JPH08185643A - デイスク原盤作成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】効率良くかつ歩留り良くデイスク原盤を作成し
得るようにすることのできるデイスク原盤作成装置を目
的とする。 【構成】デイスク成形時に金型となるデイスク原盤の作
成工程のうち、レジストマスタ板に対する現像処理工程
と、レジストマスタ板の表面を導体化させるための前処
理工程とを同じ飛散防止手段の内部において行うように
したことにより、現像処理工程時に生じる現像液でなる
強アルカリ性の廃液と、レジストマスタ板の表面を導体
化させるための前処理工程時に生じる薬液でなる酸性の
廃液とを中和させることができる。従つて現像処理工程
時及び上述の前処理工程時に生じる廃液を効率良く処理
できると共に、飛散防止手段の内壁面の汚染を防止で
き、かくして効率良くかつ歩留り良くデイスク原盤を作
成し得るようにすることのできるデイスク原盤作成装置
を実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段（図１〜図１７） 作用（図１〜図１７） 実施例 （１）デイスク原盤作成装置の全体構成（図１〜図１
０） （２）現像処理手順及びＮＥＤ前処理手順（図１〜図１
７） （３）実施例の動作（図１〜図１９） （４）実施例の効果（図１〜図１９） （５）他の実施例（図１〜図１９） 発明の効果

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明はデイスク原盤作成装置に
関し、例えば光デイスク成形時の金型となる光デイスク
原盤（いわゆるスタンパ）の作成工程のうち、現像処理
工程と、無電解ニツケルめつき（ＮＥＤ：non Electro
deposition）処理等の導電化処理の前処理工程とを１つ
の装置で行い得るようにしたものである。

【０００３】

【従来の技術】従来この種のスタンパは、通常、以下の
手順により作成されている。まず一面が極めて平滑に研
磨されたガラス板の当該一面上にレジストを塗布するこ
とによりレジスト層を形成（以下、このようなガラス板
をレジストマスターガラス板と呼ぶ）し、次いで当該レ
ジスト層を記録信号に基づいて露光し、現像することに
よりガラス板の一面上に記録信号に応じた凹凸パターン
を残存するレジスト層で形成する。続いてこのレジスト
マスターガラス板の凹凸パターンの表面上にＮＥＤ処理
を施すことによりニツケル等でなる導電化膜層を形成
し、この後電鋳により導電化膜層上にニツケル等でなる
金属層を形成する。

【０００４】さらにこの後金属層及び導電化膜層を一体
にガラス板から剥離し、これを所定形状に打ち抜く。こ
れにより記録信号に応じた凹凸パターンが一面に形成さ
れてなるスタンパを得ることができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところでこのようなス
タンパの作成工程のうち現像処理工程は、実際上、露光
処理工程（カツテイング処理工程）が終了したレジスト
マスターガラス板のレジスト層に、例えばメタケイ酸ナ
トリウム等のアルカリ水溶液でなる現像液を供給し、当
該レジスト層の露光された部分を当該現像液によつて溶
解することにより行われる。

【０００６】またＮＥＤ処理工程は、現像処理工程が終
了したレジストマスターガラス板をニツケル無電解溶液
中に浸漬し、ニツケルをレジストマスターガラス板のレ
ジスト層表面に析出させることにより行われる。この場
合現像処理工程終了後のレジストマスターガラス板に対
してＮＥＤ処理を施すに際しては、ニツケルの析出を促
進させるために所定の前処理（以下、これをＮＥＤ前処
理と呼ぶ）を施す必要がある。このため従来ではＮＥＤ
前処理として、現像処理工程終了後のレジストマスター
ガラス板に対して、凹凸パターンの表面上にレジスト層
のぬれ性を向上させるためのサーフアクタント等でなる
表面活性剤を塗布し、次いで塩化第１パラジウム及び塩
化第１錫がコロイド状に配合されてなる酸性の薬液（例
えばキヤタリスト）を塗布した後、メツキ析出を促進す
るための硝酸ナトリウム、ブドウ糖、塩化ナトリウム及
び硫酸等からなる酸性のアクセレレータ等の薬液を塗布
していた。

【０００７】ここで、従来では現像処理工程及びこのよ
うなＮＥＤ前処理工程がそれぞれ別々の装置によつて行
われており、また各装置からの排液の中和処理もそれぞ
れ別々の中和槽を用いて行われている。さらに従来のＮ
ＥＤ前処理工程を行う装置では、加工対象のレジストマ
スターガラス板をターンテーブル上に載せて回転させな
がら、当該レジストマスターガラス板の上面（レジスト
面側）上に所定のタイミングでアクセレレータ、キヤタ
リスト及びアクセレレータ等を順次供給することにより
これらの薬液のレジストマスターガラス板上面への塗布
を行つている。

【０００８】しかしながらこのような構成の装置では、
回転するレジストマスターガラス板から飛び散つた薬液
がターンテーブル周囲を取り囲むチヤンバの内壁面に付
着することにより、これら薬液（特にキヤタリスト）に
よつてチヤンバ内壁面が汚染され易く、この結果ＮＥＤ
前処理中のレジストマスターガラス板から飛び散つた薬
液がチヤンバの内壁面に当たつて跳ね返り、レジストマ
スターガラス板の表面に付着することにより当該レジス
トマスターガラス板のしみ不良や、ピンホール状のメツ
キ不析出不良が発生するなど、歩留りが悪くなる問題が
あつた。

【０００９】従つてこのような状況を考慮して、例えば
現像処理工程及びＮＥＤ前処理工程を１つの装置で行い
得るようにすることができれば、現像処理工程で排出さ
れるアルカリ性の現像液と、ＮＥＤ前処理工程で排出さ
れる酸性のキヤタリストとが互いに中和するため、各薬
液の中和処理をほぼ省略でき、かつ装置の一体化により
スタンパの作成工程にかかるコストを低減や、現像処理
装置からＮＥＤ前処理装置への搬送時間の省略など、ス
タンパ作成工程の効率化を図れるものと考えられる。ま
たこのように現像処理工程及びＮＥＤ前処理工程を１つ
の装置で行い得るようにすることができれば、現像液と
キヤタリストとが互いに中和することによりチヤンバ内
壁の汚染が防止でき、かくして歩留り良くスタンパを作
成し得るようにすることができるものと考えられる。

