含むイ
ンジウム酸化物が挙げることができ、錫を5〜15重量
%含有するインジウム酸化物が、高い透明性を保ちつ
つ、良好な導電性を示す点から好ましい。
Although indium oxide is originally a transparent electric insulator, it becomes a semiconductor when it contains a trace amount of impurities or when it is slightly oxygen-deficient. As a preferable semiconductor metal oxide, indium oxide containing tin or fluorine as an impurity can be cited, and indium oxide containing 5 to 15% by weight of tin has good conductivity while maintaining high transparency. It is preferable from the viewpoint of exhibiting properties.

【0048】その厚さは、20から200nmの範囲が
好ましい。20nmより薄いと、電気的な面積抵抗が高
くなり、液晶パネル用の電極基板として導電性が十分で
ない。また、200nmよりも厚くなると、電極基板全
体の光透過率への影響が無視できず、液晶表示パネルの
透明電極基板として必要な波長550nmでの光透過率
80%以上が得難くなる上、屈曲したときに容易に割れ
てしまい、信頼性、前述の取り扱い性等において不十分
となる。
The thickness is preferably in the range of 20 to 200 nm. If the thickness is less than 20 nm, the electrical sheet resistance becomes high, and the conductivity is insufficient as an electrode substrate for a liquid crystal panel. Further, when the thickness is more than 200 nm, the influence on the light transmittance of the entire electrode substrate cannot be ignored, and it becomes difficult to obtain the light transmittance of 80% or more at the wavelength of 550 nm required for the transparent electrode substrate of the liquid crystal display panel, and the bending When it is done, it is easily cracked, and the reliability and the above-mentioned handleability are insufficient.

【0049】本発明に用いるポリカーボネートについて
は、前述の光学特性を満たすものであれば、特に限定さ
れないが、熱特性から、ビスフェーノール成分がビスフ
ェノールAのみからなり、かつ、分子量30,000以
上でガラス転移温度150℃以上のポリカーボネートが
好ましく適用される。なお、キャスト製膜における溶解
性の点から、共重合成分、例えば、フルオレン成分、イ
ソホロン成分等を入れても差し支えない。
The polycarbonate used in the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned optical characteristics. However, due to thermal characteristics, the bisphenol A component is bisphenol A alone, and the molecular weight is 30,000 or more. Polycarbonate having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher is preferably applied. From the viewpoint of solubility in cast film formation, a copolymerization component such as a fluorene component or an isophorone component may be added.

【0050】ところで、ポリカーボネート樹脂の平均分
子量は重合度の違いによって区別されるが、これまで一
般用途には20,000〜25,000の平均分子量を
持つものが使用されており、光ディスク等の射出成形を
行う用途では平均分子量が12,000〜15,000
の低重合度のものが使用されている。ここで、平均分子
量とは、数平均分子量のことであり、GPC等の公知の
測定手段で簡便に決定することができる。
By the way, although the average molecular weight of the polycarbonate resin is distinguished by the difference in the degree of polymerization, up to now, those having an average molecular weight of 20,000 to 25,000 have been used for general purposes, and are ejected from an optical disk or the like. For molding, the average molecular weight is 12,000 to 15,000.
A low degree of polymerization is used. Here, the average molecular weight means the number average molecular weight, and can be easily determined by a known measuring means such as GPC.

【0051】しかるに本発明の用途である液晶基板に
は、液晶パネルを組み立てるパネル化プロセス等で要求
される耐熱性を満足させるためには、ガラス転移温度が
150℃以上の耐熱性を有することが好ましい。すなわ
ちガラス転移温度が150℃であれば、液晶パネル組立
プロセスにおける配向膜の形成工程、封止剤の熱硬化工
程及びヒートシール工程の高温プロセスに十分耐えるこ
とができる。
However, in order to satisfy the heat resistance required in the panelizing process for assembling the liquid crystal panel, the liquid crystal substrate which is the application of the present invention has a heat resistance of glass transition temperature of 150 ° C. or higher. preferable. That is, when the glass transition temperature is 150 ° C., it is possible to sufficiently withstand the high temperature processes of the alignment film forming step, the sealant thermosetting step and the heat sealing step in the liquid crystal panel assembling process.

【0052】ビスフェノールAのみからなるビスフェー
ノール成分よりなるポリカーボネートの場合に、平均分
子量が30,000以上のものにおいて、本発明に好ま
しい、ガラス転移温度が上述の150℃以上で、機械特
性も十分なものが得られる。なお、最適な平均分子量の
選択は、耐熱性と機械特性及び経済性のバランスを考慮
して行う。
In the case of a polycarbonate composed of a bisphenol component consisting only of bisphenol A and having an average molecular weight of 30,000 or more, a glass transition temperature of 150 ° C. or more, which is preferable for the present invention, and mechanical properties are sufficient. You can get something. The optimum average molecular weight is selected in consideration of the balance between heat resistance, mechanical properties and economy.

【0053】フィルムを製膜する方法としては、溶液流
延法、溶融押出法等の公知の方法が適用できるが、本発
明には得られる光学特性等の面から溶液流延法が好まし
く適用される。すなわち、本発明に用いる、リターデー
ション値が20nm以下、かつ、遅相軸のばらつきが±
15度以下の光学等方性を有し、厚さが70〜200μ
m、表面粗さがRa値で5nm以下のフィルムは溶液流
延法では大量連続生産できるがその他の溶融押出法など
では容易ではない。
As a method for forming a film, known methods such as a solution casting method and a melt extrusion method can be applied, but the solution casting method is preferably applied to the present invention from the viewpoint of the obtained optical characteristics. It That is, the retardation value used in the present invention is 20 nm or less, and the variation of the slow axis is ±.
It has an optical isotropy of 15 degrees or less and a thickness of 70-200μ.
A film having an m and a surface roughness Ra of 5 nm or less can be continuously produced in a large amount by the solution casting method, but it is not easy by other melt extrusion methods.

【0054】また、溶融押出法では、フィルム中にダイ
ライン、ゲル化物、フィッシュアイや炭化物が発生しや
すく、広い面積に渡って、平滑性の良好なフィルムを得
ることが難しいが、溶液流延法は、かかる欠点が少ない
という利点を有する。さらに、溶液流延法は、溶媒にポ
リマーを溶解しダイから平面基板上に流延して製膜する
方法であり、溶媒に可溶なポリマーであればフィルム化
する事ができる利点を有する。
In the melt extrusion method, die lines, gels, fish eyes and carbides are easily generated in the film, and it is difficult to obtain a film having good smoothness over a wide area, but the solution casting method is used. Has the advantage that there are few such drawbacks. Furthermore, the solution casting method is a method in which a polymer is dissolved in a solvent and cast from a die onto a flat substrate to form a film, and has an advantage that a solvent-soluble polymer can be formed into a film.

