JPH08211374A - Transparent conductive film - Google Patents

Transparent conductive film

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JPH08211374A
JPH08211374A JP1582795A JP1582795A JPH08211374A JP H08211374 A JPH08211374 A JP H08211374A JP 1582795 A JP1582795 A JP 1582795A JP 1582795 A JP1582795 A JP 1582795A JP H08211374 A JPH08211374 A JP H08211374A
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JP
Japan
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resin
transparent conductive
layer
conductive film
film
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Application number
JP1582795A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Fujishima
博行 藤島
Satoshi Igarashi
聡 五十嵐
Kazuo Hachiman
一雄 八幡
Yuuji Tamura
優次 田村
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Priority to DE1996630829 priority patent/DE69630829T2/en
Priority to TW085101276A priority patent/TW354312B/en
Priority to US08/595,581 priority patent/US6136444A/en
Priority to KR1019960002512A priority patent/KR100347973B1/en
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Abstract

PURPOSE: To obtain a transparent conductive film having total durability against solvents, excellent adhesion property, and sufficient air permeability resistance, surface smoothness and optical characteristics by using hardened layers of each specified resin as an anchor coating layer and a solvent-resistant layer. CONSTITUTION: An anchor coating layer, glass barrier layer, solvent-resistant layer and transparent conductive layer are formed on a polymer film. The anchor coating layer is formed by thermally hardening a thermally crosslinking resin prepared by mixing phenoxy-base resin selected from phenoxy resin, phenoxyether resin and phenoxyester resin having a repeating unit expressed by formula and a polyfunctional isocyanate compd. having two or more isocyanate groups. The solvent-resistant layer is formed by hardening a crosslinking resin comprising a novolac type epoxy resin or silicone base resin. In formula, R<1> -R<6> are hydrogen or C1-C3 alkyl groups, R<7> is C2-C5 alkylene group, X is an ether group or ester group, (m) is an integer 0 to 3 and (n) is an integer 20 to 300.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高分子フィルム(プラ
スチックフィルムとも言う)上に、アンカーコート層、
ガスバリア層、耐溶剤層、透明導電層を設けた透明導電
性フィルムに関し、更に詳しくは空気の主な成分である
酸素、窒素、二酸化炭素などの耐透気性、耐水蒸気透過
性が良好で光学特性が優れる上、機械的、熱的、溶剤的
影響を加えても、劣化を起こさないという信頼性の高い
透明導電性フィルムに関するものであり、液晶表示パネ
ル、光導電性感光体、面発熱体、有機エレクトロルミネ
ッセンス、タッチパネル、太陽電池等の透明電極に適用
できる、中でもその表示品質、耐久性面で要求の厳しい
液晶表示パネルの透明電極に好適な透明導電性フィルム
に関する。
The present invention relates to a polymer film (also called a plastic film), an anchor coat layer,
Regarding a transparent conductive film provided with a gas barrier layer, a solvent resistant layer, and a transparent conductive layer, more specifically, it has good air permeation resistance and oxygen vapor resistance against oxygen, nitrogen, carbon dioxide, etc., which are the main components of air. In addition to being excellent, the invention relates to a highly reliable transparent conductive film that does not deteriorate even when subjected to mechanical, thermal, and solvent influences, a liquid crystal display panel, a photoconductive photosensitive member, a surface heating element, The present invention relates to a transparent conductive film that can be applied to transparent electrodes of organic electroluminescence, touch panels, solar cells, etc., and is suitable for transparent electrodes of liquid crystal display panels, which are particularly demanding in terms of display quality and durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示素子は、より軽薄化、よ
り大型化という要求に加え、長期信頼性、形状の自由
度、曲面表示等の高度な要求がなされている。特に、ペ
イジャー(ポケットベル)、携帯電話、電子手帳、ペン
入力機器など、携帯して移動することのできる機器の利
用が普及するにつれ、その透明電極に従来の厚く、重
く、割れやすいガラス基板に代わって、プラスチックフ
ィルムを基板とする透明導電性フィルムを用いた液晶パ
ネルが検討され、一部で実用化され始めている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display elements have been required to be lighter and thinner and to be larger in size, as well as to be highly demanded for long-term reliability, flexibility of shape, curved surface display and the like. In particular, as the use of portable and mobile devices such as pagers (pagers), mobile phones, electronic organizers, and pen input devices becomes widespread, conventional transparent, thick, heavy, and fragile glass substrates are used for transparent electrodes. Instead, a liquid crystal panel using a transparent conductive film having a plastic film as a substrate has been studied, and some have begun to put it into practical use.

【0003】こうしたプラスチック基板の透明導電性フ
ィルムは、軽薄化の要望を満たし、特開昭56−130
010号公報等に記載されており、その基本積層構成は
公知である。
The transparent conductive film of such a plastic substrate satisfies the demand for lightness and thinness, and is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 56-130.
No. 010, etc., and its basic laminated structure is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来のプラスチック基
板の透明導電性フィルムの透明電極基板は、ガラス基板
のものと比較して、軽薄、形状の自由、曲面表示の要望
を満たしているものの、耐透気性、耐水蒸気透過性、平
滑性、平面性、光学特性、長期信頼性が劣るという欠点
を持っている。
Although the transparent electrode substrate of the transparent conductive film of the conventional plastic substrate satisfies the requirements of lightness and thinness, freedom of shape, and curved surface display as compared with that of the glass substrate, it is durable. It has the drawbacks of poor air permeability, water vapor permeation resistance, smoothness, flatness, optical properties, and long-term reliability.

【0005】耐透気性、耐水蒸気透過性が劣る透明電極
基板を用いると、液晶表示パネルの場合その液晶部に空
気、水蒸気が浸透して気泡が発生し、結果として表示不
能点となってディスプレーの表示品位を劣化させてしま
う。特に車載用等の過酷な条件下ではこの欠点が容易に
発生し大きな問題となる。
When a transparent electrode substrate having inferior air permeation resistance and water vapor permeation resistance is used, in the case of a liquid crystal display panel, air and water vapor permeate into the liquid crystal part to generate bubbles, resulting in a display-incapable point. Display quality is deteriorated. Especially, under severe conditions such as vehicle mounting, this defect easily occurs and becomes a serious problem.

【0006】また、平滑性、平面性が低い場合、液晶層
のギャップが均一でなくなるうえ、基板自体も光学的な
むらが発生するため、当然、表示色にむらが生じ、その
上、均一な電圧透過率特性を示さなくなる。特に液晶パ
ネル用電極基板の熱的耐久性が低い場合には、平面性が
失われやすく車載用等の過酷な条件下で大きな問題とな
る。
Further, when the smoothness and flatness are low, the gap of the liquid crystal layer is not uniform, and the substrate itself also has optical unevenness, which naturally causes unevenness in the display color, and moreover, it is uniform. It no longer exhibits voltage transmittance characteristics. In particular, when the thermal durability of the liquid crystal panel electrode substrate is low, the flatness is likely to be lost, which becomes a serious problem under severe conditions such as vehicle mounting.

【0007】更に、基板自体に複屈折性がある場合も、
表示の着色・コントラストの低下等、ディスプレーの表
示品位を低下させることになる。
Further, when the substrate itself has birefringence,
The display quality of the display is deteriorated due to the coloring of the display and deterioration of the contrast.

【0008】これらは液晶表示パネルが表示機能を発現
するためには、液晶層中で偏光方向を電気的にスイッチ
ングするという原理に従っているためである。
These are because the liquid crystal display panel follows the principle of electrically switching the polarization direction in the liquid crystal layer in order to exhibit the display function.

【0009】こうした課題を改良するために、特開昭6
1−41122号公報や、特開昭63−71829号公
報、特開平3−9323号公報などでは、各種の機能を
付加したプラスチック基板が提案されている。しかしな
がら、これらに提案されたプラスチック基板は、それぞ
れに効果を奏するものではあるが、電極加工に使用され
る各種の溶剤に対する総合的な耐久性、基板のプラスチ
ックフィルムとその上の層との接着性等において、十分
でないのが現状である。
In order to solve these problems, Japanese Unexamined Patent Publication No.
In Japanese Patent Laid-Open No. 1-41122, Japanese Patent Laid-Open No. 63-71829, Japanese Patent Laid-Open No. 3-9323, and the like, plastic substrates to which various functions are added have been proposed. However, although the plastic substrates proposed to them have their respective effects, the overall durability against various solvents used for electrode processing, the adhesiveness between the plastic film of the substrate and the layer above it. However, the current situation is that they are not sufficient.

【0010】本発明はかかる現状に鑑みなされたもの
で、上記の溶剤に対する総合的な耐久性、接着性に優
れ、その他の耐透気性、表面平滑性、光学特性も十分
で、ガラス基板と遜色無く液晶表示パネル用に用いるこ
とができるプラスチック基板の透明導電性フィルムを提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is excellent in overall durability and adhesiveness to the above-mentioned solvents, and is also excellent in other air permeation resistance, surface smoothness, and optical characteristics, and comparable to a glass substrate. It is an object of the present invention to provide a transparent conductive film of a plastic substrate which can be used for a liquid crystal display panel without any means.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上述の目的は、以下の本
発明により達成される。すなわち、本発明は、高分子フ
ィルム上に、アンカーコート層、ガスバリア層、耐溶剤
層、透明導電層を設けた透明導電性フィルムにおいて、
該アンカーコート層が下記一般式(A)で示される繰り
返し単位からなるフェノキシ樹脂、フェノキシエーテル
樹脂、フェノキシエステル樹脂から選択した少なくとも
1種類のフェノキシ系樹脂とイソシアネート基を2つ以
上含有する多官能イソシアネート化合物とを混合した熱
架橋性樹脂を熱硬化して得られる層であり、且つ該耐溶
剤層がノボラック型エポキシ系樹脂またはシリコーン系
樹脂よりなる架橋性樹脂を硬化して得られる層であるこ
とを特徴とする透明導電性フィルムである。
The above object can be achieved by the present invention described below. That is, the present invention, on a polymer film, an anchor coat layer, a gas barrier layer, a solvent resistant layer, in a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer,
The anchor coat layer is a polyfunctional isocyanate containing at least one phenoxy resin selected from a phenoxy resin, a phenoxy ether resin, and a phenoxy ester resin composed of a repeating unit represented by the following general formula (A) and two or more isocyanate groups. It is a layer obtained by thermosetting a thermally crosslinkable resin mixed with a compound, and the solvent resistant layer is a layer obtained by curing a crosslinkable resin composed of a novolac type epoxy resin or a silicone resin. Is a transparent conductive film.

