JPH08173976A - As含有水の処理装置 - Google Patents
As含有水の処理装置Info
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- JPH08173976A JPH08173976A JP6327370A JP32737094A JPH08173976A JP H08173976 A JPH08173976 A JP H08173976A JP 6327370 A JP6327370 A JP 6327370A JP 32737094 A JP32737094 A JP 32737094A JP H08173976 A JPH08173976 A JP H08173976A
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Abstract
するに当り、薬注設備を軽減する。 【構成】 NaCl溶液を電解液7とし、鉄陽極5Aと
不溶性陽極6Aを備える電解槽1、反応槽2、中和槽
3、沈殿槽4を備えるAs含有水の処理装置。電解槽の
陽極5A,6Aで生成するCl2 ガスとFe3+を反応槽
2に添加すると共に陰極で生成するNaOHを中和槽3
に添加してCl2 によるAs(III) からAs(V)への
酸化とFe3+との共沈を起こさせ、沈殿槽4で固液分離
する。 【効果】 Cl2 とFe3+との添加量を電解液のNaC
l濃度、電解電圧、電流密度、電極面積等を調整するこ
とにより容易に調節できる。陰極で生成するNaOHの
有効利用も可能である。
Description
係り、特に、As含有廃水にFe3+とCl2とを添加し
て共沈処理するための装置に関する。
は、鉄塩を添加して共沈させる方法が一般的である。
II) とでは、As(V)の方がAs(III) よりも共沈し
易く、また、Fe3+とFe2+とではFe3+の方がFe2+
よりも共沈効果が高いことが確認されている(日本鉱業
会誌192 1066(’76−12)809)。
は、As含有廃水にFe3+を添加すると共に、酸化剤を
添加して、As(III) をAs(V)に酸化した後、pH
5〜8で共沈処理を行うのが一般的である。
ては、Fe3+及び酸化剤、例えば次亜塩素酸ソーダの注
入設備として、これらの薬剤の貯留タンクや注入ポンプ
等が必要となり、注入設備の装置コスト、設置面積、保
守管理等の面で問題があった。また、Fe3+と酸化剤の
添加量調整も容易ではないという問題もあった。
コストの低減、装置設置面積の縮少及び保守管理の軽減
が図れ、しかも、薬注量の制御も容易なAs含有水の処
理装置を提供することを目的とする。
理装置は、NaCl溶液を電解液とし、かつ、少なくと
も陽極が鉄電極である第1の回路と、少なくとも陽極が
不溶性電極である第2の回路とを備える隔膜式電解槽
と、As含有水が導入されると共に、該電極槽で発生し
たCl2 とFe3+とが添加される反応槽と、該反応槽の
流出液が導入されると共に、前記電解槽で発生したNa
OHが添加される中和槽と、該中和槽の流出液を固液分
離する沈殿槽と、を備えてなることを特徴とする。
槽の陽極側では、次のような反応が生起する。即ち、鉄
陽極では下記の反応によりFe2+の溶出が起こる。ま
た、不溶性陽極では、電解液中のCl- から下記の反
応によりCl2 が発生し、発生したCl2 の一部により
下記の反応でFe2+がFe3+に酸化される。
,の反応により、NaやNaOHが生成する。
極側は酸性となり、上記で生成するCl2 はCl2 ガ
スとなっており、このCl2 ガスが反応槽に吹き込まれ
ると共に、上記で生成したFe3+が反応槽に添加され
る。
らAs(V)への酸化が行われる。このAs(V)と、
Fe3+とを含有する反応槽の流出液は、中和槽でpH調
整されることにより、下記の反応でAs(V)とFe
3+が共沈する。
で前記の反応により生成したNaOHを有効利用す
る。
とにより、上澄水として、AsがFeとの共沈で除去さ
れた処理水を得ることができる。
有水の処理装置では、反応槽へのCl2 ガス及びFe3+
の添加量、即ち、Cl2 濃度、Fe3+濃度及びCl2 /
Fe3+濃度比は、電解槽の電解液のNaCl濃度、電解
電圧、電流密度、電極面積等を調整することにより容易
に調節することができる。
処理装置の実施例を詳細に説明する。
実施例を示す系統図である。
槽、4は沈殿槽である。
及び陰極室1bが仕切られた隔膜式電解槽であり、電解
液としてNaCl水溶液が貯留されている。この電解槽
1には、第1の回路5と第2の回路6との2つの回路が
設けられており、第1の回路は鉄陽極5Aと鉄陰極5B
とが設けられている。また、第2の回路6には、不溶性
電極として白金陽極6Aと白金陰極6Bとが設けられて
いる。なお、5C,6Cは電源である。
よりなるものであれば良く、陰極5Bについては鉄に限
定されるものではないが、一般的には鉄陰極を用いるの
が好ましい。また、第2の回路6は陽極6Aが不溶性電
極であればよく、白金−白金電極の他、酸化鉛−酸化鉛
電極、チタン−チタン電極等を用いることができる。
記〜の反応によりFe3+とCl2 ガスが生成する。
生成したCl2 ガス及びFe3+は配管13,14より反
応槽2に添加される。
有水)が導入され、配管12より必要に応じて添加され
るpH調整剤によりpHが2〜3に調整されると共に、
電解槽1から配管13,14を経てCl2 ガス,Fe3+
が添加される。この反応槽2において、原水中のAs(I
II) は前記の反応でAs(V)に酸化される。
和槽3に導入される。この中和槽3には、電解槽1の陰
極室1bにおいて前記の反応で生成するNaOHが配
管16より添加されると共に、配管17よりアルカリ及
びポリアクリルアミド系ポリマー等の凝集剤が添加さ
れ、pH5〜8に調整されることにより、前記の反応
に従って、As(V)とFe3+とが共沈すると共に凝集
処理される。
り沈殿槽4に導入されて固液分離され、上澄水は処理水
として配管19より系外へ排出される。
管であり、電解により電解槽1の電解液面が低下した場
合には、図示しない液面計と連動する補給ポンプの稼働
によりNaCl水溶液が貯留槽(図示せず)から補給さ
れるように構成されている。
ば、電解槽1におけるFe3+,Cl2発生量を、電解液
のNaCl濃度、電解電圧、電流密度、電極面積等の調