【0055】しかし、この溶液流延法でポリカーボネー
トフィルムを製膜した場合に、フィルム中に製膜に使用
した溶媒が残留する場合がある。残留溶媒はフィルムを
可塑化させ、そのガラス転移温度の低下や寸法安定性の
低下などをもたらす。かかる点から、残留溶媒の残存量
は、0.2重量%以下が好ましく、更に0.1重量%以
下が好ましい。この残存量は、加熱処理、低沸点溶媒の
採用等により低減できる。
However, when a polycarbonate film is formed by this solution casting method, the solvent used for film formation may remain in the film. The residual solvent plasticizes the film, resulting in a decrease in its glass transition temperature and a decrease in dimensional stability. From this point, the residual amount of the residual solvent is preferably 0.2% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less. This residual amount can be reduced by heat treatment, use of a low boiling point solvent, and the like.

【0056】以下、本発明の実施例を説明する。Examples of the present invention will be described below.

【0057】[0057]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕ビスフェノール成分がビスフェノールAの
みからなる平均分子量37,000のポリカーボネート
樹脂を用いて溶液流延法により以下のようにポリカーボ
ネートフィルムを製膜した。
Example 1 A polycarbonate film was formed by the solution casting method using a polycarbonate resin having an average molecular weight of 37,000, in which the bisphenol component was bisphenol A only.

【0058】すなわち、該ポリカーボネート樹脂を溶媒
のメチレンクロライドに濃度20重量%に溶解し、得ら
れた溶液をダイコーティング法により厚さ175μmの
ポリエステルフィルム上に流延して、製膜した。次い
で、乾燥工程で溶媒をその残留溶媒濃度が13重量%に
なるまで蒸発除去した後、ポリエステルフィルムからポ
リカーボネートフィルムを剥離した。得られたポリカー
ボネートフィルムを温度120℃の乾燥炉中で、縦横の
張力をバランスさせながら、残留溶媒濃度が0.08重
量%になるまで乾燥した。
That is, the polycarbonate resin was dissolved in methylene chloride as a solvent to a concentration of 20% by weight, and the obtained solution was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm by a die coating method to form a film. Then, in a drying step, the solvent was evaporated and removed until the residual solvent concentration became 13% by weight, and then the polycarbonate film was peeled from the polyester film. The obtained polycarbonate film was dried in a drying oven at a temperature of 120 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions until the residual solvent concentration became 0.08% by weight.

【0059】得られたポリカーボネートフィルムは、厚
みが102μmであった。またこのフィルムの590n
mにおけるリターデーション値は、幅方向で8±2n
m、遅相軸のばらつきはMD方向を中心に±8度以内で
あった。
The polycarbonate film obtained had a thickness of 102 μm. Also 590n of this film
The retardation value at m is 8 ± 2n in the width direction.
The variation in m and the slow axis was within ± 8 degrees with respect to the MD direction.

【0060】次いで、このフィルムの両面上に、厚さが
3μmのアンカーコート層、厚さが15μmのガスバリ
ア層、厚さが6μmの保護層をそれぞれ以下のようにし
て順次形成して、積層基板を作成した。
Next, an anchor coat layer having a thickness of 3 μm, a gas barrier layer having a thickness of 15 μm, and a protective layer having a thickness of 6 μm are sequentially formed on both surfaces of this film as follows, respectively, to form a laminated substrate. It was created.

【0061】アンカーコート層は、架橋したポリウレタ
ン樹脂とし、具体的には主剤のポリオール成分として武
田薬品工業(株)製A310を、硬化剤のイソアナート
成分として同社製A3を用い、A310を100部に対
してA3を25部混合した溶液を、ポリカーボネートフ
ィルム上に塗工し、100℃で30分熱処理して形成し
た。
The anchor coat layer is a cross-linked polyurethane resin. Specifically, A310 manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. is used as the polyol component of the main component, and A3 manufactured by the same company is used as the isoanato component of the curing agent. On the other hand, a solution obtained by mixing 25 parts of A3 was applied onto a polycarbonate film and heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes to form a film.

【0062】ガスバリア層は、架橋したビニルアルコー
ル共重合体とし、具体的にはエチレン−ビニルアルコー
ル共重合ポリマーの(株)クラレ製エバールEPL−1
01(エチレン含有量27モル%)を用い、この20部
と、溶媒の水63部とn−プロピルアルコール43部及
び架橋剤のメチロール化メラミン5部を加熱混合した溶
液をアンカーコート層上に塗工し、130℃で15分熱
処理して形成した。
The gas barrier layer is a cross-linked vinyl alcohol copolymer, specifically, an ethylene-vinyl alcohol copolymer Evar-1 EPL-1 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
01 (ethylene content of 27 mol%), 20 parts of this, 63 parts of water as a solvent, 43 parts of n-propyl alcohol, and 5 parts of methylolated melamine as a cross-linking agent were heated and mixed, and a solution was coated on the anchor coat layer. Then, it was formed by heat treatment at 130 ° C. for 15 minutes.

【0063】保護層は架橋したフェノキシ樹脂とし、具
体的にはフェノキシ樹脂の東都化成(株)製フェノトー
トYP−50を用い、この40部と溶媒のメチルエチル
ケトン40部と2−エトキシエチルアセテート20部を
混合した後、これに架橋剤として前記の武田薬品工業
(株)製A3を40部混合した溶液をバリア層上に塗工
し、80℃で5分及び130℃で3時間熱処理して形成
した。
The protective layer is a crosslinked phenoxy resin, specifically, phenoxy resin Phenototo YP-50 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. is used, and 40 parts of this, 40 parts of methyl ethyl ketone as a solvent and 20 parts of 2-ethoxyethyl acetate are used. Is mixed with 40 parts of Takeda Yakuhin Kogyo Co., Ltd. A3 as a cross-linking agent, the solution is coated on the barrier layer, and heat-treated at 80 ° C. for 5 minutes and at 130 ° C. for 3 hours to be formed. did.

【0064】以上で得られた積層基板の表面粗さはRa
値で22nmであった。またそのガス透過率は0.1c
c/m2 ・日・atm、水蒸気透過率は10g/m2
日・atmであった。
The surface roughness of the laminated substrate obtained above is Ra.
The value was 22 nm. The gas permeability is 0.1c
c / m 2 · day · atm, water vapor transmission rate is 10 g / m 2 ·
It was day and atm.

【0065】この積層基板の前記ポリエステルフィルム
側の保護層の上に、透明導電層としてインジウム−錫酸
化物層をスパッタリング法により以下のように形成し
た。
On the protective layer on the polyester film side of this laminated substrate, an indium-tin oxide layer was formed as a transparent conductive layer by the sputtering method as follows.