【００１０】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、効率良くかつ歩留り良くデイスク原盤を作成し得る
ようにすることのできるデイスク原盤作成装置を提案し
ようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、所定材からなる基板の一面上にホ
トレジストを塗布することによりレジスト層が形成さ
れ、かつレジスト層が記録信号に基づいて露光されてな
るレジストマスタ板（７）を、所定状態に固定保持する
と共にその軸を中心として回転させる回転手段（９、２
０）と、レジスト層を現像するための現像液及びレジト
スマスタ板（７）の表面を導体化させるための前処理に
用いる所定の薬液を、回転駆動手段（９、２０）に固定
保持されたレジストマスタ板（７）上に所定のタイミン
グで供給する現像液及び薬液供給手段（６０〜６３）
と、回転手段を取り囲むように設けられ、回転するレジ
ストマスタ板（７）から飛び散る現像液及び又は薬液を
内壁面において受けることにより現像液及び又は薬液が
外部に飛散するのを防止する飛散防止手段（３０）とを
設け、デイスク成形時に金型となるデイスク原盤の作成
工程のうち、レジストマスタ板（７）に対する現像処理
工程（ＲＴ１）と、レジストマスタ板（７）の表面を導
体化させるための前処理工程（ＲＴ２）とを同じ飛散防
止手段（３０）の内部において行うようにした。

【００１２】また本発明においては、現像液及び薬液供
給手段（６０〜６３）は、デイスクマスタ板（７）を水
洗するための水洗水をレジストマスタ板（７）上に所定
のタイミングで供給する水洗水供給手段（６０〜６３）
を設けるようにした。

【００１３】さらに本発明においては、回転手段（９、
２０）は、レジストマスタ板（７）を載せるための１つ
のターンテーブル（９）と、ターンテーブル（９）に回
転力を与える駆動手段（２０）と、ターンテーブル
（９）上に載せられたレジストマスタ板（７）を当該タ
ーンテーブル（９）上に吸着する吸着手段とでなり、飛
散防止手段（３０）は、先端部にレジストマスタ板
（７）を挿脱するための開口が設けられたドーム状の１
つのチヤンバでなるようにした。

【００１４】

【作用】デイスク成形時に金型となるデイスク原盤の作
成工程のうち、レジストマスタ板に対する現像処理工程
（ＲＴ１）と、レジストマスタ板（７）の表面を導体化
させるための前処理工程（ＲＴ２）とを同じ飛散防止手
段（３０）の内部において行うようにしたことにより、
現像処理工程（ＲＴ１）時に生じる現像液でなる強アル
カリ性の廃液と、レジストマスタ板（７）の表面を導体
化させるための前処理工程時に生じる薬液でなる酸性の
廃液とが中和する。

【００１５】従つて現像処理工程（ＲＴ１）時に生じる
廃液と、レジストマスタ板（７）の表面を導体化させる
ための前処理工程（ＲＴ２）時に生じる廃液とをそれぞ
れ別々に中和処理するような従来の装置に比べて格段的
に排液処理を容易に行うことができる。また飛散防止手
段（３０）の内壁面に付着した薬液も現像液によつて中
和されるため、薬液による飛散防止手段（３０）の内壁
面の汚染を防止でき、かくして例えば処理中のレジスト
マスタ板（７）から飛び散つた薬液が汚染された飛散防
止手段（３０）の内壁面において跳ね返り、レジストマ
スタ板（７）に付着することにより発生するしみ不良
や、ピンホール状のメツキ不析出不良が発生するなどを
未然に防止できる分、効率良くかつ歩留り良くデイスク
原盤を作成し得るようにすることのできるデイスク原盤
作成装置を実現することができる。

【００１６】

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。

【００１７】（１）デイスク原盤作成装置の全体構成 図１〜図９（Ｄ）において、１は全体としてデイスク原
盤作成装置を示し、供給される加工対象のレジストマス
ターガラス板に対して現像処理及びＮＥＤ前処理を行い
得るようになされている。すなわちこのデイスク原盤作
成装置１においては、図１において明らかなように、第
１の枠体２Ａと、当該第１の枠体２Ａとシヤツタ３を介
して連通する第２の枠体２Ｂとで構成される独立して密
閉された筐体２を有し、当該筐体２の上面には筐体２内
部のクリーン度を保ち得るようにヘパフイルタ５（図
７）が設けられている。

【００１８】この筐体２の第１の枠体２Ａ側の一側壁に
は、図２及び図３からも明らかなように、開閉自在にシ
ヤツタ６が設けられており、第１の枠体２Ａの内部に
は、前段の装置から送られてきた加工対象のレジストマ
スターガラス板７を載上するための３本の柱状部材８
Ａ、８Ｂ、８Ｃで構成されるガラスステージ８と、ター
ンテーブル９とが仕切り板１０上に設けられている。ま
た図１からも明らかなように、第２の枠体２Ｂの内部に
はガラスステージ８及びターンテーブル９間と、ターン
テーブル９及び第２の枠体２Ｂ内に設けられたベルトコ
ンベア状のガラス板搬送部４間とにおいてレジストマス
ターガラス板７を搬送するトランスフアユニツト１１が
配設されている。

【００１９】かくしてこのデイスク原盤作成装置１で
は、シヤツタ６の開閉によつて第１の枠体２Ａ内部の雰
囲気をほぼ変化させずに外部からレジストマスターガラ
ス板７をガラスステージ８上に取り込み得ると共に、当
該ガラスステージ８上に載上されたレジストマスターガ
ラス板７を、シヤツタ３の開閉及びトランスフアユニツ
ト１１によつて第１の枠体２Ａ内部の雰囲気をほぼ変化
させずにターンテーブル９上に搬送し、かつターンテー
ブル９上のレジストマスターガラス板７をシヤツタ３の
開閉及びトランスフアユニツト１１によつて第１の枠体
２Ａ内部の雰囲気をほぼ変化させずにガラス板搬送部４
上に搬送し得るようになされている。

【００２０】ターンテーブル９においては、仕切り板１
０の下方に配設されたターンテーブル駆動モータ２０
（図３及び図４）の回転出力に基づいて回転駆動し得る
ようになされており、その外周部には円周上にバキユー
ム用溝（図示せず）と、バキユーム破壊用溝（図示せ
ず）との２本の溝が形成されている。

【００２１】この場合バキユーム用溝は、仕切り板１０
下側に配設された図示しない管と、図６のように筐体２
の背面側に設けられたバキユーム口２１と、図７に示す
ように筐体２の外部に配設されたバキユーム用管２２と
をそれぞれ順次介して図示しない負圧源と接続されてい
ると共に、バキユーム破壊用溝は、仕切り板１０の下側
に配設された図示しない管と、筐体２の背面に設けられ
た高圧エアー口２３（図６）と、筐体２の外部に配設さ
れた高圧エアー用管２４（図７）とを順次介して図示し
ない高圧エアー源と接続されている。かくしてこのデイ
スク原盤作成装置１においては、負圧源からターンテー
ブル９のバキユーム用溝に与えられる負圧に基づいて加
工対象のレジストマスターガラス板７をターンテーブル
９上に吸着固定し得る一方、当該吸着固定を高圧エアー
源からターンテーブル９のバキユーム破壊用溝に与えら
れる高圧エアーによつて解除し得るようになされてい
る。