【0012】[0012]

【化3】 Embedded image

【0013】(ここで、R1 からR6 は、同一または異
なる水素または炭素数1から3のアルキル基、R7 は炭
素数2から5のアルキレン基、Xはエーテル基、エステ
ル基、mは0から3の整数、nは20から300の整数
である。) 以下、本発明の詳細を説明する。
(Wherein R 1 to R 6 are the same or different hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 7 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, X is an ether group, an ester group, and m is An integer of 0 to 3 and n is an integer of 20 to 300.) Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0014】透明導電性フィルムを最も要求の厳しい大
型液晶表示パネル用透明電極基板に用いて、単純マトリ
ックス駆動により精細な表示を行うに際し、その表示の
着色やコントラストの低下を抑え、パネルの色相むらを
少なくするためには、その高分子フィルムには、リター
デーション値が30nm以下、かつ、遅相軸のばらつき
が±30度以内の光学等方性を有するもの、更にはリタ
ーデーション値が20nm以下、かつ、遅相軸のばらつ
きが±15度以内の高度の光学等方性を有するものが好
ましい。なお、高分子フィルムの膜厚は、用途によるが
通常70〜200μmが好ましく用いられる。
When a transparent conductive film is used as a transparent electrode substrate for a large-sized liquid crystal display panel, which is the most demanding, when a fine display is performed by simple matrix driving, coloration of the display and reduction of contrast are suppressed, and the hue of the panel is uneven. In order to reduce the above, the polymer film has a retardation value of 30 nm or less, and an optical isotropy in which the variation of the slow axis is within ± 30 degrees, and further the retardation value is 20 nm or less. Further, those having a high degree of optical isotropy in which the variation of the slow axis is within ± 15 degrees are preferable. The thickness of the polymer film is preferably 70 to 200 μm, although it depends on the application.

【0015】溶融押出法、溶液流延法などの一般的なフ
ィルムの製膜方法により上述の光学特性を満足するフィ
ルムを得ることは可能である。このうち特に溶液流延法
ではこの高度の光学等方性すなわちリターデーション値
が20nm以下、かつ、遅相軸のばらつきが±15度以
内という光学等方性を有する光学等方性の高分子フィル
ムを製造することが可能であるため、好ましく用いられ
る。
It is possible to obtain a film satisfying the above-mentioned optical characteristics by a general film forming method such as a melt extrusion method and a solution casting method. Among them, particularly in the solution casting method, this highly isotropic polymer film having a high optical isotropy, that is, a retardation value of 20 nm or less, and a slow axis variation of ± 15 degrees or less. Is preferably used because it can be produced.

【0016】なお、ここで述べるリターデーション値は
公知の複屈折の屈折率の差Δnと膜厚dとの積Δn・d
であり、可視光線の範囲である波長での測定値であるこ
とが必要であり、一般的にプラスチックは屈折率の波長
分散特性を有しているので、代表値として590nmの
測定値とする。また遅相軸のバラツキ角度は同一の波長
で測定するが、リターデーション値及び遅相軸の角度は
良く知られている複屈折率測定装置で測定することがで
きる。例えば日本分光製の多波長複屈折率測定装置M−
150等で簡便に測定することができる。
The retardation value described here is the product Δnd of the known difference Δn in birefringence and the film thickness d.
It is necessary that the measured value is at a wavelength in the visible light range, and since plastic generally has wavelength dispersion characteristics of refractive index, the measured value is 590 nm as a typical value. Further, the dispersion angle of the slow axis is measured at the same wavelength, but the retardation value and the angle of the slow axis can be measured by a well-known birefringence measuring device. For example, a multi-wavelength birefringence measuring device M- manufactured by JASCO
It can be easily measured at 150 or the like.

【0017】本発明の高分子フィルムの材料としては、
上述の光学特性を満たすポリアリレート、ポリカーボネ
ート等が好ましく用いられる。
The material for the polymer film of the present invention includes:
Polyarylate, polycarbonate and the like which satisfy the above optical characteristics are preferably used.

【0018】中でも、光学特性、熱特性の点から、ポリ
カーボネートが好ましい。通常、平均分子量が高くなれ
ばガラス転移温度も向上する。また、機械特性も向上す
る。その様な観点から、ポリカーボネートの中では、ビ
スフェノールAのみからなるビスフェノール成分よりな
り、分子量30000以上でガラス転移温度150℃以
上のポリカーボネートが好ましい。また、耐熱性向上の
ため、共重合成分として、例えば、9,9ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)フルオレンあるいは、1,1ビス
(4−ヒドロキシフェニル)3,3,5−トリメチルシ
クロヘキサン等を入れても差し支えない。ただし、最適
な平均分子量、共重合条件の選択は、耐熱性と機械特性
及び経済性のバランスで実施される。
Of these, polycarbonate is preferable from the viewpoint of optical characteristics and thermal characteristics. Generally, the higher the average molecular weight, the higher the glass transition temperature. In addition, mechanical characteristics are improved. From such a viewpoint, among polycarbonates, a polycarbonate which is composed of a bisphenol component consisting only of bisphenol A and has a molecular weight of 30,000 or more and a glass transition temperature of 150 ° C. or more is preferable. In order to improve heat resistance, for example, 9,9 bis (4-hydroxyphenyl) fluorene or 1,1 bis (4-hydroxyphenyl) 3,3,5-trimethylcyclohexane is added as a copolymerization component. It doesn't matter. However, the selection of the optimum average molecular weight and copolymerization conditions is carried out in a balance between heat resistance, mechanical properties and economic efficiency.

【0019】ここで、平均分子量とは、数平均分子量の
ことであり、GPC等の公知の測定手段で簡便に決定す
ることができる。
Here, the average molecular weight means the number average molecular weight, and can be easily determined by a known measuring means such as GPC.

【0020】本発明のガスバリア層は、バリア層の厚み
として実用的な可撓性を損なわない100μm以下で、
液晶表示パネル用電極基板として必要な酸素透過率が1
cc/平方メートル・日・atm以下、水蒸気透過率が
20g/平方メートル・日・atm以下という基本的な
特性を達成できるものが好ましい。この点からアクリロ
ニトリル成分、ビニルアルコール成分、ビニルアルコー
ル共重合体成分、またはハロゲン化ビニリデン成分より
なる群から選ばれた少なくとも1種を50モル%以上含
有する高分子樹脂が好ましく適用される。
The gas barrier layer of the present invention has a thickness of 100 μm or less which does not impair practical flexibility as the thickness of the barrier layer,
The oxygen transmission rate required for electrode substrates for liquid crystal display panels is 1
It is preferable that the basic characteristics of cc / square meter · day · atm or less and water vapor transmission rate of 20 g / square meter · day · atm or less can be achieved. From this point, a polymer resin containing 50 mol% or more of at least one selected from the group consisting of an acrylonitrile component, a vinyl alcohol component, a vinyl alcohol copolymer component, and a vinylidene halide component is preferably applied.

【0021】更に、これらの高分子樹脂の中でも、アク
リロニトリル成分がある場合、溶剤の選択性が限定され
てしまうことや、ハロゲン化ビニリデン成分がある場
合、焼却時にハロゲンが発生するという作業性、環境問
題の点から、ポリビニルアルコール系樹脂、中でもビニ
ルアルコール成分、ビニルアルコール共重合体成分の少
なくとも一方を50モル%以上含有するポリビニルアル
コール系樹脂が特に好ましい。なお、このビニルアルコ
ール共重合体としては、ビニルアルコール−酢酸ビニル
共重合体、ビニルアルコール−ビニルブチラール共重合
体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等が挙げられ
る。
Further, among these polymer resins, when the acrylonitrile component is present, the selectivity of the solvent is limited, and when the vinylidene halide component is present, halogen is generated during incineration, and the workability and the environment are high. From the viewpoint of problems, polyvinyl alcohol-based resins, particularly polyvinyl alcohol-based resins containing at least 50 mol% or more of a vinyl alcohol component and a vinyl alcohol copolymer component are particularly preferable. The vinyl alcohol copolymer may, for example, be a vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, a vinyl alcohol-vinyl butyral copolymer or an ethylene-vinyl alcohol copolymer.

【0022】なお、ここでの酸素透過率とはMOCON
社製オキシトラン2/20MHを用いて25℃で測定し
た値、水蒸気透過率はMOCON社製パーマトランW1
Aを用いて25℃、90%RHで測定した値である。
The oxygen transmission rate here means MOCON.
Value measured at 25 ° C. using Oxytran 2/20 MH manufactured by Mfg. Co., Ltd.
It is a value measured using A at 25 ° C. and 90% RH.

【0023】上述の高分子フィルムとガスバリア層との
接着を良好にするために用いるアンカーコート層として
は、従来は一般にポリウレタン樹脂や水溶性ポリエステ
ル等が使用されている。しかし、アンカーコート層を形
成した後のその表面のタック性と言われる付着性、粘着
性がフィルムの巻き取りにおいて度々問題となり、製膜
した時点でタック性が残存しないアンカーコート層が望
まれる。
As the anchor coat layer used to improve the adhesion between the polymer film and the gas barrier layer, polyurethane resin, water-soluble polyester or the like has been generally used conventionally. However, after the anchor coat layer is formed, the tackiness and tackiness of the surface, which are said to be tackiness, often cause problems in winding the film, and an anchor coat layer that does not retain tackiness at the time of film formation is desired.