【0066】スパッタリングターゲットには組成が重量
比でインジウム/錫=90/10、充填密度が90%の
インジウム−錫酸化物ターゲットを用いた。そして、連
続スパッタ装置に積層基板をセットし、1.3mPaの
圧力まで排気した後、Ar/O2 =98.5/1.5の
体積混合比のガスを導入し、雰囲気圧力を0.27Pa
にした。そして基板温度を50℃に設定し、投入電力密
度1W/cm2 でDCスパッタリングを行い、膜厚が1
30nmのインジウム−錫酸化物からなる透明導電層を
形成した。
As the sputtering target, an indium-tin oxide target having a weight ratio of indium / tin = 90/10 and a packing density of 90% was used. Then, the laminated substrate was set in a continuous sputtering apparatus, the gas was exhausted to a pressure of 1.3 mPa, and then a gas having a volume mixture ratio of Ar / O 2 = 98.5 / 1.5 was introduced, and the atmospheric pressure was 0.27 Pa.
I made it. Then, the substrate temperature is set to 50 ° C., DC sputtering is performed at an input power density of 1 W / cm 2 , and the film thickness is 1
A transparent conductive layer made of 30 nm of indium-tin oxide was formed.

【0067】得られた透明導電層は、微結晶粒の存在割
合が面積比で0%であり、非結晶性であった。また表面
抵抗値は単位正方形の対向辺に電極を配置して測定する
正方形測定で40Ωであった。以下、この表面抵抗値を
Ω/□で示す。
The transparent conductive layer thus obtained was non-crystalline, with the abundance ratio of fine crystal grains being 0% in area ratio. Further, the surface resistance value was 40Ω in a square measurement in which electrodes were arranged on opposite sides of the unit square. Hereinafter, this surface resistance value is shown by Ω / □.

【0068】また、この様にして得た透明電極基板の5
50nmでの光透過率は85%、ヘイズ値は0.5%で
あった。
The transparent electrode substrate 5 thus obtained was used.
The light transmittance at 50 nm was 85%, and the haze value was 0.5%.

【0069】ポリカーボネートフィルムとガスバリア層
間の剥離強度を調べた結果、240g/cmであった。
As a result of examining the peel strength between the polycarbonate film and the gas barrier layer, it was 240 g / cm.

【0070】また、透明電極基板をカッターナイフで切
断し、切断部に保護層側からセロハンテープを接着し、
切断部側から引き剥がしたところ、全く層間剥離が観察
されなかった。十分な層間の接着性が確認された。
Further, the transparent electrode substrate was cut with a cutter knife, and a cellophane tape was adhered to the cut portion from the protective layer side,
When peeled off from the cut side, no delamination was observed. Adequate adhesion between layers was confirmed.

【0071】透明電極基板から幅1cmで長さ10cm
の試料を切り出し、耐屈曲性試験を行った。試験は透明
導電層を外側にした場合及び内側にした場合の両ケース
について1cmφの金属棒に180゜巻き、1分間その
状態を保持した後、目視観察を行った。その結果、透明
導電層の外観変化は観察されず、十分な耐屈曲性が確認
された。
Width 1 cm and length 10 cm from the transparent electrode substrate
The sample was cut out and a bending resistance test was performed. The test was conducted by visually observing a case in which a transparent conductive layer was placed on the outside and an inside was wound on a metal rod of 1 cmφ by 180 ° for 1 minute and then held. As a result, no change in appearance of the transparent conductive layer was observed, and sufficient flex resistance was confirmed.

【0072】次にこの透明電極基板の偏光板間での着色
性を調べた。まずこの透明電極基板から、5cm角の試
料を切り出した。そして一対の偏光板の間にこの試料を
挟持し、一方の偏光板、さらには試料を回転させて目視
で色の変化を観察した。その結果、色の変化は目視では
全く生じなかった。
Next, the coloring property between the polarizing plates of this transparent electrode substrate was examined. First, a 5 cm square sample was cut out from this transparent electrode substrate. Then, this sample was sandwiched between a pair of polarizing plates, and one polarizing plate and further the sample were rotated to visually observe a change in color. As a result, no color change was visually observed.

【0073】次に、耐溶剤性試験を以下のように行っ
た。5%KOH水、アセトン、nメチルピロリドンを各
々保護層の面に滴下し、5分間放置後の変化を目視によ
り観察した。結果は何ら変化も観られなかった。
Next, a solvent resistance test was conducted as follows. 5% KOH water, acetone, and n-methylpyrrolidone were dropped on the surface of the protective layer, and the change after standing for 5 minutes was visually observed. No change was seen in the result.

【0074】更に、130℃で4時間の熱処理を行った
が、フィルム反りの変化及び外観変化は生じなかった。
また、この試験前後の表面抵抗の変化を調べたところ、
試験後抵抗値/試験前抵抗値=1.2であり、抵抗値の
変化は実用上支障のない範囲にあることが確認された。
Further, when heat treatment was carried out at 130 ° C. for 4 hours, there was no change in film warp and no change in appearance.
Also, when the change in surface resistance before and after this test was examined,
The resistance value after the test / the resistance value before the test = 1.2, and it was confirmed that the change in the resistance value was in a range where there was no practical problem.

【0075】この透明電極基板を用いてSTN液晶セル
を作製し、表示性能を検査したが、コントラストも十分
で、且つ動作時の色ムラも観察されなかった。
An STN liquid crystal cell was prepared using this transparent electrode substrate and the display performance was examined, but the contrast was sufficient, and no color unevenness was observed during operation.

【0076】更にこのSTN液晶セルについて信頼性試
験を行った。信頼性試験は、温度80℃で1,000時
間の耐熱性試験、及び温度60℃,相対湿度90%RH
で1,000時間の耐湿性試験の2種を行った。その結
果、外観、表示性能に何ら変化は観られなかった。液晶
セルとしても十分耐久性を有することが確認できた。
Further, a reliability test was conducted on this STN liquid crystal cell. The reliability test is a heat resistance test at a temperature of 80 ° C for 1,000 hours, and a temperature of 60 ° C and a relative humidity of 90% RH.
Two kinds of moisture resistance test for 1,000 hours were conducted. As a result, no change in appearance and display performance was observed. It was confirmed that the liquid crystal cell had sufficient durability.

【0077】〔実施例2〕ユニチカ(株)製ポリアリレ
ートU−100をを用いて溶液流延法により以下のよう
にポリアリレートフィルムを製膜した。
Example 2 A polyarylate film was formed by the solution casting method using Polyarylate U-100 manufactured by Unitika Ltd. as follows.