【００２２】また仕切り板１０上には、特に図４におい
て明らかなように、ターンテーブル９を取り囲むように
塩化ビニール樹脂材等で形成された大小それぞれ異なる
大きさの３重構造のチヤンバカバー３０Ａ、３０Ｂ、３
０Ｃからなるチヤンバ３０が配設されており、かくして
ターンテーブル９上に載せられたレジストマスターガラ
ス板７から当該レジストマスターガラス板７に対して所
定の加工処理を施す際に供給した薬液や純水等がチヤン
バ３０の内側以外の領域に飛び散るのを防止し得るよう
になされている。

【００２３】このチヤンバ３０の内側底部には、特に図
２からも明らかなように、純水ノズル３２がその先端を
斜め上方向に向けて配設されており、当該純水ノズル３
２は、仕切り板１０下側に配設された図５に示す純水バ
ルブ３３Ａ、３３Ｂ及び純水供給用バルブ３４と、図６
のように筐体２の背面に設けられた純水取込み口３５
と、図７のように筐体２の外部に配設された純水供給管
３６とをそれぞれ順次介して図示しない純水源と接続さ
れている。かくしてこのデイスク原盤作成装置１では、
ターンテーブル９に吸着固定されたレジストマスターガ
ラス板７に対して、純水源から供給される純水を純水ノ
ズル３２からその裏面の内側から外側に向けて噴出する
ようにして当該レジストマスタがガラス板７の裏面を水
洗し得るようになされている。

【００２４】またチヤンバ３０の内側底部には図２のよ
うに排液用孔３７が設けられており、チヤンバ３０の内
部に排出された薬液や洗浄後の排水を、当該排液用孔３
７から仕切り板１０の下側に配管された排液用管３７
（図４）と、図６に示す筐体２の背面に設けられた排液
用口３９と、図７のように筐体２の外側に配管された排
水管４０とをそれぞれ順次介して筐体２とは別体に設け
られた図８に示す排水中和槽４１内に排出し得るように
なされている。この場合排水管４０には、図示しないタ
ンクから図７の中和用管４２を介して中和薬液が供給さ
れる。かくしてこのデイスク原盤作成装置１では、排液
を排水中和槽４１内において中和させた後、続く廃水処
理槽へ排出し得るようになされている。

【００２５】さらにチヤンバ３０（図２）の周側壁には
排気孔（図示せず）が２箇所設けられており、チヤンバ
３０内部に発生した薬液等の霧をこれら各排気孔から排
気用管５０Ａ、５０Ｂと、仕切り板１０の下側に設けら
れた図４の排気用管５１と、筐体２の背面に設けられた
排気口５２（図４及び図６）と、筐体２の外部に配管さ
れた図７の排気ダスト５３とをそれぞれ順次介して筐体
２の外部に排出し得るようになされている。一方特に図
２からも明らかなように、チヤンバ３０の外側には現像
アーム６０、サーフアクタントアーム６１、キヤタリス
トアーム６２、アクセレレーターアーム６３が配設され
ており、現像アーム６０は図３に示すエアーシリンダ７
０及びエアーシリンダ７１からそれぞれ与えられる動力
に基づいて上下動作及び旋回動作を行い、サーフアクタ
ントアーム６１はエアーシリンダ７２及びエアーシリン
ダ７３からそれぞれ与えられる動力に基づいて上下動作
及び旋回動作を行い、かつアクセレレータアーム６３
（図２）はエアーシリンダ７４及び図示しないエアーシ
リンダからそれぞれ与えられる動力に基づいて上下動作
及び旋回動作を行い得るようになされている。

【００２６】またキヤタリストアーム６２は、エアーシ
リンダ７５から与えられる動力に基づいて上下動作を行
うと共に、図示しないモータの回転出力に基づいてシヤ
フトを動作させて旋回し得るようになされている。この
場合図９（Ａ）に示すように、現像アーム６０の先端部
を構成するノズル管８０は２重構造となつており、内側
ノズル管８０Ａは仕切り板１０（図１〜図３）下側に配
設された薬液バルブ８１Ａ（図５）と、筐体２の背面に
設けられた現像液取込み口８２Ａ（図６）と、筐体２の
外部に配設された図１に示す現像液供給管８４Ａとを順
次介して第１のキヤスタ８５内の現像液タンク８６Ａと
接続されている。

【００２７】また外側ノズル管８０Ｂ（図９（Ａ））
は、仕切り板１０の下側に配設された純水バルブ３３Ｂ
（図５）を介して純水供給バルブ３４に接続されている
と共に、継手１１７Ｃ、流量計１１８、継手１１７Ｂ、
１１７Ａを順次介して図６に示す純水取込み口３５と接
続されている。これにより現像アーム６０は、現像液タ
ンク８６Ａ（図１）から供給される現像液を内周側ノズ
ル管８０Ａから吐出し得る一方、純水源から継手１１７
Ａ〜１１７Ｃ（図５）経由と純水バルブ３３Ｂ経由とで
供給される純水を内周側ノズル管８０Ａ及び外周側ノズ
ル管８０Ｂの間から吐出し得るようになされている。

【００２８】またサーフアクタントアーム６１（図１及
び図２）は、図９（Ｄ）に示すようなノズル管で構成さ
れ、仕切り板１０下側に配設された切替えバルブ９０Ａ
（図５）と、薬液バルブ８１Ｂ（図５）と、筐体２の背
面に設けられたサーフアクタント取込み口８２Ｂ（図
６）と、筐体２の外部に配設されたサーフアクタント供
給管８４Ｂ（図１）とを順次介して図１に示す第１のキ
ヤスタ８５内のサーフアントタンク８６Ｂと接続され、
かつ切替えバルブ９０Ａ（図５）と、純水バルブ３３Ｃ
とを順次介して純水供給バルブ３４とも接続されてい
る。これによりサーフアクタントアーム６１は、切替え
バルブ９０Ａの切替え動作に応じてサーフアクタント又
は純水を先端から吐出し得るようになされている。

【００２９】同様にしてアクセレレータアーム６３は、
図９（Ｂ）に示すようなノズル管で構成され、仕切り板
１０下側に配設された切替えバルブ９０Ｂ（図５）と、
薬液バルブ８１Ｃ（図５）と、筐体２の背面に設けられ
たアクセレレータ取込み口８２Ｃ（図６）と、筐体２の
外部に配設されたアクセレレータ供給管８４Ｃ（図１）
とを順次介して第２のキヤスタ９１内のアクセレレータ
タンク８６Ｃと接続され、かつ切替えバルブ９０Ｂと、
純水バルブ３３Ｄ（図５）と、純水バルブ３３Ａと、純
水バルブ３３Ｂとを順次介して純水供給バルブ３４にも
接続されている。これによりアクセレレーターアーム６
３（図２）は、切替えバルブ９０Ｂ（図５）の切替え動
作に応じてアクセレレータ又は純水を先端から吐出し得
るようになされている。

