JPH08175850A - 疎水性多層板ガラス - Google Patents

疎水性多層板ガラス

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JPH08175850A
JPH08175850A JP7177739A JP17773995A JPH08175850A JP H08175850 A JPH08175850 A JP H08175850A JP 7177739 A JP7177739 A JP 7177739A JP 17773995 A JP17773995 A JP 17773995A JP H08175850 A JPH08175850 A JP H08175850A
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Pierre Chaussade
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Yves Naoumenko
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フアビエン・ゴーテイエ
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 改善された耐候性及び機械的抵抗を有する非
湿潤性板ガラスを提供する。 【解決手段】 少なくとも一部を１層以上で任意に被覆
されたガラス基板と、実質的に無機性の下層及び疎水疎
油性層を含むコーティングとからなる板ガラス。本発明
の下層の密度は、該下層を構成する材料の密度の８０％
以上である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は「非湿潤性」板ガラ
ス及びその製法に関する。
【０００２】本発明の板ガラスは無機又は有機ガラスか
ら構成される。本発明の板ガラスは特に例えば航空、鉄
道又は自動車分野で車両に使用される。本発明の板ガラ
スは建築分野でも使用することができる。
【０００３】「湿潤性」なる用語は、極性又は非極性液
体が遮断膜を形成することによりガラスに接着する傾向
を意味する。この用語は、あらゆる種類の粉塵を固定す
る傾向も意味する。
【０００４】
【従来の技術】液体膜又は粉塵の存在はガラスを通した
視界を変化させ、ガラスの透明度を低下させる。これら
の問題を解決するために、非湿潤性コーティングでガラ
スを被覆することが知られている。
【０００５】公知コーティングの１例はヨーロッパ特許
出願公開第４５２７２３号に記載されているようにペル
フルオロアルキルシランとフッ素化オレフィンテロマー
から構成される混合物から得られる。ヨーロッパ特許出
願公開第４９２５４５号に記載されているコーティング
も公知である。このコーティングはフッ素化アルキルシ
ランをベースとする。これらのコーティングの特性は経
時的に悪化することが判明した。特に、車両の窓ガラス
の場合には気候応力（湿気、紫外線等）のみならず、例
えばワイパーの摩擦及び／又はガラス磨き用布もしくは
清掃用布による機械的応力を受けるので殊更である。
【０００６】耐候性を改善するために、ヨーロッパ特許
出願公開第４９７１８９号及び４７６５１０号はガラス
との界面を凹凸にしたコーティングを開示している。ヨ
ーロッパ特許出願公開第４９７１８９号はより詳細に
は、基板の表面を処理するか、基板に粒子を配置する
か、又は下層もしくは非湿潤層に粒子を組み込むことに
より得られるミクロンオーダーの凹凸の形成を開示して
いる。ヨーロッパ特許出願公開第４７６５１０号は、弗
化水素酸をベースとする侵食又はプラズマの作用により
凹凸にした下層の使用を開示している。
【０００７】しかしながら、これらのコーティングを得
るには上記凹凸を形成するための付加工程が必要であ
る。また、これらのコーティングの耐摩耗性は完全に満
足できるものではないことが判明した。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、改善
された耐候性及び機械的耐性を有する非湿潤性板ガラ
ス、特に、摩耗を受けても非湿潤性を維持する板ガラス