【0024】このような観点から、本発明ではアンカー
コート層には、15分程度、必要な場合は5分程度の比
較的短時間の熱処理でタックフリーの表面が得られる下
記一般式Aで示される繰り返し単位からなるフェノキシ
樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹
脂から選択した少なくとも1種類のフェノキシ系樹脂
と、イソシアネート基を2つ以上含有する多官能イソシ
アネート化合物とを混合した熱架橋性樹脂を熱硬化して
得られる層を用いる。
From this point of view, in the present invention, the anchor coat layer is represented by the following general formula A in which a tack-free surface can be obtained by a heat treatment for a relatively short time of about 15 minutes, and if necessary, about 5 minutes. Of a phenoxy resin, a phenoxy ether resin, or a phenoxy ester resin composed of repeating units, and a heat-crosslinkable resin obtained by mixing a polyfunctional isocyanate compound containing two or more isocyanate groups with each other. The layer thus obtained is used.

【0025】[0025]

【化4】 [Chemical 4]

【0026】ここで、R1 からR6 は、同一又は異なる
水素または炭素数1から3のアルキル基、R7 は炭素数
2から5のアルキレン基、Xはエーテル基、エステル
基、mは0から3の整数、nは20から300の整数で
ある。
Here, R 1 to R 6 are the same or different hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 7 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, X is an ether group, an ester group, and m is 0. To 3 and n is an integer from 20 to 300.

【0027】中でも、R1 、R2 がメチル基、R3 、R
4 、R5 、R6 が水素、R7 がペンチレン基のものが、
合成容易でコスト面から好ましい。
Among them, R 1 and R 2 are methyl groups, R 3 and R
4 , R 5 and R 6 are hydrogen and R 7 is a pentylene group,
It is preferable from the viewpoint of easy synthesis and cost.

【0028】また、イソシアネート基を2つ以上含有す
る多官能イソシアネート化合物としては、以下のものが
例示される。
Examples of the polyfunctional isocyanate compound containing two or more isocyanate groups include the following.

【0029】2,6−トリレンジイソシアネート、2,
4−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネ
ート−トリメチロールプロパンアダクト体、t−シクロ
ヘキサン−1,4−ジイソシアネート、m−フェニレン
ジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3,6−ヘキサ
メチレントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添
キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,
4′−ジイソシアネート、水添ジフェニルメタン−4,
4′−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リ
ジンエステルトリイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニ
ル)チオホスフェイト、m−テトラメチルキシリレンジ
イソシアネート、p−テトラメチルキシリレンジイソシ
アネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネー
ト、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメ
チルオクタン、ビシクロヘプタントリイソシアネート、
2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート等のポリイソシアネートおよびそれらの混合物あ
るいは多価アルコール付加体等が挙げられる。
2,6-tolylene diisocyanate, 2,
4-tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate-trimethylolpropane adduct, t-cyclohexane-1,4-diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate,
Hexamethylene diisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,
4'-diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane-4,
4'-diisocyanate, lysine diisocyanate, lysine ester triisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate, m-tetramethylxylylene diisocyanate, p-tetramethylxylylene diisocyanate, 1,6,11- Undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyl octane, bicycloheptane triisocyanate,
Examples thereof include polyisocyanates such as 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, mixtures thereof, and polyhydric alcohol adducts.

【0030】この中でも特に汎用性、反応性の観点か
ら、2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリ
レンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−ト
リメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイ
ソシアネートが好ましい。
Of these, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate-trimethylolpropane adduct and hexamethylene diisocyanate are particularly preferred from the viewpoints of versatility and reactivity.

【0031】本発明の熱可塑性樹脂は、以上のフェノキ
シ系樹脂と多官能イソシアネート化合物を混合すること
で得られる。その際、両者を良好に溶解する溶媒、例え
ば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、セ
ロソルブアセテート、酢酸エチル等を用いて溶解して混
合することで、塗布に適した熱架橋性樹脂溶液としても
よい。そして、この熱架橋性樹脂溶液を湿式コーティン
グ法でプラスチックフィルム上に製膜し、熱処理で硬化
することにより、ポリビニルアルコール系樹脂層等のガ
スバリア層との接着性の良いタックフリーのアンカーコ
ート層を得ることができる。
The thermoplastic resin of the present invention can be obtained by mixing the above phenoxy resin with a polyfunctional isocyanate compound. At that time, a solvent capable of dissolving both of them, for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cellosolve acetate, ethyl acetate, etc. may be dissolved and mixed to obtain a heat-crosslinkable resin solution suitable for coating. Then, this heat-crosslinkable resin solution is formed on a plastic film by a wet coating method and cured by heat treatment to form a tack-free anchor coat layer having good adhesion to a gas barrier layer such as a polyvinyl alcohol-based resin layer. Obtainable.

【0032】ところで、本発明の熱架橋性樹脂はフェノ
キシ系樹脂と多官能イソシアネート化合物が同時に存在
する混合物であることが重要である。フェノキシ樹脂単
独に近くなると、接着性が低下する。一方、多官能イソ
シアネート化合物単独に近くなると、得られるアンカー
コート層は架橋あるいは高分子化が容易に進行しないた
め、脆くなったり、液状の状態で残存しまい、その上に
ガスバリア層を積層すると、アンカーコート層が容易に
破壊したり、均一な膜厚、光学特性のガスバリア層を積
層することが困難となる。
By the way, it is important that the thermally crosslinkable resin of the present invention is a mixture in which a phenoxy resin and a polyfunctional isocyanate compound are present at the same time. Adhesion decreases as the phenoxy resin becomes closer to itself. On the other hand, when the polyfunctional isocyanate compound is close to a single compound, the resulting anchor coat layer does not easily crosslink or polymerize, and thus becomes brittle or remains in a liquid state. The coat layer is easily broken, and it becomes difficult to stack a gas barrier layer having a uniform film thickness and optical characteristics.

【0033】かかる点すなわち接着性および得られるア
ンカーコート層表面のタック性の両面から、このフェノ
キシ系樹脂と多官能イソシアネート化合物との組成比
は、フェノキシ系樹脂中の水酸基モル数で前記多官能イ
ソシアネート化合物中のイソシアネートモル数を割った
値〔NCO/OH〕で0.2以上で3以下の範囲が好ま
しい。
From this point of view, that is, the adhesiveness and the tackiness of the surface of the obtained anchor coat layer, the composition ratio of the phenoxy resin to the polyfunctional isocyanate compound is such that the polyfunctional isocyanate is the number of moles of hydroxyl groups in the phenoxy resin. A value obtained by dividing the number of moles of isocyanate in the compound [NCO / OH] is preferably 0.2 or more and 3 or less.

【0034】なお、この接着性は、JIS−K−711
3規格のT型剥離試験によって25℃で測定したプラス
チックフィルムとポリビニルアルコール系樹脂層との間
の剥離強度で評価し、この値が150g/cm以上であ
れば耐久性試験等で界面剥離等の劣化が観察されない点
から、150g/cmを基準とし、これ以上を接着性良
好とした。
The adhesiveness is JIS-K-711.
The peel strength between the plastic film and the polyvinyl alcohol-based resin layer measured at 25 ° C. by the T-peel test of 3 standards is evaluated. If this value is 150 g / cm or more, it may indicate interfacial peeling in a durability test or the like. From the point that no deterioration was observed, 150 g / cm was taken as the standard, and above this was considered good adhesion.

【0035】それ以下では高分子フィルムと有機ガスバ
リア層との接着性は十分でなく、例えば、耐久性試験で
はセロハンテープ等の接着引き剥がしテストで容易に剥
離してしまう。この様な積層フィルムでは、液晶セルの
製造工程で剥離が生じ、外観が不良になる上、信頼性も
悪くなる。
Below that, the adhesiveness between the polymer film and the organic gas barrier layer is not sufficient, and for example, in the durability test, the adhesive peeling test of cellophane tape or the like easily peels off. In such a laminated film, peeling occurs in the manufacturing process of the liquid crystal cell, resulting in poor appearance and poor reliability.

【0036】また、タック性は以下のようにして評価し
た。すなわち、指で触る、あるいは、アンカーコート層
同士または、アンカーコート層と別のプラスチックフィ
ルムを密着させ、密着状態が維持されるかどうかで評価
した。
The tackiness was evaluated as follows. That is, it was evaluated by touching with a finger, or by bringing the anchor coat layers into close contact with each other or with the anchor coat layer and another plastic film, and whether or not the close contact state was maintained.

【0037】耐溶剤層は、従来一般にフェノキシ樹脂、
フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、ア
クリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン
樹脂等の熱架橋性樹脂架橋物が用いられているが、液晶
表示素子作製時にさらされるアルカリ性液、有機溶媒に
対して充分満足する耐溶剤性はまだ得られていない。
The solvent resistant layer is conventionally a phenoxy resin,
Phenoxyether resin, phenoxyester resin, acrylic resin, melamine resin, phenol resin, urethane resin and other heat-crosslinkable resin crosslinked products are used, but sufficient for alkaline liquids and organic solvents exposed during liquid crystal display device fabrication. Satisfactory solvent resistance has not yet been obtained.

【0038】本発明の耐溶剤層では、この耐溶剤性を満
足するノボラック型エポキシ系樹脂、またはシリコン系
樹脂よりなる架橋性樹脂を硬化して得られる層を用い
る。
In the solvent resistant layer of the present invention, a layer obtained by curing a crosslinkable resin made of a novolac type epoxy resin or a silicone resin satisfying the solvent resistance is used.

【0039】ノボラック型エポキシ樹脂としは、目的の
耐溶剤性という点から、下記一般式(B)にて示される
ノボラック型エポキシ系樹脂が好ましく適用される。
As the novolac type epoxy resin, the novolac type epoxy resin represented by the following general formula (B) is preferably applied from the viewpoint of desired solvent resistance.