【００３０】さらにキヤタリストアーム６２は、特に図
２において明らかなように、アーム付け根部の立ち上が
り部分から２本の配管がアームに束ねられた構造となつ
ており、図９（Ｃ）に示すように、ノズルも２本（以
下、これらをそれぞれ純水ノズル９２及びキヤタリスト
ノズル９３と呼ぶ）設けられている。この場合キヤタリ
ストノズル９３は、仕切り板１０下側に配設された薬液
バルブ８１Ｄ（図５）と、筐体２の背面に設けられたキ
ヤタリスト取込み口８２Ｄ（図６）と、筐体２の外部に
配設されたキヤタリスト供給管８４Ｄ（図１）とを順次
介して第２のキヤスタ９１内部に配設されたキヤタリス
トタンク８６Ｄと接続されていると共に、純水ノズル９
３（図９（Ｃ））は、純水バルブ３３Ｅ（図５）及び純
水バルブ３３Ｄ、３３Ｃ、３３Ａ、３３Ｂ（図５）を順
次介して純水供給バルブ３４（図５）と接続されてい
る。従つてキヤタリストアーム６２（図１及び図２）に
おいては、キヤタリストタンク８６Ｄから供給されるキ
ヤタリストをキヤタリストノズル９３（図９（Ｃ））の
先端から吐出し得る一方、純水源から供給される純水を
純水ノズル９２の先端から吐出し得るようになされてい
る。

【００３１】さらにこのデイスク原盤作成装置１の場
合、駆動電力を電源ケーブル１００（図７）を介して第
１の枠体２Ａ内部のメインブレーカ１０１（図７）に入
力するようになされている。さらにこの実施例のデイス
ク原盤作成装置１の場合、現像アーム６０には図１０に
示すようなモニタ用レーザ光発射部１１０が取り付けら
れていると共に、チヤンバ３０の内側底部には特に図２
に示すようにフオトデイテクタ３１が配設されており、
モニタ用レーザ光発射部１１０から発射され、ターンテ
ーブル９上のレジストマスターガラス板７を介してフオ
トデイテクタ３１に入射するレーザ光に基づいてレジス
トマスターガラス板７の現像状況をモニタし得るように
なされている。

【００３２】この場合モニタ用レーザ光発射部１１０に
おいては、現像アーム６０に取り付けられたレーザ源固
定板１１１にレーザ源固定ユニツト１１２を介して半導
体レーザ１１３と鏡筒１１４とが一体に固定されること
により形成され、鏡筒１１４の上部にはＮＤフイルタ１
１５が配設されている。また鏡筒１１４内部には、第２
の枠体２Ｂの背面に設けられたＮ₂ 取込み口１１６（図
６）と、筐体２内部に配管された図示しない管とを順次
介してＮ₂ ガスが供給されるようになされており、かく
して当該鏡筒１１４内部に供給されたＮ₂ ガスによつて
ターンテーブル９上のレジストマスターガラス板７上面
のうち、モニタする部分の波立ちを押さえ得るようにな
されている。

【００３３】（２）現像処理手順及びＮＥＤ前処理手順 ここで実際上このデイスク原盤作成装置１の場合、前段
のラインから供給され、ガラスステージ８（図１〜図
３）上に載上された加工対象のレジストマスターガラス
板７に対する現像処理及びＮＥＤ前処理を図１１及び図
１２に示す現像処理手順ＲＴ１及び図１２〜図１７に示
すＮＥＤ前処理手順ＲＴ２に従つて行うようになされて
いる。すなわちこのデイスク原盤作成装置１の場合、前
段の装置から筐体２内部のガラスステージ８上に加工対
象のレジストマスターガラス板９が供給されると、現像
処理手順ＲＴ１を開始し（ステツプＳＰ１）、まず筐体
２のシヤツタ３（図１及び図２）が開き（ステツプＳＰ
２）、続いてトランスフアユニツト１１（図１及び図
２）が駆動してガラスステージ８上のレジストマスター
ガラス板７をチヤンバ３０内のターンテーブル９上にま
で搬送する（ステツプＳＰ３）。

【００３４】続いてこのレジストマスターガラス板７を
ターンテーブル９のバキユーム溝から与えられる負圧に
よつて当該ターンテーブル９上に吸着固定し（ステツプ
ＳＰ４）、この後トランスフアユニツト１１が退避して
元の位置に戻つた後（ステツプＳＰ５）、筐体２ののシ
ヤツタ３を閉じる（ステツプＳＰ６）。次いでターンテ
ーブル駆動モータ２０（図３及び図４）が駆動してター
ンテーブル７を回転させ始め（ステツプＳＰ７）、この
後現像アーム６０（図２）用のエアーシリンダ７０、７
１（図３）がそれぞれ所定のタイミングで駆動すること
により、現像アーム６０を上昇させ、旋回させ、下降さ
せるようにしてノズル８０（図９（Ａ））の先端をター
ンテーブル９上のレジストマスターガラス板７の中心部
にまで移動させる（ステツプＳＰ８）。

【００３５】続いて現像アーム６０用の純水バルブ３３
Ｂ（図５）とバルブ１１７Ｃ（図５）とが開くことによ
り、当該外周側ノズル８０Ｂ（図９（Ａ））から純水を
吐出するようにしてレジストマスターガラス板７の上面
上に純水を供給する（ステツプＳＰ９）と共に、チヤン
バ３０用の純水バルブ３３Ａ（図５）が開くことにより
チヤンバ３０内部の純水ノズル３２（図１及び図２）か
ら純水をレジストマスターガラス板７の裏面に噴出する
ようにしてレジストマスターガラス板７の水洗を開始す
る（ステツプＳＰ１０）。このとき現像アーム６０に取
り付けられたモニタ用レーザ光発射部１１０（図１０）
が駆動する（ステツプＳＰ１１）と共に、この後所定時
間が経過すると純水バルブ３３Ｂ（図５）とバルブ１１
７Ｃ（図５）とが閉じて現像アーム６０の外周側ノズル
管８０Ｂ（図９（Ａ））に対する純水の供給を停止する
ことにより水洗を終了する（ステツプＳＰ１２）。