【0078】すなわち、該ポリアリレート樹脂を、溶媒
のメチレンクロライドに濃度25重量%になるように溶
解し、得られた溶液をダイコーティング法により厚さ1
75μmのポリエステルフィルム上に流延して、製膜し
た。次いで、乾燥工程で溶媒をその残留溶媒濃度が15
重量%になるまで蒸発除去した後、ポリエステルフィル
ムからポリアリレートフィルムを剥離した。得られたポ
リアリレートフィルムを温度120℃の乾燥炉中で、縦
横の張力をバランスさせながら、残留溶媒濃度が0.0
8重量%になるまで乾燥した。
That is, the polyarylate resin was dissolved in methylene chloride as a solvent so as to have a concentration of 25% by weight, and the resulting solution was applied to a thickness of 1 by a die coating method.
It was cast on a polyester film of 75 μm to form a film. Then, in the drying process, the solvent is removed to a residual solvent concentration of
After removing by evaporation to a weight percentage, the polyarylate film was peeled off from the polyester film. The polyarylate film thus obtained was dried in a drying oven at a temperature of 120 ° C. while the tension in the vertical and horizontal directions was balanced, and the residual solvent concentration was 0.0
It was dried to 8% by weight.

【0079】得られたポリアリレートフィルムは、厚み
が101μmであった。またこのフィルムの590nm
におけるリターデーション値は、幅方向で11±3n
m、遅相軸のばらつきはMD方向を中心に±9度以内で
あった。
The obtained polyarylate film had a thickness of 101 μm. Also this film's 590nm
Retardation value in the width direction is 11 ± 3n
The dispersion of m and the slow axis was within ± 9 degrees centering on the MD direction.

【0080】次いで、実施例1と全く同様にして、この
フィルムの両面上に、厚さが3μmのアンカーコート
層、厚さが15μmのガスバリア層、厚さが6μmの保
護層を順次形成して積層基板を作成し、その一方の保護
層の上に透明導電層を形成して透明電極基板を得た。
Then, in exactly the same manner as in Example 1, an anchor coat layer having a thickness of 3 μm, a gas barrier layer having a thickness of 15 μm, and a protective layer having a thickness of 6 μm were sequentially formed on both sides of this film. A laminated substrate was prepared and a transparent conductive layer was formed on one of the protective layers to obtain a transparent electrode substrate.

【0081】得られた積層基板の表面粗さはRa値で3
1nmであった。またそのガス(酸素)透過率は0.1
cc/m2 ・日・atm、水蒸気透過率は8g/m2
日・atmであった。透明導電層の特性は実施例1と全
く同じで、非結晶性で表面抵抗は40Ωであった。また
透明電極基板の550nmでの光線透過率は85%、ヘ
イズ値は0.6%であった。ポリアリレートフィルムと
ガスバリア層間の剥離強度を調べた結果、250g/c
mであった。
The surface roughness of the obtained laminated substrate is 3 in terms of Ra value.
It was 1 nm. The gas (oxygen) permeability is 0.1.
cc / m 2 · day · atm, water vapor transmission rate 8 g / m 2 ·
It was day and atm. The characteristics of the transparent conductive layer were exactly the same as in Example 1, were non-crystalline, and had a surface resistance of 40Ω. The light transmittance of the transparent electrode substrate at 550 nm was 85%, and the haze value was 0.6%. As a result of examining the peel strength between the polyarylate film and the gas barrier layer, 250 g / c
It was m.

【0082】また、透明電極基板をカッターナイフで切
断し、切断部に保護層側からセロハンテープを接着し、
切断部側から引き剥がしたところ、全く層間剥離が観察
されなかった。実施例1同様、十分な層間接着性であっ
た。
Further, the transparent electrode substrate was cut with a cutter knife, and a cellophane tape was adhered to the cut portion from the protective layer side,
When peeled off from the cut side, no delamination was observed. Similar to Example 1, the interlayer adhesion was sufficient.

【0083】耐屈曲性試験、着色性試験においても、実
施例1と同様の良好な結果を得た。また、耐溶剤性試
験、耐熱性試験においても、実施例1と同じの良好な結
果を得た。
Also in the flex resistance test and the coloring test, the same good results as in Example 1 were obtained. In addition, the same good results as in Example 1 were obtained in the solvent resistance test and the heat resistance test.

【0084】更に、STN液晶セルでの表示性能観察、
信頼性試験においても、実施例1と同様に、良好な結果
であった。
Further, observation of display performance in STN liquid crystal cell,
Also in the reliability test, as in Example 1, good results were obtained.

【0085】〔実施例3〕実施例1と同じポリカーボネ
ートフィルムの両面上に、2μmのアンカーコート層、
4μmのガスバリア層、8μmの保護層を順次以下のよ
うに形成した。
Example 3 The same polycarbonate film as in Example 1 was coated on both sides with a 2 μm anchor coat layer,
A 4 μm gas barrier layer and an 8 μm protective layer were sequentially formed as follows.

【0086】アンカーコート層はアクリル樹脂とし、具
体的にはアクリル樹脂系の塗剤である信越化学(株)製
のPC7Aを、ポリカーボネートフィルム上に塗工し、
100℃で5分熱処理して形成した。
The anchor coat layer is made of acrylic resin. Specifically, PC7A manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., which is an acrylic resin-based coating material, is coated on a polycarbonate film,
It was formed by heat treatment at 100 ° C. for 5 minutes.

【0087】ガスバリア層はポリビニルアルコール樹脂
とし、具体的にはポリビニルアルコール樹脂の(株)ク
ラレ製のPVA−117を用い、この10部と溶媒の水
90部を加熱混合した溶液を用い、実施例1と同様にし
て形成した。
The polyvinyl alcohol resin was used for the gas barrier layer. Specifically, polyvinyl alcohol resin PVA-117 manufactured by Kuraray Co., Ltd. was used, and a solution prepared by heating and mixing 10 parts of this with 90 parts of water was used. It was formed in the same manner as 1.

【0088】保護層は実施例1と同じものを用いた。こ
の積層基板の表面粗さRa値は35nmであった。また
酸素透過率は0.3cc/m2 ・日・atm、水蒸気透
過率は18g/m2 ・日・atmであった。この積層基
板の一方の保護層上に、透明導電層としてインジウム−
錫酸化物層は次のようなスパッタリング条件により形成
した。
The same protective layer as in Example 1 was used. The surface roughness Ra value of this laminated substrate was 35 nm. The oxygen transmission rate was 0.3 cc / m 2 · day · atm, and the water vapor transmission rate was 18 g / m 2 · day · atm. On one protective layer of this laminated substrate, indium-
The tin oxide layer was formed under the following sputtering conditions.