【0040】[0040]

【化5】 Embedded image

【0041】ここで、R1 はHまたはCH3 、R2 及び
3 はHまたはグリシジルフェニルエーテル基、nは1
から50の整数である。
Here, R 1 is H or CH 3 , R 2 and R 3 are H or glycidyl phenyl ether groups, and n is 1
Is an integer from 50 to 50.

【0042】nは一般的に分布を持っており、ある数を
特定できないが、平均の数として大きい方が好ましく、
好ましくは3以上、更に好ましくは5以上である。
N has a distribution in general, and a certain number cannot be specified, but it is preferable that the average number is large.
It is preferably 3 or more, more preferably 5 or more.

【0043】このノボラック型エポキシ樹脂を硬化させ
る硬化剤としては、アミン系、ポリアミノアミド系、酸
及び酸無水物、イミダゾール、ポリメルカプタン等の公
知の硬化剤が用いられ、特に耐溶剤性、光学特性、熱特
性等より、酸無水物及び脂環族アミン類が好ましく用い
られ、中でも酸無水物が好ましい。
As the curing agent for curing the novolac type epoxy resin, known curing agents such as amine-based, polyaminoamide-based, acid and acid anhydride, imidazole and polymercaptan are used, and particularly, solvent resistance and optical properties are used. Acid anhydrides and alicyclic amines are preferably used because of their thermal properties, and acid anhydrides are particularly preferable.

【0044】酸無水物として、メチルヘキサヒドロ無水
フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の脂環族
酸無水物、また、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ド
デセニル無水コハク酸等の脂肪族酸無水物が挙げられる
が、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましく用いら
れる。なお、酸無水物を用いるときに、反応速度を上げ
るために公知の第三級アミン類等の硬化触媒を適量加え
ることが好ましい。
As acid anhydrides, alicyclic acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride, aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, and aliphatic acids such as dodecenylsuccinic anhydride An acid anhydride can be mentioned, but methylhexahydrophthalic anhydride is preferably used. When using an acid anhydride, it is preferable to add an appropriate amount of a known curing catalyst such as a tertiary amine in order to increase the reaction rate.

【0045】脂環族アミンとしては、ビス(4−アミノ
−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ジアミノジシ
クロヘキシルメタン、イソホロンジアミン等が挙げられ
るが、中ではビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘ
キシル)メタンが好ましく用いられる。
Examples of the alicyclic amine include bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, diaminodicyclohexylmethane and isophoronediamine. Among them, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane is used. It is preferably used.

【0046】また、シリコーン系樹脂としては、公知の
各種のシリコーン系樹脂が適用できるが、中でもトリア
ルコキシシランを40重量%以上含むものが好ましい。
トリアルコキシシランが40重量%未満で、テトラアル
コキシシランの含有量が多いと得られる層が硬くなり過
ぎて層にクラックが入ったり、可撓性が悪くなる。ま
た、ジアルコキシシラン、モノアルコキシシランが多く
なると目的とする耐溶剤性が十分でなくなる。
As the silicone-based resin, various known silicone-based resins can be applied, but among them, those containing 40% by weight or more of trialkoxysilane are preferable.
If the content of trialkoxysilane is less than 40% by weight and the content of tetraalkoxysilane is large, the obtained layer becomes too hard and cracks occur in the layer, and the flexibility deteriorates. Further, if the amount of dialkoxysilane or monoalkoxysilane increases, the desired solvent resistance becomes insufficient.

【0047】ここでトリアルコキシシランとしては、メ
チルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等である。
Here, as the trialkoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane,
Vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β ( Aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like.

【0048】他の成分としては、テトラアルコキシシラ
ン、ジアルコキシシラン、モノアルコキシシラン、コロ
イダルシリカ等が挙げられる。テトラアルコキシシラン
としてはメチルシリケート、エチルシリケート、プロピ
ルシリケート等が例示される。ジアルコキシシランとし
てはジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジエチルジメトキシシラン等が挙げられ、モノア
ルコキシシランとしてはトリメチルメトキシシラン等が
挙げられる。
Other components include tetraalkoxysilane, dialkoxysilane, monoalkoxysilane, colloidal silica and the like. Examples of the tetraalkoxysilane include methyl silicate, ethyl silicate, propyl silicate and the like. Examples of dialkoxysilanes include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and diethyldimethoxysilane, and examples of monoalkoxysilanes include trimethylmethoxysilane.

【0049】本発明のシリコーン系樹脂には、透明性を
損なわない範囲で、接着性改善等の面より、アクリル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、ポリビニールアルコール系樹脂、尿素樹脂等を添加
することが可能である。このトリアルコキシシランが4
0%以上含むシリコーン系硬化性樹脂には、硬化をより
促進するために塩酸、酢酸等の酸性水溶液を添加するこ
とが好ましい。また、上記組成物は揮発性溶媒によって
希釈することも可能で、その溶媒としては、アルコール
類、エステル類、エーテル類、ケトン類及びこれらの混
合溶媒等が挙げられる。
The silicone resin of the present invention is an acrylic resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, a polyvinyl alcohol resin, a urea resin, etc. from the viewpoint of improving the adhesiveness, etc. within the range of not impairing the transparency. Can be added. This trialkoxysilane is 4
To the silicone-based curable resin containing 0% or more, it is preferable to add an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid or acetic acid in order to further accelerate the curing. Further, the composition can be diluted with a volatile solvent, and examples of the solvent include alcohols, esters, ethers, ketones, and mixed solvents thereof.

【0050】エポキシ系樹脂およびシリコン系樹脂は各
種の有機溶剤に対して高い耐溶剤性を示し、外界からの
有機溶剤の進入、またこれに起因する基板の高分子フィ
ルムの白濁等の異常を防ぐことができる。更には、その
高い耐溶剤性のために液晶セル等の製造工程において用
いる溶剤の使用範囲を拡大することも可能となる。
Epoxy resins and silicone resins have high solvent resistance to various organic solvents, and prevent intrusion of organic solvents from the outside and abnormalities such as cloudiness of the polymer film of the substrate caused by the penetration. be able to. Furthermore, due to its high solvent resistance, it is possible to expand the range of use of the solvent used in the manufacturing process of liquid crystal cells and the like.

【0051】以上の各機能層を形成する手段としては、
マイヤーバーコート法、グラビアロールコート法、スピ
ンコート法等の湿式コーティング法、デッピング法、ラ
ミネートコート法等の公知の積層手段が適用できるが、
均一な膜厚の形成面等から製膜条件の制御が容易な湿式
コーティング法が本発明には好ましい。
As a means for forming each of the above functional layers,
Known coating means such as a Meyer bar coating method, a gravure roll coating method, a wet coating method such as a spin coating method, a depping method, and a laminate coating method can be applied.
The wet coating method is preferable for the present invention because the film forming conditions can be easily controlled from the viewpoint of forming a uniform film thickness.

【0052】以上により、高分子フィルム、ガスバリア
層等の各層の間の接着性が良好で、且つ酸素等のガス、
水、有機溶剤などに対する耐久性も十分で、表面硬度が
高く、耐擦傷性等の機械特性も優れた積層フィルムが得
られる。
As described above, the adhesion between the respective layers such as the polymer film and the gas barrier layer is good, and the gas such as oxygen,
A laminated film having sufficient durability against water, organic solvent, etc., high surface hardness, and excellent mechanical properties such as scratch resistance can be obtained.

【0053】本発明の透明導電性フィルムは、以上の積
層フィルムに透明導電層を形成することにより、得られ
る。
The transparent conductive film of the present invention can be obtained by forming a transparent conductive layer on the above laminated film.

【0054】透明導電層には、公知の錫、インジウム、
チタン等の金属またはこれらの酸化物が適用できるが、
主として非結晶のインジウム酸化物からなり、その組成
分として錫を5〜15重量%含有し、かつ、透明導電層
の膜厚が20から200nmの範囲にあるものが、透明
性、導電性、可撓性等の面から好ましい。
For the transparent conductive layer, known tin, indium,
Metals such as titanium or oxides of these can be applied,
A material mainly composed of amorphous indium oxide, containing 5 to 15% by weight of tin as a constituent component thereof, and having a film thickness of the transparent conductive layer in the range of 20 to 200 nm has good transparency, conductivity, and conductivity. It is preferable in terms of flexibility and the like.

【0055】結晶性の高いインジウム酸化物は、非結晶
体と比較すると透明性、導電性が高く、電極材料として
好ましいが、屈曲性の高い高分子フィルム上に結晶性の
膜を製膜し、この積層フィルムを屈曲したときには割れ
やすく、取り扱い性が悪くなってしまう。
Highly crystalline indium oxide is preferable as an electrode material because it has high transparency and conductivity as compared with an amorphous material, but a crystalline film is formed on a highly flexible polymer film, When this laminated film is bent, it breaks easily and the handleability becomes poor.

【0056】ここでは製膜したインジウム酸化物の結晶
性、非結晶性を次のように定義する。製膜したインジウ
ム酸化物の表面を透過電子顕微鏡で観察すると、非晶質
膜の表面に直径が高々100nm程度の微結晶体が観察
される。この観察方法で、単位面積(100μm2 )当
たりの結晶粒面積が20%以下の場合を非結晶と定義す
る。
Here, the crystallinity and non-crystallinity of the formed indium oxide are defined as follows. When the surface of the formed indium oxide is observed with a transmission electron microscope, a microcrystal having a diameter of at most about 100 nm is observed on the surface of the amorphous film. In this observation method, the case where the crystal grain area per unit area (100 μm 2 ) is 20% or less is defined as amorphous.

【0057】インジウム酸化物は本来、透明な電気絶縁
体であるが、微量のドーパントを含有する場合や、わず
かに酸素不足の場合に半導体となる。好ましい半導体金
属酸化物としては、ドーパントとして、錫またはフッ素
を含むインジウム酸化物を挙げることができ、特に好ま
しくは、錫を5〜15重量%含有するインジウム酸化物
が、高い透明性を保ちつつ、良好な導電性を示す。
Although indium oxide is originally a transparent electric insulator, it becomes a semiconductor when it contains a trace amount of dopant or when it is slightly oxygen-deficient. As a preferable semiconductor metal oxide, an indium oxide containing tin or fluorine as a dopant can be mentioned, and particularly preferably, an indium oxide containing 5 to 15% by weight of tin, while maintaining high transparency, Shows good conductivity.