を提供することである。
【０００９】本発明の別の目的は、改善された耐久性、
特に耐候性を有する非湿潤性機能板ガラスを提供するこ
とである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の板ガラスは基板
を含み、基板は特に、少なくとも一部を１層以上の機能
層で被覆されたガラス基板であり、実質的に無機性の下
層及び疎水疎油性層を含むコーティングを備える。本発
明の無機性の下層の密度は、該下層を構成する材料の密
度の８０％以上である。
【００１１】「密度」なる用語は、下層を構成する材料
の結晶形態の密度を意味する。本発明の下層は高密度で
あり、好ましくは該下層を構成する材料の密度の９０％
を上回る密度を有する。
【００１２】本発明の下層は実質的に無機性の下層であ
り、即ち炭素割合が低い。該下層は、Ａｌ2Ｏ3、Ｇａ2
Ｏ3、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、Ｚｒ
Ｏ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｉｎ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ3、Ｖ
2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3、ＴｉＮ、ＳｉＯx（式中、ｘは０〜２で
ある）、及びＳｉＯpＣq（式中、ｐは１〜２であり、ｑ
は０又は１である）から選択される材料単独又はその組
み合わせから構成される。
【００１３】有利には本発明の下層は更に非常に硬い。
下層の硬度は好ましくはガラスの硬度を上回る。下層は
有利には結晶構造を有する。
【００１４】本発明により得られる改善は、下層と疎水
疎油性層の間の結合の数及び種類を検討した賜物である
と思われる。これらの層は実際に、共有型の強い結合に
対応する原子配置を利用するものである。更に、下層の
機械的特性は、本発明のコーティングの耐摩耗性を改善
する。本発明をこの解釈に拘束するものではないが、下
層はその中心に向かって優先的に伝播する機械的応力を
吸収することができる。
【００１５】この結果を得るためには、適切な厚みの下
層を形成すると好適である。本発明により使用する下層
は好ましくは、８０Å以上の厚みを有する。他方、厚み
が所定の限界を越えると顕著な利点が得られなくなり、
板ガラスの透明品質は低下する。このため、厚み５００
０Å以下の層を使用すると好適である。
【００１６】有利な態様によると下層は導電性であり、
例えば板ガラスの面に存在する静電荷を排出することが
できる。本発明のコーティングはこのようにガラスの静
電保護と非湿潤性機能との２つの機能を兼備する。下層
は導電性金属酸化物をベースとし得る。また、満足な導
電性を付与するための成分を下層にドープしてもよい。
１０19〜１０21／ｃｍ3のドーピング率でフッ素をドー
プした酸化錫をベースとする下層が好ましい。
【００１７】本発明により使用する下層を形成するため
には、一般にこのような層の形成に用いられる公知技術
を適用することができる。例えば真空蒸着法（熱蒸着、
カソードスパッタリング等）を使用することができる。
ＣＶＤ（化学蒸着）型の熱又はイオン分解法や、プラズ
マＣＶＤを使用してもよいし、あるいは粉末、溶液又は
蒸気の熱分解により層を形成してもよい。
【００１８】熱分解により形成した下層は基板に強固に
接着し、緻密性が高く、結晶質であるため、本発明の実
施に特に好適である。
【００１９】本発明の下層はガラス基板又は任意型の層
に配置することができ、例えば層スタックの一部を形成
する薄層でもよい。
【００２０】本発明によると、加水分解性フッ素化アル
キルシランから主に構成される層を非湿潤性層として使
用すると有利である。前記層は好ましくは少なくとも１
種のフッ素化アルキルシランから得られる単分子型の層
であり、任意に分枝鎖であるその炭素鎖は少なくとも６
個の炭素原子を含み、末端の炭素はフッ素で完全に置換
されている。非湿潤性層は更に、フッ素化アルキルシラ
ン、フッ素化アルキルシラン混合物、又はフッ素化アル