【0089】スパッタリングターゲットには組成が重量
比でインジウム/錫=93/7、充填密度が90%のイ
ンジウム−錫酸化物ターゲットを用いた。そして、連続
スパッタ装置に上記積層基板をセットし、1.3mPa
の圧力まで排気した後、Ar/O2 =98.5/1.5
の体積混合比のガスを導入し、雰囲気圧力を0.27P
aにした。そしてフィルム温度を85℃に設定し、投入
電力密度1W/cm2でDCスパッタリングを行い、膜
厚80nmのインジウム−錫酸化物からなる透明導電層
を形成した。
As the sputtering target, an indium-tin oxide target having a composition by weight ratio of indium / tin = 93/7 and a packing density of 90% was used. Then, the above-mentioned laminated substrate is set in a continuous sputtering device, and 1.3 mPa
Ar / O 2 = 98.5 / 1.5 after exhausting to a pressure of
Introduce a gas with a volume mixing ratio of
set to a. Then, the film temperature was set to 85 ° C., DC sputtering was performed at an input power density of 1 W / cm 2 , and a transparent conductive layer made of indium-tin oxide having a film thickness of 80 nm was formed.

【0090】その結果得られた透明導電層は、結晶粒の
存在割合が面積比で5%であり、非結晶性であった。ま
た表面抵抗値は62Ω/□であった。この様にして得た
透明電極基板について、実施例1と同様の評価を行っ
た。550nmでの光線透過率は81%、ヘイズ値は
0.6%であった。ポリカーボネートフィルムとガスバ
リア層間の剥離強度を調べた結果、180g/cmであ
った。
As a result, the transparent conductive layer obtained was non-crystalline, with the crystal grains being present in an area ratio of 5%. The surface resistance value was 62Ω / □. The transparent electrode substrate thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1. The light transmittance at 550 nm was 81% and the haze value was 0.6%. As a result of examining the peel strength between the polycarbonate film and the gas barrier layer, it was 180 g / cm.

【0091】この透明電極基板をカッターナイフで切断
し、切断部に保護層側からセロハンテープを接着し、切
断部側から引き剥がしたところ、端部にわずかの剥離が
観察された。耐屈曲性試験では、透明導電層の外観変化
は観察されなかった。着色性試験でも、色の変化は目視
では全く生じなかった。耐溶剤製試験においても、何ら
変化は観られなかった。
When this transparent electrode substrate was cut with a cutter knife, cellophane tape was adhered to the cut portion from the protective layer side, and peeled from the cut portion side, slight peeling was observed at the end. In the flex resistance test, no change in appearance of the transparent conductive layer was observed. Even in the colorability test, no color change visually occurred. No change was observed in the solvent resistance test.

【0092】更に、熱処理試験においても、フィルム反
りの変化及び外観変化は生じなかった。そしてこの熱処
理試験前後の表面抵抗変化も、試験後抵抗値/試験前抵
抗値=1.1と小さく、良好であった。
Further, in the heat treatment test, no change in film warp and no change in appearance occurred. The change in surface resistance before and after the heat treatment test was also small and favorable, ie, resistance value after test / resistance value before test = 1.1.

【0093】STN液晶セルでの表示性能についても、
コントラストが良好で且つ動作時の色ムラは観察されな
かった。
Regarding the display performance of the STN liquid crystal cell,
The contrast was good and no color unevenness was observed during operation.

【0094】更に信頼性試験においても、外観、表示性
能に何ら変化は観られなかった。
Further, in the reliability test, no change was observed in appearance and display performance.

【0095】〔実施例4〕実施例1において、保護層を
実施例1と異なるエポキシ樹脂とし、それ以外は実施例
1と同一とした。
Example 4 In Example 1, the protective layer was made of an epoxy resin different from that of Example 1, and the other conditions were the same as those of Example 1.

【0096】保護層は、具体的には油化シェルエポキシ
(株)製のエピコート828を100部とエピキュア1
13を32部を混合した物を用いて、実施例1と同様に
して形成した。
The protective layer is specifically 100 parts of Epicoat 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. and Epicure 1
A mixture of 32 parts of 13 was formed in the same manner as in Example 1.

【0097】得られた積層基板の表面粗さRa値は26
nmであった。また酸素透過率は0.1cc/m2 ・日
・atm、水蒸気透過率は10g/m2 ・日・atmで
あった。得られた透明電極基板について、実施例1と同
様の以下の評価を行った。550nmでの光線透過率は
85%、ヘイズ値は0.7%であった。耐溶剤製試験を
行ったが、何ら変化は観られなかった。
The surface roughness Ra value of the obtained laminated substrate is 26.
was nm. The oxygen transmission rate was 0.1 cc / m 2 · day · atm, and the water vapor transmission rate was 10 g / m 2 · day · atm. The following evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained transparent electrode substrate. The light transmittance at 550 nm was 85%, and the haze value was 0.7%. A solvent resistance test was conducted, but no change was observed.

【0098】熱処理試験を行ったが、フィルム反りの変
化及び外観変化は生じなかった。また、その際の表面抵
抗変化は、試験後抵抗値/試験前抵抗値=1.2であ
り、大きく変わることはなかった。
A heat treatment test was conducted, but no change in film warp and no change in appearance occurred. Further, the change in surface resistance at that time was after the test resistance value / pre-test resistance value = 1.2, and did not change significantly.

【0099】STN液晶セルでの表示性能についても、
コントラストが良好でかつ、動作時の色ムラは観察され
なかった。更に信頼性試験においても、外観、表示性能
に何ら変化は観られなかった。
Regarding the display performance of the STN liquid crystal cell,
The contrast was good, and no color unevenness was observed during operation. Furthermore, in the reliability test, no change was observed in the appearance and display performance.

【0100】〔比較例1〕厚みが98μmで、リターデ
ーション値が幅方向で293±20nm、遅相軸のばら
つきがMD方向を中心に±50度の2軸延伸PETフィ
ルムの一方の表面に実施例1と同じ透明導電層を形成し
た。そして、実施例1と同じ偏光板間での着色性を調べ
た。その結果、試料は着色して観察され、かつ、偏光
板、試料の回転とともにその色が変化した。そのため、
透明電極基板用フィルム用、特にSTN用としては不適
当であった。 〔比較例2〕ビスフェノール成分がビスフェノールAの
みからなる平均分子量24000のポリカーボネート樹
脂から、溶融押し出し法で厚さ125μmのポリカーボ
ネートフィルムを製膜した。このフィルムのリタデーシ
ョン値は、幅方向で平均値として32nmであり、遅相
軸角度のバラツキは±20゜であった。
Comparative Example 1 A biaxially stretched PET film having a thickness of 98 μm, a retardation value of 293 ± 20 nm in the width direction and a retardation axis variation of ± 50 degrees centered in the MD direction was applied to one surface of the PET film. The same transparent conductive layer as in Example 1 was formed. Then, the colorability between the same polarizing plates as in Example 1 was examined. As a result, the sample was observed to be colored, and its color changed with the rotation of the polarizing plate and the sample. for that reason,
It was unsuitable for films for transparent electrode substrates, especially for STN. [Comparative Example 2] A polycarbonate film having a thickness of 125 µm was formed by a melt extrusion method from a polycarbonate resin having an average molecular weight of 24000 in which the bisphenol component was only bisphenol A. The retardation value of this film was 32 nm as an average value in the width direction, and the variation of the slow axis angle was ± 20 °.