【0058】そしてその厚さとしては、20から200
nmの範囲がふさわしい。20nmより薄いと、電気的
に面積抵抗が高くなり、良好な液晶パネル用電極基板と
して活用しにくくなる。また、200nmよりも厚くな
ると、基板の550nmの透過率として、80%以上の
値を得難くなるうえ、屈曲したときに容易に割れてしま
い、取り扱いが困難となる。
The thickness is 20 to 200.
The nm range is suitable. If the thickness is less than 20 nm, the sheet resistance becomes electrically high, and it becomes difficult to utilize it as a good electrode substrate for liquid crystal panels. On the other hand, when the thickness is more than 200 nm, it becomes difficult to obtain a value of 80% or more as the transmittance of the substrate at 550 nm, and the substrate is easily cracked when bent and is difficult to handle.

【0059】さらにSTNなどの、特に液晶配向が大き
く表示に影響を及ぼす表示素子では、平滑性、平面性が
重要であり、具体的には前記液晶パネル用電極基板の透
明導電層の表面粗さがRa値で40nm以下、更には2
0nm以下であることが好ましい。
Further, in a display element such as STN, in which liquid crystal orientation is particularly large and exerts influence on display, smoothness and flatness are important. Specifically, the surface roughness of the transparent conductive layer of the electrode substrate for the liquid crystal panel is important. Is 40 nm or less in Ra value, and further 2
It is preferably 0 nm or less.

【0060】なお、ここで表面粗さのRa値は、位相シ
フト干渉法を測定原理に用いたWYCO社製TOPO−
3Dを用い、40倍の倍率でフィルム表面上の辺の長さ
が256μmの正方形の面を1μm間隔で測定したとき
に得られる中心線平均粗さRaで示す。
Here, the Ra value of the surface roughness is the TOPO- manufactured by WYCO, which uses the phase shift interferometry as a measurement principle.
The center line average roughness Ra obtained by measuring a square surface having a side length of 256 μm on the surface of the film at a magnification of 40 times at an interval of 1 μm using 3D is shown.

【0061】ところで、前述の原料ポリマーの溶液をベ
ルト、フィルム等の支持体上に流延して製膜する溶液流
延法で製膜した高分子フィルムについて詳細に検討した
結果、得られた高分子フィルムの製造時空気に晒される
エアー面は特に平滑性、平面性が良好であることを見い
出した。具体的にはエアー面側では1nm以下のRa値
を得ることが可能であった。そのエアー面の反対側の製
造時支持体に接した支持体面では1nm以下のRa値を
得ることはできなかった。
By the way, as a result of detailed examination of the polymer film formed by the solution casting method, in which the solution of the above-mentioned raw material polymer is cast on a support such as a belt or a film to form a film, It has been found that the air surface exposed to air during the production of the molecular film has particularly good smoothness and flatness. Specifically, it was possible to obtain a Ra value of 1 nm or less on the air surface side. It was not possible to obtain an Ra value of 1 nm or less on the surface of the support on the side opposite to the air surface which was in contact with the support during manufacturing.

【0062】このため、電極表面の平滑性、平面性が非
常に高い液晶表示パネル用電極基板を得るためには、溶
液流延法で製膜した高分子フィルムのエアー面に、透明
導電層を形成することが好ましい。
Therefore, in order to obtain an electrode substrate for a liquid crystal display panel having extremely high smoothness and flatness of the electrode surface, a transparent conductive layer is formed on the air surface of the polymer film formed by the solution casting method. It is preferably formed.

【0063】以上の本発明の透明導電性フィルムにおい
て、アンカーコート層、ガスバリア層、耐溶剤層、透明
導電層の各層の積層構成は各種の態様が可能である。具
体的には、高分子フィルムを1、アンカーコート層を
2、ガスバリア層を3、耐溶剤層を4、透明導電層を5
としたとき、5/4/1/2/3/4、5/4/1/2
/3/2/4、5/4/2/1/2/3/4、5/4/
2/1/2/3/2/4、5/4/3/2/1/2/3
/4、5/4/2/3/2/1/2/3/2/4、5/
4/3/2/1/4、5/4/2/3/2/1/4、5
/4/3/2/1/2/4、5/4/2/3/2/1/
2/4等が好ましい積層構成として挙げられる。
In the above-mentioned transparent conductive film of the present invention, various constitutions are possible for the laminated constitution of each layer of the anchor coat layer, the gas barrier layer, the solvent resistant layer and the transparent conductive layer. Specifically, 1 is a polymer film, 2 is an anchor coat layer, 3 is a gas barrier layer, 4 is a solvent resistant layer, and 5 is a transparent conductive layer.
Then, 5/4/1/2/3/4, 5/4/1/2
/ 3/4/2, 5/4/2/1/2/3/4, 5/4 /
2/1/2/3/2/4, 5/4/3/2/1/2/3
/ 4, 5/4/2/3/2/1/2/3/2/4, 5 /
4/3/2/1/4, 5/4/2/3/2/1/4, 5
/ 4/3/2/1/2/4, 5/4/2/3/2/1 /
2/4 etc. are mentioned as a preferable laminated constitution.

【0064】以下、実施例を比較例と共に説明する。な
お、実施例、比較例において、「部」とあるのは重量部
である。また、積層構成を表す各数字は上記の積層構成
のそれと同一である。
Examples will be described below together with comparative examples. In Examples and Comparative Examples, “part” means “part by weight”. Further, each numeral indicating the laminated constitution is the same as that of the laminated constitution described above.

【0065】[0065]

【実施例】【Example】

[実施例1]ビスフェノール成分がビスフェノールAの
みからなる平均分子量37000のポリカーボネート樹
脂を用いて、溶液流延法により以下のようにポリカーボ
ネートフィルムを製造した。
[Example 1] Using a polycarbonate resin having an average molecular weight of 37,000 in which the bisphenol component was bisphenol A alone, a polycarbonate film was produced by the solution casting method as follows.

【0066】すなわち、該ポリカーボネート樹脂をメチ
レンクロライドに20重量%溶解した。そしてこの溶液
をダイコーティング法により支持体の厚さ175μmの
ポリエステルフィルム上に流延して、製膜した。次い
で、乾燥炉で溶媒を残留溶媒濃度が13重量%になるま
で蒸発除去した後、ポリカーボネートフィルムをポリエ
ステルフィルムから剥離した。そして、このポリカーボ
ネートフィルムを温度120℃の乾燥炉中で、縦横の張
力をバランスさせながら、残留溶媒濃度が0.08重量
%になるまで乾燥した。
That is, the polycarbonate resin was dissolved in methylene chloride in an amount of 20% by weight. Then, this solution was cast on a polyester film having a thickness of 175 μm by a die coating method to form a film. Next, the solvent was removed by evaporation in a drying oven until the residual solvent concentration reached 13% by weight, and then the polycarbonate film was peeled off from the polyester film. Then, this polycarbonate film was dried in a drying oven at a temperature of 120 ° C. while balancing the vertical and horizontal tensions until the residual solvent concentration became 0.08% by weight.

【0067】得られたポリカーボネートフィルムは、厚
みが102μmで、表面粗さRaはエアー面が0.5n
m、支持体面が2.1nmであった。またこのフィルム
の590nmにおけるリターデーション値は、軸方向で
8±2nm、遅相軸のばらつきはMD方向を中心に±8
度以内であった。
The obtained polycarbonate film has a thickness of 102 μm and a surface roughness Ra of 0.5 n on the air side.
m, the support surface was 2.1 nm. The retardation value of this film at 590 nm was 8 ± 2 nm in the axial direction, and the variation of the slow axis was ± 8 centered in the MD direction.
It was within the degree.

【0068】このポリカーボネートフィルムの支持体面
にアンカーコート層、ガスバリア層、耐溶剤層を順次以
下のようにして積層した。
An anchor coat layer, a gas barrier layer and a solvent resistant layer were sequentially laminated on the support surface of this polycarbonate film as follows.

【0069】アンカーコート層はフェノキシ樹脂とし、
フェノキシ樹脂の東都化成(株)製フェノトートYP−
50を10部、ジアセトンアルコールを90部、イソシ
アネート化合物として日本ポリウレタン(株)製コロネ
ートLを10部混合したもの(〔NCO/OH〕=1.
0)をポリカーボネートフィルム上に塗工し、130℃
で10分熱処理することにより形成した。得られたアン
カーコート層の表面はタック性の無いものであった。
The anchor coat layer is a phenoxy resin,
Phenoxy resin Fenotote YP manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.
50 parts by weight, 90 parts by weight diacetone alcohol, and 10 parts by weight of Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. as an isocyanate compound ([NCO / OH] = 1.
0) is coated on a polycarbonate film and the temperature is 130 ° C.
It was formed by heat treatment for 10 minutes. The surface of the obtained anchor coat layer had no tackiness.

【0070】ガスバリア層はポリビニルアルコール系樹
脂とし、(株)クラレ製ポリビニルアルコールPVA−
117を12部、水88部に溶解したものをアンカーコ
ート層上に塗工し、110℃で30分熱処理することで
形成した。
The gas barrier layer is made of polyvinyl alcohol resin and polyvinyl alcohol PVA-made by Kuraray Co., Ltd.
A solution of 117 dissolved in 12 parts of water and 88 parts of water was applied onto the anchor coat layer, and heat-treated at 110 ° C. for 30 minutes to form a film.