整により任意の濃度に容易に調整することができ、従来
のような薬注ポンプ等の薬注設備が不要となる。
槽1で生成するNaOHを有効利用して、薬剤コストの
低減を図ることもできる。
て、電解槽の電極の寿命や隔膜の汚れは、電極の極性を
反転させて、陽極を陰極に、また、陰極を陽極として電
解を行うことによりある程度補うことができ、実用性が
高められる。
り詳細に説明する。
As1.5mg/lの温泉源泉の処理を行った。
槽の仕様及び条件は下記の通りとした。
の部分加水分解物を1mg/l添加) その結果、電解槽からは、1.0g/分の割合でCl2
ガスを得ると共に、0.4g/分の割合でFe3+を得る
ことができ、これを反応槽に添加することにより、As
を効率的に共沈させることができた。また、電解槽から
はNaOHを1.2g/分の割合で得ることができ、こ
れを中和槽に添加することにより、中和に必要なアルカ
リ量の低減を図ることができた。
対して2.5重量倍であり、Cl2注入量は10ppm
であった。得られた処理水のAs濃度は表1No.1に
示す通りであった。
及び第2の回路の電圧を表1に示す値とし、Cl2 注入
量は10ppmのまま、Fe3+添加量を表1に示すFe
3+/As比となるようにしたこと以外は同様に行ったと
ころ、表1に示すAs濃度の処理水を得ることができ
た。
したFe3+,Cl2 ,NaOHを用いて、効率的にAs
の共沈処理を行えることができ、その際のFe3+,Cl
2 添加量を電圧制御等により容易に調節できることが明
らかである。
の処理装置によれば、比較的安価で装置設置面積が小さ
くて足り、しかも保守管理及び処理操作が容易なAs含
有水の共沈処理装置が提供される。
す系統図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 NaCl溶液を電解液とし、かつ、少な
くとも陽極が鉄電極である第1の回路と、少なくとも陽
極が不溶性電極である第2の回路とを備える隔膜式電解
槽と、 As含有水が導入されると共に、該電極槽で発生したC
l2 とFe3+とが添加される反応槽と、 該反応槽の流出液が導入されると共に、前記電解槽で発
生したNaOHが添加される中和槽と、 該中和槽の流出液を固液分離する沈殿槽と、を備えてな
るAs含有水の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32737094A JP3475534B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | As含有水の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32737094A JP3475534B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | As含有水の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08173976A true JPH08173976A (ja) | 1996-07-09 |
JP3475534B2 JP3475534B2 (ja) | 2003-12-08 |
Family
ID=18198389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32737094A Expired - Lifetime JP3475534B2 (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | As含有水の処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3475534B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990070718A (ko) * | 1998-02-24 | 1999-09-15 | 이상율 | 액체의 전해적 처리 시스템 및 그 방법 |
CN105540750A (zh) * | 2015-12-11 | 2016-05-04 | 江苏科技大学 | 一种微电解-脉冲电絮凝耦合处理染料废水的方法 |
JP2017052981A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | Jx金属株式会社 | 結晶性スコロダイトの製造方法 |
JP2017052980A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | Jx金属株式会社 | 結晶性スコロダイトの製造方法 |
CN110078176A (zh) * | 2013-05-13 | 2019-08-02 | 霍加纳斯股份有限公司 | 阴极、电化学池及其用途 |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP32737094A patent/JP3475534B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990070718A (ko) * | 1998-02-24 | 1999-09-15 | 이상율 | 액체의 전해적 처리 시스템 및 그 방법 |
CN110078176A (zh) * | 2013-05-13 | 2019-08-02 | 霍加纳斯股份有限公司 | 阴极、电化学池及其用途 |
JP2017052981A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | Jx金属株式会社 | 結晶性スコロダイトの製造方法 |
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CN105540750A (zh) * | 2015-12-11 | 2016-05-04 | 江苏科技大学 | 一种微电解-脉冲电絮凝耦合处理染料废水的方法 |
Also Published As
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---|---|
JP3475534B2 (ja) | 2003-12-08 |
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