キルシランとＳｉＸ4（式中、Ｘは加水分解性基であ
る）型のシランの混合物からも得られる。
【００２１】フッ素化アルキルシランは好ましくは一般
式：ＣＦ3−（ＣＦ2）n−（ＣＨ2）m−ＳｉＸ3（式中、
ｎは０〜１２であり、ｍは２〜５であり、Ｘは加水分解
性基、例えば塩素基又はアルコキシ基である）のペルフ
ルオロアルキルシランである。
【００２２】好ましくはペルフルオロアルキルシラン
は、ＣＦ3−（ＣＦ2）5−（ＣＨ2）2−ＳｉＣｌ3、ＣＦ
3−（ＣＦ2）7−（ＣＨ2）2−ＳｉＣｌ3、ＣＦ3−（Ｃ
Ｆ2）9−（ＣＨ2）2−ＳｉＣｌ3からなる群から選択さ
れる。
【００２３】上記型のオルガノシランは、下層の表面反
応性部位を介して下層に固定する特徴を有する。
【００２４】実施条件を適切に選択することにより、厚
み１０〜５０Åの所謂二次元単分子層が形成される。こ
れらの層の一般構造は、各オルガノシランが下層の固定
点との間に１つの共有結合を形成し、他の２つの加水分
解性基を介して隣接オルガノシラン分子と２つの共有結
合を形成することにより構成される。こうして形成され
た層は、オルガノシランが規則的にグラフトしたポリシ
ロキサンモチーフ型単層である。
【００２５】単分子層は、規則的配置に従うフルオロカ
ーボン鎖を外側に有しており、鎖の末端は被覆ガラスの
外面を構成する。本発明によると、鎖の少なくとも末端
がフッ素化されているので、疎水性が特に優れているの
みならず、ガラスが紫外線に暴露された際に高い耐老化
性をも示す。
【００２６】本発明によると、機械的及び化学的薬品耐
性に関して改善された耐久性を有するコーティングが得
られる。ＡＳＴＭ Ｄ １０４４−７８規格に従って砥
石車５００回転の摩耗を加えた後、又はコーティングを
沸騰脱イオン水に４時間漬けた後の水滴と本発明のコー
ティングとの接触角は＞６０°、有利には＞７５°であ
る。
【００２７】本発明は上記コーティングの製法にも関す
る。
【００２８】本発明の方法は少なくとも１種のフッ素化
アルキルシランを非極性溶媒系中に含有する溶液と、実
質的に無機性の高密度下層で被覆した基板とを接触させ
ることにより前記下層を任意に洗浄した後に、前記下層
を備える基板に疎水性層を堆積する段階を特に含む。溶
液はフッ素化アルキルシラン、フッ素化アルキルシラン
混合物又はフッ素化アルキルシランと他のシランとの混
合物をベースとする溶液であり得る。
【００２９】洗浄、特に下層の洗浄は、基板と下層の間
及び下層と疎水性層の間に結合を生成し得る反応性部位
の数を決定するので重要な段階である。当然のことなが
ら、部位数が多ければ多いほど、コーティングは基板に
強固に固定され、特に層は基板に強固に固定される。洗
浄は良好な固定を妨げる吸収汚染を除去することができ
る。真空蒸着した下層は真空ベルジャーの出口で清浄で
あるとみなされるので洗浄の必要がないことに留意され
たい。
【００３０】本発明の板ガラスの製造方法は、コーティ
ングすべき基板の表面を任意に洗浄する段階と、当該下
層を構成する材料の密度の８０％以上の密度を有する実
質的に無機性の下層を堆積する段階と、コーティングす
べき下層を任意に洗浄する段階と、洗浄した前記下層に
疎水疎油性層を堆積する段階とを含む。
【００３１】下層の堆積は分子の分解、有利には熱分解
により得られる。
【００３２】非湿潤性層の堆積は、フッ素化アルキルシ
ラン、フッ素化アルキルシラン混合物又はフッ素化アル
キルシランと他のシランとの混合物をベースとする非極
性溶媒系溶液と、下層を被覆した基板とを接触させるこ
とにより実施される。反応時間は５〜３０分間、好まし
くは約１０分間である。
【００３３】溶液は上記型のアルキルシランを非極性溶
媒系中に２×１０-3〜５×１０-2ｍｏｌ／ｌの濃度で含
有する。溶媒の選択は、基板にグラフトするアルキルシ
ランの割合に影響するので重要である。溶媒系は少なく
とも８０容量％の非極性溶媒と２０容量％の塩素系溶媒
から構成される。非極性溶媒は好ましくは、使用するオ
ルガノシランと同一程度の長さの炭素鎖を含む。換言す
るならば、溶媒の炭素数は誤差炭素数２又は３の範囲内
で、オルガノシランの炭素鎖中に存在する炭素数とほぼ