【0071】耐溶剤層はクレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂とし、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の日
本化薬(株)製EOCN−104Sを100部とメチル
エチルケトンを100部混合した溶液に、メチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸74部、1、8−ジアザビシクロ
(5、4、0)ウンデセン5部を均一に混合したものを
ガスバリア層上に塗工し、100℃で3分、さらに13
5℃で60分熱処理することによって形成した。
The solvent-resistant layer was a cresol novolac type epoxy resin, and a solution of 100 parts of cresol novolac type epoxy resin EOCN-104S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. and 100 parts of methyl ethyl ketone was mixed with 74 parts of methylhexahydrophthalic anhydride. Part, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene (5 parts) was uniformly mixed and applied onto the gas barrier layer, and the mixture was applied at 100 ° C. for 3 minutes, and further 13
It was formed by heat treatment at 5 ° C. for 60 minutes.

【0072】各層の厚さはアンカーコート層が3μm、
有機ガスバリア層が6μm、耐溶剤層が8μmであっ
た。
The thickness of each layer is 3 μm for the anchor coat layer,
The organic gas barrier layer had a thickness of 6 μm, and the solvent resistant layer had a thickness of 8 μm.

【0073】そして得られた積層フィルムのもう一方の
面のエアー面に、上記の耐溶剤層と同じにして同じ構成
の耐溶剤層のみを積層した後、その上に透明導電層であ
るインジウム−錫酸化物層をスパッタリング法により形
成した。
Then, only the solvent resistant layer having the same constitution as the above solvent resistant layer was laminated on the air surface on the other side of the obtained laminated film, and then an indium-containing transparent conductive layer was formed thereon. The tin oxide layer was formed by the sputtering method.

【0074】そのためのスパッタリングターゲットには
組成が重量比でインジウム/錫=90/10、充填密度
が90%のインジウム−錫酸化物ターゲットを用いた。
そして、連続スパッタ装置に積層フィルムをセットし、
1.3mPaの圧力まで排気した後、Ar/O2 =9
8.5/1.5の体積混合比のガスを導入し、雰囲気圧
力を0.27Paにした。そして積層フィルム温度を5
0℃に設定し、投入電力密度1W/平方cmでDCスパ
ッタリングを行った。
As a sputtering target therefor, an indium-tin oxide target having a composition of indium / tin = 90/10 by weight and a packing density of 90% was used.
Then, set the laminated film in the continuous sputtering device,
Ar / O 2 = 9 after exhausting to a pressure of 1.3 mPa
A gas having a volume mixing ratio of 8.5 / 1.5 was introduced and the atmospheric pressure was set to 0.27 Pa. And the laminated film temperature is 5
The temperature was set to 0 ° C., and DC sputtering was performed at an input power density of 1 W / square cm.

【0075】その結果得られた透明導電層は、結晶粒の
存在割合が面積比で0%であり、非結晶性であった。ま
た、厚みは130nm、表面粗さRaは3.7nmであ
り、表面抵抗値は単位正方形の対向辺に電極を配置して
測定する正方形測定で40Ωであった。以下、この表面
抵抗値をΩ/□で示す。
The transparent conductive layer obtained as a result was non-crystalline, with the area ratio of crystal grains being 0%. The thickness was 130 nm, the surface roughness Ra was 3.7 nm, and the surface resistance value was 40Ω in the square measurement in which the electrodes were arranged on the opposite sides of the unit square. Hereinafter, this surface resistance value is shown by Ω / □.

【0076】この様にして積層構成が5/4/1/2/
3/4なる透明導電性フィルムを得た。この透明導電性
フィルムは、550nmでの光線透過率が85%、ヘイ
ズ値が0.5%、また酸素透過率は0.1cc/平方メ
ートル・日・atm、水蒸気透過率は9g/平方メート
ル・日・atm、フィルムとガスバリア層の剥離強度は
600g/cmであった。
In this way, the laminated structure is 5/4/1/2 /
A transparent conductive film of 3/4 was obtained. This transparent conductive film has a light transmittance of 85% at 550 nm, a haze value of 0.5%, an oxygen transmittance of 0.1 cc / square meter.day.atm, and a water vapor transmission rate of 9 g / square meter.day. The peel strength between the atm and the film and the gas barrier layer was 600 g / cm.

【0077】この透明導電性フィルムをカッターナイフ
で切断し、切断部に保護層側からセロハンテープを接着
し、切断部から引き剥がしたところ、全く層間剥離が観
察されなかった。
When this transparent conductive film was cut with a cutter knife, cellophane tape was adhered to the cut portion from the protective layer side, and peeled from the cut portion, no delamination was observed.

【0078】また、幅1cm、長さ10cmの試料を切
り出し、耐屈曲性試験を行った。試験は透明導電層を外
側、及び内側にして1cmφの金属棒に180度巻き、
1分間その状態を保持した後、目視観察を行った。その
結果、透明導電層の外観変化は観測されなかった。
A sample having a width of 1 cm and a length of 10 cm was cut out and subjected to a bending resistance test. The test was performed by winding a transparent conductive layer on the outside and the inside of a 1 cmφ metal rod 180 degrees,
After maintaining that state for 1 minute, visual observation was performed. As a result, no change in appearance of the transparent conductive layer was observed.

【0079】次に、この透明導電性フィルムの偏光板間
での着色性を調べた。まず5cm角の試料を切り出し
た。そして一対の偏光板の間にこの試料を挟持し、一方
の偏光板、さらには試料を回転させて目視で色の変化を
観察した。その結果、色の変化は目視では全く生じなか
った。
Next, the coloring property between the polarizing plates of this transparent conductive film was examined. First, a 5 cm square sample was cut out. Then, this sample was sandwiched between a pair of polarizing plates, and one polarizing plate and further the sample were rotated to visually observe a change in color. As a result, no color change was visually observed.

【0080】次に、耐溶剤性試験を行った。5%KOH
水、アセトンについては25℃で10分、N−メチルピ
ロリドンについては80℃で3分の条件において各溶液
に浸漬したが、なんら変化も観られなかった。
Next, a solvent resistance test was conducted. 5% KOH
Water and acetone were immersed in each solution under the conditions of 25 ° C. for 10 minutes and N-methylpyrrolidone at 80 ° C. for 3 minutes, but no change was observed.

【0081】更に、130℃で4時間の熱処理を行った
が、反りの変化及び外観変化は生じなかった。また、こ
の熱処理前後の抵抗変化率を調べた結果、試験後抵抗値
/初期抵抗値=1.2であり、抵抗値は大きく変わるこ
とはなかった。
Further, when heat treatment was carried out at 130 ° C. for 4 hours, there was no change in warpage and no change in appearance. As a result of examining the rate of change in resistance before and after the heat treatment, the resistance value after the test / initial resistance value = 1.2, and the resistance value did not change significantly.

【0082】この透明導電性フィルムを透明電極基板に
用いてSTN液晶セルを作製し、表示性能を観察した
が、コントラストが良好でかつ、動作時の色むらは観察
されなかった。
An STN liquid crystal cell was prepared by using this transparent conductive film as a transparent electrode substrate and the display performance was observed, but the contrast was good and no color unevenness was observed during operation.

【0083】更にこの液晶セルについて信頼性試験を行
った。信頼性試験は、90℃で1000時間の耐熱性試
験及び、60℃,90%RHで1000時間の耐湿性試
験の2種を行った。その結果、外観、表示性能になんら
変化は観られなかった。
Further, a reliability test was conducted on this liquid crystal cell. Two types of reliability tests were performed: a heat resistance test at 90 ° C. for 1000 hours and a humidity resistance test at 60 ° C. and 90% RH for 1000 hours. As a result, no change in appearance and display performance was observed.

【0084】以上、得られた透明導電性フィルムは、液
晶表示パネル用透明電極として十分な性能であった。
As described above, the obtained transparent conductive film had sufficient performance as a transparent electrode for a liquid crystal display panel.

【0085】[実施例2]実施例1において、透明導電
層側のポリカーボネートフィルムと耐溶剤層との間に実
施例1と同じアンカーコート層を設けた以外は実施例1
と同じ構成、すなわち積層構成が5/4/2/1/2/
3/4の透明導電性フィルムを作製した。
Example 2 Example 1 is the same as Example 1 except that the same anchor coat layer as in Example 1 is provided between the polycarbonate film on the transparent conductive layer side and the solvent resistant layer.
The same structure as, that is, the laminated structure is 5/4/2/1/2 /
A 3/4 transparent conductive film was produced.

【0086】得られた透明導電性フィルムは、550n
mでの光線透過率が85%、ヘイズ値が0.5%、また
酸素透過率は0.1cc/平方メートル・日・atm、
水蒸気透過率は9g/平方メートル・日・atm、フィ
ルムとガスバリア層の剥離強度は600g/cmであっ
た。
The transparent conductive film obtained was 550 n
The light transmittance at m is 85%, the haze value is 0.5%, and the oxygen transmittance is 0.1 cc / square meter · day · atm,
The water vapor transmission rate was 9 g / square meter.day.atm, and the peel strength between the film and the gas barrier layer was 600 g / cm.

【0087】この透明導電性フィルムについて、実施例
1と同じ各試験を行ったところ、すべてにおいて実施例
1と同様の結果を得た。
When the same tests as in Example 1 were carried out on this transparent conductive film, the same results as in Example 1 were obtained in all cases.

【0088】[実施例3]実施例2において、透明導電
層側のアンカーコート層と耐溶剤層との間に実施例1と
同じガスバリア層を設けた以外は実施例2と同じ構成、
すなわち積層構成5/4/3/2/1/2/3/4の透
明導電性フィルムを作製した。
Example 3 The same structure as in Example 2 except that the same gas barrier layer as in Example 1 was provided between the anchor coat layer on the transparent conductive layer side and the solvent resistant layer in Example 2,
That is, a transparent conductive film having a laminated constitution of 5/4/3/2/1/2/3/4 was produced.

【0089】得られた透明導電性フィルムは、550n
mでの光線透過率が85%、ヘイズ値が0.7%、また
酸素透過率は0.1cc/平方メートル・日・atm、
水蒸気透過率は7g/平方メートル・日・atm、フィ
ルムとガスバリア層の剥離強度は600g/cmであっ
た。
The transparent conductive film obtained was 550 n
The light transmittance at m is 85%, the haze value is 0.7%, and the oxygen transmittance is 0.1 cc / square meter · day · atm,
The water vapor transmission rate was 7 g / square meter.day.atm, and the peel strength between the film and the gas barrier layer was 600 g / cm.