【００３６】続いて薬液バルブ８１Ａ（図５）が開いて
現像アーム６０の内周側ノズル管８０Ａ（図９（Ａ））
からレジストマスターガラス板７上に現像液を吐出する
ことによりレジストマスターガラス板７の現像を開始す
ると共に（ステツプＳＰ１３）、この後チヤンバ３０
（図２）内のフオトデイテクタ３１（図２）が駆動して
現像状態のモニタを開始する（ステツプＳＰ１４）。こ
の後モニタによる現像測定値が予めプログラムされた設
定値に到達すると（ステツプＳＰ１５）、薬液バルブ８
１Ａ（図５）が閉じて現像アーム６０の内周側ノズル管
８０Ａ（図９）に対する現像液の供給を停止することに
より現像を終了する（ステツプＳＰ１６）。

【００３７】続いて純水バルブ３３Ｂ（図５）が開いて
現像アーム６０の外周側ノズル管８０Ｂ（図９（Ａ））
に対する純水の供給を開始することにより当該外周側ノ
ズル管８０Ｂから純水を吐出させてレジストマスターガ
ラス板７に対する水洗を開始し（ステツプＳＰ１７）、
この後所定時間が経過すると、純水バルブ３３Ｂ（図
５）が閉じて現像アーム６０の外周側ノズル管８０Ｂ
（図９（Ａ））に対する純水の供給を停止することによ
り水洗を終了する（ステツプＳＰ１８）。さらにこの後
現像アーム６０に取り付けられたモニタ用レーザ光発射
部１１０（図１０）の半導体レーザ１１３（図１０）が
レーザ光の発射を停止することによりモニタを終了し
（ステツプＳＰ１９）、この後現像アーム６０用のエア
ーシリンダ７０、７１（図３）がそれぞれ所定のタイミ
ングで駆動することにより、現像アーム６０が上昇し、
旋回し、下降するようにして元の原点位置に戻る（ステ
ツプＳＰ２０）。

【００３８】かくしてデイスク原盤作成装置１は、この
現像処理手順ＲＴ１を終了し、この後続くＮＥＤ処理手
順ＲＴ２に進む（ステツプＳＰ２１）。デイスク原盤作
成装置１は、続くＮＥＤ処理手順ＲＴ２を開始すると
（ステツプＳＰ３０）、まずサーフアクタントアーム６
１（図１及び図２）用のエアーシリンダ７２、７３（図
３）をそれぞれ所定のタイミングで駆動することによ
り、サーフアクタントアーム６１を上昇させ、旋回さ
せ、下降させるようにしてその先端をターンテーブル９
上に吸着固定されたレジストマスターガラス板７の外周
部上方にまで移動させる（ステツプＳＰ３１）。続いて
純水バルブ３３Ｃ（図５）が開き、切替えバルブ９０Ａ
（図５）が純水側を選択することにより当該サーフアク
タントアーム６１の先端からレジストマスターガラス板
７上面上に純水を吐出させる（ステツプＳＰ３２）。こ
れによりこのレジストマスターガラス板７に対する水洗
を開始する（ステツプＳＰ３２）。

【００３９】次いでエアーシリンダ７３（図３）が駆動
することによりサーフアクタントアーム６１をレジスト
マスターガラス板７の外周部から中心部へ向けて移動さ
せる（ステツプＳＰ３３）。この後所定時間が経過して
サーフアクタントアーム６１がレジストマスターガラス
板７の中心部にまで移動すると、純水バルブ３３Ｃ（図
５）が閉じてサーフアクタントアーム６１に対する純水
の供給を停止することにより水洗を完了する（ステツプ
ＳＰ３４）。続いて薬液バルブ８１Ｂ（図５）が開き、
かつ切替えバルブ９０Ａが薬液側を選択することにより
当該サーフアクタントアーム６１先端からサーフアクタ
ントをレジストマスターガラス板７上面上に吐出させ
る。かくしてスピンコート法によつてレジストマスター
ガラス板７上面にサーフアクタントを塗布する（ステツ
プＳＰ３５）。

【００４０】この後所定時間が経過すると、薬液バルブ
８１Ｂ（図５）が閉じてサーフアクタントアーム６１に
対するサーフアンクタントの供給を停止することによ
り、レジストマスターガラス板７に対するサーフアクタ
ントの塗布を終了する（ステツプＳＰ３６）。続いて純
水バルブ３３Ｃが開き、切替えバルブ９０Ａが純水側を
選択することにより当該サーフアクタントアーム６１の
先端から純水を吐出する（ステツプＳＰ３７）と共に、
エアーシリンダ７３（図３）が駆動してサーフアクタン
トアーム６１をレジストマスターガラス板７の中心部か
ら外周部へ移動させることにより当該レジストマスター
ガラス板７に対する水洗を行う（ステツプＳＰ３８）。

【００４１】この後サーフアクタントアーム６１がレジ
ストマスターガラス板７の外周部に達すると、純水バル
ブ３３Ｃが閉じてレジストマスターガラス板７の水洗を
完了する（ステツプＳＰ３９）と共に、サーフアクタン
トアーム６１用のエアーシリンダ７２、７３（図３）が
それぞれ所定のタイミングで駆動することによりサーフ
アクタントアーム６１を上昇させ、旋回させ、下降させ
るようにしてチヤンバ３０外側の元の原点位置に移動さ
せる（ステツプＳＰ４０）。続いてキヤタリストアーム
６２（図１及び図２）用のエアーシリンダ７５（図３）
及び駆動モータがそれぞれ所定のタイミングで駆動する
ことにより、キヤタリストアーム６２を上昇させ、旋回
させ、下降させる。これによりキヤタリストアーム６２
の先端をレジストマスターガラス板７の外周部上方にま
で移動させる（ステツプＳＰ４１）。

【００４２】次いで薬液バルブ８１Ｄ（図５）が駆動す
ることにより当該キヤタリストアーム６２のキヤタリス
トノズル９３（図９（Ｃ））先端からキヤタリストを吐
出させる（ステツプＳＰ４２）と共に、駆動モータが駆
動することによりキヤタリストアーム６２をレジストマ
スターガラス板７の外周部から中心部へ向けて移動させ
る（ステツプＳＰ４３）。これによりレジストマスター
ガラス板７に対してスピンコート法によるキヤタリスト
の塗布を行う。この後キヤタリストアーム６２がレジス
トマスターガラス板７の中心部にまで移動すると、駆動
モータが停止し、かつ薬液バルブ８１Ｄが閉じることに
よりレジストマスターガラス板７に対するキヤタリスト
の塗布を停止する（ステツプＳＰ４４）。

【００４３】続いて純水バルブ３３Ｅ（図５）が開いて
キヤタリストアーム６２の純水ノズル９２（図９
（Ｃ））に対して純水を供給することにより当該純水ノ
ズル９２の先端から純水を吐出させる。これによりレジ
ストマスターガラス板７に対する水洗を開始する（ステ
ツプＳＰ４５）。この後所定時間が経過すると、純水バ
ルブ３３Ｅ（図５）が閉じることによりレジストマスタ
ーガラス板７の水洗を完了し（ステツプＳＰ４６）、続
いて薬液バルブ８１Ｄ（図５）が開いてキヤタリストア
ーム６２のキヤタリストノズル９３（図９（Ｃ））に対
してキヤタリストの供給を開始することによりレジスト
マスターガラス板７に対するキヤタリストの塗布を開始
する（ステツプＳＰ４７）。