同一である。非極性溶媒は好ましくはｎ−ヘキサデカン
又はイソオクタンから選択され、塩素系溶媒は好ましく
はジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエタ
ン、トリクロロエチレン、トリクロロトリフルオロエタ
ン及び四塩化炭素からなる群から選択される。本発明の
実施に特に好適な系は非極性溶媒から構成される。
【００３４】一旦処理した基板は即使用可能であり、後
熱処理は不要である
【００３５】
【発明の実施の形態】本発明の１態様によると、疎水疎
油性層は当該下層を構成する材料の密度の８０％以上の
密度を有する実質的に無機性の下層の少なくとも一部に
堆積され、前記下層は機能スタックの一部を形成する
か、又はそれ自体機能層である。
【００３６】好適態様によると、下層は酸化ケイ素、特
に二酸化ケイ素から主に構成される。
【００３７】機能層又は機能スタックなる用語は、板ガ
ラスに固有の特性、特に熱、光学又は電気特性を付与す
る層又はスタックを意味する。
【００３８】機能スタックとしては、例えば反射防止ス
タック、低放射及び／又は導電性スタック又は他の型の
スタックを挙げることができる。
【００３９】本発明の板ガラスは、機能スタックにより
付与される特性以外に、疎水疎油性を有する。また、疎
水疎油性層の存在により、機能スタック、特に酸化ケイ
素をベースとする層の耐候性も改善される。この改善は
特に、例えば真空蒸着し、外層（即ち気候条件に暴露さ
れる層）として使用する機能層に顕著である。
【００４０】本発明の好適態様によると、板ガラスはガ
ラス基板、酸化ケイ素から主に構成される層を最終層
（即ち基板から最遠位の層）とする反射防止スタック、
及び上記のような加水分解性フッ素化アルキルシランか
ら主に構成される疎水疎油性層を含む。反射防止スタッ
クは、高屈折率と低屈折率の誘電材料薄層を交互に配置
することにより構成され、最終層は酸化ケイ素低屈折率
層である。所謂低屈折率層は好ましくは、１．３８〜
１．６５の屈折率を有する。所謂高屈折率層は、＞１．
８５、好ましくは２〜２．４５の屈折率を有する。
【００４１】本発明の好適スタックは、参考資料として
本明細書の一部とする国際特許出願公開第ＷＯ９２／０
４１８５号に記載されているようなスタックであり、高
屈折率層が酸化ニオブをベースとする層であり、低屈折
率層が酸化ケイ素をベースとする層である。これらの層
は例えば反応性カソードスパッタリング型の公知真空技
術により堆積される。場合により、スタックと基板との
間に中間層を設けてもよく、例えば参考資料として本明
細書の一部とする未公開仏国特許出願第９５／０２１０
２号に記載されているようなアルカリ拡散遮蔽層を設け
る。
【００４２】このようなスタックは、板ガラスの光反射
を少なくし、光透過を増加する機能を有する。従って、
このようなコーティングを有する基板は透過光／反射光
比が増加し、後方の物体の鮮明度が改善される。
【００４３】本発明の別の態様によると、機能スタック
は低放射及び／又は導電性スタックである。このような
スタックは、金属酸化物、特にドープした金属酸化物、
例えば錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）又はフ
ッ素をドープした酸化錫（ＳｎＯ2：Ｆ）をベースとす
る少なくとも１つの導電性及び／又は低放射性層を含
む。このようなスタックは例えばヨーロッパ特許出願公
開第５４４５７７号及び５００４４５号に記載されてい
る。
【００４４】本発明の好適態様によると、スタックは参
考資料として本明細書の一部とする仏国特許出願公開第
２７０４５４５号に記載されているスタックである。
【００４５】スタックは金属酸化物をベースとする導電
性及び／又は低放射性層以外に、幾何学的厚み９０ｎｍ
〜１３５ｎｍ及び屈折率１．６５〜１．９０の内部コー
ティングを含む。この内部層は基板と導電性及び／又は
低放射性層の間に配置される。導電性及び／又は低放射
性層は、酸化ケイ素から主に構成される幾何学的厚み８
０〜１１０ｎｍ及び屈折率１．４０〜１．６５の「外