【0090】この透明導電性フィルムについて、実施例
1と同じ各試験を行ったところ、すべてにおいて実施例
1と同様の結果を得た。
When the same tests as in Example 1 were carried out on this transparent conductive film, the same results as in Example 1 were obtained in all cases.

【0091】[実施例4]実施例1において、アンカー
コート層を下記の組成のものとした以外は、実施例1と
同じ構成の透明導電性フィルムを作製した。
Example 4 A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 except that the anchor coat layer had the following composition was prepared.

【0092】アンカーコート層のフェノキシ樹脂の組成
は、フェノキシ樹脂を20部とメチルエチルケトン40
部と2−エトキシエチルアセテート20部を混合したも
のに多官能イソシアネートを5部加えた組成のものとし
た。このときNCO/OHは0.25であった。熱処理
条件は、実施例1と同じ条件で表面が全くタック性の無
いアンダーコート層が形成できた。
The composition of the phenoxy resin of the anchor coat layer was 20 parts of phenoxy resin and 40 parts of methyl ethyl ketone.
And 20 parts of 2-ethoxyethyl acetate were mixed, and 5 parts of polyfunctional isocyanate was added to the composition. At this time, NCO / OH was 0.25. The heat treatment conditions were the same as in Example 1, and an undercoat layer having no tackiness on the surface could be formed.

【0093】得られた透明導電性フィルムの光学特性、
耐透気性、耐水蒸気性は実施例1と同様であった。剥離
強度は、580g/cmで良好な接着性を示した。
Optical characteristics of the obtained transparent conductive film,
The air resistance and water vapor resistance were the same as in Example 1. The peel strength was 580 g / cm, indicating good adhesion.

【0094】また、セロハンテープの剥離テスト、耐屈
曲性試験、着色性試験、耐溶剤性試験、熱処理試験、液
晶セル試験においても、ほぼ実施例1と同様で、全く問
題無かった。
The cellophane tape peeling test, bending resistance test, colorability test, solvent resistance test, heat treatment test, and liquid crystal cell test were almost the same as in Example 1, and there were no problems.

【0095】[実施例5]実施例1において、アンカー
コート層を下記の組成のものとした以外は、実施例1と
同じ構成の透明導電性フィルムを作製した。
Example 5 A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 except that the anchor coat layer had the following composition was prepared.

【0096】アンカーコート層のフェノキシ樹脂の組成
は、フェノキシ樹脂を20部とメチルエチルケトン40
部と2−エトキシエチルアセテート20部を混合したも
のに多官能イソシアネートを58部加えた組成のものと
した。このときNCO/OHは2.9とした。熱処理条
件は、実施例1と同じ条件で表面が全くタック性の無い
アンダーコート層が形成できた。
The composition of the phenoxy resin of the anchor coat layer was 20 parts of phenoxy resin and 40 parts of methyl ethyl ketone.
And 20 parts of 2-ethoxyethyl acetate were mixed, and 58 parts of polyfunctional isocyanate was added to the mixture. At this time, NCO / OH was set to 2.9. The heat treatment conditions were the same as in Example 1, and an undercoat layer having no tackiness on the surface could be formed.

【0097】得られた透明導電性フィルムの光学特性、
耐透気性、耐水蒸気性は実施例1と同様であった。剥離
強度は、270g/cmで良好な接着性を示した。
Optical characteristics of the obtained transparent conductive film,
The air resistance and water vapor resistance were the same as in Example 1. The peel strength was 270 g / cm, indicating good adhesion.

【0098】また、セロハンテープの剥離テスト、耐屈
曲性試験、着色性試験、耐溶剤性試験、熱処理試験、液
晶セル試験においても、ほぼ実施例1と同様で、全く問
題無かった。
The cellophane tape peeling test, flex resistance test, colorability test, solvent resistance test, heat treatment test, and liquid crystal cell test were almost the same as in Example 1, and there were no problems.

【0099】[実施例6]実施例1において、耐溶剤層
を下記の組成のものとした以外は、実施例1と同じ構成
の透明導電性フィルムを作製した。
Example 6 A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 was prepared except that the solvent resistant layer had the following composition.

【0100】耐溶剤層は、γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン18g、メチルトリメトキシシラン14.8
g、ジメチルジメトキシシラン2.6g及び0.01N
塩酸11.5gを加え20℃に保ちながら3時間攪拌し
て得たシリコーン系樹脂の塗液を作製した。この塗液
を、マイヤーバーにて塗工し、135℃で10分熱処理
して形成した。耐溶剤層の厚さは3.5μmとした。
The solvent resistant layer was 18 g of γ-aminopropyltrimethoxysilane and 14.8 of methyltrimethoxysilane.
g, dimethyldimethoxysilane 2.6 g and 0.01N
Hydrochloric acid (11.5 g) was added, and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 20 ° C to prepare a coating solution of a silicone resin. This coating liquid was applied by a Meyer bar and heat-treated at 135 ° C. for 10 minutes to form a film. The thickness of the solvent resistant layer was 3.5 μm.

【0101】得られた透明導電性フィルムは、500n
mでの光線透過率が87%、ヘイズ値が0.4%で、酸
素透過率、水蒸気透過率及び剥離強度は、実施例1と同
様であった。
The transparent conductive film obtained had a thickness of 500 n.
The light transmittance at m was 87%, the haze value was 0.4%, and the oxygen transmittance, water vapor transmittance and peel strength were the same as in Example 1.

【0102】また、セロハンテープの剥離テスト、耐屈
曲性試験、着色性試験、耐溶剤性試験、熱処理試験、液
晶セル試験においても、ほぼ実施例1と同様で、全く問
題無かった。
The cellophane tape peeling test, bending resistance test, colorability test, solvent resistance test, heat treatment test, and liquid crystal cell test were almost the same as in Example 1, and there were no problems.

【0103】[比較例1]実施例1において、アンカー
コート層を下記のものにした以外は、実施例1と同じ構
成の透明導電性フィルムを作製した。
Comparative Example 1 A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 was prepared except that the anchor coat layer was changed to the following in Example 1.

【0104】アンカーコート層はポリウレタン樹脂と
し、主剤のポリオール成分として武田薬品工業(株)製
A310を100部と、多官能イソシアネート化合物と
して同社製A3を25部混合したものを塗工し、130
℃で30分熱処理して形成した。アンカーコート層の厚
さは、実施例1と同じ3μmとした。
The anchor coat layer was made of polyurethane resin, and a mixture of 100 parts of A310 manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. as a polyol component of the main ingredient and 25 parts of A3 manufactured by the same company as a polyfunctional isocyanate compound was applied,
It was formed by heat treatment at 30 ° C. for 30 minutes. The thickness of the anchor coat layer was 3 μm, which was the same as in Example 1.

【0105】このとき、得られたアンカーコート層表面
にはタック性があり、アンカーコート層のみ形成したポ
リカーボネートフィルムを重ねたとき、互いに接着して
しまった。このフィルム同士を引き剥がすと、アンカー
コート層の表面は荒れてしまい、ガスバリア層を平滑に
積層することができなかった。
At this time, the surface of the obtained anchor coat layer had tackiness, and when the polycarbonate films formed only with the anchor coat layer were stacked, they adhered to each other. When the films were peeled off from each other, the surface of the anchor coat layer became rough and the gas barrier layer could not be laminated smoothly.

【0106】[比較例2]実施例1において、アンカー
コート層を下記のものにした以外は、実施例1と同じ構
成の透明導電性フィルムを作製した。
Comparative Example 2 A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 was prepared except that the anchor coat layer was changed to the following in Example 1.

【0107】アンカーコート層は、日本ユニカー(株)
製アミノアルキルアルコキシシランAP−133を用
い、これをポリカーボネートフィルムに塗工し、実施例
1と同じ130℃で10分熱処理して形成した。アンカ
ーコート層の厚さは、実施例1と同じ3μmとした。
The anchor coat layer is Nippon Unicar Co., Ltd.
Aminoalkylalkoxysilane AP-133 was used, which was applied to a polycarbonate film and heat-treated at 130 ° C. for 10 minutes as in Example 1 to form a film. The thickness of the anchor coat layer was 3 μm, which was the same as in Example 1.

【0108】得られた透明導電性フィルムについて、剥
離強度試験を行ったところ、15g/cmであった。ま
た、実施例1と同様のセロハンテープ接着剥離試験でガ
スバリア層から容易に全面剥離してしまった。そのた
め、液晶セル作製が困難であった。
A peel strength test of the obtained transparent conductive film gave a result of 15 g / cm. Further, in the same cellophane tape adhesion peeling test as in Example 1, the entire surface was easily peeled off from the gas barrier layer. Therefore, it was difficult to manufacture a liquid crystal cell.

【0109】[比較例3]実施例1において、耐溶剤層
を下記のものにした以外は、実施例1と同じ構成の透明
導電性フィルムを作製した。
Comparative Example 3 A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 was prepared except that the solvent resistant layer was changed to the following in Example 1.

【0110】耐溶剤層は、油化シェルエポキシ(株)製
ビスフェノールA型エポキシ樹脂エピコート828を1
00部、メチルエチルケトンを100部、ビス(4−ア
ミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタンを32部、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1部を混
合したものを塗工し、実施例1と同様100℃で3分、
更に130℃で60分熱処理して形成した。耐溶剤層の
厚さは、実施例1と同じ8μmとした。
As the solvent resistant layer, bisphenol A type epoxy resin Epicoat 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. was used.
00 parts, 100 parts of methyl ethyl ketone, 32 parts of bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane,
A mixture of 1 part of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was applied, and the same as in Example 1 at 100 ° C. for 3 minutes,
Further, it was formed by heat treatment at 130 ° C. for 60 minutes. The thickness of the solvent resistant layer was 8 μm, which was the same as in Example 1.