【0101】このフィルムの一方の表面上に実施例1と
同じ透明導電層を形成した。そして、実施例1と同じ偏
光板間での着色性を調べた。その結果、試料は着色して
観察され、かつ、偏光板、試料の回転とともにその色が
変化した。そのため、透明電極基板用フィルム用、特に
STN用としては不適当であった。
The same transparent conductive layer as in Example 1 was formed on one surface of this film. Then, the colorability between the same polarizing plates as in Example 1 was examined. As a result, the sample was observed to be colored, and its color changed with the rotation of the polarizing plate and the sample. Therefore, it was unsuitable for films for transparent electrode substrates, especially for STN.

【0102】〔比較例3〕実施例1と同じポリカーボネ
ートフィルムの一方の表面上に直接実施例1と同じ透明
導電層を形成した。このポリカーボネートフィルムのガ
ス透過率は980cc/m2 ・日・atm、水蒸気透過
率は54g/m2 ・日・atmであった。
Comparative Example 3 The same transparent conductive layer as in Example 1 was formed directly on one surface of the same polycarbonate film as in Example 1. This polycarbonate film had a gas permeability of 980 cc / m 2 · day · atm and a water vapor permeability of 54 g / m 2 · day · atm.

【0103】そして、実施例1と同様に、透明導電層と
反対側のフィルム表面で耐溶剤性試験を行ったところ、
5%KOH水では変化は無かったが、アセトンでは瞬時
に白化し、nメチルピロリドンでは溶解するのが観察さ
れた。そのため、透明導電層をパターンニングし、配向
膜を形成するのが困難であった。
Then, in the same manner as in Example 1, a solvent resistance test was conducted on the film surface opposite to the transparent conductive layer.
It was observed that there was no change in 5% KOH water, but that it was instantly whitened with acetone and dissolved with n-methylpyrrolidone. Therefore, it is difficult to pattern the transparent conductive layer and form the alignment film.

【0104】〔比較例4〕実施例1と同じポリカーボネ
ートフィルムの両面に、実施例1と同じ保護層のみを同
じ厚さで積層した。この積層基板のガス透過率は280
cc/m2 ・日・atm、水蒸気透過率は18g/m2
・日・atmであった。この積層基板の一方の表面上
に、実施例1と同じ透明導電層を形成した。
Comparative Example 4 Only the same protective layer as in Example 1 was laminated to both sides of the same polycarbonate film as in Example 1 with the same thickness. The gas permeability of this laminated substrate is 280.
cc / m 2 · day · atm, water vapor transmission rate is 18 g / m 2
・ It was day ・ atm. The same transparent conductive layer as in Example 1 was formed on one surface of this laminated substrate.

【0105】そして、比較例3と同じ耐溶剤性試験を行
ったところ、いずれの溶剤でも何ら変化は観られなかっ
た。この透明電極基板を用いて、STN液晶セルを作製
し、実施例1と同様の信頼性試験を行ったところ、液晶
層中に気泡が発生し、表示特性が低下した。
When the same solvent resistance test as in Comparative Example 3 was carried out, no change was observed with any solvent. When an STN liquid crystal cell was produced using this transparent electrode substrate and a reliability test was conducted in the same manner as in Example 1, air bubbles were generated in the liquid crystal layer and the display characteristics were degraded.

【0106】〔比較例5〕実施例1と同じポリカーボネ
ートフィルムの両面に、アンカーコート層を設けること
無く直接実施例1で用いたガスバリア層を同じ厚さで成
形した。
Comparative Example 5 The gas barrier layer used in Example 1 was directly molded on both sides of the same polycarbonate film as in Example 1 without providing an anchor coat layer, with the same thickness.

【0107】フィルム/ガスバリア層で剥離強度を測定
したところ、4g/cmであった。また、実施例1と同
様のセロハンテープ接着剥離試験でガスバリア層が容易
に全面剥離してしまった。そのため、液晶セル作製が困
難であった。
The peel strength of the film / gas barrier layer was measured and found to be 4 g / cm. Also, in the same cellophane tape adhesion peeling test as in Example 1, the entire surface of the gas barrier layer was easily peeled off. Therefore, it was difficult to manufacture a liquid crystal cell.

【0108】〔比較例6〕実施例1と同じポリカーボネ
ートフィルムの両面に、1μmのアンカーコート層、1
5μmのガスバリア層、6μmの保護層を順次設けた。
Comparative Example 6 The same polycarbonate film as in Example 1 was coated on both sides with an anchor coat layer of 1 μm and 1 μm.
A 5 μm gas barrier layer and a 6 μm protective layer were sequentially provided.

【0109】ここで、アンカーコート層は、アミノアル
キルアルコキシシランを組成分とする日本ユニカー
(株)製のAP−133を用いて、実施例1と同様にし
て形成した。ガスバリア層、保護層は、実施例1と同じ
とした。
Here, the anchor coat layer was formed in the same manner as in Example 1 using AP-133 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., which contains aminoalkylalkoxysilane as a component. The gas barrier layer and the protective layer were the same as in Example 1.

【0110】フィルム/ガスバリア層で剥離強度を測定
したところ、15g/cmであった。また、実施例1と
同様のセロハンテープ接着剥離試験でガスバリア層が容
易に全面剥離してしまった。そのため、液晶セル作製が
困難であった。
The peel strength of the film / gas barrier layer was measured and found to be 15 g / cm. Also, in the same cellophane tape adhesion peeling test as in Example 1, the entire surface of the gas barrier layer was easily peeled off. Therefore, it was difficult to manufacture a liquid crystal cell.

【0111】〔比較例7〕実施例1と同じ積層基板の片
面に、透明導電層であるインジウム−錫酸化物層をスパ
ッタリング法により以下のように形成した。
Comparative Example 7 An indium-tin oxide layer which is a transparent conductive layer was formed on one surface of the same laminated substrate as in Example 1 by the sputtering method as follows.