部」層で被覆されている。内部コーティングは好ましく
はオキシ炭化ケイ素及び／又はオキシ窒化ケイ素から構
成される。
【００４６】このようなスタックは建築分野において
で、部屋から放射される輻射である遠赤外線内でガラス
の室内反射率を増加する機能を有する。エネルギー損失
は前記輻射がガラスを通って外部に漏洩することが一因
であるので、こうしてエネルギー損失を減らすことによ
り、特に冬季に居住者の快適さを改善することができ
る。また、この製品は抵抗率が低いため、例えば風の流
入を防ぐことにより断熱ガラスを形成することができ、
特に自動車の断熱前窓又は後窓等に用いることができ
る。
【００４７】当然のことながら、最終層即ち基板から最
遠位の層が該層を構成する材料の密度の８０％以上の密
度を有する実質的に無機性の層である限り、本発明は他
の任意型の機能層スタック又は機能層も包含する。
【００４８】本発明のコーティングを備える板ガラス
は、高疎水性且つ高疎油性である。前記板ガラスは紫外
線、化学的侵襲及び機械的摩耗に十分に耐える。前記板
ガラスは防雨、防霜、防塵ガラス、又は改善された耐久
性及び疎水疎油性を有する機能ガラスとして使用すると
有利である。前記ガラスは地上車両、航空車両又は建築
物のガラスとして特に有用である。
【００４９】
【実施例】以下、非限定的な実施例により本発明の特徴
及び利点を具体的に説明する。
【００５０】実施例１は本発明のコーティングの耐久性
を不適切なコーティングの耐久性と比較したものであ
る。
【００５１】実施例２及び３は本発明のコーティングの
改善された耐久性を示す。
【００５２】実施例４は本発明のコーティングの疎油性
を示す。
【００５３】実施例５は反射防止板ガラスの改善された
耐久性を示す。
【００５４】本発明のコーティングの耐久性は数種の試
験により測定した。
【００５５】化学的耐性は煮沸試験又は所謂塩水噴霧試
験により測定した。
【００５６】煮沸試験では、被験サンプルを沸騰脱イオ
ン水に所与の時間浸漬した。その後、サンプルと水滴と
の接触角を測定した。
【００５７】塩水噴霧試験はＩＳＯ ９２２７規格に記
載されており、温度３５℃、ｐＨ６．５〜７．２で５０
ｇ／ｌのＮａＣｌの塩からの中性塩水噴霧に基板を暴露
した。
【００５８】耐摩耗性はＡＳＴＭ Ｄ １０４４−７８
規格に従ってＴａｂｅｒ試験により測定した。ＣＳ−１
０Ｆ型の砥石車でサンプルに５００ｇの負荷を加えた。
所与数の回転後、水滴の接触角を測定した。
【００５９】耐摩耗性は更に、３０×３０ｃｍ2サンプ
ルをワイパー掃引することにより測定した。掃引により
サンプルに加えた力は約４５Ｎであり、掃引速度は１１
１サイクル／分とし、１サイクルは１往復掃引運動とし
た。掃引硬度は約７０ショアーＡであった。
【００６０】硬度はＡｉｒｃｏ試験により測定し、ＡＳ
ＴＭ １０４４−７８によるＴａｂｅｒ機械を使用する
ことにより砥石車を負荷５００ｇで１０回転させて被験
層を摩耗させ、形成された傷の数を５０倍顕微鏡で計数
した。硬度は式Ｄ＝１０−０．１８Ｒ（式中、Ｒは１辺
２．５４ｃｍの４つの正方形の内側で計数した傷の数の
平均である）により表した。
【００６１】下層の粗度は、Ｒａｎｋ Ｐｒｅｃｉｓｉ
ｏｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｙから市販されている輪郭測定器
Ｔａｌｙｓｔｅｐで測定した。ダイアモンド針をサンプ
ルの表面に合わせ、凹凸の存在に対応する振幅の変化を
記録した。実施した測定では、針の曲率半径は５μｍ、
負荷は３０ｍｇ、速度は５μｍ／秒であった。観測粗度
に相当する山から谷までの振幅は長さ５０μｍにわたっ
て測定した。
【００６２】実施例１ ソーダ石灰磨りガラスのサンプルを入念に洗浄した。ガ
ラスの密度は２．４ｇ／ｃｍ3であった。
【００６３】第１群のサンプルは式ＣＦ3−（ＣＦ2）7
−（ＣＨ2）2−ＳｉＣｌ3のペルフルオロシラン４×１
０-3ｍｏｌ／ｌを含有するデカン溶液で処理した。得ら
れた層の厚みをＸ線反射により測定した処、約１５Åで
あった。
【００６４】第２群のサンプルは、化学蒸着プラズマ
（ＣＶＤプラズマ）でシリカ層を堆積することにより作