【００４４】この後所定時間が経過すると、薬液バルブ
８１Ｄ（図５）が閉じることによりレジストマスターガ
ラス板７に対するキヤタリストの塗布を完了し（ステツ
プＳＰ４８）、続いて純水バルブ３３Ｅが開くことによ
りレジストマスターガラス板７の水洗を開始する（ステ
ツプＳＰ４９）。さらにこのときキヤタリストアーム６
２の駆動モータが駆動することによりキヤタリストアー
ム６２をレジストマスターガラス板７の中心部から外周
部に向けて移動させ始め（ステツプＳＰ５０）、この後
キヤタリストアーム６２がレジストマスターガラス板７
の外周部に到達すると、純水バルブ３３Ｅ（図５）が閉
じることによりレジストマスターガラス板７に対する水
洗を停止する（ステツプＳＰ５１）。この後キヤタリス
トアーム６２用の駆動モータ及びエアーシリンダ７５
（図３）がそれぞれ所定のタイミングで駆動してキヤタ
リストアーム６２を上昇させ、旋回させ、下降させるこ
とによりこれを元の原点位置に戻す（ステツプＳＰ５
２）。

【００４５】続いてアクセレレータアーム６３（図１及
び図２）用のエアーシリンダ７４及び図示しないエアー
シリンダがそれぞれ所定のタイミングで駆動してアクセ
レレータアーム６３を上昇させ、旋回させ、下降させる
ことにより当該アクセレレータアーム６３をノズルの先
端がレジストマスターガラス板７の外周部上方に位置す
るように移動させる（ステツプＳＰ５３）。次いでアク
セレレータアーム６３用の切替えバルブ９０Ｂ（図５）
が駆動して純水側を選択すると共に、アクセレレータア
ーム６３用の純水バルブ３３Ｄ（図５）が開くことによ
りアクセレレータアーム６３のノズル先端から純水を吐
出させ、かくしてレジストマスターガラス板７の水洗を
開始する（ステツプＳＰ５４）。

【００４６】この際アクセレレータアーム６３用の図示
しない上述のエアーシリンダが駆動することによりアク
セレレータアーム６３をレジストマスターガラス板７の
中心部に向けて旋回させる（ステツプＳＰ５５）。この
後所定時間が経過してアクセレレータアーム６３がレジ
ストマスターガラス板７の中心部にまで移動すると、ア
クセレレータアーム６３用の純水バルブ３３Ｄ（図５）
が閉じてアクセレレータアーム６３のノズルに対する純
水の供給を停止する（ステツプＳＰ５６）と共に、切替
えバルブ９０Ｂ（図５）が駆動して薬液側を選択し、か
つ薬液バルブ８１Ｃ（図５）が開いてアクセレレータア
ーム６３のノズルに対するアクセレレータの供給を開始
する。かくしてアクセレレータアーム６３のノズル先端
からアクセレレータをレジストマスターガラス板７上に
吐出することにより、レジストマスターガラス板７に対
してスピンコート法によるアクセレレータの塗布を開始
する（ステツプＳＰ５７）。

【００４７】この後所定時間が経過すると、アクセレレ
ータアーム６３用の薬液バルブ８１Ｃが閉じてアクセレ
レータアーム６３に対するアクセレレータの供給を停止
することによりアクセレレータの塗布が終了される（ス
テツプＳＰ５８）。続いて切替えバルブ９０Ｂが純水側
を選択し、かつ純水バルブ３３Ｄ（図５）が開いてアク
セレレータアーム６３に対する純水の供給を開始するこ
とによりアクセレレータアーム６３のノズルから純水を
吐出してレジストマスターガラス板７に対する水洗を開
始する（ステツプＳＰ５９）。この後所定時間が経過す
ると、純水バルブ３３Ｄ（図５）が閉じてアクセレレー
タアーム６３に対する純水の供給を停止することにより
レジストマスターガラス板７に対する水洗を停止し（ス
テツプＳＰ６０）、さらにこの後純水バルブ３３Ｄ（図
５）が間欠的に開くことによりアクセレレータアーム６
３の先端から純水を間欠的に吐出する（ステツプＳＰ６
１）。続いて次工程にレジストマスターガラス板７がな
いことを確認すると（ステツプＳＰ６２）、アクセレレ
ータアーム６３用の図示しない上述のエアーシリンダが
駆動することによりアクセレレータアーム６３がレジス
トマスターガラス板７の外周方向に移動を開始する（ス
テツプＳＰ６３）。

【００４８】次いでアクセレレータアーム６３がレジス
トマスターガラス板７の外周部にまで到達すると、純水
バルブ３３Ｄ（図５）が閉じることによりアクセレレー
タアーム６３のノズルに対する純水の供給を停止し（ス
テツプＳＰ６４）、さらに純水バルブ３３Ａ（図５）が
閉じることによりチヤンバ部３０内の純水ノズル３２に
対する純水の供給を停止した後（ステツプＳＰ６５）、
エアーシリンダ７４（図５）と、アクセレレータアーム
６３用の図示しない上述のエアーシリンダとがそれぞれ
所定のタイミングで駆動することにより、アクセレレー
タアーム６３を上昇させ、旋回させ、下降させるように
して元の原点位置に戻す（ステツプＳＰ６６）。さらに
この後ターンテーブル駆動モータ２０（図３及び図４）
が駆動し続けることにより当該ターンテーブル９上に吸
着固定されたレジストマスターガラス板７の水分を振り
切るようにして除去し（ステツプＳＰ６７）、この後所
定時間が経過するとターンテーブル駆動モータ２０が停
止することによりレジストマスターガラス板７の回転を
停止させる（ステツプＳＰ６８）。

【００４９】さらに第１の枠体２Ａのシヤツタ３が開き
（ステツプＳＰ６９）、次いでトランスフアユニツト１
１（図１及び図２）が駆動してターンテーブル９上のレ
ジストマスターガラス板７上方にまで移動した後当該レ
ジストマスターガラス板７をクランプし（ステツプＳＰ
７０）、この後ターンテーブル９への吸着固定が停止さ
れる（ステツプＳＰ７１）。さらにトランスフアユニツ
ト１１がレジストマスターガラス板７を続く工程ライン
に送り（ステツプＳＰ７２）、この後第１の枠体２Ａの
シヤツタ３が閉じ（ステツプＳＰ７３）た後ステツプＳ
Ｐ７４に進んでこのＮＥＤ前処理手順ＲＴ２を終了す
る。