【0112】スパッタリングターゲットには組成が重量
比でインジウム/錫=95/5、充填密度が90%のイ
ンジウム−錫酸化物ターゲットを用いた。連続スパッタ
装置に積層基板をセットし、1.3mPaの圧力まで排
気した後、Ar/O2 =99/1の体積混合比のガスを
導入し、雰囲気圧力を0.27Paにした。そしてフィ
ルム温度を50℃に設定し、投入電力密度1W/cm2
でDCスパッタリングを行った。その後、140℃90
分の熱処理を行った。
As a sputtering target, an indium-tin oxide target having a composition of indium / tin = 95/5 by weight and a packing density of 90% was used. After setting the laminated substrate in the continuous sputtering apparatus and evacuating it to a pressure of 1.3 mPa, a gas having a volume mixture ratio of Ar / O 2 = 99/1 was introduced to make the atmospheric pressure 0.27 Pa. Then, the film temperature is set to 50 ° C., and the input power density is 1 W / cm 2
DC sputtering was performed at. After that, 140 ℃ 90
Heat treatment for minutes was performed.

【0113】その結果得られた透明導電層は、結晶粒の
存在割合が面積比で35%であり、結晶性であった。ま
た膜厚は130nmであり、表面抵抗値は40Ω/□で
あった。
As a result, the transparent conductive layer thus obtained was crystalline, with an area ratio of crystal grains of 35%. The film thickness was 130 nm, and the surface resistance value was 40 Ω / □.

【0114】そして、この透明電極基板の耐屈曲性試験
を実施例1と同様に行った。その結果、透明導電層には
目視で明らかなクラックが発生していた。そのため、液
晶セル作製が困難であった。
Then, the bending resistance test of this transparent electrode substrate was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the transparent conductive layer had visible cracks. Therefore, it was difficult to manufacture a liquid crystal cell.

【0115】〔比較例8〕実施例1と同じ積層基板の片
面に、透明導電層であるインジウム−錫酸化物層をスパ
ッタリング法により以下のように形成した。
[Comparative Example 8] An indium-tin oxide layer as a transparent conductive layer was formed on one surface of the same laminated substrate as in Example 1 by the sputtering method as follows.

【0116】スパッタリングターゲットには組成が重量
比でインジウム/錫=99/1、充填密度が90%のイ
ンジウム−錫酸化物ターゲットを用いた。連続スパッタ
装置に積層基板をセットし、1.3mPaの圧力まで排
気した後、Ar/O2 =98.5/1.5の体積混合比
のガスを導入し、雰囲気圧力を0.27Paにした。そ
してフィルム温度を50℃に設定し、投入電力密度1W
/cm2 でDCスパッタリングを行った。
As a sputtering target, an indium-tin oxide target having a composition of indium / tin = 99/1 by weight and a packing density of 90% was used. After setting the laminated substrate in the continuous sputtering apparatus and evacuating it to a pressure of 1.3 mPa, a gas having a volume mixing ratio of Ar / O 2 = 98.5 / 1.5 was introduced to make the atmospheric pressure 0.27 Pa. . And set the film temperature to 50 ℃, input power density 1W
DC sputtering was performed at / cm 2 .

【0117】その結果得られた透明導電層は、結晶粒の
存在割合が面積比で0%であり、非結晶性であった。ま
た膜厚は130nmであり、表面抵抗値は45Ω/□で
あった。
As a result, the transparent conductive layer obtained was non-crystalline, in which the proportion of crystal grains present was 0% in area ratio. The film thickness was 130 nm, and the surface resistance value was 45 Ω / □.

【0118】この様にして得た透明電極基板の550n
mでの光線透過率は85%、ヘイズ値は0.6%であっ
た。
550 n of the transparent electrode substrate thus obtained
The light transmittance at m was 85% and the haze value was 0.6%.

【0119】この試料について130℃で4時間の熱処
理を行ったが、フィルム反りの変化及び外観変化は生じ
なかった。しかし、抵抗変化率を調べた結果、試験後の
抵抗値/初期抵抗値=2.9であり、抵抗値が大きく変
化してしまい、熱安定性が悪かった。
When this sample was heat-treated at 130 ° C. for 4 hours, no change in film warp and no change in appearance occurred. However, as a result of examining the rate of change in resistance, the resistance value after the test / initial resistance value = 2.9, and the resistance value changed significantly, and the thermal stability was poor.

【0120】〔比較例9〕実施例1と同じ積層基板の片
面に、透明導電層であるインジウム−錫酸化物層をスパ
ッタリング法により以下のように形成した。
[Comparative Example 9] An indium-tin oxide layer as a transparent conductive layer was formed on one surface of the same laminated substrate as in Example 1 by the sputtering method as follows.

【0121】スパッタリングターゲットには組成が重量
比でインジウム/錫=80/20、充填密度が90%の
インジウム−錫酸化物ターゲットを用いた。連続スパッ
タ装置に積層基板をセットし、1.3mPaの圧力まで
排気した後、Ar/O2 =98.5/1.5の体積混合
比のガスを導入し、雰囲気圧力を0.27Paにした。
そしてフィルム温度を60℃に設定し、投入電力密度1
W/平方cmでDCスパッタリングを行った。
As the sputtering target, an indium-tin oxide target having a composition of indium / tin = 80/20 by weight and a packing density of 90% was used. After setting the laminated substrate in the continuous sputtering apparatus and evacuating it to a pressure of 1.3 mPa, a gas having a volume mixing ratio of Ar / O 2 = 98.5 / 1.5 was introduced to make the atmospheric pressure 0.27 Pa. .
Then, set the film temperature to 60 ° C and input power density 1
DC sputtering was performed at W / square cm.

【0122】その結果得られた透明導電層は、結晶粒の
存在割合が面積比で0%であり、非結晶性であった。ま
た膜厚は130nmであり、表面抵抗値は60Ω/□で
あった。
As a result, the transparent conductive layer obtained was non-crystalline, in which the proportion of crystal grains was 0% in area ratio. The film thickness was 130 nm, and the surface resistance value was 60 Ω / □.

【0123】この様にして得た透明電極基板の550n
mでの光線透過率は78%、ヘイズ値は1.2%であっ
た。
550 n of the transparent electrode substrate thus obtained
The light transmittance at m was 78%, and the haze value was 1.2%.

【0124】この透明電極基板を用いてSTN液晶セル
を作製し、表示性能を観察したが、表示が暗くかつコン
トラストも低かった。
An STN liquid crystal cell was produced using this transparent electrode substrate and the display performance was observed, but the display was dark and the contrast was low.

【0125】〔比較例10〕実施例1と同じ積層基板の
片面に、実施例1と同じようにして透明導電層を形成し
た。ただし、形成に際し、長時間スパッタすることで、
膜厚を220nmと厚くした。
Comparative Example 10 A transparent conductive layer was formed on one surface of the same laminated substrate as in Example 1 in the same manner as in Example 1. However, when forming, by sputtering for a long time,
The film thickness was increased to 220 nm.

【0126】この透明電極基板の耐屈曲性試験を実施例
1と同様に行った。その結果、透明導電層には目視で明
らかなクラックが発生していた。そのため、液晶セル作
製が困難であった。
A bending resistance test of this transparent electrode substrate was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the transparent conductive layer had visible cracks. Therefore, it was difficult to manufacture a liquid crystal cell.