成した。赤外スペクトルによると、得られたＳｉＯ2下
層は高密度ではなく、本発明には不適切な下層であっ
た。この下層を洗浄し、第１群のサンプルと同一の層で
被覆した。
【００６５】第３群ではシリカの過飽和溶液に基板を接
触させることにより得たＳｉＯ2下層で被覆したガラス
を使用し、前記溶液は弗化水素酸濃度が２．５ｍｏｌ／
ｌになるまで弗化水素酸に水及びシリカゲルを加えるこ
とにより調製した。下層の厚みは約４５０Å、密度は約
２．３ｇ／ｃｍ3であり、シリカ（クリストバライト型
の結晶構造）の密度と同等であった。予め洗浄した下層
を第１及び２群と同一の疎水性層で被覆した。
【００６６】水滴の接触角は夫々１１０、１０５及び１
１５°であった。沸騰水中で２時間後、更に４時間後に
接触角を測定した処、第１群は夫々６０°及び＜６０
°、本発明に対応する群は１０５°及び８２°であり、
第２群を沸騰水に２時間浸漬後は２０°であった。
【００６７】第１及び２群に対応するコーティングとは
対照的に、本発明のコーティングは沸騰水中で２時間
後、更には４時間後でも６０°を越える接触角を示し
た。
【００６８】更に、第１及び３群に対応するサンプルで
摩耗試験を実施した。
【００６９】サンプルで測定した水滴の接触角は下記の
通りであった。
【００７０】
【表１】
【００７１】更に、第１群にワイパー試験を実施した。
１往復掃引運動を１サイクルとして１５，０００サイク
ル後の水滴の接触角は＜６０°であった。
【００７２】本実施例は、本発明の下層の改善された強
度を立証するものであり、接触角は摩耗試験又は化学的
耐性試験後に＞６０°であった。
【００７３】実施例２ 下層の種類を変えた以外は実施例１と同様に３群の板ガ
ラスを作成した。
【００７４】第４群のサンプルは、液体熱分解により堆
積したフッ素をドープしたＳｎＯ2から下層を構成し
た。前駆物質は仏国特許出願公開第１０３６６４７号に
記載されているような有機溶媒中の酸化ジブチル錫及び
酢酸アンモニウムであった。
【００７５】第５群のサンプルは液体熱分解により得た
ＳｎＯ2の下層を有する板ガラスとした。
【００７６】第６群は２つの下層を有する板ガラスとし
た。第１の下層はプラズマＣＶＤにより堆積したＳｉＯ
pＣq（式中、１＜ｐ＜２且つ０＜ｑ＜１）であり、仏国
特許出願第９３／０１５４５号に記載されているように
フッ素をドープしたＳｎＯ2下層を熱分解により堆積し
た。これらの下層により構成されるアセンブリの厚みは
１０００〜４０００Åであった。
【００７７】第４、５及び６群の下層の密度は約６．３
ｇ／ｃｍ3であった。この密度は酸化錫の密度（６．９
ｇ／ｃｍ3）と同等であった。換言するならば、下層の
密度は参照材料の９０％以上であった。
【００７８】Ａｉｒｃｏ試験により測定した第４、５及
び６群の硬度は夫々８．９、９．１及び８．６であっ
た。この硬度はガラスの硬度（７．３）を上回るもので
あった。
【００７９】第４、５及び６群の板ガラスの粗度は１８
０、２４０及び３００Åであった。この粗度は比較的高
い値である。このような値は上記下層の性質及びその製
法に起因する。
【００８０】次にこれらの板ガラスを洗浄し、実施例１
と同一の疎水性層で被覆した。耐摩耗性試験前後の水滴
の接触角を下表に示す。
【００８１】
【表２】
【００８２】第４群にワイパー試験を実施した。１往復
掃引運動を１サイクルとして１００，０００サイクル後
の水滴の接触角は９０°、１６０，０００サイクル後は
８０°であった。
【００８３】本実施例は本発明の下層を使用することに
より得られる改善を立証するものである。
【００８４】実施例３ 下層の種類を変えた以外は実施例２と同様に３群の板ガ
ラスを作成した。
【００８５】第７、８及び９群はＳｉＯpＣq、ＴｉＯ2
及びＴａ2Ｏ5をベースとする下層に対応する。
【００８６】ＴｉＯ2及びＴａ2Ｏ5をベースとする下層
は真空蒸着により得た。その厚みは数百Åであった。下
層ＳｉＯpＣq（式中、１＜ｐ＜２且つ０＜ｑ＜１）は化
学蒸着により得た。
【００８７】第７、８及び９群の密度を測定した処、夫
々２．１、３．６及び７．４であった。対応する成分の
密度は２．３、３．８（鋭錐石型の結晶構造）及び８．