【００５０】（３）実施例の動作 以上の構成において、このデイスク原盤作成装置１で
は、第１の枠体２Ａ内部のガラスステージ８上に供給さ
れた加工対象のレジストマスターガラス板７に対して、
まず水洗を行うことによりその表面に付着した帯電した
ほこりを除去し（ステツプＳＰ１〜ＳＰ１２）、次いで
モニタ用レーザ光発射部１１０及びフオトデイテクタ３
１でなる現像モニタで監視を行いながら当該レジストマ
スターガラス板７を現像した後（ステツプＳＰ１３〜Ｓ
Ｐ１６）、水洗（ステツプＳＰ１７及びＳＰ１８）する
ようにして現像処理を行う。

【００５１】またこの後当該レジストマスターガラス板
７を水洗し（ステツプＳＰ３０〜ＳＰ３４）、サーフア
クタントを塗布する（ステツプＳＰ３５及びＳＰ３６）
ことによりレジスト表面のぬれ性を向上させ、この後水
洗する（ステツプＳＰ３７〜ＳＰ４０）ようにして過剰
なサーフアクタントをレジストマスターガラス板７上面
から除去し、キヤタリストを塗布し（ステツプＳＰ４１
〜ＳＰ５２）、アクセレレータを塗布し（ステツプＳＰ
５３〜ＳＰ６６）、当該レジストマスターガラス板７か
ら過剰な薬液及び水洗水を除去する（ステツプＳＰ６７
〜ＳＰ６８）ようにしてＮＥＤ前処理を行う。

【００５２】この場合このデイスク原盤作成装置１で
は、これら一連の処理がすべて１つのチヤンバ３０内に
おいて行われ、アルカリ性の現像液や、酸性のサーフア
クタント及びキヤタリスト等の薬液及び水洗水がすべて
チヤンバ３０内側の底部に設けられた１つの排水孔３７
（図１及び図２）を介して筐体２外部の排水中和槽４１
（図８）に排出される。従つて、例えば従来のように現
像装置及びＮＥＤ前処理装置が別体に構成されている場
合に比べて排液の中和処理を容易に行うことができる。
また現像処理及びＮＥＤ前処理が１つのチヤンバ３０内
において行われるため、ＮＥＤ前処理工程時（ＲＴ２）
に酸性のキヤタリストがチヤンバ３０の内壁に付着した
場合においても、現像処理工程時（ＲＴ１）におけるア
ルカリ性の現像液がチヤンバ内壁に付着するなどして中
和されることにより当該チヤンバ３０の内壁の汚染を防
止することができる。

【００５３】従つてＮＥＤ前処理工程時（ＲＴ２）にお
いてターンテーブル９上のレジストマスターガラス板７
から飛び跳ねたキヤタリストがチヤンバ３０の内壁にお
いて跳ね返り、レジストマスターガラス板７上に付着す
ることにより発生するしみ不良やピンホール状のメツキ
不析出不良を未然に防止することができる。実際上実験
によれば、上述のようなデイスク原盤作成装置１を用い
て上述のような現像処理手順ＲＴ１及びＮＥＤ前処理手
順ＲＴ２に従つてレジストマスターガラス板７に対する
現像処理及びＮＥＤ前処理を行つた後、所定のＮＥＤ処
理を行つたところ、欠陥のない均一なニツケル皮膜を得
られることが確認できた。

【００５４】またこの後これらＮＥＤ処理の施されたガ
ラス板を用いてスタンパを作成し、当該スタンパを用い
て光デイスクを成形して信号特性及び欠陥評価検査を行
つた場合においても、図１８及び図１９に示すように良
好な結果を得ることができた。さらにレジストマスター
ガラス板７を連続的に順次投入するようにした場合にお
いても、チヤンバ３０の内部におけるキヤタリストの廃
液による汚染が認められず、現像液及びアクセレレータ
の併用によりチヤンバ３０内部から流出した排液のPH値
測定では、PH7.5 〜7.8 の範囲内にあり、ほぼ中和処理
が同時に行い得る効果を得ることができた。

【００５５】（４）実施例の効果 以上の構成によれば、１つのチヤンバ３０内部に回転自
在に軸支されたターンテーブル９を設けると共に、当該
チヤンバ３０外側に必要に応じて現像液及び純水を吐出
し得る現像アーム６０と、サーフアクタント及び純水を
吐出し得るサーフアクタントアーム６１と、キヤタリス
ト及び純水を吐出し得るキヤタリストアーム６２と、ア
クセレレータ及び純水を吐出し得るアクセレレータアー
ム６３とをそれぞれ設け、ターンテーブル９上に吸着固
定された加工対象のレジストマスターガラス板７に対し
てこれら各現像アーム６０、サーフアクタントアーム６
１、キヤタリストアーム６２及びアクセレレータアーム
６３をそれぞれ介して所定のタイミングで現像液及び純
水、サーフアクタント及び純水、キヤタリスト及び純水
並びにアクセレレータ及び純水を順次供給するようにし
て現像及びＮＥＤ前処理を行うようにしたことにより、
廃水処理槽での中和処理が省けると共にチヤンバ３０内
壁の汚染に起因するレジストマスターガラス板７の不良
発生を未然に防止し得、かくして効率良くスタンパを作
成でき、かつ歩留りの良いデイスク原盤作成装置を実現
できる。

【００５６】またレジストマスターガラス板７に対する
現像処理及びＮＥＤ前処理を１つの装置内において行う
ことができるため、現像処理工程からＮＥＤ前処理工程
までのレジストマスターガラス板７の移動にかかる時間
を必要としない分、現像処理工程からＮＥＤ前処理工程
までの時間短縮を図れると共に、現像装置及びＮＥＤ前
処理装置が一体化された分、マスタリング工程に必要な
各装置の設置スペースの有効化とコストダウンとクリー
ンルームレスとが図れる利点もある。

【００５７】（５）他の実施例 なお上述の実施例においては、ターンテーブル９上に吸
着固定された加工対象のレジストマスターガラス板７に
対して現像液、サーフアクタント、キヤタリスト又はア
クセレレータを供給するためのアーム６０、６１、６
２、６３をそれぞれ個別にチヤンバ３０の外部に設ける
ようにした場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、１つのアーム又はノズル等の現像液及び薬液を吐出
し得る手段によつて現像液、サーフアクタント、キヤタ
リスト又はアクセレレータを供給し得るようにしても良
い。

【００５８】また上述の実施例においては、レジストマ
スターガラス板７を固定保持して回転させる回転駆動手
段としてターンテーブル９を用いるようにした場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、レジストマスタ
ーガラス板７を固定保持して回転させる回転駆動手段と
してはこの他種々の回転駆動手段を適用することができ
る。