【0111】得られた透明導電性フィルムについて、実
施例1と同様の耐溶剤試験を行った。N−メチルピロリ
ドンに膨潤がひどく、形態が保持されず、この透明導電
性フィルムは耐有機溶剤性が悪かった。
The transparent conductive film thus obtained was subjected to the same solvent resistance test as in Example 1. The N-methylpyrrolidone swelled so badly that the morphology was not retained, and the transparent conductive film had poor resistance to organic solvents.

【0112】[比較例4]実施例1の構成において、透
明導電層側の耐溶剤層を省略した構成、すなわち積層構
成が5/1/2/3/4の透明導電性フィルムを作製し
た。
[Comparative Example 4] A transparent conductive film having a structure in which the solvent resistant layer on the transparent conductive layer side was omitted from the structure of Example 1, that is, the laminated structure was 5/1/2/3/4, was produced.

【0113】得られた透明導電性フィルムについて、実
施例1と同様の耐溶剤試験を行った。N−メチルピロリ
ドンではポリカーボネートフィルムが溶解し、アセトン
ではポリカーボネートフィルムの白化が観測された。そ
のため、配向膜を形成するのが困難であった。
The transparent conductive film thus obtained was subjected to the same solvent resistance test as in Example 1. The polycarbonate film was dissolved in N-methylpyrrolidone, and whitening of the polycarbonate film was observed in acetone. Therefore, it is difficult to form the alignment film.

【0114】[比較例5]実施例1の構成において、透
明導電層側と反対側の耐溶剤層を省略した構成、すなわ
ち積層構成が5/4/1/2/3の透明導電性フィルム
を作製した。
[Comparative Example 5] A transparent conductive film having a laminated structure of 5/4/1/2/3 was prepared by omitting the solvent resistant layer on the side opposite to the transparent conductive layer side in the structure of Example 1. It was made.

【0115】得られた透明導電性フィルムについて、実
施例1と同様の耐溶剤試験を行った。5%KOH、N−
メチルピロリドンでガスバリア層が溶解するのが観測さ
れた。そのため、配向膜を形成するのが困難であった。
The transparent conductive film thus obtained was subjected to the same solvent resistance test as in Example 1. 5% KOH, N-
Dissolution of the gas barrier layer was observed with methylpyrrolidone. Therefore, it is difficult to form the alignment film.

【0116】[比較例6]実施例1の構成において、ガ
スバリア層を省略した構成、すなわち積層構成が5/4
/1/2/4の透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 6] In the structure of Example 1, the gas barrier layer was omitted, that is, the laminated structure was 5/4.
A transparent conductive film of / 1/2/4 was produced.

【0117】得られた透明導電性フィルムの酸素透過率
は、17cc/平方メートル・日・atmであった。
The oxygen transmission rate of the obtained transparent conductive film was 17 cc / square meter.day.atm.

【0118】実施例1と同様の信頼性試験を行ったとこ
ろ、液晶層中に気泡が発生し、表示特性が低下した。
When a reliability test similar to that of Example 1 was conducted, air bubbles were generated in the liquid crystal layer and the display characteristics were deteriorated.

【0119】[比較例7]実施例1において、アンカー
コート層を下記の組成のものとした以外は、実施例1と
同じ構成の透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 7] A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 was prepared except that the anchor coat layer had the following composition in Example 1.

【0120】アンカーコート層のフェノキシ樹脂の組成
は、フェノキシ樹脂を20部とメチルエチルケトン40
部と2−エトキシエチルアセテート20部を混合したも
のに多官能イソシアネートを2部加えた組成のものとし
た。このときNCO/OHは0.1であった。それ以外
は実施例1と同一とした。
The composition of the phenoxy resin of the anchor coat layer was 20 parts by weight of phenoxy resin and 40 parts of methyl ethyl ketone.
And 20 parts of 2-ethoxyethyl acetate were mixed, and 2 parts of polyfunctional isocyanate was added to the mixture. At this time, NCO / OH was 0.1. The other conditions were the same as in Example 1.

【0121】この透明導電性フィルムの剥離強度は、1
00g/cmであり、接着性が悪かった。
The peel strength of this transparent conductive film is 1
It was 00 g / cm, and the adhesiveness was poor.

【0122】[比較例8]実施例1において、アンカー
コート層を下記の組成のものとした以外は、実施例1と
同じ構成の透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 8] A transparent conductive film having the same structure as in Example 1 except that the anchor coat layer had the following composition was prepared.

【0123】アンカーコート層のフェノキシ樹脂の組成
は、フェノキシ樹脂を20部とメチルエチルケトン40
部と2−エトキシエチルアセテート20部を混合したも
のに多官能イソシアネートを64部加えた組成のものと
した。このときNCO/OHは3.2であった。それ以
外は実施例1と同一とした。
The composition of the phenoxy resin of the anchor coat layer was 20 parts of phenoxy resin and 40 parts of methyl ethyl ketone.
Parts and 20 parts of 2-ethoxyethyl acetate were mixed, and 64 parts of polyfunctional isocyanate was added. At this time, NCO / OH was 3.2. The other conditions were the same as in Example 1.

【0124】この透明導電性フィルムの剥離強度は、2
0g/cmであり、接着性が悪かった。
The peel strength of this transparent conductive film is 2
It was 0 g / cm, and the adhesiveness was poor.

【0125】[0125]

【発明の効果】以上、本発明は、アンカーコート層に前
記特定の熱可塑性樹脂の硬化層を用いることにより基板
の高分子フィルムとガスバリア層の接着性を向上させる
と共にガスバリア層の生産性よく均一に形成可能とし、
且つ耐溶剤層にノボラック型のエポキシ系樹脂或いはシ
リコーン系樹脂の硬化層を用いることにより耐溶剤性を
格段に向上させ、総合的に液晶表示パネルの透明電極等
で要求される耐透気性、耐水蒸気透過性、平滑性、平面
性、光学特性、長期信頼性を満足する、ガラス基板の透
明電極に遜色無い透明導電性フィルムを実現したもので
ある。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention improves the adhesiveness between the polymer film of the substrate and the gas barrier layer by using the hardened layer of the specific thermoplastic resin as the anchor coat layer, and the productivity of the gas barrier layer is uniform. Can be formed into
In addition, by using a cured layer of novolac type epoxy resin or silicone resin for the solvent resistant layer, the solvent resistance is remarkably improved, and the air resistance and the air resistance required for transparent electrodes of liquid crystal display panels are comprehensively improved. It is a transparent conductive film that satisfies water vapor permeability, smoothness, flatness, optical characteristics, and long-term reliability and is comparable to a transparent electrode on a glass substrate.

【0126】このように、本発明は高分子フィルム基板
の透明導電性フィルムの特性向上等に大きな寄与をなす
ものであり、その用途をするものである。
As described above, the present invention makes a great contribution to the improvement of the characteristics of the transparent conductive film of the polymer film substrate, and has its application.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 優次 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yuji Tamura 4-3-2 Asahigaoka, Hino City, Tokyo Teijin Limited Tokyo Research Center

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子フィルム上に、アンカーコート
層、ガスバリア層、耐溶剤層、透明導電層を設けた透明
導電性フィルムにおいて、該アンカーコート層が下記一
般式(A)で示される繰り返し単位からなるフェノキシ
樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹
脂から選択した少なくとも1種類のフェノキシ系樹脂と
イソシアネート基を2つ以上含有する多官能イソシアネ
ート化合物とを混合した熱架橋性樹脂を熱硬化して得ら
れる層であり、且つ該耐溶剤層がノボラック型エポキシ
系樹脂またはシリコーン系樹脂よりなる架橋性樹脂を硬
化して得られる層であることを特徴とする透明導電性フ
ィルム。 【化1】 (ここで、R1 からR6 は、同一または異なる水素また
は炭素数1から3のアルキル基、R7 は炭素数2から5
のアルキレン基、Xはエーテル基、エステル基、mは0
から3の整数、nは20から300の整数である。)
1. A transparent conductive film having an anchor coat layer, a gas barrier layer, a solvent resistant layer and a transparent conductive layer provided on a polymer film, wherein the anchor coat layer is a repeating unit represented by the following general formula (A). It is obtained by thermosetting a heat-crosslinkable resin obtained by mixing at least one phenoxy resin selected from the group consisting of phenoxy resin, phenoxy ether resin, and phenoxy ester resin, and a polyfunctional isocyanate compound containing two or more isocyanate groups. A transparent conductive film, wherein the solvent-resistant layer is a layer obtained by curing a crosslinkable resin composed of a novolac type epoxy resin or a silicone resin. Embedded image (Here, R 1 to R 6 are the same or different hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R 7 is 2 to 5 carbon atoms.
Alkylene group, X is an ether group, an ester group, m is 0
To 3 and n is an integer from 20 to 300. )
【請求項2】 高分子フィルムが光学等方性である請求
項1記載の透明導電性フィルム。
2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the polymer film is optically isotropic.
【請求項3】 前記ノボラック型エポキシ系樹脂が下記
一般式(B)で示されるノボラック型エポキシ系樹脂で
ある請求項1または2に記載の透明導電性フィルム。 【化2】 (ここで、R1 はHまたはCH3 、R2 及びR3 はHま
たはグリシジルフェニルエーテル基、nは1から50の
整数である。)
3. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the novolac type epoxy resin is a novolac type epoxy resin represented by the following general formula (B). Embedded image (Here, R 1 is H or CH 3 , R 2 and R 3 are H or a glycidyl phenyl ether group, and n is an integer of 1 to 50.)
【請求項4】 前記シリコーン系樹脂がトリアルコキシ
シランを40重量%以上含むシリコーン系樹脂である請
求項1〜3記載のいずれかの透明導電性フィルム。
4. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the silicone resin is a silicone resin containing 40% by weight or more of trialkoxysilane.
【請求項5】 前記ガスバリア層がポリビニルアルコー
ル系樹脂層である請求項1〜4記載のいずれかの透明導
電性フィルム。
5. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the gas barrier layer is a polyvinyl alcohol resin layer.
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