２であった。下層の密度は該下層を構成する材料の９０
％以上であった。
【００８８】第８群の硬度は８．９、粗度は２０Åであ
った。比較として使用した第３群の密度は８．４、粗度
は２０Åであった。
【００８９】予め洗浄した下層に実施例１と同様の疎水
性層を被覆した。
【００９０】サンプルと水滴の接触角を下表に示す。
【００９１】
【表３】
【００９２】本実施例は、本発明のコーティングの良好
な化学的及び機械的耐性並びに耐摩耗性を立証するもの
である。この結果は下層の粗度が低い場合にも得られ
た。
【００９３】実施例４ 第４、６及び９群に対応するサンプルでワセリン液滴の
接触角を測定した。結果を下表に示す。
【００９４】
【表４】
【００９５】本実施例は本発明のコーティングの疎油性
を立証するものである。
【００９６】実施例５ ソーダ石灰磨りガラスの２種のサンプル１及び２を反射
防止スタックで被覆した。
【００９７】このスタックは、ガラス／Ｎｂ2Ｏ5（２）
／ＳｉＯ2（３）／Ｎｂ2Ｏ5（４）／ＳｉＯ2（５）の配
列から構成される４層スタックであった。薄層の連続堆
積は磁場を介在する反応性カソードスパッタリングによ
り実施した。
【００９８】屈折率約２．３の２つのＮｂ2Ｏ5層は、ニ
オブターゲットから酸素の存在下で反応性スパッタリン
グにより得た。屈折率約１．４７の２つのＳｉＯ2層
は、ホウ素又はアルミニウムをドープしたケイ素ターゲ
ットから酸素の存在下で反応性スパッタリングにより得
た。
【００９９】スタックの層の各々の幾何的厚み（ｎｍ）
を下表に示す。
【０１００】
【表５】
【０１０１】一方のサンプル１は、予め洗浄したＳｉＯ
2（５）層を実施例１に記載したような疎水疎油性層で
被覆した。疎水疎油性層の厚みは１５Å、屈折率は１．
３であった。
【０１０２】サンプル２は疎水性層を省略した。
【０１０３】これらの２種のサンプルで塩水噴霧試験を
実施した。光源Ｄ65により初期垂直入射時及び塩水雰囲
気下で１４日間経過後の光反射値ＲL（百分率）を測定
した。結果を下表に示す。
【０１０４】
【表６】
【０１０５】本実施例は疎水疎油性層で被覆した反射防
止板ガラスの改善された耐久性を立証するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ナタリー・コダジイ フランス国、エフ−95120・エルモン、ス カル・ラフアエル、２ (72)発明者 ピエール・シヨサドウ フランス国、エフ−45600・スリー・スウ ール・ロワール、リユ・ボルテール、21 (72)発明者 イブ・ナウマンコ フランス国、エフ−45460・ブレイ・ア ン・バル、リユ・ドユ・バル、９ (72)発明者 フアビエン・ゴーテイエ フランス国、エフ−45600・スリー・スウ ール・ロワール、サン・ペール・スウー ル・ロワール、ルートウ・ドルレアン、４ (72)発明者 オルビエ・ギスラン フランス国、エフ−75016・パリ、リユ・ デ・オー、12

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも一部を１層以上で任意に被覆
    されたガラス基板と、実質的に無機性の下層及び疎水疎
    油性層を含むコーティングとからなる板ガラスであっ
    て、前記無機性下層の密度が該下層を構成する材料の密
    度の８０％以上であることを特徴とする板ガラス。
  2. 【請求項２】 下層の硬度がガラスの硬度を上回ること
    を特徴とする請求項１に記載の板ガラス。
  3. 【請求項３】 下層が８０〜５０００Åの厚みを有する
    請求項１に記載の板ガラス。
  4. 【請求項４】 下層がＡｌ2Ｏ3、Ｇａ2Ｏ3、ＳｎＯ2、
    ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｉ
    ｎ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ3、Ｖ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3、Ｔｉ
    Ｎ、ＳｉＯx（式中、ｘは０〜２である）、及びＳｉＯp