【0127】〔比較例11〕実施例1と同じ積層基板の
片面にエンボス加工を施し、その表面粗さを調整した。
加工した表面の表面粗さはRa値で43nmであった。
この表面に実施例1と同じ透明導電層を形成した。
Comparative Example 11 The same laminated substrate as in Example 1 was embossed on one surface to adjust the surface roughness.
The surface roughness of the processed surface was Ra value of 43 nm.
The same transparent conductive layer as in Example 1 was formed on this surface.

【0128】この透明電極基板を用いてSTN液晶セル
を作製し、表示性能を観察したが、均一に液晶が配向し
なかった。そのため、色ムラが確認でき、均一な表示特
性を示さなかった。
An STN liquid crystal cell was prepared using this transparent electrode substrate and the display performance was observed, but the liquid crystal was not uniformly aligned. Therefore, color unevenness was confirmed and uniform display characteristics were not exhibited.

【0129】[0129]

【発明の効果】以上、本発明は、液晶表示素子等の表示
パネル、タッチパネル或いは照明パネルなどの透明電極
に用いられる、耐ガス透過性、耐水蒸気透過性、長期信
頼性を改善する機能性層を積層した多層構成のプラスチ
ックフィルムを基板とした透明電極基板の光学特性の均
一性、平滑性、平面性を改善することにより、ガラス基
板の透明電極基板と遜色無い表示性能が得られるプラス
チック基板の透明電極基板を実現したものであり、全体
として可撓性の構成も可能である点と併せて、表示パネ
ル、タッチパネル、照明パネル等の安全性の向上、用途
拡大等に大きな寄与をなすものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention is a functional layer used for a transparent electrode of a display panel such as a liquid crystal display device, a touch panel or a lighting panel, which improves gas permeation resistance, water vapor permeation resistance and long-term reliability. By improving the uniformity, smoothness, and flatness of the optical characteristics of a transparent electrode substrate that uses a plastic film with a multilayered structure in which is laminated, it is possible to obtain a display performance that is comparable to that of a transparent electrode substrate of a glass substrate. It is a transparent electrode substrate, and it is possible to make a flexible structure as a whole, and it also contributes greatly to improving the safety of display panels, touch panels, lighting panels, etc. and expanding applications. is there.

【0130】更に、本発明の透明電極基板は長尺の基板
による連続生産ができ、コストダウンにも大きな効果を
奏する。
Further, the transparent electrode substrate of the present invention can be continuously manufactured by a long substrate, which is very effective in cost reduction.

【0131】このように、本発明は産業上大きな寄与を
なすものである。
Thus, the present invention makes a great industrial contribution.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルムの片面または両面
に、ガスバリア層をアンカーコート層を介して積層し、
更にその積層体の片面または両面に保護層を積層した積
層基板を用い、その最表面の片面または両面に透明導電
層を設けた透明電極基板において、該透明導電層は錫を
インジウム/錫の重量比で95/5〜85/15含有す
る非結晶性のインジウム酸化物からなり、膜厚が20か
ら200nmの範囲にある透明導電層であり、該プラス
チックフィルムはリターデーション値が20nm以下で
遅相軸のばらつきが±15度以内の光学等方性を有し、
厚さが70〜200μmのプラスチックフィルムであ
り、前記積層基板の透明導電層を設ける面の表面粗さが
中心線平均粗さRaで40nm以下であることを特徴と
する透明電極基板。
1. A gas barrier layer is laminated on one or both sides of a plastic film via an anchor coat layer,
Further, in a transparent electrode substrate using a laminated substrate in which a protective layer is laminated on one surface or both surfaces of the laminate, and a transparent conductive layer is provided on one or both surfaces of the outermost surface, the transparent conductive layer is made of tin and indium / tin. A transparent conductive layer made of an amorphous indium oxide containing 95/5 to 85/15 in a ratio and having a film thickness in the range of 20 to 200 nm. The plastic film has a retardation value of 20 nm or less and a slow phase. Has optical isotropy with axis variation within ± 15 degrees,
A transparent electrode substrate, which is a plastic film having a thickness of 70 to 200 μm, and the surface roughness of the surface of the laminated substrate on which the transparent conductive layer is provided is 40 nm or less in terms of centerline average roughness Ra.
【請求項2】 波長550nmの光透過率が80%以上
で、ヘイズ値が1%以下である請求項1記載の透明電極
基板。
2. The transparent electrode substrate according to claim 1, which has a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 550 nm and a haze value of 1% or less.
【請求項3】 前記ガスバリアー層がビニルアルコール
成分又はビニルアルコール共重合体成分を含む硬化層か
らなり、前記アンカーコート層がアクリル樹脂或いはポ
リウレタン樹脂である請求項1、請求項2のいずれかに
記載の透明電極基板。
3. The method according to claim 1, wherein the gas barrier layer is a hardened layer containing a vinyl alcohol component or a vinyl alcohol copolymer component, and the anchor coat layer is an acrylic resin or a polyurethane resin. The transparent electrode substrate described.
【請求項4】 前記保護層がエポキシ樹脂、フェノキシ
樹脂、フェノキシエーテル樹脂、又はフェノキシエステ
ル樹脂の硬化物である請求項1〜3のいずれかに記載の
透明電極基板。
4. The transparent electrode substrate according to claim 1, wherein the protective layer is a cured product of an epoxy resin, a phenoxy resin, a phenoxy ether resin, or a phenoxy ester resin.
【請求項5】 前記プラスチックフィルムがポリカーボ
ネートまたはポリアリレートからなる請求項1〜4のい
ずれかに記載の透明電極基板。
5. The transparent electrode substrate according to claim 1, wherein the plastic film is made of polycarbonate or polyarylate.
【請求項6】 前記ポリカーボネートフィルムはビスフ
ェノール成分がビスフェノールAのみからなり、分子量
が30,000以上でガラス転移点が150℃以上であ
る請求項5記載の透明電極基板。
6. The transparent electrode substrate according to claim 5, wherein the polycarbonate film has a bisphenol component of bisphenol A only, has a molecular weight of 30,000 or more and a glass transition point of 150 ° C. or more.
【請求項7】 前記ポリカーボネートフィルムが、溶液
流延法で製膜されたフィルムである請求項6に記載の透
明電極基板。
7. The transparent electrode substrate according to claim 6, wherein the polycarbonate film is a film formed by a solution casting method.
【請求項8】 前記ポリカーボネートフィルムは、残存
溶媒濃度が0.2重量%以下である請求項7記載の透明
電極基板。
8. The transparent electrode substrate according to claim 7, wherein the polycarbonate film has a residual solvent concentration of 0.2% by weight or less.
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