【００５９】さらに上述の実施例においては、ターンテ
ーブル９上のレジストマスターガラス板７から飛び散つ
た現像液、キヤタリスト等の薬液及び水洗水が筐体２内
部に飛散するのを防止する飛散防止手段として３重構造
のチヤンバ３０を適用するようにした場合について述べ
たが、本発明はこれに限らず、飛散防止手段としては、
この他種々のものを適用できる。

【００６０】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、デイスク
成形時に金型となるデイスク原盤の作成工程のうち、レ
ジストマスタ板に対する現像処理工程と、レジストマス
タ板の表面を導体化させるための前処理工程とを同じ飛
散防止手段の内部において行うようにしたことにより、
現像処理工程時に生じる現像液でなる強アルカリ性の廃
液と、レジストマスタ板の表面を導体化させるための前
処理工程時に生じる薬液でなる酸性の廃液とが中和させ
ることができる。従つて現像処理工程時及びレジストマ
スタ板の表面を導体化させるための前処理工程時に生じ
る廃液を効率良く処理できると共に、飛散防止手段の内
壁面の汚染を防止でき、かくして効率良くかつ歩留り良
くデイスク原盤を作成し得るようにすることのできるデ
イスク原盤作成装置を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例によるデイスク原盤作成装置の全体構成
を示す略線的な上面図である。

【図２】第１の枠体内部の様子を示す上面図である。

【図３】第１の枠体内部の様子を示す側面図である。

【図４】トランスフアユニツトによるレジストマスター
ガラス板の搬送の様子を示す側面図である。

【図５】デイスク原盤作成装置の配管の様子を示す略線
的な側面図である。

【図６】筐体の背面の様子を示す背面図である。

【図７】デイスク原盤作成装置の配管の様子を示す側面
図である。

【図８】デイスク原盤作成装置の排水ラインを部分的に
断面をとつて示す側面図である。

【図９】各アームの先端の様子を部分的に断面をとつて
示す側面図である。

【図１０】モニタ用レーザ光発射部の構成を部分的に断
面をとつて示す側面図である。

【図１１】現像処理手順を示すフローチヤートである。

【図１２】現像処理手順を示すフローチヤートである。

【図１３】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１４】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１５】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１６】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１７】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１８】図１のデイスク原盤作成装置を用いて形成し
たスタンパの信号特性の実験結果を示す表である。

【図１９】図１のデイスク原盤作成装置を用いて形成し
たスタンパの信号特性の実験結果を示す表である。

【符号の説明】

１……デイスク原盤作成装置、７……レジストマスター
ガラス板、９……ターンテーブル、２０……ターンテー
ブル駆動モータ、３０……チヤンバ、３２……排液孔、
６０……現像アーム、６１……サーフアクタントアー
ム、６２……キヤタリストアーム、６３……アクセレレ
ータアーム、ＲＴ１……現像処理手順、ＲＴ２……ＮＥ
Ｄ前処理手順。

【手続補正書】

【提出日】平成７年４月２５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例によるデイスク原盤作成装置の全体構成
を示す略線的な上面図である。

【図２】第１の枠体内部の様子を示す上面図である。

【図３】第１の枠体内部の様子を示す側面図である。

【図４】トランスフアユニツトによるレジストマスター
ガラス板の搬送の様子を示す側面図である。

【図５】デイスク原盤作成装置の配管の様子を示す略線
的な側面図である。

【図６】筐体の背面の様子を示す背面図である。

【図７】デイスク原盤作成装置の配管の様子を示す側面
図である。

【図８】デイスク原盤作成装置の排水ラインを部分的に
断面をとつて示す側面図である。

【図９】各アームの先端の様子を部分的に断面をとつて
示す側面図である。

【図１０】モニタ用レーザ光発射部の構成を部分的に断
面をとつて示す側面図である。

【図１１】現像処理手順を示すフローチヤートである。

【図１２】現像処理手順を示すフローチヤートである。

【図１３】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１４】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１５】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１６】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１７】ＮＥＤ前処理手順を示すフローチヤートであ
る。

【図１８】図１のデイスク原盤作成装置を用いて形成し
たスタンパの信号特性の実験結果を示す図表である。

【図１９】図１のデイスク原盤作成装置を用いて形成し
たスタンパの信号特性の実験結果を示す図表である。

【符号の説明】 １……デイスク原盤作成装置、７……レジストマスター
ガラス板、９……ターンテーブル、２０……ターンテー
ブル駆動モータ、３０……チヤンバ、３２……排液孔、
６０……現像アーム、６１……サーフアクタントアー
ム、６２……キヤタリストアーム、６３……アクセレレ
ータアーム、ＲＴ１……現像処理手順、ＲＴ２……ＮＥ
Ｄ前処理手順。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三津井 教夫 東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー 株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】所定材からなる基板の一面上にホトレジス
   トを塗布することによりレジスト層が形成され、かつ上
   記レジスト層が記録信号に基づいて露光されてなるレジ
   ストマスタ板を、所定状態に固定保持すると共にその軸
   を中心として回転させる回転手段と、 上記レジスト層を現像するための現像液及び上記レジト
   スマスタ板の表面を導体化させるための前処理に用いる
   所定の薬液を、上記回転手段に固定保持された上記レジ
   ストマスタ板上に所定のタイミングで供給する現像液及
   び薬液供給手段と、 上記回転手段を取り囲むように設けられ、回転する上記
   レジストマスタ板から飛び散る上記現像液及び又は上記
   薬液を内壁面において受けることにより上記現像液及び
   又は上記薬液が外部に飛散するのを防止する飛散防止手
   段とを具え、デイスク成形時に金型となるデイスク原盤
   の作成工程のうち、上記レジストマスタ板に対する現像
   処理工程と、上記レジストマスタ板の上記表面を導体化
   させるための上記前処理工程とを同じ上記飛散防止手段
   の内部において行うことを特徴とするデイスク原盤作成
   装置。
2. 【請求項２】上記現像液及び上記薬液供給手段は、上記
   デイスクマスタ板を水洗するための水洗水を上記レジス
   トマスタ板上に所定のタイミングで供給する水洗水供給
   手段を具えることを特徴とする請求項１に記載のデイス
   ク原盤作成装置。
3. 【請求項３】上記回転手段は、 上記レジストマスタ板を載せるための１つのターンテー
   ブルと、 上記ターンテーブルに回転力を与える駆動手段と、 上記ターンテーブル上に載せられた上記レジストマスタ
   板を当該ターンテーブル上に吸着する吸着手段とでな
   り、 上記飛散防止手段は、 先端部に上記レジストマスタ板を挿脱するための開口が
   設けられたドーム状の１つのチヤンバでなることを特徴
   とする請求項１に記載のデイスク原盤作成装置。