    Ｃq（式中、ｐは１〜２であり、ｑは０〜１である）か
    らなる群から選択される材料単独又はその組み合わせか
    ら構成されることを特徴とする請求項１から３のいずれ
    か一項に記載の板ガラス。
  5. 【請求項５】 下層の密度が該下層を構成する材料の密
    度の９０％以上であることを特徴とする請求項１から４
    のいずれか一項に記載の板ガラス。
  6. 【請求項６】 下層が熱分解により得られることを特徴
    とする請求項１から５のいずれか一項に記載の板ガラ
    ス。
  7. 【請求項７】 下層が導電性であり、板ガラスに蓄積し
    得る正電荷を排出できることを特徴とする請求項１から
    ６のいずれか一項に記載の板ガラス。
  8. 【請求項８】 下層がフッ素をドープしたＳｎＯ2から
    構成されることを特徴とする請求項１から７のいずれか
    一項に記載の板ガラス。
  9. 【請求項９】 疎水疎油性層が少なくとも１種の加水分
    解性フッ素化アルキルシラン、加水分解性フッ素化アル
    キルシラン混合物又は加水分解性フッ素化アルキルシラ
    ンと他のシランとの混合物により得られることを特徴と
    する請求項１から８のいずれか一項に記載の板ガラス。
  10. 【請求項１０】 フッ素化アルキルシランが式：ＣＦ3
    −（ＣＦ2）n−（ＣＨ2）m−ＳｉＸ3（式中、ｎは０〜
    １２であり、ｍは２〜５であり、Ｘは加水分解性基であ
    る）のペルフルオロアルキルシランであることを特徴と
    する請求項９に記載の板ガラス。
  11. 【請求項１１】 疎水疎油性層が厚み１０〜５０Åの層
    であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の板ガ
    ラス。
  12. 【請求項１２】 ガラス基板と、実質的に無機性の下層
    及び疎水疎油性層を含む疎水疎油性耐摩耗性コーティン
    グとからなる板ガラスであって、ＡＳＴＭ Ｄ１０４４
    −７８規格に従って砥石車５００回転の摩耗を加えたコ
    ーティングと液滴との接触角が＞６０°であることを特
    徴とする板ガラス。
  13. 【請求項１３】 ガラス基板と機能スタックとを含み、
    該機能スタックの最終層が該最終層を構成する材料の密
    度の８０％以上の密度を有する実質的に無機性の層であ
    り、最終層の少なくとも一部を疎水疎油性層で被覆した
    板ガラス。
  14. 【請求項１４】 疎水疎油性層が請求項９から１２のい
    ずれか一項に記載の層であることを特徴とする請求項１
    ３に記載の板ガラス。
  15. 【請求項１５】 機能スタックの最終層が酸化ケイ素、
    好ましくは二酸化ケイ素から主に構成される層であるこ
    とを特徴とする請求項１３又は１４に記載の板ガラス。
  16. 【請求項１６】 機能スタックが反射防止スタック又は
    低放射及び／又は導電性スタックから選択されることを
    特徴とする請求項１５に記載の板ガラス。
  17. 【請求項１７】 少なくとも１種の加水分解性フッ素化
    アルキルシランを非極性溶媒系中に含有する溶液と、実
    質的に無機性の高密度下層で被覆した基板とを接触させ
    ることにより前記下層を任意に洗浄した後に、前記下層
    に疎水疎油性層を堆積する段階を特に含むことを特徴と
    する請求項１から１６のいずれか一項に記載の板ガラス
    の製造方法。
  18. 【請求項１８】 コーティングすべき基板の表面を任意
    に洗浄する段階と、当該下層を構成する材料の密度の８
    ０％以上の密度を有する実質的に無機性の下層を堆積す
    る段階と、コーティングすべき下層を任意に洗浄する段
    階と、洗浄した前記下層に疎水疎油性層を堆積する段階
    とを特に含むことを特徴とする請求項１から１２のいず
    れか一項に記載の板ガラスの製造方法。
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